DE2800172C2 - Thyristor mit Zündverstärkung und Löschsteuerung - Google Patents
Thyristor mit Zündverstärkung und LöschsteuerungInfo
- Publication number
- DE2800172C2 DE2800172C2 DE2800172A DE2800172A DE2800172C2 DE 2800172 C2 DE2800172 C2 DE 2800172C2 DE 2800172 A DE2800172 A DE 2800172A DE 2800172 A DE2800172 A DE 2800172A DE 2800172 C2 DE2800172 C2 DE 2800172C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- thyristor
- layer
- ignition
- main
- emitter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003321 amplification Effects 0.000 title claims description 9
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 13
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 26
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 8
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 4
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/74—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
- H01L29/744—Gate-turn-off devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/1012—Base regions of thyristors
- H01L29/102—Cathode base regions of thyristors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/74—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
- H01L29/7428—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action having an amplifying gate structure, e.g. cascade (Darlington) configuration
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Thyristors (AREA)
Description
— in einem Steueranschlußbereidf eine Steuerelektrode,
— in einem Zündverstärkungsbereich eine von der
Steuerelektrode getrennte und mit einer Zündemitterelektrode versehene n-Zündemitterzone,
— in. einem Löschbereich eine von der Zündemitterzone und -elektrode getrennte, zusammen
mit der p-Basisschicht eine in die Halbleiterscheibe integrierte Kurzschlußdiode
bildende und mit einer mit der Steuerelektrode verbundene Kurzschluß-Diodenelektrode versehene
n-Halbleiterschicht,
— in einem Zündübertragungsbereich eine von der Kurzschlußdiodenelektrode getrennte und mit
der Zündemitterelektrode verbundene Übertragungbelektrode
sowie
— in einem Hauptbrxeich c:7ie mit einer von der
Übertragungselektrode getrennten Kathodenelektrode
bedeckte n-Haup-smitterzone
ausgebildet sind, dadurch gekennzeichnet, daß in der p-Basisschicht (Pi) eine leitende Schicht
(CO) vorgesehen ist, die aus einer p+-HaIbleiterschicht
besteht, deren Dotierung höher ist als die der p-Basisschicht, wobei diese leitende Schicht (CO)
sich in den Lösch-, Zündübertragungs- und Hauptbereich (ZO, ZT, ZP) erstreckt und im Hauptbereich
(ZP) ein Gitter bildet, dessen Zwischenräume vom Material der p-Basisschicht (Pi) eingenommen
werden.
2. Thyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Schicht (CO) sich unter der
gesamten Fläche der mit der Kurzschluß-Diodeneiektrode
versehenen Halbleiterschicht (N 4) erstreckt und über den Rand dieser Fläche hinausreicht.
3. Thyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Schicht (CO) einen
Widerstand pro Flächeneinheit aufweist, der kleiner als ein Drittel des Flächenwiderstands der p-Basisschicht
(Pi) ist.
60
Die Erfindung betrifft einen Thyristor mit Zündverstärkung und Löschsteuerung der im Oberbegriff des
Anspruchs 1 bezeichneten Art, wie sie aus IEEE Transactions on Electron Devices ED-23 (1976), Nr. 8,
S. 883-887 bekannt ist.
In einem derartigen Thyristor soll die Zündemitterelektrode
die Zündung mit Hilfe eines schwachen Impulses ermöglichen. Die Zündemitterelektrode liegt
zwischen dem Steueranschluß wnd der Hauptemitterelektrode,
so daß bei gelöschtem, Thyristor und bei zwischen Anode und der auf der Haüptemitterelektrode
liegenden Kathode vorhandener Gleichspannung, wobei das Potential der Zündemitterelektrode in der Luft
hängt, ein auf den Steueranschluß gegebenes geeignetes positives Signal zunächst einen Auslösethyristor zündet,
dessen Emitter aus der Zündeinitterelektrode besteht
und der einen Verstärker für das Zündsignal bildet
Sehr grob betrachtet können verschiedene aufeinanderfolgaride
'Phasen beim Zündvorgang unterschieden werden:
— Erste Phase:
Das auf den Steueranschluß gegebene Signal ruft ausgehend von der Zündemitterelektrode die
Injektion von Minoritätsträgern in die Steuerbasis hervor.
— Zweite Phase:
Diese Injektion zündet den Auslösethyristor gemäß dem klassischen Verfahren, wodurch das Potential
der Zündemitterelektrode erhöht wird.
