DE2635167B1 - Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlaessigkeit von poroesen Koerpern aus reaktionsgesintertem Siliziumnitrid - Google Patents
Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlaessigkeit von poroesen Koerpern aus reaktionsgesintertem SiliziumnitridInfo
- Publication number
- DE2635167B1 DE2635167B1 DE2635167A DE2635167A DE2635167B1 DE 2635167 B1 DE2635167 B1 DE 2635167B1 DE 2635167 A DE2635167 A DE 2635167A DE 2635167 A DE2635167 A DE 2635167A DE 2635167 B1 DE2635167 B1 DE 2635167B1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silicon
- silicon nitride
- reaction
- gas permeability
- imide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 22
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 230000035699 permeability Effects 0.000 title claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 20
- -1 silicon halide Chemical class 0.000 claims description 15
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 2
- 229910003691 SiBr Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910004028 SiCU Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 6
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003676 SiBr4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003930 SiCb Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0088—Physical treatment with compounds, e.g. swelling, coating or impregnation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D39/00—Filtering material for liquid or gaseous fluids
- B01D39/14—Other self-supporting filtering material ; Other filtering material
- B01D39/20—Other self-supporting filtering material ; Other filtering material of inorganic material, e.g. asbestos paper, metallic filtering material of non-woven wires
- B01D39/2068—Other inorganic materials, e.g. ceramics
- B01D39/2072—Other inorganic materials, e.g. ceramics the material being particulate or granular
- B01D39/2075—Other inorganic materials, e.g. ceramics the material being particulate or granular sintered or bonded by inorganic agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/0215—Silicon carbide; Silicon nitride; Silicon oxycarbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B13/00—Diaphragms; Spacing elements
- C25B13/04—Diaphragms; Spacing elements characterised by the material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2239/00—Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
- B01D2239/04—Additives and treatments of the filtering material
- B01D2239/0464—Impregnants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2239/00—Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
- B01D2239/04—Additives and treatments of the filtering material
- B01D2239/0471—Surface coating material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2239/00—Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
- B01D2239/10—Filtering material manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2239/00—Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
- B01D2239/12—Special parameters characterising the filtering material
- B01D2239/1208—Porosity
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Geology (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlässigkeit von porösen Körpern an
reaktionsgesintertem Siliziumnitrid durch Tränken und anschließendes Brennen in einer Sticksioffatmosphäre.
Durch die Weiterentwicklung der Technik und des Maschinenbaues werden auch höhere und neue
Anforderungen an bereits bekannte keramische Konstruktionswerkstoffe gestellt, wie geringes Gewicht bei
hoher Festigkeit, Hochwarmfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Oxidationsbeständigkeit und Gasdurchlässigkeit.
Insbesondere werden Siliziumnitridbauteile für Rekuperatoren, Heißgasleitungen und im Turbinenanlagebau
benötigt. Da mit der Verminderung der Gasdurchlässigkeit auch eine Verbesserung der Oxidationsbeständigkeit
mit der Festigkeit verbunden ist, hat man bereits versucht, reaktionsgesintertes Siliziumnitrid
durch Infiltrationsprozesse weitgehend gasundurchlässig zu machen, wie aus der DT-OS 23 60 434 und der
DT-OS 23 51 162 hervorgeht. Für Infiltrationszwecke werden hier artfremde Metallsalzlösungen, Säuren und
Ester mit anschließendem Abscheiden von Oxiden oder Metallen innerhalb der Poren des getränkten Körpers
verwendet. Es ist auch bereits versucht worden, auf poröse Siliziumnitridkörper ein feinkörniges Gemisch
aus Silizium und entsprechenden Flußmitteln wie Eisenoxid, Calciumfluorid od. dgl., durch Streichen
aufzubringen, und die durch Brennen erzeugte Schicht aus geschmolzenem Silizium unter Stickstoffeinwirkung
in dichtes Siliziumnitrid umzuwandeln, wie aus der DT-OS 19 30 613 hervorgeht.
Nachteilig erweist es sich bei diesem Verfahren, daß
artfremde Stoffe zur Filtration und zum Abdichten der äußeren Oberfläche verwendet werden, die eine höhere
Wärmedehnung als das reaktionsgesinterte Siliziumnitrid besitzen. Dadurch wird die Temperaturwechselbeständigkeit
vermindert, und die Hochtemperaturfestigkeit wird durch Reaktionen der abgeschiedenen
Fremdstoffe mit der Siliziumnitridmatrix herabgesetzt.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, den vorstehend geschilderten Schwierigkeiten und
Nachteilen in verhältnismäßig einfacher Weise durch einen Infiltrierprozeß abzuhelfen, so daß man eine
weitgehend gasdichte Siliziumnitrid-Keramik erhält, die nur aus der reinen α- und J3-Phase besteht
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs erwähnten Art nach der Erfindung dadurch
gelöst, daß ein reaktionsgesinterter poröser Siliziumnitridkörper mit einem Siliziumhalogenid, vorzugsweise
SiCb oder SiBr4, getränkt, daß durch eine Behandlung
mit Ammoniak infolge der Umsetzung mit dem Siliziumhalogenid Siliziumimid in den Poren ausgefällt
is und daß dieses Siliziumimid anschließend durch einen
Brand in Stickstoffatmosphäre in Siliziumnitrid umgewandelt wird.
