DE2459179B2 - Verfahren zur herstellung von photopolymerisierbaren ueberzuegen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von photopolymerisierbaren ueberzuegenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierbaren Überzügen, bei dem ein
Epoxid-Prepolymer mit mindestens zwei Epoxidgruppen je Molekül mit einer ^-ungesättigten Carbonsäure
umgesetzt, dem Reaktionsprodukt ein Photosensibilisator zugesetzt und die erhaltene Zusammensetzung
auf eine Unterlage aufgetragen wird.
Es sind viele Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierbaren
Überzügen bekannt. Ein solcher Prozeß ist beispielsweise beschrieben in der US-PS
69 982. In diesem Patent ist jedoch nicht die Kombination der Bestandteile angegeben, die in dem Verfahren
gemäß der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden. In der US-PS 34 50 613 ist die Zusammensetzung
eines Klebers beschrieben. Der Patentschrift ist die Verwendung von Epoxidharzen in Verbindung
mit α,/f-äthylenisch ungesättigten organischen Säuren
zu entnehmen. Es sind jedoch mehrere Unterschiede zwischen dieser Patentschrift und der vorliegenden
Erfindung vorhanden. Insbesondere ist der US-PS 50 613 nicht zu entnehmen, wie ein pholopolymerisierbarer
Überzug geschaffen werden kann. Obgleich die Verwendung eines tertiären Amin-Katalysators angegeben
ist (Beispiele 3 und 6), ist in der Patentschrift nicht die Verwendung eines primären aromatischen
Amins als Härtungsmittel angegeben, welches in der vorliegenden Erfindung zwingend vorgeschrieben ist,
um die ungewöhnliche Kombination der Eigenschaften des Reaktionsproduktes zu erhalten. Der tertiäre Amin/
Säure-Additionskatalysator, der in der US-PS 34 50613
angegeben ist, ist ausreichend für die Bildung eines adhäsiven Klebstoffes, er ist jedoch in der vorliegenden
Erfindung nicht ausreichend zur Einführung der Eigenschäften,
die erforderlich sind, um das System fur die gewünschte Anwendung brauchbar /u machen. Ein
wesentlicher Unterschied zwischen dieser Patentschrift und der vorliegenden Erfindung ist auch, daß gemäß
dieser Patentschrift kein Überzug in selektiven Beds reichen aus einem phutopolymerisierlen Material hergestellt
werden kann.
Aufgabe der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierbaren Überzügen, die
vor Belichtung eine längere Haltbarkeit als die bisher bekannten Materialien aus Epoxidharzen und aji-äthylenisch
ungesättigten Carbonsäuren und eine größere Schichtdicke aufweisen und zur Herstellung von
Mustern auf Schaltkarten geeignet sind.
Die Aufgabe wird durch ein Verfahren der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß gleichzeitig mil
der, oder anschließend an die Umsetzung des Epoxids mit der σ,/f-ungesättigten Carbonsäure eine Additionsreaktion zwischen dem Epoxid und einem primären
aromatischen Amin durchgeführt wird und daß dem
Reaktionsprodukt als Photosensibilisator ein Gemisch aus einem ggf. substituierten Anthrachinon und einer
organischen Halogenverbindung zugesetzt wird.
Die Verwendung primärer aromatischer Amine in Verbindung mit einer ungesättigten organischen Säure
gemäß der Erfindung führt zu einem Material, welches ausgezeichnete bildformende Eigenschaften besitzt
und als Folge der Materialeigenschaften ein geringerer Sauerstoffeinfluß auf die Reaktion, schärfere Kanten,
erhöhte Lösungsmittelbeständigkeit der photopolymerisierten Bereiche, verbesserte Adhäsion u.dgl.
erhalten werden.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Reaktion einer a^äthylenisch ungesättigten Carbonsäure
mit einem Epoxidharz gleichzeitig mit der Reaktion eines primären aromatischen Amins mit dem gleichen
Epoxidharz durchgeführt. Das resultierende Produkt ist ein lichtempfindliches Polymermaterial, welches in
überraschender Weise außergewöhnliche photochemisehe Eigenschaften besitzt, während es gleichzeitig
alle physikalischen, elektrischen und chemischen Eigenschaften eines der üblichen gehärteten Epoxidharze
beibehält.
Es ist chemisch widerstandsfähig, thermisch stabil, mechanisch beanspruchbar, elektrisch inert und bildet
starke adhäsive Bindungen zu der darunterliegenden Unterlage, während es gleichzeitig die Fähigkeit, in
einem Photoprozeß verarbeitet zu werden, beibehält. Ein weiterer unerwarteter Vorteil der nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren hergestellten Überzüge ist, daß die Haltbarkeit der Überzüge vor Belichtung
länger als ein Monat bei Raumtemperatur ist. Im Gegensatz hierzu hatten Überzüge gemäß dem Stand
der Technik vor Belichtung nur eine Haltbarkeit von etwa 6 Stunden. Es können auch gemäß dem erfindungsgemäßen
Verfahren Überzüge mit größeren Dicken als bisher hergestellt werden. So betrugen die
Dicken der bisherigen Überzüge etwa 0,0254 mm, während die Überzüge gemäß dem erfindungsgemäßen
Verfahren eine Dicke größer 0,1270 mm aufweisen.