— Dritte Phase:
Die Erhöhung diese Potentials ruft einen Zündemitterstrom in Richtung auf die Hauptkathode
hervor. Dieser Strom wird nahiolgend »Zündstrom« genannt
— Vierte Phase:
Der Zündstrom ruft ausgehend von der Hauptemitterelektrode über den entsprechenden pn-Obergang,
der nachfolgend »Hauptübergang« genannt wird, eine Injektion von Minoritätsträgern
in die Steuerbasisschicht hervor.
— Fünfte Phase:
Diese Injektion zündet den Hauptthyristor gemäß dem klassischen Verfahren. Der Vorteil des
beschriebenen Zündverfahrens liegt darin, daß die während der obigen vierten Phase für die Injektion
verfügbare Leistung wesentlich höher liegt als die zur Betätigung des Steueranschlusses aufgewandte
Leistung.
Die Zündemitterelektrode ist von der Hauptemitterelektrode durch die Steuerbasis getrennt, so daß der von
der Zündemitterelektrode zur Hauptkathode fließende Strom durch die Steuerbasis geführt wird, was sich
während der vierten Phase günstig auf die Injektion über den Hauptübergang auswirkt
Die Kathode ist in bezug auf den Rand der Hauptemitterelektrode mindestens auf der Seite der
Zündemitterelektrode zurückgezogen, damit der Hauptübergang während der vierten Phase nicht
kurzgeschlossen wird. Hierdurch wird der Zündstrom gezwungen, den Hauptübergang zu durchlaufen.
Die Metallisierung der Zündemitterelektrode ist an die Übertragungsmetallisierung angeschlossen, damit
während der vierten Phase der Zündstrom diesen Übergang nicht umgekehrt durchlaufen muß. Darüber
hinaus ist es durch diese Metallisierung möglich, das Zündemitterpotential über eine große Fläche zu
verteilen. Das Dotierprofil und die Breite des Basiszwischenbereichs werden so gewählt, daß sich für den
Widerstand zwischen der Zündemitterelektrode und der Hauptemitterzone ein bevorzugter Wert ergibt.
Durch die Zündemitterelektrode kann die Zündgeschwindigkeit
des Thyristors erhöht werden, d. h. die Geschwindigkeit, mit der der vom Thyristor ohne
Zerstörungsgefahr ertragene Strom anwachsen kann. Es ist bekannt, daß bei zu raschem Anwachsen des
Stroms hohe Werte erreicht werden, bevor die tatsächlich gezündete Oberfläche des Thyristors groß
genug ist, diese Werte auszuhalten. Es ist daher wichtig, die Geschwindigkeit zu erhöhen, mit der die gezündete
Oberfläche anwächst. Diese gezündete Oberfläche beginnt am Hauptübergang, und ihre anfängliche
Wachstumsgeschwindigkeit ist praktisch proportional zum Umfang diei.es Obergangs, & h. zum Umfang des
äußeren Randes des Zündungsübertragungsbereichs. Zur Erhöhung dieses Umfangs wird dieser Übertragungsbereich
bei einer gewöhnlichen kreisförmigen Halbleiterscheibe häufig mit Verlängerungen versehen,
die sich radial zum Rand der Scheibe hin erstrecken. Die für die Injektion während der oben beschriebenen
vierten Phase verfügbare relativ hohe Leistung gestattet dann, ausgehend von der Hauptemitterzone
über die gesamte Länge des Hauptübergangs hinweg trotz der vergrößerten Länge des Umfangs dieses
Obergangs eine ausreichende Menge von Minoritätsträgem zu erreichen.
Bei dem aus IEE Transactions on Electron Devices, Bd. ED 23 (1976), Nr. 8, Seite 883-887 bekennten
Thyristor der eingangs genannten Art wird der Löschvorgang durch einen auf den Steueranschluß
gegebenen negativen Impuls beschleunigt, wenn die Spannung an den Hauptklemmen annuliert wird. Damit
dieser negative Impuls wirksam wird, muß er ausgehend vom Steueranschluß bis in die Nähe der Hauptemitterzone
über eine Metallisierungsschicht übertragen werden, die einen Teil des zwischen der Zündemitterzone
und der Hauptemitterzone liegenden Basiszwischenbereichs einnimmt Wenn jedoch ein positives Signal zur
Zündung des Thyristors an den Steueranschluß eines solchen Thyristors angelegt wird, dann überträgt diese
Metallisierungsschicht das positive Signal bis in die Nähe der Hauptemitterzone, ohne die Zündemitterzone
zu durchlaufen, die kurzgeschlossen ist und damit ihre Funktionen nicht mehr erfüllt Zur Vermeidung dieses
Nachteils wurüe vorgeschlagen, in der Basisschicht unter dieser Metallisierungsschicht eine örtlich begrenzte
N-Schicht vorzusehen, so daß mit der P-Bas:sschicht eine Shuntdiode entsteht, die lediglich für vom
Steueranschluß kommende negative Impulse durchlässig ist Jedoch taucht dann der Nachteil auf, daß die
beiden über der N-Basisschicht und der P-Emitterschicht liegenden N- und P-Schichten dieser Diode
einen Störzündthyristor bilden. Will man den Hauptthyristor löschen, dann wird der an den Steueranschluß
angelegte negative Impuls an die Emitterelektrode dieses Störthyristors übertragen, der dadurch gezündet
wird, wodurch das Löschen des Hauptthyristors unmöglich wird. Eine Beseitigung dieses Nachteils
erfolgt dabei durch besondere Wahl des Dotierungsprofils im Bereich der N-Halbleiterzone dieser integrierten
Shunt-Diode.