Die Erfindung besteht ferner darin, daß bei dem eingangs genannten Verfahren der Infiltrationsprozeß
unter Druck erfolgt.
Ein weiteres Merkmal der Erfindung besteht darin, daß zum Ausfällen des Siliziumimids Ammoniak sowohl
als Gas als auch in flüssiger Form verwendet wird. Die Erfindung besteht auch darin, daß der Infiltrationsprozeß
einmal oder mehrfach wiederholt wird, um eine vollständige Porenfüllung zu erreichen.
Eine weitere Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht auch darin, daß das beim Ausfällen
des Siliziumimids eventuell entstehende Ammoniumhalogenid durch eine Wärmebehandlung entfernt wird.
Alle die beschriebenen Verfahrensschritte werden vorzugsweise in einem stickstoffgefüllten Gefäß durchgeführt,
da weder Sauerstoff noch Wasser oder Wasserdampf mit dem Siliziumhalogenid in Berührung
kommen darf. Schon eine geringe Menge Sauerstoff führt zu einer Porenfüllung mit Siliziumoxinitrid. Das
Tränken der Siliziumnitridteile mit Siliziumtetrachlorid wird wegen des hohen Dampfdruckes dieser Verbindung
vorzugsweise bei tiefen Temperaturen durchgeführt. Das innerhalb der Poren des Siliziumnitridkörpers
abgeschiedene Siliziumimid wird durch Brennen in stickstoffhaltiger Atmosphäre möglichst bis zu einer
Temperatur von mehr als 15000C über eine röntgenamorphe
Siliziumnitridphase in <x- und /?-Siliziumnitrid
umgewandelt.
Alle weiteren Vorteile und Merkmale der Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung ergeben sich aus
dem folgenden Ausführungsbeispiel:
Siliziumnitridscheiben, aus reaktionsgesintertem isostatisch gepreßtem Siliziumpulver, wurden bei einer Temperatur von — 100C in einem geschlossenen, mit Stickstoff gefüllten Gefäß mit Siliziumtetrachlorid getränkt. Die getränkten Proben wurden bei der gleichen Temperatur eine halbe Stunde vom gasförmigen Ammoniak überströmt. Zur Entfernung des neben Siliziumimid entstandenen Ammoniumchlorids wurden die Proben in einem Rohrofen unter strömendem Stickstoff auf 12000C erhitzt. Mit einem Teil dieser Proben wurden die beschriebenen Verfahrensschritte mehrmals wiederholt. Die 5- bis 8malige Tränkung wurde unter Druck durchgeführt. Anschließend wurden alle Proben bei 15500C in Stickstoffatmosphäre nitriert.
Siliziumnitridscheiben, aus reaktionsgesintertem isostatisch gepreßtem Siliziumpulver, wurden bei einer Temperatur von — 100C in einem geschlossenen, mit Stickstoff gefüllten Gefäß mit Siliziumtetrachlorid getränkt. Die getränkten Proben wurden bei der gleichen Temperatur eine halbe Stunde vom gasförmigen Ammoniak überströmt. Zur Entfernung des neben Siliziumimid entstandenen Ammoniumchlorids wurden die Proben in einem Rohrofen unter strömendem Stickstoff auf 12000C erhitzt. Mit einem Teil dieser Proben wurden die beschriebenen Verfahrensschritte mehrmals wiederholt. Die 5- bis 8malige Tränkung wurde unter Druck durchgeführt. Anschließend wurden alle Proben bei 15500C in Stickstoffatmosphäre nitriert.
Mit Hilfe der Röntgenbeugungsanalyse wurde in den
Proben ein Hauptbestandteil von )3-SiIiziumnitrid mit
geringem Anteil an a-Siliziumnitrid gefunden. Andere
Phasen waren nicht vorhanden.
Die Verringerung der Porosität zeigt auch die folgende Tabelle:
ORKHNAt INSPECTED
Rohdichte
(g/cm3)
(g/cm3)
Porosität
Nicht getränkt | getränkt | 2,514 | 20,9 |
1 χ | getränkt | 2,580 | 18,9 |
2 χ | getränkt | 2,702 | 15,0 |
3 χ | getränkt | 2,791 | 12,2 |
4 χ | getränkt | 2,842 | 10,8 |
5 χ | getränkt | 2,880 | 9,5 |
6 χ | getränkt | 2,914 | 8,4 |
7 χ | getränkt | 2,943 | 7,4 |
8 χ | 2,971 | 6,5 |
Erfindungsgemäß liegen gegenüber den bisher bekannten Produkten reaktionsgesinterte Siliziumnitridkörper
mit wesentlich verringerter Gasdurchlässigkeit ohne fremdartige Phasen vor. Die gute Temperaturwechselbeständigkeit
des Siliziumnitrids wird gegenüber den noch anderen Infiltrierverfahren hergestellten
Produkten nicht verschlechtert. Auch die Hochtemperaturkriechfestigkeit
des Siliziumnitrids wird durch das erfindungsgemäße Verfahren nicht herabgemindert,
vielmehr wird die Festigkeit des reinen Siliziumnitrids noch einmal erhöht. Die Wärmeleitfähigkeit des
erfindungsgemäßen Siliziumnitrids wird erhöht, und zwar um etwa 5%.
Von der mechanischen Seite ergeben sich insofern auch noch Vorteile, da die Polierbarkeit des Siliziumnitridproduktes
verbessert wird; dies ist besonders wichtig für Hochtemperaturlager. Mit Hilfe dieses
Verfahrens kann eine gezielte Porosität erreicht werden, die zwischen 20 und 5 Vol.-% Gesamtporosität
liegt. Dies kann man für den Einsatz von Siliziumnitrid als Filter für aggressive Medien oder als Diaphragmenmaterial
nutzbar machen.
Claims (4)
1. Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlässigkeit von porösen Körpern aus reaktionsgesintertem
Siliziumnitrid durch Tränken und anschließendes Brennen in einer Stickstoffatmosphäre, dadurch
gekennzeichnet, daß der Körper mit einem Siliziumhalogenid, vorzugsweise SiCU oder
SiBr4, getränkt, daß durch eine Behandlung mit Ammoniak infolge der Umsetzung mit dem Siliziumhalogenid
Siliziumimid in den Poren ausgefällt und daß dieses Siliziumimid anschließend durch einen
Brand in Stickstoffatmosphäre in Siliziumnitrid umgewandelt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Tränkung der Poren mit Siliziumhalogenid
unter Druck erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Ausfällen des Siliziumimids
Ammoniak sowohl als Gas als auch in flüssiger Form verwendet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim Ausfällen des Siliziumimids
eventuell entstehendes Ammoniumhalogenid durch eine Wärmebehandlung entfernt wird.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2635167A DE2635167C2 (de) | 1976-08-05 | 1976-08-05 | Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlässigkeit von porösen Körpern aus reaktionsgesintertem Siliziumnitrid |
FR7722926A FR2360533A1 (fr) | 1976-08-05 | 1977-07-26 | Procede pour reduire la permeabilite aux gaz de nitrure de silicium obtenu par frittage reactionnel |
GB32709/77A GB1527068A (en) | 1976-08-05 | 1977-08-04 | Reducing the permeability of silicon nitride |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2635167A DE2635167C2 (de) | 1976-08-05 | 1976-08-05 | Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlässigkeit von porösen Körpern aus reaktionsgesintertem Siliziumnitrid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2635167B1 true DE2635167B1 (de) | 1977-10-06 |
DE2635167C2 DE2635167C2 (de) | 1978-06-01 |
Family
ID=5984755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2635167A Expired DE2635167C2 (de) | 1976-08-05 | 1976-08-05 | Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlässigkeit von porösen Körpern aus reaktionsgesintertem Siliziumnitrid |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2635167C2 (de) |
FR (1) | FR2360533A1 (de) |
GB (1) | GB1527068A (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2425291A1 (fr) * | 1978-05-08 | 1979-12-07 | Ube Industries | Procede de preparation de nitrure metallique en poudre |
FR2583744A1 (fr) * | 1985-06-24 | 1986-12-26 | Chisso Corp | Procede de fabrication d'articles faconnes en ceramique contenant du nitrure de silicium |
DE3717670A1 (de) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | Hoechst Ceram Tec Ag | Verfahren zum abdichten keramischer waermetauscher |
EP0428083A2 (de) * | 1989-11-13 | 1991-05-22 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Filtrationsmembrane auf einem Träger und Verfahren zu ihrer Herstellung |
EP0870534A1 (de) * | 1997-04-09 | 1998-10-14 | Societe Des Ceramiques Techniques | Makroporöser Träger mit einem Permeabilitätsgradient und Methode zu dessen Herstellung |
-
1976
- 1976-08-05 DE DE2635167A patent/DE2635167C2/de not_active Expired
-
1977
- 1977-07-26 FR FR7722926A patent/FR2360533A1/fr active Granted
- 1977-08-04 GB GB32709/77A patent/GB1527068A/en not_active Expired
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2425291A1 (fr) * | 1978-05-08 | 1979-12-07 | Ube Industries | Procede de preparation de nitrure metallique en poudre |
FR2583744A1 (fr) * | 1985-06-24 | 1986-12-26 | Chisso Corp | Procede de fabrication d'articles faconnes en ceramique contenant du nitrure de silicium |
DE3717670A1 (de) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | Hoechst Ceram Tec Ag | Verfahren zum abdichten keramischer waermetauscher |
US4812334A (en) * | 1986-11-21 | 1989-03-14 | Hoechst Ceramtec Aktiengesellschaft | Process for sealing ceramic heat exchangers |
EP0428083A2 (de) * | 1989-11-13 | 1991-05-22 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Filtrationsmembrane auf einem Träger und Verfahren zu ihrer Herstellung |
EP0428083A3 (en) * | 1989-11-13 | 1991-08-28 | Norton Company | Supported filtration membrane and method of manufacturing same |
EP0870534A1 (de) * | 1997-04-09 | 1998-10-14 | Societe Des Ceramiques Techniques | Makroporöser Träger mit einem Permeabilitätsgradient und Methode zu dessen Herstellung |
EP1052013A1 (de) * | 1997-04-09 | 2000-11-15 | Societe Des Ceramiques Techniques | Makroporöser Träger mit einem Permeabilitätsgradient und Methode zu dessen Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2360533B3 (de) | 1980-07-11 |
DE2635167C2 (de) | 1978-06-01 |
FR2360533A1 (fr) | 1978-03-03 |
GB1527068A (en) | 1978-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69205881T2 (de) | Behandlung von Sinterlegierungen. | |
CH654595A5 (de) | Verfahren zur herstellung schuetzender oxidschichten auf einer werkstueckoberflaeche. | |
CH647265A5 (de) | Verfahren zur herstellung schuetzender oxidschichten. | |
DE2503763A1 (de) | Verfahren zur bildung einer korrosionsverhuetenden, oxidischen schutzschicht auf staehlen, insbesondere maragingstaehlen | |
DE1521146C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines chromhaltigen Überzugs auf einem Stahlband | |
DE1216065B (de) | Aufbringen eines UEberzuges auf eine Molybdaen-Grundlage im Diffusionsverfahren | |
DE2635167C2 (de) | Verfahren zur Verminderung der Gasdurchlässigkeit von porösen Körpern aus reaktionsgesintertem Siliziumnitrid | |
DE834362C (de) | Feuerfester Werkstoff | |
DE2261877B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Supraleiters | |
DE282748C (de) | ||
DE2139522C3 (de) | Sinterverfahren | |
DE1533320B2 (de) | Verfahren zur pulvermetallurgischen herstellung von poroesen metallkoerpern | |
DE4407421A1 (de) | Verfahren zum Verbessern des Oxidationswiderstandes von kohlenstoffhaltigen Materialien | |
DE1227756B (de) | UEberzuege aus Bornitrid | |
DE688239C (de) | Verfahren zur Herstellung elektrischer Isolierkoerper | |
AT319187B (de) | Verfahren zur Herstellung einer elektrisch-leitenden, säure- und/oder alkaliresistenten Substanz | |
DE849790C (de) | Verfahren zur Herstellung hitzebestaendiger UEberzuege auf aus hochschmelzenden Metallen bestehenden Formkoerpern durch Aufbringen einer Deckschicht eines ein hochschmelzendes Oxyd bildenden Metalls | |
AT273514B (de) | Verfahren zur Herstellung von Körpern aus Metall-Metalloxyd-Verbundwerkstoffen oder Legierrungen in disperser Phase | |
DE946060C (de) | Behaelter und sonstige Apparateteile, die mit Jod und Jodiden in Beruehrung kommen | |
AT272929B (de) | Verfahren zur vakuumdichten Verlötung eines Metallkörpers mit einem glasphasenfreien Keramikkörper | |
DE692461C (de) | Verfahren zum Herstellen von aus einem einzigen Kristall oder aus Grosskristallen bestehenden Koerpern aus hochschmelzenden Metallen | |
DE919271C (de) | Verfahren zur Herstellung dichter Koerper aus Graphit | |
AT233851B (de) | Verfahren zur Herstellung von Formkörpern | |
DE2348634B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Grundmaterials fuer Brillengestelle | |
DE1109142B (de) | Verfahren zur Herstellung geformter Koerper |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8330 | Complete renunciation |