Eine typische Anwendung des Produktes gemäß dor Erfindung ist die Herstellung eines Schutzüberzuges
auf einer Schaltkarte. Bei der Herstellung gedruckter Schaltkarten ist die Verwendung eines Polymermaterials
erwünscht, in welchem mittels eines photochemischen Prozesses Muster erzeugt werden, wie es in
photopolymerisierbaren Überzügen üblich ist, aber welches, im Gegensatz zu diesen, während oder nach
der Herstellung der Schaltkarte für weitere zusätzliche Verwendungszwecke brauchbar ist. Aufgrund der ungewöhnlichen
Kombination der Eigenschaften, die den Produkten gemäß der Erfindung innewohnen, sind
sie beispielsweise als dauerhafte Ätzmaske, als Lötmaske, als Metallisierungsmaske, als dielektrischer
Überzug oder als Schutzüberzug weitet verwendbar.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein lichtempfindlicher Schutzüberzug gebildet durch die Um-
Setzung eines bei Zimmertemperatur festen Epoxid-Prepolymeren,
welches mindestens zwei Epoxidgruppen je Molekül besitzt, mit einer «yj-äthylenisch
ungesättigten Carbonsäure. Diese Reaktion wird gleichzeitig mit oder getrennt von der Umsetzung eines
primären aromatischen Amins mit der Epoxidverbindung durchgeführt. Durch die Verwendung dieser
beiden reaktiven Komponenten wird ein Produkt mit ausgezeichneten Eigenschaften erhalten. Die Lichtempfindlichkeit
desselben wird erheblich gesteigert durch den Einfluß eines Sensibilisators, welcher gemäß
der Erfindung eine Mischung aus zwei Sensibilisatoren darstellt, wie weiter unten näher beschrieben wird.
Das Epoxidharz, das die wichtigste Komponente der Formulierung bildet, ist ein Prepolymer, welche«
bei Zimmertemperatur fest ist und wenigstens zwei Epoxidgruppen je Molekül besitzt. Es wird jedoch
ein Epoxidharz bevorzugt, welches wenigstens viei Epoxidgruppen je Molekül besitzt, und die besten
Ergebnisse werden mit Epoxidharzen mit wenigstens sechs Epoxidgruppen je Molekül erhalten. Beispiele
von Epoxidharzen, die diese Kriterien erfüllen, sind ein Epoxidharz, welches ein Polyglycidyläther von
ο-Kresol-Formaldehyd-Novolak mil einem Epoxid·
äquivalentgewicht von 230 ist, oder ein tetrafunktionelhs
Epoxidharz, welches ein Polyglycidyläther de; Tetraphenyläthans mit einem Epoxidäquivalentgewichi
von 208 bis 240 ist Das bevorzugte Material ist jedocr ein Epoxidharz, welches ein Octaglycidyläther vor
2,2 - (4,4' - Dihydroxydiphenyl) - dimethylmethan - (Bisphenol-A)-Formaldehyd-Novolak
mit acht Epoxid gruppen je Molekül ist.
Viele ff^-äthylenisch ungesättigte Carbonsäuren sine
bekannt und leicht im Handel erhältlich. Typische
3.-S Vertreter dieser Verbindungsklasse sind Acrylsäure
und Methacrylsäure, wobei Acrylsäure das bevorzugte Material darstellt.
Die vorliegende Erfindung macht die Verwendung eines primären aromatischen Amins erforderlich. Ge
eignet sind beispielsweise Anilin, m-Phenylendiamir und Diaminotoluol ein. Das bevorzugte Material is
Methylendianilin.
Die vorliegende Erfindung macht auch die Verwen dung eines Sensibilisators erforderlich. Viele solchei
Materialien sind gut bekannt. Für die Zwecke dei vorliegenden Erfindung wird die Verwendung eine;
Sensibilisators vom Anthrachinontyp und eines halo genhaltigen Sensibilisators bevorzugt. Brauchbar«
Anthrachinon-Sensibilisatoren sind das Anlhrachinon 2-Methylanthrachinon und vorzugsweise t-Bulylanthra
chinon. Halogenhaltige Sensibilisatoren sind beispiels weise Kohlenstoffteterachlorid, Bromoform und vor
zugsweise Kohlenstofftetrabromid.
Es wurde überraschend gefunden, daß für außer
ss gewöhnlich gute Ergebnisse eine Kombination je eine:
Sensibilisators von beide,! Typen verwendet werdet
muß. Die besten Ergebnisse werden bei gleichzeitige Verwendung von t-Butylanthrachinon und Kohlen
slolTtetrabromid erhalten. Diese Kombination besitz
ho aus nicht bekannten Gründen einen synergistischen
aktivierenden Effekt, wodurch bessere Ergebnisse al: mit jeder anderen Kombination erhalten werden.
Die Reaktionsbedingungen zur Umwandlung de: Epoxidmaterials in ein brauchbares photopolymerisier
ds bares Produkt variieren notwendigerweise etwas ii
Abhängigkeil von den besonderen Materialien, die
ausgewählt wurden. Die optimalen Bedingungen hän gen normalerweise von der Reaktivität des Epoxid
harzes, der Anzahl Epoxidgruppen je Molekül, dem Molekulargewicht des Epoxidharzes vor der Reaktion
und dem Typ des verwendeten primären aromatischen Amins ab.
Die Herstellung eines Überzugmusteis kann nach
den nachfolgend angegebensn Schritten erfolgen.
1. Herstellung einer Mischung eines Epoxidharzes, einer a-jS-ungesättigten Carbonsäure, eines primären
aromatischen Amins, mif oder ohne einem tertiären Amin-Katalysator, eines geeigneten Lösungsmittels,
oder alternativ Zugabe des primären aromatischen Amins zu der Mischung zu einem späteren Zeitpunkt
2. Umsetzung der Mischung, bis die Epoxid-Säureaddition
bis zu einem geeigneten Grad stattgefunden hat bei gleichzeitiger Zunahme des Molekulargewichtes,
oder alternativ Erreichen der gewünschten Epoxidharz-Säure-Addition mit nachfolgender Zugabe des primären aromatischen
Amins zu der teilweise umgesetzten Mischung und Fortführung der Reaktion, um den geeigneten
Molekulargewichtsbereich zu erhalten.