Aus der genannten Literaturstelle sind auch Thyristoren bekannt, deren Löschung durch den Steueranschluß
gesteuert wird (G.T.O. = Gate Turn Off), und die dadurch gelöscht werden, daß auf den Steueranschluß
ein starker negativer Impuls gegeben wird, so daß die Elektrodeninjektion durch den Emitter in die Steuerschicht
unterbrochen wird, selbst wenn zwischen Kathode und Anode ein diese Injektion begünstigender
Potentialunterschied besteht.
Es sind andererseits Thyristoren »mit eingebettetem Gitter« bekannt (US-P.* 36 41403 und US-PS
39 06 545), die keinen Zündverstärker aufweisen und in
denen die Übertragung der vom Steueranschluß kommenden Signale durch eine leitende Schicht
erleichtert wird, die innerhalb der Basisschicht angeordnet ist und sich vom mittleren Bereich der Basisschicht
bis unter die Hauptemitterzone erstreckt Diese leitende Schicht besitzt eine stärkere p-Dotierung als die
Basisschicht, so daß sie elektrisch besser leitend ist Der unter der Hauptemitterzone liegende Teil bildet ein
Gitter, dessen Löcher vom durchschnittlich dotierten Material der Basisschicht gefüllt sind, so daß die
negativen Ladungsträger durch diese Löcher von der Hauptemitterzone zur Sperrschicht gelangen können,
wenn der Thyristor leitend ist Ein derartiges Gitter gestattet die Erhöhung der Zündgeschwindigkeit des
Thyristors, indem der positive vom Steueranschluß kommende Impuls bis in die Nähe eines großen Teils der
Fläche der Hauptemitterzone übertragen wird, um ausgehend von diesem ganzen Bereich eine Injektion
von negativen Ladungsträgern in die Basis hervorzurufen. Außerdem ermöglicht das G; ;r, wenn der
Thyristor leitend ist und das negative Steiersigna! an
den Steueranschluß angelegt wird, daß dieses Signal ausreichend weit übertragen wird, um das gleichzeitige
Löschen des Thyristors auf der gesamten Fläche der Hauptemitterzone zu bewirken.
Aus der DE-OS 22 41 217 ist weiterhin ein Thyristor mit erhöhter Ein- und Durchschaltgeschwindigkeit
bekannt, der zu diesem Zweck eine p+-Zone in der
P-Basiszone des Thyristors aufweist; hierbei spielt jedoch das die Unterdrückung der Funktion eines
entstehenden Störthyristors betreffende Problem keine Rolle.
Aufgabe der Erfindung ist es, bei einem Thyristor mit Löschsteuerung der eingangs genannten Art ohne
besondere Wahl des Dotierungsprofils im Bereich der η-Emitterzone der integrierten Kurzschlußdiode das
Zünden des im Bereich der Kurzschlußdiode gebildeten Störthyristors zu verhindern und die Übertragung des
positiven Signals zum Zünden des Hauptthyristors und des negativen Signals zum Löschen des Hauptthyristors
zu verbessern.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt mit den im kennzeichnenden Teil des Hauptanspruchs definierten
Merkmalen. Vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Anhand der schematischen Fig. 1 bis 6 wird nachfolgend ein Ausführungsbeispiel der Erfindung im
Vergleich zum Stand der Technik beschrieben.
F i g. 1 zeigt schematisch einen bekannten Zündverstärkungsthyristor
mit durch den Steueranschluß gesteuerter Löschung, anhand dessen die Arbeitsweise
eines derartigen Thyristors verständlich gemacht wird.
Fig.? reigt als Ausführungsbeispiel der Erfindung einen Thyristor im Teilschnitt entlang der Achse einer
Thyristorscheibe, dir den Halbleiteraufbau dieses Thyristors bildet.
F i g. 3 und 4 zeigen Konzentrationsdiagramme der Dotierungsverunreinigung im Thyristor gemäß F i g. 1
in Abhängigkeit vo.i der Tiefe ausgehend von der Kathodenseite im Zündverstärkungsbereich bzw. im
Löschbereich.
F i g. 5 zeigt den Thyristor aus F i g. 2 im Schnitt durch
eine Ebene, die parallel zur Kathodenseite und durch die auf dieser Seite gebildeten Metallisierschichten verläuft.
Fig. 6 zeigt eine Mtifsicht auf die Kathodenseite
dieses Thyristors, wobei angenommen wurde, daß ein Teil dieser Stirnseite durchsichtig ist.
28 OO
Wie Fig. 1 zeigt, besitzt ein Hauptthyristor TPeine
auf ein positives Potential gebrachte Anode A und eine an Masse liegende Kathode C. Dies sind die
Hauptelektroden. Eine Steuerelektrode 2 wird über einen Verstärkungsthyristor TA gespeist, mit dem das
auf einen Steueranschluß G gegebene positive Zündsignal verstärkt werden kann; der Steueranschluß G
bildet die Steuerelektrode dieses Thyristors, dessen Anode mit der Anode A des Hauptthyristors TP
verbunden ist und dessen Kathode die Steuerelektrode 2 speist. Der Steueranschluß G ist weiterhin mit der
Steuerelektrode 2 über eine Shunt-Diode D, die so angeordnet ist, daß die negativen Impulse des
Steueranschlusses zu dieser Steuerelektrode übertragen werden, sowie über einen parallel geschalteten Shuntwiderstand
4 verbunden, der einen Störwiderstand bildet.
Will man den Hauptthyristor TP zünden, so legt man
an den Steueranschluß G ein Zündsignal an, das aus einem positiven Stromimpuls besteht und den Verstärkungsthyristor
TA zündet. Dieser liefert einen starken Strom, der den Hauptthyristor TP rasch zündet. Die
Shunt-Diode D läßt das Auslösesignal nicht passieren.
Will man den Hauptthyristor TPlöschen, während er stromführend ist, dann legt man an den Steueranschluß
einen negativen Impuls an. Die Shunt-Diode D schließt den zwischen Steuerelektrode und Kathode des
Verstärkungsthyristors TA gelegenen pn-übergang kurz und überträgt diesen negativen Impuls direkt auf
die Steuerelektrode 2, wodurch der Hauptthyristor TP ohne Gefahr einer Auslösung des Verstärkungsthyristors
TA gelöscht wird.
Die soeben beschriebenen Bestandteile sind beim Stand der Technik (IEEE Transactions on Electron'
Devices, ED 23 (1976), Nr. 8, S. 883-887) wie auch bei dem im folgenden erläuterten Ausführungsbeispiel der
Erfindung in integrierter Bauweise in einem Halbleiterkörper untergebracht.
Der als Ausführungsbeispiel der Erfindung in Fig. 2 dargestellte Thyristor weist eine Halbleiterstruktur auf,
die aus einer monokristalünen Siliziumscheibe besteht mit einer Rotationsachse 8, wobei die Anodenseite
dieser Scheibe mit einer eine Anode bildenden Metallisierung A und die Kathodenseite teilweise mit
einer eine Kathode bildenden Metallisierung Cbedeckt
ist.
In dieser Scheibe sind über die gesamte Fläche hinweg mehrere Halbleiterschichten übereinander angeordnet.
Die im folgenden für die einzelnen Schichten angegebenen Dotierstoff-Konzentrationen entsprechen
— falls nicht als homogen bezeichnet — demjenigen P.-nkt dieser Schicht, der die höchste Dotierstoff-Konzentration
aufweist. Auf der anodenseitigen Metallisierung A liegt eine P-Emitterschicht P2, deren Stärke
etwa 50 bis 70 μιη und deren Dotierstoff-Konzentration
1020Cm-3 beträgt Auf dieser Schicht befindet sich eine
N-Basisschicht N2 mit 100 μπι Stärke und einer
homogenen Dotierstoff-Konzentration von
13· 1O14CmI Es folgt eine P-Basisschicht PX mit
μπι Stärke und einer Dotierstoff-Kor.zentration
10I7cm-3. Diese Basisschicht erstreckt sich bis zur
Kathodenseite. Innerhalb dieser Basisschicht ist eine leitende Schicht CO eingebettet, deren Stärke 15 μπι
und deren Dotierstoff-Konzentration 1019 cm-3 beträgt,
und die sich lediglich über eine Teil der Oberfläche der Thyristorscheibe erstreckt Diese leitende Schicht ist
von der Basisschicht Λ/2 durch eine etwa ΙΟμίτι dicke
Schicht des Materials getrennt, aus dem die 3asisschicht
P\ besteht. Auf der Kathodenseite sind mehrere N-Schichten ausgebildet; N1, N3 und Λ/4, deren
Dotierstoff-Konzentration gleich ist und 102lcm-J
beträgt und die in die Basisschicht bis zu einer gleichmäßigen Tiefe von 8 μιτι ausgehend von der
Kathodenseite eindringen.
Auf dieser Seite lassen sich mehrere aufeinanderfolgende konzentrisch angeordnete Bereiche unterscheiden:
— Ein aus der Basisschicht Pi gebildeter SteueranschluObereich
ZG, auf dem eine einen SteueranschluQ G bildende Metallisierung aufgebracht ist,
die die für das Zünden des Thyristors positive und für sein Löschen negative Steuersignale empfangen
kann.
— Ein Zündverstärkungsbereich ZA, in dem eine Zündemitterzone /V3 in Form einer N-Schicht vom
Steueranschluß getrennt gebildet ist. Die Zündemitterzone ist mit einer Zundemittermetaiiisierung
MD beschichtet.
— Ein Löschbereich ZO1 in dem durch die Schicht P1
und eine N-Schicht /V4, die in dieser Basisschicht ausgehend von der Kathodenseite ausgebildet ist,
eine Shunt-Diode hergestellt ist. Die Schicht N 4 ist von der Zündemitterzone getrennt und mit einer
Shunt-Diodenmetalliserung MS versehen, die an
den Steueranschluß G über eine in Fig.5 normal
und hi F i g. 2 symbolisch gestrichelt eingezeichnete
Metallisierung 10 verbunden ist, die über eine aus einer Unterbrechung der Metallisierung MD
bestehende öffnung verläuft.
— Ein Zündübertragungsbereich ZT, der aus der teilweise mit einer Übertragungsmetallisierung MT
bedeckten Schicht Pi besteht, die von der Metallisierung MS getrennt und mit der Zündemittermetallisierung
MD über eine Metallisierung 12 in Verbindung steht, die in Fig.2 symbolisch
gestrichelt eingezeichnet ist und — wie in F i g. 5 dargestellt — über eine aus einer Unterbrechung
der Metallisierung MS bestehende Öffnung verläuft Die Übertragungsmetallisierung MT umfaßt
Verlängerungen in radialer Richtung, wie beispielsweise 14, die bis zum Umfang der Scheibe reichen
und die Übertragung eines der Metallisierung MD zugeführten und zuvor, wie weiter oben angegeben,
mit Hilfe des Zündemitters Ni verstärkten Signals bis zu dieser Peripherie hin erlaubt
— Schließlich ein Hauptbereich ZP, der den größten Teil der Oberfläche der Scheibe zwischen den
Verlängerungen 14 einnimmt Dieser Hauptbereich bestehe aus einer Hauptemitterzone Ni, die
mehrere durch Verlängerungen 14 voneinander getrennte Abschnitte aufweist, die metallisiert sind
und die Kathode C bilden sowie von der Übertragungsmetallisierung MT getrennt sind. Die
Schnittebene der F i g. 2 verläuft durch einen dieser Abschnitte.
Der so aufgebaute Thyristor arbeitet sowohl beim Zünden als auch beim Löschen in der weiter oben
erklärten bekannten Weise. In beiden Fällen wird die Funktionsweise durch das Vorhandensein der leitenden
Schicht CO verbessert, die bereits bei nicht mit
Zündverstärker versehenen Thyristoren bekannt ist Diese leitende Schicht CO ist ir. Fig.6 deutlich
dargestellt
Sie erstreckt sich kontinuierlich unter dem Übertra-
28 OO 172
gungsbereich ZT und diskontinuierlich unter dem
Hauptbereich ZP1 indem sie unter diesem Hauptbereich
ein Gitter bildet, dessen Stäbe sich senkrecht zu den radialen Verlängerungen 14 erstrecken, die zum
Übertragungsbereich gehören. Über diese Stäbe kann das Zündsignal ausgehend von diesen Verlängerungen
übertragen werden. Die zwischen diesen Stäben vorhandenen Zwischenräume vermeiden bei leitendem
Thyristor, daß eine zu große Anzahl von durch die Hauptemitterzone in die Basisschicht Pi eingeführten
negativen Ladungsträgern durch die in der leitenden Schicht CO vorhandenen positiven Ladungsträgern
eingefangen wird. Die Konzentration der Dotierstoffe dieser leitenden Schicht CO wird ausreichend hoch
gewählt, damit ihr Widerstand pro Flächeneinheit kleiner als ein Drittel des Flächenwiderstands der
Basisschicht PX ist. Vorteilhafterweise liegt er bei etwa
einem Zehntel des Widerstands der Basisschicht Pi.
Die leitende Schicht CO erstreckt sich in den Löschbereich ZO hinein, d. h. unter die Schicht Λ/4. Dies
bedeutet einen erheblichen Vorteil beim Löschen des Thyristors durch Anlegen eines negativen Impulses an
den Steuranschluß C. Dieser Impuls wird durch die Schicht N4 übertragen und könnte einen aus den
Schichten P2, N 2, Pi, N 4 bestehenden Störthyristor
zünden, wodurch das Löschen des Hauptthyristors verhindert würde. In dem eingangs zitierten Artikel
wurde vorgeschlagen, das Zünden dieses Störthyristors durch geeignete Wahl des Dotierungsprofils im Bereich
der Halbleiterzone der integrierten Shunt-Diode zu verhindern.
Beim Ausführungsbeispiel der Erfindung wird der Verstärkungsfaktor des Transistors N4, Pi, N2 durch
einfaches Verlängern der leitenden Schicht CO unter die Schicht Λ/4 stark herabgesetzt, denn die negativen
Ladungsträger, die durch die Schicht /V4 in die Basisschicht Pi abgegeben werden, können die
Sperrschicht Λ/2 praktisch nicht erreichen, ohne durch
die leitende Schicht CO zu wandern, in der sie durch die sehr große Anzahl von in dieser Schicht vorhandenen
positiven Ladungsträgern eingefangen werden.
Die Verlängerung der leitenden Schicht CO in den
Löschbereich hinein erleichtert darüber hinaus die Übertragung des negativen Löschimpulses, der von der
Schicht /V 4 zur Hauptschicht wandert Hierzu wäre es zwar nicht nötig, daß die leitende Schicht CO sich wie
hier dargestellt unter der gesamten Schicht Λ/4 erstreckt und sogar bis in die Nähe des Mittelpunkts der
Scheibe jenseits des Innenrands der Schicht N 4 reicht,
sondern es würde bereits genügen, daß die im Übertragungsbereich ZT vorhandene leitende Schicht
COin die Nähe des Außenrandes der Schicht N 4 reicht
oder die unter diesem Außenrand verlaufende Senkrechte erreicht, wenn man annimmt, daß die Scheibe
horizontal liegt
Der Thyristor gemäß den Fig.2 bis 6 kann eine
Sperrspannung von 1000 V und eine direkte Spannung von 1000 V im gesperrten Zustand ertragen und
gezündet eine Stromstärke von 1000 A mit einem Spannungsabfall von 2 V aushalten, wenn die Oberfläche
der Kathode ClOO mm2 beträgt
Hergestellt werden kann der Thyristor gemäß F i g. 2 bis 6 entsprechend den nachfolgenden angegebenen
Fertigungsgängen, ausgehend von einer monokristallinen Siliziumscheibe des Typs N, deren Konzentration
gleich der der zukünftigen /v"2-Schicht ist und deren
Dicke der der späteren Schichten P2, Λ/2 und CO und
des zwischen den Schichten N 2 und CO liegenden Teils P10 der Schicht P1 entspricht.
Die Fertigungsschritte sind die folgenden:
Die Fertigungsschritte sind die folgenden:
1. Durch Diffusion werden auf den beiden Stirnseiten ίο dieser Scheibe zwei P-Schichten geringer Oberflächenkonzentration
(etwa 10l7cm-3) und eine Stärke von 15 μπι hergestellt, so daß der zukünftigen
Schicht P2 auf einer Unterseite eine erste Dotierung und der Schicht PlO sowie den Teilen
der späteren Schicht Pl1 die in den Zwischenräumen der späteren Schicht CO auf der Oberseite
liegen, eine endgültige Dotierung verliehen wird.
2. In einer auf der Oberseite der Siliziumscheibe ausgebildeten Oxidschicht werden öffnungen hergestellt,
um die gutleitende Schicht CO bilden zu können.
3. Die Schicht CO wird durch Diffusion mit einer Oberflächenkonzentration von 10" cm-' und einer
Dicke von 10 μπι hergestellt.
4. Das Oxid an der oberen Seite wird entfernt.
5. Auf dieser oberen Seite wird eine epitaktische P-Siliziumschicht CE aufgebracht, deren spezifischer
Widerstand 'ΛοοΩ · cm und deren Dicke
12 μηι beträgt, wobei die obere Seite dieser epitaktischen Schicht die kathodische Seite des
zukünftigen Thyristors bildet
6. Die obere Seite der Schicht Cfwird oxidiert
7. In dem so gebildeten Oxid werden öffnungen hergestellt, damit die Schichten Ni, N3 und N4
gebildet werden können.
8. Diese Schichten werden durch Diffusion mit einer Oberflächenkonzentration von 1021 cm-3 und einer
Stärke von 8 μηι hergestellt
9. Man läßt Fangstellen aus Gold oder Platin ausgehend von der oberen Seite unter folgenden
Bedingungen eindiffundieren:
Quelle: durch Kathodenzerstäubung aufgebrachte Schicht
Dauer: beispielsweise 1 Stunde bei 8400C.
10. Man führt eine zweite P-Diffusion auf der Unterseite durch, um die Oberflächenkonzentration auf 1020 cm-3 zu bringen und so die Schicht P2 fertigzustellen, und man legiert diese Seite auf ein Wolfarm- oder Molybdänplättchen, das die Anode A bildet
10. Man führt eine zweite P-Diffusion auf der Unterseite durch, um die Oberflächenkonzentration auf 1020 cm-3 zu bringen und so die Schicht P2 fertigzustellen, und man legiert diese Seite auf ein Wolfarm- oder Molybdänplättchen, das die Anode A bildet
11. In der auf der oberen Seite gebildeten Oxidschicht
-.teilt man öffnungen her, damit die Metallisierungen
G, MD, MS und Chergestellt werden können.
12. Diese Metallisierungen werden durch Aufdampfen
von Aluminium unter Vakuum hergestellt
13. Die Aluminiumschicht zwischen den Metallisierungen und dem Umfang der Scheibe wird entfernt
14. Es werden die bekannten Schutzbehandlungen für die Übergänge durchgeführt
15. Die so erhaltene Struktur wird gekapselt und es werden die metallischen Anschlußklemmen der
Anode A und der Kathode C sowie der Steuerelektrode Gangebracht
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Thyristor mit Zündverstärkung und Löschsteuerung
Ober die Steuerelektrode, der eine monokristal-Iine Halbleiterscheibe mit zwei einander gegenüberliegenden
Hauptoberflächen umfaßt, zwischen denen aufeinanderfolgend Halbleiterschichten entgegengesetzten
Leitungstyps angeordnet sind, und zwar ausgehend von der einen Hauptoberfläche eine
mit einer Anodenelektrode völlig bedeckte p-Emitterschicht, eiije n-Basisschicht und eine
p-Basisschicht, die stellenweise die andere Hauptoberfläche erreicht, wobei auf der p-Basisschicht
nebeneinanderliegend
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7700471A FR2377095A1 (fr) | 1977-01-10 | 1977-01-10 | Thyristor a amplificateur de declenchement et a ouverture commandee par la gachette |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2800172A1 DE2800172A1 (de) | 1978-07-13 |
DE2800172C2 true DE2800172C2 (de) | 1983-05-26 |
Family
ID=9185269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2800172A Expired DE2800172C2 (de) | 1977-01-10 | 1978-01-03 | Thyristor mit Zündverstärkung und Löschsteuerung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4177478A (de) |
BE (1) | BE862498A (de) |
DE (1) | DE2800172C2 (de) |
FR (1) | FR2377095A1 (de) |
GB (1) | GB1542227A (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2825794C2 (de) * | 1978-06-13 | 1986-03-20 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Abschaltbarer Thyristor |
JPS607394B2 (ja) * | 1978-08-18 | 1985-02-23 | 株式会社明電舎 | 半導体制御素子 |
DE3005458A1 (de) * | 1980-01-16 | 1981-07-23 | BBC AG Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau | Thyristor zum verlustarmen schalten kurzer impulse |
JPS57201077A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Hitachi Ltd | Semiconductor switching device |
JPS5871657A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-04-28 | Toshiba Corp | ゲ−トタ−ンオフサイリスタ |
JPS5927571A (ja) * | 1982-08-05 | 1984-02-14 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | ゲ−トタ−ンオフサイリスタ |
US4595939A (en) * | 1982-11-15 | 1986-06-17 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Radiation-controllable thyristor with multiple, non-concentric amplified stages |
DE3435548A1 (de) * | 1984-09-27 | 1986-04-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit hoher innerer zuendverstaerkung |
EP0190585A1 (de) * | 1985-02-01 | 1986-08-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Abschaltbares Halbleiterbauelement |
JPH0691245B2 (ja) * | 1985-06-26 | 1994-11-14 | 株式会社日立製作所 | ゲ−トタ−ンオフサイリスタ |
JPS62177968A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Hitachi Ltd | ゲ−トタ−ンオフサイリスタ |
US4717940A (en) * | 1986-03-11 | 1988-01-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | MIS controlled gate turn-off thyristor |
EP0283788A1 (de) * | 1987-03-09 | 1988-09-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Abschaltbares Leistungshalbleiterbauelement |
CN1056248C (zh) * | 1992-09-12 | 2000-09-06 | 朱文有 | 一种静电感应晶闸管的制造方法及其器件 |
FR2708811B1 (fr) * | 1993-08-06 | 1995-10-20 | Sgs Thomson Microelectronics | Thyristor à amplification de gachette à courant de maintien accru. |
US6066864A (en) * | 1996-05-20 | 2000-05-23 | Siemens Aktiengesellschaft | Thyristor with integrated dU/dt protection |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1803935A1 (de) * | 1967-10-20 | 1969-10-02 | Ckd Praha | Mehrschichtiges Halbleiterbauelement mit zumindest vier pn-UEbergaengen |
US3641403A (en) * | 1970-05-25 | 1972-02-08 | Mitsubishi Electric Corp | Thyristor with degenerate semiconductive region |
GB1303337A (de) * | 1970-10-06 | 1973-01-17 | ||
US3906545A (en) * | 1972-01-24 | 1975-09-16 | Licentia Gmbh | Thyristor structure |
DE2241217C3 (de) * | 1972-08-22 | 1978-07-06 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Thyristor mit erhöhter Ein- und Durchschaltgeschwindigkeit |
US3896476A (en) * | 1973-05-02 | 1975-07-22 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor switching device |
JPS5718347B2 (de) * | 1974-01-07 | 1982-04-16 | ||
FR2299727A1 (fr) * | 1975-01-28 | 1976-08-27 | Alsthom Cgee | Thyristor a caracteristiques de commutation ameliorees |
-
1977
- 1977-01-10 FR FR7700471A patent/FR2377095A1/fr active Granted
- 1977-12-30 BE BE1008621A patent/BE862498A/xx unknown
-
1978
- 1978-01-03 DE DE2800172A patent/DE2800172C2/de not_active Expired
- 1978-01-04 GB GB78153A patent/GB1542227A/en not_active Expired
- 1978-01-04 US US05/866,897 patent/US4177478A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2800172A1 (de) | 1978-07-13 |
FR2377095B1 (de) | 1980-02-29 |
BE862498A (fr) | 1978-06-30 |
US4177478A (en) | 1979-12-04 |
GB1542227A (en) | 1979-03-14 |
FR2377095A1 (fr) | 1978-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2800172C2 (de) | Thyristor mit Zündverstärkung und Löschsteuerung | |
DE2625917C3 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE1154872B (de) | Halbleiterbauelement mit einem mindestens drei pn-UEbergaenge aufweisenden Halbleiterkoerper | |
DE1564527B1 (de) | Halbleiterschalter fuer beide stromrichtungen | |
DE2107564B2 (de) | Durch Lichteinfall steuerbarer Thyristor | |
DE2716874C2 (de) | Thyristor | |
DE1489031B1 (de) | Transistor mit einem scheibenfoermigen Halbleiterkoerper und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2945380C2 (de) | ||
DE3328231C2 (de) | ||
EP0062099B1 (de) | Thyristor und Verfahren zu seinem Betrieb | |
EP0062100B1 (de) | Thyristor mit innerer Stromverstärkung und Verfahren zu seinem Betrieb | |
DE2659909C2 (de) | Halbleiterschaltereinrichtung | |
DE2722517C2 (de) | ||
DE3118365A1 (de) | Thyristor mit in den emitter eingefuegten steuerbaren emitter-kurzschlusspfaden | |
EP0222280A2 (de) | Thyristor mit steuerbaren Emitter-Basis-Kurzschlüssen | |
DE2406866A1 (de) | Halbleitersteuergleichrichter | |
DE2639364C3 (de) | Thyristor | |
DE2458735C2 (de) | Transistor mit einem hohen Stromverstärkungsfaktor bei kleinen Kollektorströmen | |
EP0065174B1 (de) | Verfahren zum Betrieb eines Thyristors mit steuerbaren Emitterkurzschlüssen | |
EP0062102A2 (de) | Thyristor mit anschaltbarer innerer Stromverstärkung und Verfahren zu seinem Betrieb | |
DE1210490B (de) | Steuerbares Halbleiterbauelement mit einer pnpn- oder npnp-Zonenfolge und Verfahren zum Herstellen | |
DE2438894C3 (de) | Thyristor mit Kurzschlußemitter | |
DE4439012A1 (de) | Zweirichtungsthyristor | |
DE3028134C2 (de) | Lichtgesteuerter Halbleitergleichrichter | |
DE4105646C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines optisch triggerbaren lateralen Thyristors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OGA | New person/name/address of the applicant | ||
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |