DE2541528A1 - Galvanisierverfahren - Google Patents
GalvanisierverfahrenInfo
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Description
It 5365 17. September 1975
SONY CORPORATION
7-35, Kitashinagawa 6-chome, Shinagawa-ku
Tokyo, Japan
Galvani s i e rverfahr en
Die Erfindung betrifft ein Galvanisierverfahren, speziell ein Verfahren zum Elektroplattieren mit einem Metall oder einer
Metallegierung durch Schmelzeelektrolyse.
In den japanischen Patentschriften 212 080, 229 381, 294 943 und 726 754 sind von denselben Erfindern Galvanisierverfahren
unter Verwendung von Salzschmelzeelektrolyse beschrieben worden, worin Form oder Umrisse des aufgalvanisierten Materials
den Erfordernissen gemäß gesteuert werden kann, so daß z. B. durch Anwendung elektrolytischer Polarisation Platten oder
Blöcke erzeugt werden können.
Bei den bekannten Galvanisierverfahren kann sich jedoch speziell bei einer rotierenden Kathode ein stationäres Strömungsmuster
im Elektrolyten im näheren Bereich der Kathode ausbilden. Dies begrenzt den Spielraum der elektrolytischen Bedingungen, in
welchem gute Plattierung erzielt werden kann, und insbesondere ist die Zeit, über die Galvanisierung ohne Unterbrechung durchgeführt
werden kann, begrenzt.
Wenn die Galvanisierbedingungen während einer längeren Zeit unverändert bleiben, können sich auf der plattierten Fläche
durch stationäre Strömungsmuster des Elektrolyten Spuren aus-
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"bilden, und es wachsen aui3erdem auf der plattierten Fläche
entlang der tiefer liegenden Spuren vorstehende Bereiche. Dies kann seinen Grund darin haben, daß bei über längere
Zeit unveränderten elektrolytischen Bedingungen die Viskosität einer Schicht des polarisierten Elektrolyten im unmittelbaren
Bereich der Kathodenfläche einen anderen Wert annimmt als die Viskosität des übrigen Elektrolytbades.
Bei allen vorstehend aufgeführten Verfahren kann aber das abgesetzte Material nur in der Schicht des polarisierten Elektrolyten
gut wachsen, so daß es nahe Vorsprüngen, wo die polarisierte Elektrolytschicht leicht beseitigt wird, nicht gut
wächst.
Mit der Erfindung wird deshalb angestrebt, ein Galvanisierverfahren
zu entwickeln, das von den Mängeln der bisher bekannten Verfahren frei ist. Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung,
ein Galvanisierverfahren zu schaffen, in welchem der Galvanisationsvorgang eines Metalls oder einer Metallegierung
auf der Fläche einer Kathode über eine erhebliche Zeitdauer fortgesetzt werden kann, wobei dann das aufgalvanisierte
Metall dennoch eine glatte Oberfläche erhalten soll. In dem Zusammenhang soll ein mit einer Salzschmelze arbeitendes Galvanisierverfahren
geschaffen werden, in welchem die Elektropolarisation so geändert wird, daß eine Schicht des polarisierten
Elektrolyten während einer erheblichen Zeitspanne stabil gehalten wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren soll einfach und stabil im Betrieb sein, eine glatte Elektroplattierung ergeben von
steuerbarer Gestalt und soll während einer erheblichen Zeit durchgeführt werden können. Schließlich soll mit dem erfindungsgemäßen
Galvanisierverfahren eine Elektroplattierung von beträchtlicher Dicke aus Titan oder einer Titanlegierung
möglich sein.
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Gemäß der Erfindung wird zur Lösung vorstehender Aufgabe ein Elektrogalvanisierverfahren geschaffen, bei dem wenigstens
eine der folgenden Größen periodisch zwischen einem Normalwert und einem davon abweichenden Wert verändert wird, und zwar
die Bewegungsgeschwindigkeit einer Kathode relativ zum Elektrolyten, die Stromdichte im Elektrolyten, das Einschaltdauer-Verhältnis
eines intermittierenden GalvanisierStroms oder die
Unterbrechungsfrequenz eines Galvanisierstroms.
Es werden nun einige Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen
Verfahrens beschrieben, anhand derer Einzelheiten der Erfindung erläutert werden.
Das Galvanisierverfahren nach der Erfindung verwendet die Salzschmelzeelektrolyse, und eine elektrolytische Bedingung
wie die relative Geschwindigkeit der Bewegung zwischen Kathode und Elektrolyten, die Stromdichte, das Verhältnis der Stromflußdauer
zur Unterbrechungszeit im Ausschaltbetrieb oder die Unterbrechungsfrequenz des Stromes wird periodisch geändert
zwischen einem normalen Wert und einem davon abweichenden Wert.
Es kann beispielsweise gesagt werden, daß eine Abnahme der Bewegungsgeschwindigkeit
einer zu galvanisierenden Fläche gegenüber dem Elektrolyten von einem Normalwert einer Dickenzunahme
der sich über dieser Fläche aufbauenden dynamischen Grenzschicht entspricht. Folglich wird die Schicht von polarisiertem
Elektrolyten unmittelbar über der Fläche dicker. Gleichzeitig ändert sich aber die Zusammensetzung des Elektrolyten
in diesem polarisierten Teil gegenüber der Zusammensetzung des übrigen Elektrolyten erheblich. Bei dieser Art des bisher
angev/endeten Galvanisierverfahrens ist der Elektrolyt derart,
daß die Plattierung nur in der Schicht des polarisierten Elektrolyten gut wächst, nicht jedoch an Vorsprüngen, an denen
die polarisierte Schicht leicht entfernt wird, so daß in der Plattierung Löcher wachsen. Mit anderen Worten, die plattierte
Fläche, die durch Abnahme der Bewegungsgeschwindigkeit der
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zu galvanisierenden Oberfläche gegenüber dem Elektrolyten
hergestellt wurde, ist reich an Aushöhlungen und Aufwölbungen, verglichen mit einer Plattierung, die bei hoher Relativgeschwindigkeit
hergestellt wurde, oder mit einer dünnen Schicht eines polarisierten Elektrolyten.
Als nächstes wird die Geschwindigkeit der zu galvanisierenden Fläche gegenüber dem Elektrolyten gesteigert, bis sie ihren
Normalwert wieder erreicht. Die konkaven und konvexen Bereiche, die sich während der Zeit mit niedriger Relativgeschwindigkeit
in der Plattierschicht gebildet haben, werden durch das Zurückkehren zum !Tormalwert der Relativgeschwindigkeit wieder beseitigt,
so daß die galvanisierte Fläche wieder eine ebene Gestalt annimmt. Die vorstehend genannten Änderungen werden periodisch
wiederholt, so daß auf diese Weise der Galvanisiervorgang
über lange Zeit aufrechterhalten werden kann.
Es sollen nun Beispiele der Erfindung beschrieben und miteinander verglichen werden. Bei allen Beispielen wird ein von
innen erhitztes Galvanisierbad von quadratischer Gestalt verwendet, in das soviel Elektrolyt eingefüllt wird, daß das
Bad eine Tiefe von 85 cm hat, was im vorliegenden Fall eine Menge des Elektrolyten von 130 1 bedeutet. Über dem Elektrolyten
befindet sich eine Argonatmosphäre, und der Elektrolyt wird durch einen Rührer aus rostfreiem Stahl in Bewegung gehalten. In einem Bereich des Elektrolyten zwischen 5 und 15 cm
unterhalb der Oberfläche, in den eine Kathode eingesetzt wird, ist das Gewichtsverhältnis bei einer Temperatur zwischen
451 0G und 455 0C entsprechend folgender Tabelle:
BaCl2 21,5
MgCl2 22,8
CaCl2 13,1
IaCl 12,3
KCl 9,3
15,3
TiCl, 0,5
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Die Analyse von Titandichlorid und Titantrichlorid im Elektrolyten
wird nach der Methode vorgenommen, wie sie in "Journal of Metals 266, 1957" von S. Mellgrem und W. Opie angegeben wird.
Dieses Verfahren "beruht darauf, daß Titandichlorid quantitativ Wasserstoffgas in einer wässrigen Säurelösung erzeugt, wobei
nachstehende chemische Reaktion abläuft:
Ti+2 + H+ >
Ti+3 + 1 H2 t
Die quantitative Analyse von Titandichlorid v/ird durch Messen der erzeugten Wasserstoffmenge vorgenommen, und das Analyseverfahren
von Titandichlorid wird nachstehend als Wasserstoffverfahren bezeichnet. Um dieses Verfahren anwenden zu können,
wird eine Probe des Elektrolyten bei Arbeitstemperatur entnommen, die Probe dann schnell abgekühlt und in eine 0,7^-ige
wässrige Lösung von Salzsäure eingebracht, wobei die Menge des entstehenden Wasserstoffes gemessen wird. Dabei wird die
quantitative Bestimmung des Titandichlorid im Elektrolyten unter der Annahme vorgenommen, daß der Wasserstoff aufgrund
der Anwesenheit des Titandichlorid entstanden ist.
Die Analyse von Titantrichlorid unterscheidet sich etwas davon. Die entnommene Probe wird in einer 0,5$-igen wässrigen Lösung
von Salzsäure gelöst, das Bariumsalz wird mit einer 10%-igen
wässrigen Lösung von Schwefelsäure entfernt, die Titanionen,
+3 die reduziert werden können, werden sämtlich zu Ti mit Zinkamalgam reduziert und anschließend mit einer Standard-Pe
-Lösung titriert, und die Menge von Titandichlorid, die quantitativ durch das Wasserstoffverfahren bestimmt wurde,
wird von dem Titansalz, das durch die Titration als Titantrichlorid erhalten wird, abgezogen, um die tatsächliche Menge
von Titantrichlorid auf diese Weise quantitativ zu bestimmen.
Eine Drehkathode wird bei den Galvanisierverfahren angewendet, die ein aus rostfreiem Stahl bestehendes Rohr von 100 mm Länge,
32 mm Außendurchmesser und 1,5 mm Wandstärke aufweist. Das Rohr wird durch einen aus Stahl bestehenden Ring elektrisch
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leitend mit dem Ende einer Drehwelle verbunden, die einen Außendurchmesser von 25 mm hat und aus rostfreiem Stahl
hergestellt ist. Das äußere Ende des Rohres ist von einer keramischen Mutter abgedeckt. Die Kathode wird in den Elektrolyten
derart eingesenkt, daß das Rohr praktisch vertikal etwa 10 bis 15 cm unter die Oberfläche eintaucht, wobei sich die
keramische Mutter am unteren Ende befindet. Die Kathode wird während des Betriebes von der Drehwelle im Elektrolyten
in Drehung versetzt. Der Abschnitt der Welle, der nach oben an das Rohr angrenzt, und noch in den Elektrolyten eintaucht,
ist mit einem keramischen Zylinder bedeckt, dessen Außendurchmesser praktisch gleich dem des Rohres ist, so daß dadurch
die Drehwelle vom Elektrolyten isoliert ist.
Zwei 20 χ 20 cm Kohlenstoffplatten von 1,5 cm Dicke dienen
als Anoden. Die beiden Kohlenstoffplatten liegen im Elektrolyten symmetrisch zum Kathodenrohr zu dessen beiden Seiten mit
einem Abstand von 15 cm dazu.
Die Kohlenstoffanöden sind von einer beutelartigen Membran
umschlossen, die aus geköpertem Quarz hergestellt ist, damit sich an der Anode kein Elektrolyt ansammelt, der durch Stoffe
verändert werden könnte, die infolge anodischer Reaktion während des Galvanisierens an den Anoden gebildet werden.
Zwischen den Anodenflächen und den Trennmembranen befindet sich ein Abstand von etwa 3 cm.
Schließlich wird zur Messung der Polarisation auf der Oberfläche der Kathode ein Kohlenstoffstab mit einem Durchmesser von 8 mm
als neutrale Vergleichselektrode in den Elektrolyten eingetaucht, so daß er der Kathode mit einem Abstand von etwa
12 cm gegenüberliegt und 15 cm auf einer Seite in den Elektrolyten hineinragt, wo sich Kathode und Anode nicht gegenüberstehen.
Nachfolgend werden nun Bezugsbeispiele, bei denen die Erfindung nicht angewendet wird, und Erfindungsbeispiele auf-
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geführt und in Ihren Ergebnissen verglichen. Bezugsbeispiel 1
(1) Die Kathode läuft mit 2300 1/min um;
(2) der Galvanisierstrom wird 100 mal je Minute
unterbrochen; die Einschaltdauer, also das Verhältnis
zwischen der Zeit, in der Strom fließt, und der Unterbrechungszeit ist 3:2; die Stromdichte an der
Kathode beträgt während der Stromflußzeit 17,5 A/dm ;
(3) die Dauer des Galvanisierens war 30 min.
Unter diesen Bedingungen ist die galvanisierte Fläche fast halbmatt und eben, doch erscheinen auf der Fläche ringförmige
Rillen, die leicht konkav sind und senkrecht zur Drehachse der Welle verlaufen, wobei diese Rillen einen untereinander
praktisch gleichen Abstand von etwa 0,6 mm haben.
(1) Die Drehung ist dieselbe wie unter der Bedingung (1) des Bezugsbeispiels 1;
(2) auch der Strom ist derselbe wie unter (2) des Bezugsbeispiels 1;
(3) der Galvanisiervorgang dauert 2 h.
Unter diesen Bedingungen werden ausgeprägte ringförmige Rillen in Richtung senkrecht zur Achse der Drehwelle der Kathode mit
praktisch gleichem Abstand von etwa 0,6 mm hervorgerufen. Es
werden außerdem Vorsprünge beobachtet, die auf den zwischen den Rillen liegenden Stegen gewachsen sind und in Richtung der
Stege abstehen. Sie sind an ihren Vorderenden abgerundet und haben großen Durchmesser.
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- 8 Erfindungsbeispiel 1
(1) Die Kathode wird mit 2300 1/min während 20 sec
und anschließend mit 250 1/min während 10 see gedreht,
was ständig im Wechsel wiederholt wird. Die Übergangszeit zwischen den "beiden Geschwindigkeiten beträgt
etwa 2,5 bis 3 see.
(2) Der Strom entspricht der Bedingung (2) des Bezugsbeispiels 1.
(3) Der Galvanisiervorgang dauert 3 h.
Unter diesen Bedingungen ist, obgleich der Vorgang wesentlich langer als bei den Bezugsbeispielen 1 und 2 dauerte, die
plattierte Fläche im Vergleich zum Bezugsbeispiel 1 nur sehr wenig matt, wobei im Bezugsbeispiel 1 der Galvanisiervorgang
nur 30 min gedauert hatte,und außerdem ist die elektroplattierte Oberfläche eben ohne Vorspränge und Höhlen.
So zeigt das Erfindungsbeispiel 1, daß mit diesem Verfahren
die Mängel der plattierten Fläche bei den Bezugsbeispielen 1 und 2 durch periodisches Indern der Umlaufgeschwindigkeit der
Kathode beseitigt werden können. Außerdem wird ohne weitere Erläuterung deutlich, daß ein geeigneter Wert für das Verhältnis
der beiden Geschwindigkeiten und der jeweiligen Umschaltzeiten für die Geschwindigkeiten jeweils für die Zusammensetzung
des verwendeten Elektrolyten, der Temperatur des Elektrolyten, der Elektrolysestromdichte, dem Einsehaltdauer-Verhältnis und
der Unterbrechungsfrequenz bestimmt werden kann, wenn der Elektrolysestrom unterbrochen wird. Allgemein kann man sagen,
daß, wenn die Geschwindigkeit der Bewegung einer zu galvanisierenden Fläche gegenüber einem Elektrolyten periodisch vermindert
wird, um einen Faktor, der sich im Bereich zwischen 1/2 und 1/10 oder weniger der Ausgangsgeschwindigkeit bewegt,
die gewünschte Wirkung erzielt werden kann.
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254152B
- 9 Erfindungsbeispiel 2
(1) Die Kathode wird mit 2300 1/min gedreht.
(2) der Galvanisierungsstrom wird mit 100 mal je Minute
unterbrochen. Das Einschaltdauer-Verhältnis, also das Verhältnis zwischen der stromführenden Zeit (Einschaltzeit)
und der Zeit, in der kein Strom fließt (Ausschaltzeit) wird zu 3:2 gewählt, und die Kathodenstromdichte
während der Einschaltzeit wird aufierdem
ρ ρ
abwahselnd zwischen 30 A/dm und 17,5 A/dm gewechselt.
Für diesen Fall wird die Stromführungszeit auf 50 see
festgelegt.
(3) Die Dauer des Galvanisiervorgangs beträgt 2 h.
Unter diesen Bedingungen wird eine plattierte Fläche erhalten, die halbmatt ist und keine Rillen aufweist.
(1) Die Kathode wird mit 2300 1/min gedreht.
(2) Der Galvanisierstrom wird 100 mal je Minute unterbrochen; das Einschaltdauer-Verhältnis (Einschaltzeit
zu Ausschaltzeit) beträgt 1:1 und 3:1 abwechselnd für je 80 see. In diesem Fall beträgt die Kathodenstromdichte
während der Einschaltzeit 17,5 A/dm .
(3) Die Galvanisierdauer beträgt 2 h.
In diesen Fall erhält man eine plattierte Fläche, die grau und eben ist.
(1) Die Kathode läuft mit 2300 1/min um.
(2) Der Galvanisierstrom wird unterbrochen; die Unterbrechungsfrequenz
beträgt während 67 see 30 mal je Minute und dann während 33 see 400 mal je Minute,
. was stets im Wechsel aufeinander folgt. Das Einschalt-
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- ίο -
dauer-Verhältnis, also das Verhältnis zwischen
Einschaltzeit und Ausschaltzeit ist 3:2 und die Kathodenstromdichte während der Einschaltzeit beträgt
17,5 A/dm2.
(3) Der Galvanisiervorgang dauert 2 h.
(3) Der Galvanisiervorgang dauert 2 h.
Es wird damit eine hellgraue und ebene galvanisierte Oberfläche erhalten.
Wenn bei den vorstehend aufgeführten Galvanisierversuchen an einem Oszilloskop, an das die neutrale Elektrode und die Kathode
immer dann angeschlossen werden, wenn kein Strom fließt, eine Spannung kontrolliert wird, und diese sich zwischen 0,005 V
und 0,1 V und vorzugsweise zwischen 0,005 und 0,05 V bewegt, während der Behandlungsperiode, in der die Polarisation ansteigen
soll, und während der Behandlungsperiode, in der die Polarisation abnehmen soll, kann mit ziemlicher Sicherheit
das gewünschte Finish der galvanisierten Fläche erzielt werden.
Mit den in den Ausführungsbeispielen beschriebenen Galvanisierverfahren
kann das Galvanisieren einer glatten oder in der Gestalt gesteuerten plattierten Fläche während einer langen Zeitdauer
kontrolliert durchgeführt werden, und es können auch dickere Plattierungen erhalten v/erden. Der verwendete Mechanismus
ist der, daß die Schicht des sich auf der zu galvanisierenden
Fläche polarisierenden Elektrolyten mit einer geeigneten Periodenfolge geändert werden muß, da diese Änderungen auf
die Dicke oder den Grad der Vorspannung der Schicht Einfluß haben. Somit umfaßt die Erfindung alle Methoden, durch die die
Dicke der polarisierten Schicht oder der Vorspannungsgrad der Polarisation im Hinblick auf die mit der Erfindung verfolgten
Ziele beeinflusst wird.
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In der oben beschriebenen Verrichtung wird eine Kathode beschrieben,
die sich an einer einsigen Welle dreht, doch ist es
auch möglich, daß die Drehwelle, an der die Kathode mitdrehend befestigt ist, dem Einfluß eines zusätzlichen Mechanismus
unterworfen ist, der der Drehung eine periodische Bewegungskomponente senkrecht zur Kathodenfläche verleiht, damit auf
der gesamten Fläche der Kathode ein gleichförmiger Galvanisierbelag
gebildet wird. Die zusätzliche Bewegung, mit der ohne die Änderung der übrigen Bedingungen entsprechend den
Erfindungsbeispielen 1 bis 4 äußerst gute Ergebnisse erzielt werden, ist eine Bewegung der Kathode mit 1 cm Radius und
einer Periodenfolge von 100 pro Minute. Wenn in diesem Fall beide Radien oder ein Radius und die Periodenfolge der Zusatzbewegung
gesteigert werden, kann die Grenzschicht oder Diffusionsschicht nahe der Kathodenoberfläche dunner gemacht werden.
Als Folge davon versteht es sich ohne weitere Ausführungen, daß die Größe des Galvanisierstroms je Zeiteinheit gesteigert
werden kann.
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Claims (10)
- - 12 PATENTANSPRÜCHE^1y Galvanisierverfahren, "bei welchem in ein Bad eines Elektrolyten wenigstens eine Anode und eine Kathode, auf der die Plattierung vorgenommen werden soll, eingesetzt werden und zwischen Anode und Kathode der Galvanisierungsstrom zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest eine der folgenden Größen periodisch geändert wird: Die Bewegungsgeschwindigkeit der Kathode relativ zum Elektrolyten, die Stromdichte des GalvanisierungsStroms, das Einschaltdauer-Verhältnis bei einem unterbrochenen Galvanisierungsstrom und die Frequenz, mit der der Galvanisierungsstrom unterbrochen wird.
- 2. Galvanisierverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Geschwindigkeit der Bewegung der Kathode relativ zum Elektrolyten periodisch zwischen einem ersten und einem zweiten Wert gewechselt wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,daß die Umlaufgeschwindigkeit der Kathode relativ zum Elektrolyten periodisch zwischen einem ersten und einem zweiten Wert geändert wird.
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Drehbewegung der Kathode eine zusätzliche Bewegung überlagert wird.
- 5. Verfahren »ach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromdichte des GalvanisierungsstromB periodisch zwisehen einem ersten und einem zweiten Wert geändert wird.
- 6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Galvanisierunfsstrom periodisch unterbrochen wird und das Einschaltiauer-Verhältnis der linschaltperioden des Stroms und der Ausselniltperiöden zyklisch zwischen einem ersten und einem zweiten Wearfc geändert wird.609815/1315
- 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromdichte des Galvanisierungsstroms periodisch während jeder Einschaltdauer von einem ersten zu einem zweiten Wert geändert wird.
- 8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Galvanisierungsstrom periodisch unterbrochen wird und die Frequenz der periodischen Unterbrechung zyklisch zwischen einem ersten Wert und einem zweiten Wert geändert wird.
- 9. Galvanisierverfahren zum Plattieren mit einem Titan enthaltenden Material, dadurch gekennzeichnet, daß in ein Galvanisierbad eine Chloridsalzschmelze, die Titandichlorid und Titantrichlorid enthält, eingebracht wird, wenigstens eine Anode und eine Kathode, die plattiert werden soll, in den Elektrolyten eingesetzt wird, zwischen Anode und Kathode der Galvanisierungsstrom zugeführt wird, während der Dauer der Stromzuführung die Kathode relativ zum Elektrolyten bewegt wird und wenigstens eine der folgenden Größen periodisch geändert wird: Die Geschwindigkeit der Bewegung der Kathode relativ zum Elektrolyten, die Galvanisierstromdichte, das Einschaltverhältnis des unterbrochenen GalvanisierStroms und die Frequenz, mit der der Galvanisierstrom unterbrochen wird.
- 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Galvanisierbad mehrere Alkalimetallchloride enthält.609815/1315
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49107500A JPS5745318B2 (de) | 1974-09-18 | 1974-09-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2541528A1 true DE2541528A1 (de) | 1976-04-08 |
Family
ID=14460772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752541528 Withdrawn DE2541528A1 (de) | 1974-09-18 | 1975-09-17 | Galvanisierverfahren |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4049507A (de) |
JP (1) | JPS5745318B2 (de) |
AU (1) | AU504475B2 (de) |
CA (1) | CA1054555A (de) |
DE (1) | DE2541528A1 (de) |
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GB1519599A (en) | 1978-08-02 |
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