3. Gegebenenfalls Zugabe eines freien Monomeren, ausgewählt aus einer Anzahl äthylenisch ungesättigter
oder mehrfach ungesättigter Verbindungen zu der Reaktionsmischung. Die Zugabe kann
wegfallen, wenn bei der Reaktion eine ausreichende Menge ungesättigter Säure in nichtumgesetztem
Zustand übrigbleibt, nachdem die Epoxidharz-Säureaddition
bis zu dem geeigneten Grad stattgefunden hat
4. Zugabe einer Kombination von Sensibilisatoren aus einem Anthrachinon und einer halogenierten
organischen Verbindung wie Kohlenstofftetrabromid zu dem Produkt, das nach den Paragraphen
2 oder 3 erhalten wurde.
5. Herstellen eines Überzugs aus der resultierenden Mischung auf einer gewünschten Unterlage.
6. Belichten des Überzugs mit ultravioletter Strahlung durch eine bildtragende Vorlage von gewünschtem
Muster.
7. Entwickeln des belichteten Überzugs, um die nicht von ultraviolettem Licht getroffenen Bereiche zu
entfernen, was durch Eintauchen oder Besprühen des Überzugs mit einem geeigneten Lösungsmittel
erfolgt.
8. Gegebenenfalls Eindiffundieren eines zusätzlichen Härtungsmittels in den frisch entwickelten
Überzug aus einer geeigneten Lösung. Das Härtungsmittel kann aus einer großen Zahl von
Verbindungen ausgewählt werden, von denen bekannt ist, daß sie Epoxidharzen besondere Eigenschaften
verleihen. Die Menge des Härtungsmittels, welches in den Überzug eindiffundiert,
wird durch die Konzentration und die Verweilzeit in der Lösung des Härtungsmittels bestimmt.
9. Härten des Überzugs bei erhöhten Temperaturen zu dem gewünschten Grad der Vernetzung.
Die Kombination einer «-,/y-ungcättigten Carbonsäure
und eines aromatischen primären Amins, welches mit einem epoxidgruppenhaltigen Molekül umgesetzt
ist, verleiht dem Molekül lichtempfindliche Eigenschaften, so daß unter den gegebenen Reaktionsbedingungen
die Photopolymerisierbarkeit des Produkts in hohem Muße gesteigert wird verglichen mit solchen
Produkten, die entweder aus der Saure und dem Epoxidharz oder dem Amin und dem Epoxidharz
hergestellt wurden. Dies ist der wesentlichste Punkt der Erfindung. Die bevorzugte Säure ist Acrylsäure
und das bevorzugte Amin ist Methylendianilin. Ein anderer wesentlicher Gesichtspunkt der Erfindung
ist die Verwendung einer Kombination von zwei Photosensibilisatoren, welche dem ungesättigten Säure-Amin-Epoxidharz-Reaktionsprodukt
einen hohen Grad der Lichtempfindlichkeit verleihen. Einer der
ίο Sensibilisatoren wird ans der Klasse der Anthrachinon-Sensibilisatoren
ausgewählt und der andere aus der Klasse halogenhaltigerSensibilisatormoleküle. Das bevorzugte
Anthrachinon ist t-Butylanthrachinon, welches wegen seiner vorteilhaften Löslichkeit gewählt
wird, und die bevorzugte Halogenquelle ist KohJenstofftetrabromid.
Wenn die Sensibilisatoren allein verwendet werden, ist weder das Anthrachinon noch die
halogenhaltige Klasse der Moleküle im Stande, den hohen Grad der Lichtempfindlichkeit zu verleihen, die
in dem Reaktionsprodukt gewünscht wird.
Eine andere mögliche Abänderung der Erfindung ist die Zugabe eines agS-äthylenisch ungesättigten
Moleküls zu dem ungesättigten Säure-Amin-Epoxid harzreaktionsprodukt. Es wurde gefunden, daß be:
Vorhandensein einer nicht ausreichenden Menge up. gesättigter Säure in der Reaktionsmischung, so daß
nur wenig oder gar keine freie oder nichtumgesetzte Säure übrigbleibt, das Produkt in erheblichem Maße
an Lichtempfindlichkeit verliert. Dieser Mangel kann einfach dadurch überwunden werden, daß entweder
mehr ungesättigte Säure zu der ursprünglichen Reaktionsmischung oder vorzugsweise mehr Monomer zu
dem Reaktionsprodukt gegeben wird. Dieses sogenannte »freie Monomer« kann aus einer großen Anzahl
ungesättigter Monomerer ausgewählt werden. Hs wurde gefunden, daß alle nachfolgend angegebenen
Materialien brauchbar sind: Polyäthylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat
und Acrylamid.
Es konnte beobachtet werden, daß bei geeigneten Formulierungen die Zugabe eines freien Monomeren
drastisch zur Verlängerung der Lagerbeständigkeit des Produktes beiträgt. Es wurde gefunden, daß, wenn
kleine Mengen einer e^ß-äthylenisch ungesättigten
4s Carbonsäure und eines reaktiven primären aromatischen
Amins in der Ausgangsformulierung verwendet werden und die Reaktionen so durchgeführt werden,
daß alle diese reaktiven Komponenten verbraucht werden, zugegebenes freies Monomer, welches bei
so Zimmertemperatur nicht mit Epoxidharz reagiert, zu einem sehr stabilen Produkt mit langer Lagerbeständig
kcit führt.
Nachdem das Reaktionsproduki mit den Photosensibilisatoren
gemischt wurde und nach Ausbildung
eines Überzugs auf einer geeigneten Unterlage, wird dieser mit einer geeigneten Lichtqelle, vorzugsweise
von ultraviolettem Licht, durch eine bildtragende Vorlage belichtet, wodurch ein latentes Bild in den
vom Licht getroffenen Teilen des lichtempfindlichen
Überzuges gebildet wird. Wie bei negativarbeitenden Photorcsistmaterialien bleiben nach der Entwicklung
diejenigen Bildbcrciche zurück, die zuvor die belichteten Bereiche waren. Die Dicke des Überzugs, die Intensität
und der Spektralbereich der Lichtquelle und der Abstand der Lichtquelle von dem Überzug beeinflussen
die Dauer der Belichtung wie bei anderen lichtempfindlichen
Materialien. Es wurde jedoch zusätzlich gefunden, daß das Material, das gemäß der Erfindung
hergestellt wird, auch durch andere Faktoren beeinflußt
wird. Es wurde gefunden, daß die Eigenschaften der Lösungsmittel, die zur Herstellung oder Anwendung
des Produktes verwendet werden, und der Grad der Trocknung die Dauer der Belichtung beeinflussen.
Nichthalogenhaltige Lösungsmittel und einige halogenhaltige
Lösungsmittel und auch eine längere Trocknungszeit machen eine längere Belichtung erforderlich.
LJm diesen Mangel zu beseitigen, wurden beide Sensibilisatoren in das Reaktionsprodukt eingearbeitet.
Das resultierende Material wurde durch die oben angegebenen mechanischen Variablen nicht mehr beeinflußt.
So verbessert die Kombination von t-Butylanthrachinon und Kohlenstofftetrabromid nicht nur
die allgemeine Empfindlichkeit erheblich, sondern führt auch zu einem haltbareren Überzugsmaterial.
Die Entwicklung des belichteten Überzuges kann durch Eintauchen oder Besprühen mit irgend einem Lösungsmittel
aus einer Anzahl verschiedener Lösungsmittel oder Lösungsmittelkombinationen durchgeführt werden.
Im allgemeinen werden Lösungsmittel bevorzugt, welche die nichtbelichteten Bereiche des Überzuges
lösen, während sie gleichzeitig die belichteten Bereiche sehr wenig beeinflussen. Einige Lösungsmittel
besitzen diese erwünschte Eigenschaft, aber andere Lösungsmittel wirken zu stark und können nur verwendet
werden, wenn sie zuerst mit einem wenig wirksamen Lösungsmittel gemischt werden. Von den
bevorzugten Lösungsmitteln und Lösungsmittelmischungen sind die folgenden am geeignetsten:
Heißes Trichlorethylen (60 bis 700C)
Aceton
Aceton
Methyläthylketon/Äthylacetat (60:40)
Chloroform/Methylchloroform (50:50)
Chloroform/Methylchloroform (50:50)
Sobald der Überzug zu einem Reliefbild entwickelt ist, kann, wenn es erwünscht ist, ein Härter eingeführt
werden, z.B. durch Eintauchen des Überzugs in eine das Härtungsmittel enthaltende Lösung. Auf diese
Weise können optimale Eigenschaften des Epoxid- ; roduktes, welches den Hauptbestandteil des Überzugs
ausmacht, erhalten werden. Zwei Beispiele für Härtungsmittel, die auf diese Art eingeführt werden können,
sind die folgenden:
Eine 2%ige Lösung von Triäthylentetramin in Trichlorethylen,
eine 2%ige Lösung von Methylendianilin in Methyläthylketon/Äthylacetat (60 :40).
Ein 1 bis 2 Minuten lang dauerndes Eintauchen des Überzugs in eine der Lösungen und nachfolgendes
Spülen mit einem Lösungsmittel war befriedigend. Auf diese Weise wurden die Erweichungstemperaturen
dieses Überzugs nach einer thermischen Härtung von 30 Minuten bei 160 von etwa 90"C für einen Überzug,
der nicht in eine ein Härtungsmittel enthaltende Lösung getaucht war, auf 175X erhöht
Wie oben angegeben hängen die Reaktionsbedingungen zur Herstellung des ungesättigten Säure-Amin-Epoxidharzproduktes von dem Epoxidharz ab. Es
wurde gefunden, daß für beste Ergebnisse zwei Parameter kontrolliert werden sollten. Diese sind der Grad
der Epoxidharz-Säurereaktion und das Molekulargewicht des Produktes, das von der Epoxidharz-Methylendianilin-Additionsreaktion resultiert. Nur die relativen
Änderungen des Molekulargewichts sind von Bedeutung, und deshalb genügt die Messung der Viskosität
der Reaktionsmischung. Das Ausmaß der Epoxidharz-Säurereaktion wird bestimmt durch Titration mit einer
alkoholischen Lösung einer standardisierten Base, beispielsweise KOlI. Der Bereich der Werte für jeden
dieser Parameter wurde bestimmt für ein Epoxidharz, welches ein Octaglycidyläther von Bisphenol-A-Formaldchyd-Novolak
mit acht lipoxidgruppen je Molekül ist, er kann jedoch auch leicht für andere Epoxidharze
bestimmt werden. Die Kriterien, die erfüllt sein müssen, um bestimmte Werte für beide Parameter zu
erhalten, basieren auf der Untersuchung der Photopolymerisierbarkcit
des Produktes, wenn die Parameter variiert werden. Sowohl die Säure- wie auch die
Aminzugabe zu dem Epoxidmolekül beeinflussen die Lichtempfindlichkeit des Produktes. So sind, wenn zu
wenig von jeder Komponente in der Mischung vor-
is handen ist, nach Zugabe der Photosensibilisatoren
lange Belichtungszeiten mit ultraviolettem Licht erforderlich, wenn das Bild entwickelt wird. Eine zu
große Menge an zugegebenem Amin resultiert in Rückständen in den nichtbelichteten Bereichen des
Überzugs. So gibt es für jeden dieser Parameter einen Bereich von Werten, bei deren Einhaltung die Belichtungszeit
verkürzt wird, ein gut haftender Überzug hoher Integrität und genau definierte Bilder erhalten
werden.
Die Reihenfolge der Zugabe der ungesättigten Säure und des aromatischen Amins zu dem Epoxidharz
bei der Herstellung des Reaktionsproduktes können variiert werden. Es können entweder die Säure und
das Amin zu Beginn der Reaktion zugegeben werden.
.ίο oder die Säure kann zuerst zugegeben werden, wobei
ein Großteil der Säure-Epoxidharzreaktion stattfindet, und dann erfolgt die Zugabe des Amins, und die
Amin-Epoxidharzreaktion läuft bis zu dem Endpunkt ab.
3.S Es gibt mehrere Methoden, um die Geschwindigkeii
der Säure-Epoxidreaktionen und der Amin-Ep<~>\idreaktion
zu variieren. Die Lösungsmittelmenge, die ir der Reaktion verwendet wird, und die Reaktionstemperatur
beeinflussen die Geschwindigkeit beider Reak tionen. Die Zugabe eines tertiären Aminkatalysator;
wirkt spezifischer durch Beschleunigung der Säure Epoxidreaktion, während die Menge nicht umgesetzte:
Säure, die jederzeit während des Reaktionsverlaufs vor handen ist, das Ausmaß der Amin-Epoxidreaktior
beeinflußt, da Säuren letztere Reaktionen katalysieren Als tertiärer Amin-Katalysator kommt beispielsweise
ein in Lee and Neville »Handbook of Epoxy Resins< McGraw Hill 1967 in Tabelle 9.1 angegebene;
tertiäres Amin in Frage. Durch Auswahl der Konzen tration, der Temperatur, der Menge des Katalysators
der Menge ungesättigter Säure und der Reihenfolg« der Zugabe der einzelnen Komponenten kann eii
photopolymerisierbares Reaktionsprodukt unter ver schiedenen Kontrollen und in verschiedenen End
formen hergestellt werden. Um beispielsweise ein Pro dukt mit langer Lagerbeständigkeit herstellen zi
können, soll so wenig Säure und Amin wie möglicl verwendet werden, damit kein Überschuß in den
Reaktionsprodukt vorhanden ist Die Photopolymeri sierbarkeit des Produktes wird dann gesteigert durcl
die Zugabe eines der obenerwähnten ungesättigter Monomeren.
Spezifische Formulierungen, die unter spezifischer Bedingungen hergestellt wurden, werden in den nach
folgenden Beispielen angegeben. Einige typische Be reiche der Material konzentrationen und der Endpunkt
parameter bei Verwendung eines Epoxidharzes mi acht Epoxidgruppen je Molekül sind die folgenden
9 K 10
Lösungsmittel 30 bis 200 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
Acrylsäure 2 bis 16 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
Methylendianilin 0,2 bis 1,5 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
Tertiärer Aminkatalysator 0,05 bis 0,5 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz.
Temperatur 50 bis 110 C
Reaktionszeit 2 Stunden bis 18 Tage
Säureverbrauch in dem Reaktionsprodukt 1,5 bis 4,5 Gewichtsleile je 100 Teile Epoxidharz
Ungesättigtes Monomer 3 bis 15 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
t-Butylanthrachinon 1,5 bis 2,5 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
Kohlenstofftetrabromid 1 bis 5 Gewichisteile je 100 Teile Epoxidharz
Additive, die normalerweise in der Epoxidharztech- als »minimale Belichtungszeit« notiert. Mir diese
nologie verwendet werden, können mit den photo- Mischung betrug die minimale Belichtungszeit 420 sec.
polymerisierbaren Überzügen gemäß der Erfindung Die Lagerfähigkeit des Überzugs wurde bestimmt,
verwendet werden. Additive, die jedoch offensichtlich 15 indem man den getrockneten Überzug bei Zimmerdrastisch
entweder die Lichtabsorption des Überzugs temperatur in Abwesenheit von Licht beließ. Unter
oder das Photoresistmaterial beeinflussen, sollen ver- diesen Bedingungen fand eine langsame Vcrnetzungsmierien
werden. Wenn Additive verwendet werden reaktion statt, bis Bedingungen eintraten, daß bei der
sollen, sollten sie vorzugsweise nach Herstellung des Bildentwicklung in Trichloräthylen ein durch Gel-Reaktionsproduktes
zugegeben werden, um irgend- 20 bildung gebildetes Material in denjenigen Bereichen
welche möglichen schädlichen Einwirkungen auf die zurückblieb, die an sich löslich sein sollten. Die Zeit
Reaktionsmechanismen zu verhindern. von der Trocknung des Überzugs bis zu dem Zeitpunkt,
Unterlagen, auf die die photopolymerisierbaren bei dem Rückstände von durch Gelbildung gebildetem
Überzüge aufgetragen werden können, sind irgend- Material beobachtet werden, wird als Lagerbeständigweiche Metalle, Kunststoffe, Glas oder andere Mate- 25 keit des Materials bezeichnet. Für diese Formulierung
rialien, auf die Epoxidharze normalerweise aufgetragen betrug die Lagerbeständigkeit 24 Stunden,
werden. Der Erweichungspunkt der Formulierung wurde an
Der Bereich der Belichtungszeit und der Intensität dem Überzug gemessen nach einer 30 Minuten lang
für einen typischen photopolymerisierbaren Überzug dauernden Härtung bei 160 C. Der Erweichungspunkt
kann aus den folgenden typischen Bedingungen er- 30 (Ts) war 90 C.
mittelt werden: " Beispiel 2
a) ein 0,0254 mm dicker Überzug wird aus einer -, , , . u,r
Entfernung von 76,2 cm mit einer Hochdruck- t Z" d*\ Losung des Reaktionsproduktes, deren Ht-Quecksilberlampe
mit möglichst puhktförmigem f'lun8 [m *. von ^eisPiel 1 beschrieben isi wurden
Lichtbogen und 500 Watt für eine Dauer von * 5 Gew.chtste.le je 100 Teile Epoxidharz Kohlenstof 20
bis 120 see belichtet tetrabromid gegeben. Die minimale Belichtungszeit
b) ein 0,0508 mm dicker'Überzug wird unter den beUu% 360 sec- Die Lagerbeständigkeit betrug 2* Stungleichen
Bedingungen wie unter a) für eine Dauer e"' . ,„ »„· 1 „„
von 30 bis 160 see belichtet. Der Erweichungspunkt nach einer Λ) Minuten lanfc
c) ein 0,127 mm dicker Überzug wird unter den «° dauerr>den Härtung bei 160 C" war 90 C\
gleichen Bedingungen wie unter a) für eine Dauer Beispiel 3
von 60 bis 340 see belichtet.
Zu der Lösung des Reaktionsproduktcs, deren ner-
Die Erfindung wird anhand der nachfolgenden stellung im § 1 von Beispiel beschrieben ist, wurden
Ausführungsbeispiele näher erläutert. 45 2 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz t-Butylanthra-
Beispiel 1 chinon und 5 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
Kohlenstofftetrabromid gegeben. Die minimale Be-
100 g Epoxidharz, welches ein Octaglycidyläthcr lichtungszeit war 60 see. Die Lagerbeständigkeit war
von Bisphenol-A-Formaldehyd-Novolak mit acht Ep- 24 Stunden. Der Erweichungspunkt nach einer 30 Mi-
oxidgruppen je Molekült ist, werden in 200 g Chloro- 50 nuten lang dauernden Härtung bei 160 C war 90 C.
form gelöst 16 g Acrylsäure werden zugegeben, dann
läßt man die Mischung bei 50'C 12 Tage lang reagieren. Beispiel 4
wichtsteile je 100 Teile Epoxidharz. 1,3 g Methylen- waren, wurden unmittelbar nach der Entwicklung
dianilin wurden zugegeben und die Temperatur 16 55 2 Minuten lang in eine 2%ige Lösung von Triäthylen-
15OcSt. "* mit reinem Trichloräthylen gespült Nach einer 30 Mi-
100 g Äthylenglykolmonomethyläther und 2 Gewichts- Erweichungspunkt gemessen und betrug 175' C.
teile je 100 Teile Epoxidharz t-Butylanthrachinon 60
gegeben. Die Mischung wurde auf eine Unterlage Beispiel 5 aus Kupfer aufgetragen, eine Stunde lang bei 50'C
getrocknet, wobei ein 0,0254 mm dicker Überzug er- 100 g Epoxidharz, welches ein Octaglycidyläther von
haiten wurde, und durch einen Stufenkeil aus einer Bisphenol-A-Formaldehyd-Novolak mit acht Epoxid-
brauchbares Bild nach einer 2 Minuten lang dauernden gegeben und in derselben gelöst 16 g Acrylsäure wurde
50 C erhitzt. Nach Zugabc von 2 Gewichtslcilcn je 100 Teile Epoxidharz t-Butylanthrachinon und 5 Gewichtsteilen
je 100 Teile Epoxidharz von KohlenstolT-tetrabromid wurde gefunden, daß die minimale Belichtungszeit
60 sec und die Lagerbeständigkeil 48 Stunden betrugen.
9,6 kg Epoxidharz, welches ein Octaglycidylüther von Bisphcnol-A-Fornialüchyd-Novolak mit acht
Epoxidgruppcn je Molekül ist, wurden in 19,2 kg Chloroform in einem 45,4 I fassenden Reaktor gelöst.
Zu dieser Lösung wurden 76,8 g Methylendianilin gegeben, und es wurde gewartet, bis alles gelöst war.
Dann wurden 1,536 kg Acrylsäure zugegeben. Die Mischung wurde 11 Tage unter langsamem Rühren
auf 50 C gehalten, wobei das Produkt erhalten wurde. Der Säureverbrauch des Produktes war 2,1 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz und die Viskosität betrug
170 cSt. Mit 2 Gewichtsteilen je 100 Teilen Epoxidharz t-Butylanthrachinon und 5 Gewichlsteilen je
100 Teile Epoxidharz Kohlenstofftetrabromid betrug die minimale Belichtungszeit 60 sec, wenn sie wie im
Beispiel 1 gemessen wurde. Die Lagerbeständigkeit betrug 48 Stunden.
Nach Verdünnung mit Äthylenglykolmonoäthylätheracetat wurden auf Schaltkarten mit Abmessungen
von 30,48 X 38,1 cm Überzüge auf beiden Seiten aufgesprüht zu einer Trockenüberzugsdicke von
0,0635 mm bis 0,0762 mm. Die Schaltkarten wurden durch ein Bildmuster belichtet, welches Photopolymerisation
in allen Bereichen gestattete, außer über den durchplattierten Öffnungen über dem verbreiterten
Teil der Leiterzüge, über denen das Material während der Entwicklung entfernt werden sollte. Die Entwicklung
wurde durchgeführt durch 3 Minuten dauerndes Besprühen der Karten mit heißem Trichlorethylen
(65 C). Unmittelbar nach der Entwicklung wurden die Karten eine Minute lang in eine 2%ige Lösung von
Triäthylentetramin getaucht und anschließend mit heißem Trichlorethylen gespült. Die Karten wurden
nach der Entwicklung und Anwendung der das Härtungsmittel enthaltenden Lösung 30 Minuten lang bei
160 C gehärtet. Die gehärteten Karten wurden einem Lötprozeß bei 249' C unter Anwendung eines Lötflußmittels
unterworfen, ohne daß Beschädigungen auftraten.
Das Material, das gemäß Beispiel 6 hergestellt wurde,
wurde auf ein Glasfaser-Harz-Laminat, welches zur stromlosen Kupferabscheidung vorgesehen war, aufgetragen.
Zur Herstellung eines Schaltkreismusters auf
dem beschichteten Laminat wurde dasselbe belichtet, entwickelt, mit einem Härtungsmittel behandelt und
gehärtet, wobei das Verfahren von Beispiel 6 angewendet wurde. Die Laminate wurden dann zur stromlosen
> Kupferplatticrung in ein kupferionenhaliigcs Bad gegeben
und 24 Stunden darin gelassen. Ein brauchbares Schaltkrcismuster wurde abgeschieden, ohne daß
Beschädigungen an dem photopolymcrisiertcn Überzug auftraten.
100 g Epoxidharz, welches ein Octaglycidyläthcr von Bisphenol - A - Formaldehyd - Novolak mit acht
Epoxidgruppen je Molekül ist, wurden in 150 g
is Chloroform gelöst. 0,4 g Methylendianilin und 16 g
Acrylsäure wurden zu der Lösung gegeben, und die Reaktion wurde 5 Tage lang bei 60 C unter Erhalt
des Produktes durchgeführt. Der Säureverbrauch war 2,1 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz und die
Viskosität betrug 442 cSt. Zu dem Produkt wurden 2 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz t-Butylanthrachinon
und 5 Gewichtsteile je IUU Teile Epoxidharz Kohlenstofftetrabromid gegeben. Das Produkt
wurde dann mit Älhyler.glykolmonoäthylätheracetat verdünnt und mittels Versprühen auf eine Kupferfolie
zu einer Trockenschichtdicke von 0,0635 mm (nach einstündigem Trocknen bei 50 C) aufgetragen. Die
minimale Belichtungszeit dieses Produktes, gemessen wie im Beispiel 1, betrug 60 see. Die Entwicklung
dauerte 90 see und erfolgte mit einer Mischung aus Methyläthylketon/äthylacetat (Volumenverhältnis 60 :
40). Dabei ergab sich ein Auflösungsmuster des Bildes von 0,0508 mm breiten Linien mit 0,0508 mm Abständen
zwischen denselben. Die Lagerbeständigkeit betrug 48 Stunden.
Zu 400 g Epoxidharz, welches ein Octaglycidyläther von Bisphenol-A-Formaldehyd-Novolak mit acht
Epoxidgruppen je Molekül ist, wurden 120 g Chlorbenzol zugegeben. Die Mischung wurde auf 110 C
erhitzt, wobei nach einer halben Stunde eine klare Lösung erhalten wurde. Während die Lösung bei
110 C gehalten wurde, wurden 10 g Acrylsäure und 1,2 g Methylendianilin zugefügt. Das Reaktionsprodukt
wurde nach 3,5stündigem Erhitzen erhalten. Zu Teilen des Reaktionsproduktes wurden 3 Gewichtsteile je
100 Teile Epoxidharz Kohlenstofftetrabromid und 2 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz t-Butylanthrachinon
und verschiedene Typen ungesättigter Monomerer gegeben. Die Empfindlichkeit wurde wie im
Beispiel 1 angegeben bestimmt. In Tabelle 1 sind die Ergebnisse zusammengefaßt.
Freies Monomer
Kontrollmessung
Polyäthylenglykoldiacrylat
Pentaerythrittetracrylat
Äthylenglykolmethacrylat
Acrylamid*)
*) Acrylamid wurde zu der Mischung gegeben und dieselbe wurde zum Lösen 30 Minuten lang
auf 60-C erhitzt
Menge in Gewichts | Minimale |
teilen je 100 Teile | Belichtungszeit |
Epoxidharz | in see |
0 | 600 |
5 | 40 |
15 | 60 |
10 | 60 |
10 | 40 |
5 | 40 |
Heispiel 10
400 g Epoxidharz, welches ein Octaglycidylüther
von Bisphenol - A - Formaldehyd - Novolak mit acht Epoxidgruppen je Molekül ist, wurden in 100 g
Chloroform gelöst. 2,4 g4,4'-Methylendianilin wurden zu der Lösung gegeben und gelöst. 9,0 g Acrylsäure
(Gehalt 98,41%) wurden hinzugefügt. Die Mischung wurde auf 60 C gebracht und eine Zeil lang auf dieser
Temperatur gehalten.
Der Mischung wurden zu verschiedenen Zeiten Proben entnommen, um den Säureverbrauch, die Viskosität
und die Empfindlichkeit zu bestimmen. Die Empfindlichkeit wurde bestimmt durch Hinzufügen
von 2 Gewichtsteilen je 100 Teile Epoxidharz t-Bui;yl-
anlhrachinon, 3 CScwichlslcilcn je 100 Teile Epoxidharz
Kohlcnstoffictrahromid und 10 Gcwichtstcilen je
100 Teile Epoxidharz ungesättigtes Monomer, PoIyülhylcnglykoküacrylal.
Die Mischung wurde auf eine Kupferuntcrlage aufgetragen, eine Stunde lang bei
50 C getrocknet, wobei ein 0,03810 mm dicker Überzug erhalten wurde, und durch einen Stufenkeil aus einer
Entfernung von 76,2 cm mit der oben beschriebenen 500-Wall-Lampc belichtet. Die Zeit, die erforderlich
war, um ein brauchbares Bild nach einer 2 Minuten dauernden E.ntwicklung in heißem Trichloräthylcn zu
erzeugen, wurde als minimale Belichtungszeit notiert. In der nachfolgenden Tabelle 2 sind die Resultate
angegeben, die bei verschiedenen Zeiten erhalten wurden, bis die Reaktionen beendet waren.
Reaktionszeit | bei 60 C, | in Stunden | 136 | |
64 | 88 | 112 | 1,6 | |
Säureverbrauch in Gewichtsleilcn | 0,9 | 1,2 | 1,4 | |
je 100 Teile Epoxidharz | 2075 | |||
Viskosität in cSt | 1290 | 1420 | 1690 | 30 |
Minimale Belichtungszeit in see | 160 | 100 | 60 | |
ύ c i s ρ i e 1 11 | ||||
Beispiel 1 wurde wiederholt unter Anwendung der 30 betrug die minimale Belichtungszeit 35 see und der
dort verwendeten Materialien und Bedingungen mit der Ausnahme, daß ein tertiärer Amin-Katalysator
Benzyldimethylamin zu der Reaktionsmischung in einer Menge von 0,2 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz
gegeben wurde. Nach 42 Stunden Reaktionszeit Säureverbrauch 2,2 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz.
Die Lagerbeständigkeit der Formulierung in Form eines Überzugs bei Zimmertemperatur war
größer als 1 Monat.
100 g Epoxidharz, welches ein Octaglycidyla'ther wurde 4 Stunden lang auf 65 C erhitzt. Zu dieser
von Bisphenol - A - Formaldehyd - Novolak mit acht 4c Zusammensetzung wurden 1,5 Gewichtsteile je !00
Epoxidgruppen je Molekül ist, wurden in 100 g Teile Epoxidharz t-Butylanthrachinon, 3,0 Gewichts-Chloroform
gelöst. Zu dieser Lösung wurden 8 g teile je 100 Teile Fpoxidharz Kohlenstofftetrabromid
Acrylsäure und 0,15 g Benzyldimethylamin gegeben. und 5 Gewichtsteile je 100 Teile Epoxidharz PoIy-Die
Mischung wurde 16 Stunden lang auf 65"C erhitzt; äthylenglykoldiacrylat gegeben. Als minimale Beanschließend
wurde 1 g Methylendianilin, gelöst in 45 lichtungszeit wurden 120 see beobachtet Die Lager-50
g Chloroform, zugefügt. Die Gesamtmischung beständigkeit betrug 2 Wochen.
Claims (14)
1. Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierbaren
Überzügen, bei dem ein Epoxid-Prepolymer mit mindestens zwei Epoxidgruppen je Molekül mit einer α,/J-äthylenisch-ungesättigten
Carbonsäure umgesetzt, dem Reaktionsprodukt ein Photosensibilisator zugesetzt und die erhaltene
Zusammensetzung auf eine Unterlage aufgetragen ι ο wird, dadurch gekennzeichnet, daß gleichzeitig
mit der, oder anschließend an die umsetzung des Epoxids mit der «jß-äthylenisch-ungesättigten
Carbonsäure eine Additionsreaktion zwischen dem Epoxid und einem primären aromatischen
Amin durchgeführt wird und daß dem Reaktionsprodukt als Photosensibilisator ein Gemisch
aus einem ggf. substituierten Anthrachinon und einer organischen Halogenverbindung zugesetzt
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Umsetzung des Epoxids mit der
ίτ,/J-äthylenisch-ungesättigten Carbonsäure und
dem primären aromatischen Amin in Gegenwart eines tertiären Amin-Katalysators durchgeführt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dem Reaktionsprodukt des Epoxids
mit der «jS-äthylenisch-ungesättigten Carbonsäure
und dem primären aromatischen Amin weitere ungesättigte Monomere zugesetzt werden.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurrch gekennzeichnet, daß das verwendete
Epoxid-Prepolymer acht Epoxidgruppen je Molekül enthält.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Epoxid-Prepolymeres
ein Polyglycidyläther von o-Kresol-Formaldehyd-Novolak, ein Polyglycidyläther des Tetraphenyläthans
oder ein Octaglycidyläther von 2,2 - (4,4' - Dihydroxydiphenyl) - dimethylmethan-Formaldehyd-Novolak
verwendet wird.
6 Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ύ^-äthylcnischungesättigte
Carbonsäure Acrylsäure oder Methacrylsäure verwendet wird.
7 Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als primäres aromatisches
Amin Anilin, m-Phenylendiamin, Diaminotoluol
oder Methylendianilin verwendet wird.
8 Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als organische Halogenverbindung des Photosensibilisators Kohlenstofftetrachlorid,
Kohlenstofftetrabromid oder Bromoform verwendet wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Anthrachinonbestandleil des
Photosensibilisators Anthrachinon, 2-Methyl- oder t-Butylanthrachinon verwendet wird.
10. Verfahren nach den Ansprüchen 1, 8 und 9, dadurch gekennzeichnet, daß als Photosensibilisator
eine Mischung aus t-Butylanthrachinon und Kohlenstofftetrabromid verwendet wird.
11. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß als weitere ungesättigte Monomere Acrylsäure, Polyäthylenglykoldiacrylat, Pentaerythrittetracrylat,
Äthylenglykolmethacrylat oder Acrylamid zugesetzt werden.
12. Verfahren nach den Ansprüchen 1. 2 und 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß 2 bis 16 Gewichtsteile
tf,/?-äthylenisch-ungesättigte Carbonsäure
mit 100 Gewichtsteilen Epoxid-Prepolymer umgesetzt werden.
13. Verfahren nach den Ansprüchen 1, 2 und 7, dadurch gekennzeichnet, daß 0,2 bis 1,5 Gewichtsteile primäres aromatisches Amin mit 100 Gewichtsteilen Epoxid-Prepolymer umgesetzt werden.
14. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß 1 bis 7,5 Gewichtstei'le
Photosensibilisator auf 100 Gewichtsteile Epoxid-Prepolymer eingesetzt werden.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US42687773A | 1973-12-20 | 1973-12-20 | |
US42687773 | 1973-12-20 |
Publications (3)
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---|---|
DE2459179A1 DE2459179A1 (de) | 1975-06-26 |
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DE2459179C3 DE2459179C3 (de) | 1977-12-29 |
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JPS5097324A (de) | 1975-08-02 |
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JPS5234935B2 (de) | 1977-09-06 |
FR2255629A1 (de) | 1975-07-18 |
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CA1048328A (en) | 1979-02-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |