DE3891340C2 - Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und lichtempfindliches Element - Google Patents
Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und lichtempfindliches ElementInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine licht
empfindliche Harzzusammensetzung und ein licht
empfindliches Element, die widerstandsfähig
gegen Wärme und Chemikalien sind und ausreichend
gute Eigenschaften für eine Anwendung, beispiels
weise bei der Herstellung von gedruckten Schalt
platinen aufweisen und die auch für die Bildung
von Lötmasken und Schutzüberzügen und -filmen
für die chemische Platierung geeignet sind.
Lötmasken werden bei Lötverfahren für verschiedene
Zwecke einschließlich der Abgrenzung von zu
lötenden Flächen, dem Schutz von Kupferleitungen
gegen Korrosion und der Erhaltung einer elektri
schen Isolierung zwischen Leitern eingesetzt.
Lötmasken wurden in bekannter Weise durch Sieb
druck von aushärtbaren Harzen, die durch Epoxy
harze gekennzeichnet sind, hergestellt.
Da jedoch die geforderte Linienbreite der
Schaltungsmuster abnimmt, sind ausreichende
Genauigkeiten nicht mehr mit dem Siebdruck
verfahren erzielbar und es wurde notwendig,
ein fotomechanisches Verfahren anzuwenden,
um feine Leitungsmuster zu erhalten. Darüber
hinaus wird mit jeder Verbesserung der Leitungs
dichte eine noch größere Zuverlässigkeit der
Isolierung zwischen den Leitern verlangt und
die Anforderungen, diesem Bedarf zu entsprechen,
sind ständig strenger geworden. Es ist schwierig,
mit einer einzigen Anwendung des Siebdruck
verfahrens einen dicken Überzug zu bilden
und es ist ebenfalls schwierig, einen gleich
mäßigen Überzug auf dem Substrat zu erhalten.
Diese Probleme können durch das Aufbringen
von mehreren Überzügen gelöst werden, aber die
Druckgenauigkeit verschlechtert sich mit der
Erhöhung der Anzahl der Überzüge und dies bringt
ebenfalls das Problem der Erhöhung der Komplexheit
der relevanten Verfahrensschritte mit sich.
Aus diesen Gründen tauchte der Bedarf für die
Entwicklung eines lichtempfindlichen Films
oder dünnen Überzugs für die Anwendung zur
Bildung von Lötmasken auf.
Fotolacke, auch lichtempfindliche Elemente genannt,
werden bei der Herstellung von Leiterzugmustern
von gedruckten Schaltungen verwendet. Allerdings
sind sie nicht für die Verwendung bei der
Bildung von Lötmasken oder dünnen Schutzüberzügen
für die chemische Platierung geeignet, da ihre
Fähigkeiten, Hitze, Chemikalien und so weiter
zu widerstehen nicht ausreichend gut sind, um
die Verwendung bei diesen Anwendungen zu gewährleisten.
Um diese Probleme zu lösen, wurden lichtempfind
liche Elemente für die Verwendung zur Bildung
von Lötmasken vorgeschlagen und sie umfassen
beispielsweise das in der US 4 278 752 be
schriebene Verfahren, das sich auf ein licht
empfindliches Element bezieht, das flammwidrig
oder flammenverzögernd gemacht wurde, und
die in den japanischen Patentveröffentlichungen
Nos. 59-23723 und 60-1885 beschriebenen Ver
fahren, die sich beide auf eine Zusammensetzung
mit einem verbesserten Widerstand gegen
thermische Schocks beziehen.
Die in diesen Patenten beschriebenen lichtempfind
lichen Elemente erreichen mit Erfolg die beab
sichtigte Wirkung, d. h. sie sind hitzebeständig
und widerstandsfähig gegen Wärmeschocks, aber
sie werden die folgenden Probleme erfahren, wenn
sie als Fotolacke oder Abdeckungen für die
chemische Platierung verwendet werden.
Das übliche Subtraktivverfahren zur Herstellung
von Schaltungsmustern wurde durch das Additiv
verfahren ersetzt, das eine Bildung von ver
drahteten Kupfermustern in ausgewählten Be
reichen ermöglicht, ohne sich auf die Elektrolyse
zu stützen. Dieses Additivverfahren bietet viele
Vorteile einschließlich der Abwesenheit jeder
Notwendigkeit des Ätzens von Kupfer und des
Behandelns des Abwassers, der Kostenreduzierung
und der Erhöhung der Zuverlässigkeit der Durch
gangslöcher, insbesondere der kleineren ( 0,4 mm).
Aufgrund dieser Vorteile gewinnt das Additiv
verfahren in diesen Tagen an Popularität. Aller
dings ist das bei diesem Verfahren verwendete
chemische Platierungsbad stark alkalisch (pH
zwischen 12 bis 13 bei 20°C) und bringt
die Behandlung bei einer erhöhten Temperatur
von 60-80°C mit sich. Die in den oben
erwähnten Patenten vorgeschlagenen licht
empfindlichen Elemente sind nicht für die
Verwendung unter solchen feindlichen Bedingungen
geeignet.
Die japanische Patentschrift No. 60-240715
beschreibt eine Zusammensetzung, die die
Fähigkeit besitzt, dem Elektroplatieren
zu widerstehen. Allerdings werden mit dieser
Zusammensetzung Leitungsmuster unter Verwendung
eines Alkalientwicklers gebildet, so daß sie
keinen Widerstand gegen stark alkalische
chemische Platierungsbäder entgegensetzt.
Um die vielen Vorteile des oben beschriebenen
Verfahrens auszunutzen, sind verschiedene
Versionen dieses Verfahrens unter Betrachtung
und sie umfassen: das "Volladditivverfahren",
das darin besteht, Durchgangslöcher in einem
Substrat oder einem katalysatorbelasteten
Substrat zu machen, eine Aktivierungsbehandlung
auf der gesamten Oberfläche des Substrats
durchzuführen, einen Schutzfilm auf das Substrat
aufzudrucken und das notwendige Leitungsmuster
nur durch Verwendung eines stromlosen Ver
kupferungsverfahrens aufzubringen; das "Semi
additivverfahren", das darin besteht, einen
Schutzfilm durch Aufbringen einer stromlosen
Verkupferung über die gesamte Oberfläche eines
Substrats zu drucken, das notwendige Leitungs
muster durch Elektroplatierung zu bilden, und
die stromlose Verkupferung von allen Bereichen
des Schutzfilms, außer von denen des Leitungs
musters, zu entfernen; und das "teiladditive
Verfahren", das ein kupferkaschiertes Laminat
verwendet und bei dem Bereiche, in denen
Durchgangslöcher zu machen sind, durch ein
stromloses Verkupferungsverfahren gebildet
werden.
Eine Zusammensetzung, die eine große Wärmefestig
keit und Beständigkeit gegen Chemikalien hat
und die somit geeignet für die Verwendung als
Schutzfilm in diesen Versionen des Additiv
verfahrens ist, wurde schon in der japanischen
Patentveröffentlichung No. 61-47183 vorgeschlagen.
Allerdings mangelt es dieser Zusammensetzung
an der Lichtempfindlichkeit, die somit nur
begrenzte Verwendung findet, da sie nicht
dem fotochemischen Verfahren zugänglich ist
und nicht den Bedingungen für die Herstellung
feiner Leitungsmuster entsprechen kann.
Die vorliegende Erfindung soll alle die oben
beschriebenen Probleme und Fragen lösen.
Eine Aufgabe der Erfindung ist somit, eine
lichtempfindliche Harzzusammensetzung und
ein lichtempfindliches Element zur Verfügung
zu stellen, die sowohl eine große Wärmefestigkeit
als auch eine gute Beständigkeit gegen Chemikalien
aufweisen und die insbesondere für die Ver
wendung bei der Bildung von Schutzüberzügen
bei der chemischen Platierung geeignet sind.
Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung
liegt darin, eine lichtempfindliche Harz
zusammensetzung und ein lichtempfindliches Element
vorzusehen, die das zusätzliche Merkmale der
Festigkeit gegen Lötwärme und/oder der ver
besserten Haftfähigkeit an den Substraten
aufweisen.
Gemäß einem Aspekt, bezieht sich die vorliegende
Erfindung auf eine lichtempfindliche Harz
zusammensetzung, die enthält:
- (a) ein Polyurethan-Poly(meth)acrylat mit mindestens zwei (Meth)acryloylgruppen und mindestens zwei Urethanbindungen in einem Molekül, das durch Reaktion eines (Meth)acrylatmonoesters eines zweiwertigen Alkohols mit einem multivalenten aromatischen Isozyanat gewonnen wird, das durch die allgemeine Formel dargestellt ist: (wobei k 1 oder 2, l 1 oder 2, m 1 oder 2 ist, P1-(5-k) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, Q1-(4-l) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R1-(5-m) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe und n ist eine ganze Zahl von 0-20);
- (b) eine lineare hochmolekulare Verbindung; und
- (c) einen Polymerisationsinitiator, der freie Radikale bei Belichtung erzeugt.
Diese Zusammensetzung, die als wesentliche Komponente
das Urethan(meth)acrylat des multivalenten
aromatischen Isozyanats, dargestellt durch
die Formel (I) verwendet, weist eine hohe
Wärmebeständigkeit und Widerstandsfähigkeit
gegen Chemikalien auf.
Gemäß einem anderen Aspekt, bezieht sich die
vorliegende Erfindung auf eine lichtempfindliche
Harzzusammensetzung, die enthält:
- (a) 10-60 Gewichtsteile eines Polyurethan poly(meth)acrylats mit mindestens zwei (Meth)acryloylgruppen und mindestens zwei Urethanbindungen in einem Molekül und das durch Reaktion eines (Meth)acrylat monoesters eines zweiwertigen Alkohols mit einem multivalenten aromatischen Isocyanat, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel: (wobei k 1 oder 2, l 1 oder 2, m 1 oder 2 ist, P1-(5-k) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, Q1-(4-l) ist ein Wasser stoffatom oder eine Methylgruppe, R1-(5-m) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methyl gruppe und n ist eine ganze Zahl von 0-20);
- (aa) 5-45 Gewichtsteile eines biphenol artigen Epoxy(meth)acrylats;
- (b) 20-60 Gewichtsteile einer linearen hochmolekularen Verbindung und
- (c) einen Polymerisationsinitiator, der freie Radikale bei Belichtung erzeugt, wobei die Summe von (a) + (aa) und (b) 100 Gewichts teile bilden.
Diese Zusammensetzung, die zusätzlich ein
(aa) biphenolartiges Epoxy(meth)acrylat enthält,
ist nicht nur widerstandsfähig gegen Wärme
und Chemikalien sondern weist auch die Vorteile
der verbesserten Widerstandfähigkeit gegen
Löthitze auf.
Gemäß einem noch anderen Aspekt bezieht sich
die vorliegende Erfindung auf eine lichtempfind
liche Harzzusammensetzung, die enthält:
- (a) ein Polyurethan-Poly(meth)acrylat mit mindestens zwei (Meth)acrylolgruppen und mindestens zwei Urethanbindungen in einem Molekül, das durch Reaktion eines (Meth)acrylat monoesters eines zweiwertigen Alkohols mit einem multivalenten aromatischen Isocyanat gewonnen wird, das durch die allgemeine Formel dargestellt ist:
- (b) eine lineare hochmolekulare Verbindung; und
- (c) einen Polymerisationsinitiator, der freie Radikale bei Belichtung erzeugt; und
- (d1) mindestens ein Tetrazol oder dessen Derivate; oder
- (d2) einer heterozyklischen Stickstoffverbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel: (wobei T eine orthoaromatische Kohlenwasserstoff gruppe ist; X ist CH₂, NCl, NH, S, O oder Se, Z ist N oder C-Y; Y ist H, NH₂, eine Alkylgruppe mit 1-4 Kohlenstoffatomen oder ein Halogen).
Diese Verbindung, die (d1) ein Tetrazol oder
dessen Derivate oder (d2) eine heterozyklische
Stickstoffverbindung enthält, ist nicht nur
widerstandsfähig gegen Wärme und Chemikalien,
sondern weist auch die Vorteile der verbesserten
Haftfähigkeit an Substraten auf.
Die lichtempfindliche Harzzusammensetzung der
vorliegenden Erfindung enthält als einen
wesentlichen Bestandteil (a) ein Polyurethan
poly(meth)acrylat mit mindestens zwei (Meth)acryloyl
gruppen und mit mindestens zwei Urethanbindungen
in einem Molekül, wobei der Bestandteil durch
Reaktion eines (Meth)acrylatmonoesters eines
zweiwertigen Alkohols mit einem multivalenten
aromatischen Isocyanat erhalten wurde, dargestellt
durch die folgende allgemeine Formel:
(wobei k 1 oder 2, l 1 oder 2, m 1 oder 2 ist,
P1-(5-k) ein Wasserstoffatom oder eine Methyl
gruppe, Q1-(4-l) ein Wasserstoff oder eine
Methylgruppe, R1-(5-m) ein Wasserstoff oder eine
Methylgruppe sind, und n eine ganze Zahl von
0-20 ist). In der allgemeinen Formel (I) ist
P1-(5-k) ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
Q1-(4-l) ein Wasserstoffatom oder eine Methyl
gruppe und R1-(5-m) ein Wasserstoffatom oder
eine Methylgruppe. Wenn k-2 ist, können
P₁, P₂ und P₃ gleich oder unterschiedlich sein.
Eine Ethylgruppe und andere Alkylgruppen, die
mehr als zwei Kohlenstoffatome haben, sind
nicht ohne weiteres verfügbar und sind daher
nicht allgemein empfohlen. Multivalente
aromatische Isozyanate, die durch die allgemeine
Formel (I) dargestellt sind, bei denen jeweils
k, l und m 3 oder mehr ist, sind nicht bevorzugt,
da sie schwierig in einer Großfabrikation zu
erzielen sind.
In der allgemeinen Formel (I) ist n eine ganze
Zahl von 0-20. Wenn n 20 überschreitet, hat
das resultierende Polyurethan-Poly(meth)acrylat
eine extrem hohe Viskosität und ist nicht
für die Anwendung in der vorliegenden Erfindung
geeignet.
Beispiele des (Meth)acrylatmonoesters eines
zweiwertigen Alkohols, die vorzugsweise benutzt
werden, umfassen 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat und
2-Hydroxypropyl(meth)acrylat.
Diese Verbindungen werden vorzugsweise derart
in Reaktion gebracht, daß das NCO-Äquivalent
des durch die allgemeine Formel (I) dargestellten
Isozyanats ungefähr gleich dem Hydroxyläquivalent
des (Meth)acrylatmonoesters eines zweiwertigen
Alkohols ist, aber das NCO-Äquivalent kann
geringfügig niedriger als das Hydroxyläquivalent
sein.
Der hier benutzte Ausdruck "(Meth)acryl" soll
Acryl und/oder Methacryl bedeuten.
Die lichtempfindliche Harzzusammensetzung
der vorliegenden Erfindung umfaßt als einen
wesentlichen Bestandteil das Urethan(meth)acrylat
des multivalenten aromatischen Isozyanats,
das durch die Formel (I) dargestellt ist, so
daß es eine hohe Widerstandsfähigkeit gegen
nasse Hitze aufweist, während das schon vorge
schlagene Verfahren unter Verwendung des
Urethanacrylats als eine lichtempfindliche
Harzzusammensetzung (z. B. das in der japanischen
Patentveröffentlichung No. 59-23723 beschriebene
Verfahren) keine zufriedenstellende Widerstands
fähigkeit gegen chemische Platierungslösungen
zeigen. Eine Studie über die Widerstands
fähigkeit bzw. Festigkeit gegen feuchte Hitze
des Polyurethans ist in "KOBUNSHI RONBUNSHU"
Vol. 35, No. 3, 161, 1978 beschrieben und es
wurde festgestellt, daß das Polyurethan von
einem aromatischen Isozyanat die höchste
Widerstandsfähigkeit gegen feuchte Wärme zeigt.
Zusätzlich zu der Verwendung eines aromatischen
Isozyanats verwendet die vorliegende Erfindung
wahlweise eine polyfunktionale Komponente
als ein aromatisches Isozyanat, so daß eine
hohe Vernetzungsdichte erzielt werden kann und
dies trägt zu einer weiteren Verbesserung der
Wärmefestigkeit gegen feuchte Wärme bei.
Die lineare hochmolekulare Verbindung, die als
Bestandteil (b) in der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung
enthalten ist, kann aus jeder der derartigen
Verbindungen ausgewählt werden, einschließlich
der hochmolekularen Verbindungen, die durch
Vinylmischpolymerisation hergestellt werden.
Es werden vom Gesichtspunkt bestimmter Aspekte,
einschließlich der Mischbarkeit mit der
oben beschriebenen novolakartigen Urethan(meth)
acrylatverbindung und der zwischen einer
Schaltplatine und der Schicht der Harzzusammen
setzung erreichbaren Haftfestigkeit, die linearen
hochmolekularen Verbindungen durch
Vinylmischpolymerisation hergestellt. Diese
linearen hochmolekularen Verbindungen haben
ein Molekulargewicht im Bereich
von 10.000-500.000.
Solche, die ein Molekulargewicht von weniger
als 10.000 aufweisen, haben eine verringerte
Widerstandsfähigkeit gegen Wärmeschutz, während
solche mit einem Molekulargewicht von mehr als
500.000 eine verringerte Mischbarkeit haben.
Erläuternde Vinylmonomere, die die oben be
schriebenen, durch Vinylmischpolymerisation
hergestellten linearen hochmolekularen Ver
bindungen bilden, sind die folgenden, allerdings
sind sie nicht auf diese begrenzt:
Methylmethacrylat, Butylmethacrylat, Ethylacrylat,
Isobutylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat,
2-Hydroxypropylmethacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat,
Acrylsäure, Methacrylsäure, Glycidylmethacrylat,
2,3-Dibromopropylmethacrylat, Acrylamid,
Acrylonitril, Tribromophenylmethacrylat,
Tribromophenylacrylat, Vinyltoluen, Styren,
α-Methylstyren, Maleimid, N-Phenylmaleimid
und N-Isopropylmaleimid.
Beispiele eines Polymerisationsinitiators,
der freie Radikale bei Belichtung erzeugt
und der als Bestandteil (c) in der licht
empfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegen
den Erfindung enthalten ist, umfaßt:
Chinone, wie 2-Ethylanthrachinon, 2-t-Butyl
anthrachinon, Oktamethylanthrachinon, 1,2-Benzantra
chinon und 2,3-Diphenylanthrachinon; α-Ketaldonyl
alkohole und Ether, wie Benzoin, Pivaloin und
Acyloinether; Ketone, wie α-Phenylbenzoin,
α,α′-Diehtoxyacethophenon, Benzophenon und
4,4′ -Bisdialkylaminobenzophenon; und 2,4,5-Triacryl
imidazoldimer. Diese Monomere können selbst
oder als Zusatz verwendet werden.
Das bisphenolartige Epoxy(meth)acrylat, das als
Komponente (aa) in der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung entsprechend einem anderen
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
enthalten ist, wird durch Reaktion eines
bisphenolartigen Epoxyharzes mit (Meth)acrylsäure
erhalten. Wenn es notwendig ist, die Widerstands
fähigkeit der Harzzusammensetzung der vorliegenden
Erfindung gegen die Löthitze soweit zu ver
bessern, daß sie flammenverzögernd (flammwidrig)
wird, kann ein bromiertes bisphenolartiges
Epoxyharz, vorzugsweise eines mit einem Brom
gehalt von 10-60% (alle hier verwendeten
Prozente sind auf die Gewichtsbasis bezogen),
verwendet werden. Beispiele derartiger bisphenol
artiger Epoxyharze schließen die folgenden ein,
wobei sie nicht auf diese begrenzt sind:
Epikote 801, 802, 807, 808, 815, 819, 825,
827, 828, 834, 1001, 1002, 1003, 5050 und
5051 (alle hergestellt durch Yuka-Shell Co., Ltd.),
DER 332, 662, 542 und 511 (alle hergestellt
durch Dow Chemical Company), EPOMIC R-130,
R-139, R-140, R-144, R-210 und R-211
(alle hergestellt durch Mitsui Petrochemical
Industries, Ltd.) und Araldite CY-225, CY-205,
CY-207, CY-221 und CY-206 (alle hergestellt
von Ciba-Geigy).
Die Verwendung mindestens eines Tetrazols oder
seiner Derivate, das als Komponente (d1)
in der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung
entsprechend einem anderen Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung enthalten ist, ist
sehr wirksam zur Verbesserung der Haftfähigkeit
eines Fotolacks auf einem Metallsubstrat, auf
dem eine Schicht der lichtempfindlichen Harz
zusammensetzung gebildet wird. Es ist hier
insbesondere zu vermerken, daß selbst, wenn
eine stark alkalische Platierungslösung ver
wendet wird, eine gute Haftfähigkeit an dem
Metallsubstrat sichergestellt ist, wobei solche
Probleme wie das Abheben der Schicht der licht
empfindlichen Harzzusammensetzung und das
Entfärben des Metallsubstrats vermieden werden.
Beispiele einer Verbindung, die als Komponente
(d1) verwendet werden können, umfassen
1-Phenyltetrazol, 5-Phenyltetrazol, 5-Amino
tetrazol, 5-Amino-1-methyltetrazol, 5-Amino-
2-phenyltetrazol, 5-Mercapto-1-phenyltetrazol
und 5-Mercapto-1-methyltetrazol. Die Menge, in
der diese Verbindungen der Zusammensetzung
hinzufügt werden, ist nicht allgemein festge
legt, da sie mit den Komponenten eines vorge
sehenen Fotolackes, ihren Verhältnissen und
der Härte des Fotolacks nach seiner Aushärtung
variiert. Um eine wirksame Haftfähigkeit zu
erzielen, werden diese Verbindungen allerdings
in einer Menge von 0,001-2 Gewichtsprozenten,
vorzugsweise 0,01-1,0 Gewichtsprozenten,
der Zusammensetzung hinzugefügt. Eine übermäßige
Menge beim Hinzufügen wird zu einer niedrigeren
Empfindlichkeit führen.
Die heterozyklische Stickstoffkomponente, die
als Komponente (d2) in der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung entsprechend einem anderen
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
enthalten ist, weist ebenfalls nach, daß sie
wirksam ist, indem sie die Haftfähigkeit eines
Fotolackes an einem Metallsubstrat verbessert,
auf dem eine Schicht der lichtempfindlichen
Zusammensetzung gebildet wird. Es ist insbesondere
bemerkenswert, daß selbst, wenn eine starke
alkalische Platierungslösung verwendet wird,
eine gute Haftfähigkeit an dem Metallsubstrat
sichergestellt ist, wobei die Probleme eines
Abhebens der Schicht der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung und der Entfärbung des
Metallsubstrats vermieden werden. Beispiele
der Verbindungen, die als Komponenten (d2)
verwendet werden können, umfassen Benzimidazol
2-Aminobenzimidazol, 2-Methylbenzimidazol,
5-Nitrobenzimidazol, 5-Methylbenzimidazol,
Benzotriazol, 1-Chlorbenzotriazol und 2-Amino
benzthiazol. Die Menge, in denen diese Ver
bindungen der Zusammensetzung hinzugefügt werden,
ist nicht allgemein festgelegt, da sie mit
den Komponenten des vorgesehenen Fotolacks,
ihren Verhältnissen und der Härte des Foto
lacks nach seiner Aushärtung abhängt. Um
eine wirksame Haftfähigkeit zu erzielen,
werden diese Verbindungen in einer Menge
von 0,001-5 Gewichtsprozenten, vorzugsweise
0,01-1,0 Gewichtsprozent der Zusammensetzung
hinzugefügt. Übermäßige Mengen führen zu einer
geringeren Empfindlichkeit.
In einem Ausführungsbeispiel entsprechend dem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
die lichtempfindliche Harzzusammensetzung
durch Mischen von 20-80 Gewichtsteilen, vor
zugsweise 30-60 Gewichtsteilen der Komponente
(a), 20-80 Gewichtsteilen, vorzugsweise
30-60 Gewichtsteilen der Komponente (b)
und 1-10 Gewichtsteilen, vorzugsweise
3-7 Gewichtsteilen der Komponente (c) herge
stellt, so daß die Summe der Komponenten
(a), (b) und (c) 100 Gewichtsteile ergeben.
Wenn die Menge der Komponente (a) geringer ist
als 20 Gewichtsteile, wird die Widerstands
fähigkeit gegen chemische Platierungslösungen
verringert. Wenn die Menge der Komponente
(a) 80 Gewichtsteile überschreitet, wird die
Widerstandsfähigkeit gegen Hitzeschocks ver
schlechtert. Wenn die Menge der Komponente (b)
außerhalb des oben beschriebenen Bereiches liegt,
wird die Widerstandsfähigkeit gegen Hitzeschocks
und chemische Platierungslösungen verringert.
Wenn die Menge der Komponente (c) weniger als
1 Gewichtsteil beträgt, wird die Aushärtbarkeit
mit UV-Strahlung verringert, wodurch ein
Abfall in der Empfindlichkeit bewirkt wird.
Wenn die Menge der Komponente (c) 10 Gewichts
teile überschreitet, wird die Empfindlichkeit
verbessert, aber die oben beschriebenen
Eigenschaften werden verschlechtert.
In dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird die die Komponente (aa) enthaltende
lichtempfindliche Harzzusammensetzung durch
Mischen von 10-60 Teilen, vorzugsweise 15-55
Teilen, der Komponente (a), 5-45 Teilen,
vorzugsweise 10-40 Teilen, der Komponente (aa),
20-60 Teilen, vorzugsweise 30-50 Teilen
der Komponente (b) und 1-10%, vorzugsweise
3-7% der Komponente (c) auf der Basis der
Summe der Komponenten (a), (aa) und (b) herge
stellt, derart, daß die Summe der Komponenten
(a), (aa) und (b) 100 Teile ergeben.
Wenn die Menge der Komponente (a) geringer ist
als 10 Teile, wird die Widerstandsfähigkeit
gegen chemische Platierungslösungen unzureichend.
Wenn die Menge der Komponente (a) 60 Teile
überschreitet, so ist die Wärmebeständigkeit
gegen Hitzeschocks verschlechtert. Wenn die
Menge der Komponente (aa) außerhalb des oben
beschriebenen Bereiches liegt, treten ungünstige
Bedingungen in Hinsicht auf die Wärmebeständigkeit
und die Widerstandsfähigkeit gegen chemische
Platierungslösungen auf. Wenn die Menge der
Komponente (b) außerhalb des oben beschriebenen
Bereiches liegt, treten ungünstige Bedingungen
in Hinblick auf die Widerstandsfähigkeit gegen
Hitzeschocks und gegen chemische Platierungs
lösungen auf. Wenn die Menge der Komponente (c)
geringer ist als 1%, wird die Aushärtbarkeit
mit UV-Strahlung verschlechtert, wodurch eine
Verringerung der Empfindlichkeit bewirkt wird.
Wenn die Menge der Komponente (c) 10% über
schreitet, wird die Empfindlichkeit verbessert,
aber die oben beschriebenen Eigenschaften ver
schlechtert.
Wenn es gewünscht wird, kann die lichtempfindliche
Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung
geeignete andere Hilfskomponenten einschließlich
Farbstoffe oder Pigmente für die Farbgebung,
Inhibitoren für die thermische Polymerisation als
Schutzmittel oder Stabilisierer, Zusätze zur
Verbesserung der Haftfähigkeit an verdrahteten
Leitern und Chelierungsmittel enthalten.
Die Art und die Menge dieser wählbaren Zusatz
stoffe kann bestimmt werden wie in dem Fall
von üblichen lichtempfindlichen Zusammensetzungen.
Die lichtempfindliche Harzzusammensetzung der
vorliegenden Erfindung kann in Abwesenheit
von Verdünnungsmittel verwendet werden, aber
bevorzugte Ergebnisse werden durch ihre Ver
wendung in Kombination mit Lösungen erzielt,
die das Basisharz lösen und die keine sehr
hohen Siedepunkte aufweisen, wie Methylethylketon,
Methylenchlorid, Methylenchlorid/methylalkohol
mischung und Isopropylalkohol. Diese Lösungen
werden in Mengen von nicht mehr als 200 Gewichts
prozenten, vorzugsweise 100-200 Gewichts
prozenten der Zusammensetzung verwendet.
Die lichtempfindliche Harzzusammensetzung
der vorliegenden Erfindung wird verwendet,
nachdem sie auf eine Metalloberfläche, wie
Kupfer, Nickel oder Chrom, vorzugsweise Kupfer,
aufgebracht wurde. Genauer gesagt, wird die
Zusammensetzung in Form eines flüssigen
Abdeckmittels auf eine Metalloberfläche
aufgebracht, getrocknet und mit einem Schutzfilm
abgedeckt. Alternativ kann die Zusammensetzung
in einem trockenen Film-Fotolack verarbeitet
werden, der ein lichtempfindliches Element
entsprechend einem anderen Aspekt der vor
liegenden Erfindung ist.
Der Abdeckfilm für die Verwendung in dem Fall,
in dem die Zusammensetzung der vorliegenden
Erfindung als flüssiges Abdeckmittel aufgebracht
wird, ist vorzugsweise aus einem inerten Poly
olefin, wie Polyethylen oder Polypropylen gemacht.
Ein trockener Film-Fotolack wird durch Be
schichten der fotopolymerisierbaren Harzzusammen
setzung auf einen Polyesterfilmträger, durch
Trocknen des Überzuges und durch Kaschieren
mit einem Polyolefinschutzfilm hergestellt.
In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt
der vorliegenden Erfindung wird ein licht
empfindliches Element unter Verwendung der
oben beschriebenen lichtempfindlichen Harz
zusammensetzung zur Verfügung gestellt. Dieses
Element wird im folgenden im Detail beschrieben.
Ein lichtempfindliches Element entsprechend diesem
Aspekt der vorliegenden Erfindung wird durch
Bildung einer gleichmäßigen Schicht aus der oben
beschriebenen lichtempfindlichen Harzzusammen
setzung auf einem Filmträger erhalten. Eine
Schicht der Zusammensetzung kann auf dem Träger
durch Beschichten des Trägers mit der Lösung
der Zusammensetzung mittels Techniken, wie
Messerbeschichten oder Aufwalzen und durch
Trocknen des aufgebrachten Überzuges gebildet
werden.
Eine Lösung der Zusammensetzung wird hergestellt,
indem sie gleichmäßig in einem organischen
Lösungsmittel, wie Methylethylketon oder
Toluen aufgelöst wird (wobei allerdings vorzu
sehen ist, daß Pigmente, unlösliche Flammen
verzögerer und Füllstoffe gleichmäßig verteilt
sind). Wenn die aufgebrachte Lösung zur Bildung
eines Films getrocknet werden soll, ist die
Menge des verbleibenden Lösungsmittels vorzugs
weise auf 1% oder weniger verringert, wobei
dies nötig ist, um die Eigenschaften des ge
wonnenen lichtempfindlichen Elementes bei
zubehalten.
Der bei einem anderen Aspekt der vorliegenden
Erfindung verwendete Träger muß die Wärmefestig
keit (während des Trocknens) und die Festigkeit
gegen Chemikalien aufweisen, die notwendig ist,
damit die Herstellung des lichtempfindlichen
Elementes möglich ist. Der Träger ist zum
Belichten vorzugsweise transparent. Ein bevor
zugtes Ausführungsbeispiel ist ein Polyesterfilm.
Wenn das lichtempfindliche Element kontinuierlich
hergestellt wird, wird es im letzten Schritt
im Endstadium in Form von Rollen aufgenommen und
in diesem Fall wird ein abziehbarer Schutz
(Überzugfilm) auf die Schicht der lichtempfind
lichen Harzzusammensetzung in diesem Element
aufgebracht. Beispiele dieser abziehbaren
Abdeckfilme umfassen ein Polyethylenfilm, ein
Polypropylenfilm und oberflächenbehandeltes
Papier. Jedes Material kann als Abdeckfilm
verwendet werden, wenn seine Haftfähigkeit
an der Schicht der lichtempfindlichen Harz
zusammensetzung beim Abziehen geringer ist
als die Haftfestigkeit zwischen der Schicht
der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung
und dem Filmträger. Das lichtempfindliche
Element kann ebenfalls hergestellt werden,
indem als Abdeck- oder Schutzfilm ein Träger
verwendet wird, dessen Rückseite behandelt
wurde.
Die Schicht der lichtempfindlichen Harzzusammen
setzung als Komponente des lichtempfindlichen
Elementes entsprechend einem anderen Aspekt
der vorliegenden Erfindung weist vorzugsweise
eine Dicke von 10-200 µm auf, um einen
hohen Grad an elektrischer Isolierung zwischen
den Leitern auf einer Schaltplatine aufrecht
zuerhalten, auf das das Element aufgebracht
wird und ebenfalls unter dem Gesichtspunkt
der Auflösung der Muster der zu bildenden
Lötmasken.
Das lichtempfindliche Element entsprechend
einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird in der folgenden Weise verwendet.
Das lichtempfindliche Element entsprechend
diesem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
durch thermische Kompression auf ein Substrat
auflaminiert, nachdem der Schutzfilm abge
zogen worden ist. Das Aufbringen oder Laminieren
durch thermische Kompression kann mit einem
allgemein bekannten Laminator bewirkt werden.
Bei einem Substrat mit vorgefertigtem Muster
von verdrahteten Leitern wird ein Laminieren
durch thermische Kompression entweder bei
verringertem Druck oder unter Vakuum bevorzugt,
da dies eine gute Überdeckung des Schaltmusters
sicherstellt.
Nach dem Laminieren kann das lichtempfindliche
Element entsprechend den Standardverfahren
belichtet und entwickelt werden. Genauer gesagt,
wird die Belichtung über eine Negativmaske
unter Verwendung einer Hochdruck- oder Ultra
hochdruckquecksilberlampe als Lichtquelle durch
geführt. Nach dem Belichten wird das Element
bei 50-100°C für 10-30 Minuten Wärme
behandelt und nachdem es vom Träger abgezogen
wurde, wird das Element mit einem Entwickler
entwickelt. Der Entwickler verwendet ein
Lösungsmittel wie 1,1,1-Trichlorethan. Die
Verwendung eines nichtentflammbaren Lösungs
mittels wird vom Standpunkt der Sicherheit
bevorzugt.
Der bildartige Schutzüberzug, der durch das
oben beschriebene Verfahren erzielt wurde,
dient als korrosionsfester Film für das Ätzen
oder das Platieren unter normalen Bedingungen.
Es wird ein Schutzüberzug mit weiteren verbesserten
Eigenschaften als Ergebnis einer Wärmebe
handlung bei 80-200°C und einer Be
leuchtung durch aktinisches Licht erhalten, wobei
beide Behandlungen nach der Entwicklung
durchgeführt werden. Vorzugsweise wird diese
Vorbehandlung üblicherweise in der Art durch
geführt, daß zuerst die Beleuchtung mit
aktinischem Licht erfolgt und die Wärmebe
handlung wird dann für 30-60 Minuten vorge
nommen.
Der Schutzüberzug, der durch die Wärmebe
handlung und durch die Belichtung mit aktinischem
Licht nach der Entwicklung erhalten wird,
hat eine befriedigende Fähigkeit, organischen
Lösungsmitteln, wie Tri-Clen, Methylethylketon,
Isopropylalkohol und Toluen zu widerstehen
und ist ebenfalls widerstandsfähig gegen saure
oder alkalische wäßrige Lösungen. Außerdem
hat dieser Überzug eine verbesserte Widerstands
fähigkeit gegen Wärme und thermische Schocks,
so daß er vorteilhaft ist für die Verwendung
als ständiger Schutzüberzug, wie als Lötmaske,
die eine langzeitige Zuverlässigkeit verlangt.
Im folgenden werden verschiedene Beispiele
der vorliegenden Erfindung dargelegt. Sie
zeigen lediglich Ausführungsbeispiele und
sollten nicht als die vorliegende Erfindung
begrenzend angesehen werden.
Vierhundertfünfzig Gewichtsteile Millionat
MR-400 (Warenzeichen der Nippon Polyurethan
Industry Co., Ltd., für ein multivalentes
aromatisches Isocyanat, das in der allgemeinen
Formel (I) dargestellt ist) werden in
Reaktion mit 400 Gewichtsteilen von
2-Hydroxyethylacrylat gebracht, um Polyurethan
acrylat (PUA-1) zu erhalten.
Diese Polyurethanacrylat (PUA-1), eine lineare
hochmolekulare Verbindung und ein Fotopolymerisa
tionsinitiator werden in den in Tabelle 1 dar
gestellten Verhältnissen gemischt, so daß
eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung
entsprechend den Beispielen der vorliegenden
Erfindung erhalten wird. Die Zahlenangabe in
Tabelle 1 bezeichnen Gewichtsteile. Die Harz
lösungen (40-60% in der Konzentration) werden
unter Verwendung von Methylethylketon als
Lösungsmittel hergestellt und diese Harzlösungen
werden auf einen Polyethylenterephthalatfilm
aufgebracht und mit Wärme getrocknet, um ein
lichtempfindliches Element entsprechend einem
anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung zu
erhalten, das eine Schicht der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung in einer Dicke von unge
fähr 50 µm aufweist.
Durchgangslöcher und Teillöcher wurden in einem
mit Kupfer beschichteten Glasepoxylaminat ge
bildet, das eine Substratdicke von 1,6 mm und
eine Kupferfoliedicke von 18 µm aufweist. Danach
wurde das Laminat einer katalytischen Behandlung
zur stromlosen Platierung unterworfen und ein
Schaltungsmuster wurde danach gebildet.
Die lichtempfindlichen Elemente wurden auf
diese Substrate mit einem Laminator aufgebracht.
Nach der Laminierung wurden die lichtempfind
lichen Elemente mit einer negativen Maske
belichtet, für 10 Minuten auf 80°C aufgeheizt
und danach sprühentwickelt mit 1,1,1-Trichlorethan
(20°C × 80 Sekunden). Nach der Entwicklung
wurden die Elemente bei 80°C für 5 Minuten
getrocknet und unter einer Quecksilberdampf
hochdrucklampe (80 W/cm) mit einem Energiepegel
von 2,5 J/cm² beleuchtet. Danach wurden die
Elemente bei 150°C für 30 Minuten wärmebe
handelt, um die Schutzfilme zu bilden.
An nächster Stelle wurden die Substrate für
15 Stunden in ein stromloses Platierungsbad
(pH 12,5 (20°C); 60°C) eingetaucht, um die
Durchgangslöcher und die Teillöcher mit
einer Verkupferung bis zu einer Dicke von
ungefähr 23 µm zu füllen. Nach der stromlosen
Verkupferungsbehandlung wurden die Substrate
sorgfältig mit Wasser gewaschen, bei 80°C
für 10 Minuten getrocknet und weiterhin bei
130°C für 60 Minuten wärmebehandelt. Während
der stromlosen Verkupferung und den nach
folgenden Behandlungen erfuhren die Schutzfilme
keine Verschlechterung, kein Anschwellen oder
Ablösen und zeigten eine zufriedenstellende
Widerstandsfähigkeit.
Die Substrate wurden auch einem Test zur Be
stimmung ihrer Widerstandsfähigkeit gegen
Lötwärme unterzogen, indem sie für 10 Sekunden
in ein Lötbad (255-265°C) getaucht wurden.
Die Schutzfilme blieben stabil und kein feststell
bares Reißen oder Ablösen trat auf. Diese zeigt,
daß die getesteten lichtempfindlichen Elemente
zufriedenstellend als Lötmasken in praktischen
Anwendungen dienen können.
Ein Urethanacrylat wurde wie in den Beispielen
unter Verwendung 336 g (vier Äquivalente)
Hexamethylendiisozyanat und 533 g (4.1 Mol)
Hydroxyethylmethacrylat synthetisiert.
Eine Lösung der lichtempfindlichen Harzzusammen
setzung wurde entsprechend dem unten angegebenen
Rezept durch Wiederholung der in den Beispielen
verwendeten Verfahrensschritte zubereitet
und ein lichtempfindliches Element wurde her
gestellt. Die Mischverhältnisse waren wie
folgt:
Urethanacrylat | |
55 Gewichtsteile | |
PMMA | 40 Gewichtsteile |
2EAQ | 5 Gewichtsteile |
Nach der stromlosen Platierungsbehandlung
wurde ein Teil der mit der Schutzschicht
auf dem lichtempfindlichen Element versehenen
Oberfläche opak und ein Teil dieses opaken
Bereichs trennte sich von dem Substrat. In einem
zur Auswertung der Widerstandsfähigkeit des
Schutzfilms gegen Lötwärme durchgeführten Test
wurde ein Anschwellen in dem, Bereich, in dem
ein Ablösen auftrat, beobachtet, aber die
anderen Bereiche blieben unverändert. Wie
diese Ergebnisse zeigen, kann das licht
empfindliche Element des Vergleichsbeispiels
1 als Lötmaske verwendet werden, aber entgegen
dem lichtempfindlichen Element entsprechend
einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung
war es schwierig, dieses Vergleichselement
als Schutzfilm bei der chemischen Platierung
zu verwenden.
Ein 2-L Gefäß wurde mit 504 g (4 Äquivalenten)
einer Verbindung mit der folgenden Strukturformel
gefüllt:
(n ist im Mittel 0,6; Isocyanatäquivalent, 126),
533 g (4.1 Mol) eines Hydroxyethylmethacrylats
und 692 g eines Methylethylketons und die
Reaktion wurde bei 60°C für 8 Stunden nach
Hinzufügen von 2,1 g (0.2 Gewichtsprozenten
auf der Basis eines Feststoffs) eines Zink
oktylats durchgeführt. Während der Reaktion
wurde Luft mit einer Durchflußmenge von 1 ml/min
eingeblasen, um die Polymerisation zu verhindern.
Danach wurden Messungen des NCO-Äquivalents
mittels eines Standardverfahrens durchgeführt
und die Reaktion war beendet, wenn der NCO
Wert 0,2 oder kleiner wurde.
Ein 1-L Gefäß wurde mit 570 g (3 Äquivalenten)
Epikot (Produkt der YUKA-Shell Co. ,Ltd.,
Epoxyäquivalent 190) und 201 g (2,8 Mol) einer
Acrylsäure gefüllt. Nach der Hinzufügung von
0,77 g (0,1 Gewichtsprozenten) eines Methoxyphenols
als Polymerisationsinhibitor und 3.9 g (0,5
Gewichtsprozenten) eines Benzyldimethylamins
wurde die Reaktion bei 90°C für 6 Stunden
durchgeführt. Danach wurden Säurewertmessungen
mittels eines Standardverfahrens ausgeführt
und die Reaktion war beendet, wenn der Säure
wert 1 oder geringer wurde.
Urethanacrylat synthetisiert in (1) | |
40 Teile [60% (24 Teile) eines Feststoffs] | |
Epoxyacrylat synthetisiert in (2) | 25 Teile |
Methylmethacrylat/butylmethacrylat/methacrylsäure (Gewichtsverhältnis: 80/18/2; Molekulargewicht ca. 1.5 × 10⁵) | 40 Teile |
2-Ethylanthrachinon | 4,5 Teile |
p-Methoxyphenol | 0,1 Teile |
Methylethylketon | 45 Teile |
Unter Verwendung des oben beschriebenen Rezepts
wurde eine Lösung einer lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung entsprechend einem Beispiel
eines anderen Aspekts der vorliegenden Er
findung zubereitet. Diese Harzlösung wurde
auf ein Polyethylenterephthaltfilm 25 µm dick
aufgebracht, zuerst bei Raumtemperatur für
20 Minuten getrocknet, dann bei 70°C für
10 Minuten und endlich bei 100°C für 5 Minuten,
so daß ein lichtempfindliches Element entsprechend
einem Beispiel eines noch anderen Aspekts
der vorliegenden Erfindung erhalten wurde,
bei dem die Schicht der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung eine Dicke von ungefähr
70 µm hatte.
Durchgangslöcher und Teillöcher wurden in einem
verkupferten Epoxylaminat mit einer Substrat
dicke von 1,6 mm und einer Kupferfoliendicke
von 18 µm gebildet. Daraufhin wurde das Laminat
einer katalytischen Behandlung zur stromlosen
Platierung unterworfen und danach wurde ein
Schaltungsmuster gebildet. Das in (3) zube
reitete lichtempfindliche Element wurde auf dieses
Substrat mit einem Laminator laminiert. Nach
der Laminierung wurde das lichtempfindliche
Element durch eine negative Maske belichtet,
für 10 Minuten bei 80°C aufgeheizt und danach
mit 1,1,1-Trichlorethan (20°C × 80 Sekunden)
sprühentwickelt. Nach der Entwicklung wurde
das Element bei 80°C für 5 Minuten getrocknet
und mit einer Quecksilberdampfhochdrucklampe
(80 W/cm) mit einem Energieniveau von 2,5 J/cm²
beleuchtet. Danach wurde das Element bei
150°C für 30 Minuten wärmebehandelt, um einen
Schutzfilm zu bilden.
An der nächsten Stelle wurde das Substrat für
16 Sunden in ein stromloses Platierungsbad
(pH, 12.5 (20°C); 60°C) eingetaucht, um
die Durchgangslöcher und Teillöcher mit einer
Verkupferung einer Dicke von ungefähr 25 µm
zu füllen. Nach der stromlosen Platierungs
behandlung wurde das Substrat sorgfältig mit
Wasser gewaschen, bei 80°C für 10 Minuten
getrocknet und weiter bei 130°C für 60 Minuten
wärmebehandelt. Während der stromlosen Platierung
und den folgenden Behandlungen unterlag der
Schutzfilm keinen Verschlechterungen, keinem
Anquellen oder Ablösen und zeigte eine zufrieden
stellende Widerstandsfähigkeit.
Das Substrat wurde ebenfalls einem Test zur
Bewertung seiner Widerstandsfähigkeit gegen
Lötwärme durch Eintauchen in ein Lötbad
(255-265°C) für 10 Sekunden unterworfen.
Der Schutzfilm verblieb stabil und kein fest
stellbares Reißen oder Ablösen trat auf.
Dies zeigt, daß das getestete lichtempfindliche
Element zufriedenstellend als Lötmaske in
praktischen Anwendungen dienen kann.
Ein 1-L Gefäß wurde mit 173 g (1 Äquivalent)
von DER 332 (Produkt der Dow Chemical Company;
Epoxyäquivalent, 173) 660 g (2 Äquivalente) von
DER 542 (Produkt der Dow Chemical Company;
Br Gehalt 46%; Epoxyäquivalent 380) und
201 g (2,8 Mol) Acrylsäure gefüllt und nach
Hinzufügung von 1,0 g (0,1 Gewichtsprozenten)
eines Methoxyphenols und 5,1 g (0,5 Gewichts
prozenten) von Benzyldimethylamin wurde die
Reaktion bei 90°C für 6 Stunden durchgeführt.
Nach Durchführung der folgenden Verfahrens
schritte wie in Beispiel 12, wurde Epoxyacrylat
synthetisiert.
Polyurethanacrylat synthetisiert in Beispiel 12 | |
40 Teile [60% (24 Teile) auf der Basis von Feststoff] | |
Epoxyacrylat synthetisiert in (1) | 30 Teile |
Methacrylsäure-Mischpolymer verwendet in Beispiel 12 | 35 Teile |
2-Ethylanthrachinon | 4,5 Teile |
p-Methoxyphenol | 0,1 Teile |
Methylethylketon | 46 Teile |
Victorianblau | 0,02 Teile |
Unter Verwendung des oben dargestellten Rezepts
wurde eine Lösung einer lichtempfindlichen Harz
zusammensetzung in Übereinstimmung mit einem
anderen Beispiel eines anderen Aspekts der
vorliegenden Erfindung zubereitet. Mit dieser
Lösung wurde ein lichtempfindliches Element
entsprechend einem anderen Beispiel eines
noch anderen Aspekts der vorliegenden Erfindung
hergestellt.
Unter Verwendung des so erhaltenen lichtempfind
lichen Elements wurde ein Schutzfilm auf einem
Substrat wie in Beispiel 12 gebildet.
An der nächsten Stelle wurde das Substrat mit
dem Schutzfilm für 16 Stunden in ein stromloses
Verkupferungsbad (pH 12,5 (20°C); 60°C)
eingetaucht, um die Durchgangslöcher und die
Teillöcher mit einer Verkupferung einer Dicke
von ungefähr 25 µm gefüllt. Nach der stromlosen
Platierungsbehandlung wurde das Substrat
sorgfältig mit Wasser gewaschen, bei 80°C
für 10 Minuten getrocknet und weiter wärmebe
handelt bei 150°C für 60 Minuten. Während
der stromlosen Verkupferung und den nachfolgen
den Behandlungen zeigte der Schutzfilm keine
Verschlechterung, kein Anschwellen oder Ablösen
und hatte zufriedenstellende Schutzeigenschaften.
Wie in Beispiel 12 wurde ein Test zur Bewertung
der Widerstandsfähigkeit eines beschichteten
Substrats gegen Lötwärme durchgeführt. Der
Schutzfilm verblieb stabil und wies somit nach,
daß er zufriedenstellend als Lötmaske in
praktischen Anwendungen verwendbar ist.
Durch Wiederholen der oben beschriebenen
Verfahrensschritte wurde auch ein Schutzfilm
auf einem Substrat mit einem Flammenverzögerungs
grad von 94 V-0 unter UL gebildet. Ein
Flammenverzögerungstest, durchgeführt an diesem
Schutzfilm, zeigte, daß er die Spezifikationen
von UL 94 V-0 erfüllt.
Ein 2-L Gefäß wurde mit 564 g (4 Äquivalenten)
einer Verbindung mit der folgenden Struktur
formel gefüllt:
(n ist 0,8 im Mittel; Isozyanatäquivalent, 141),
475 g (4,1 Mol) eines Hydroxyethylacrylats und
692 g eines Methylethylketons gefüllt und nach
der Hinzufügung von 2 g (0,2 Gewichtsprozenten
einer Festkörperbasis) eines Zinkoktylats wurde
die Reaktion wie in Beispiel 12 durchgeführt.
Ein 2-L Gefäß wurde mit 380 g (2 Äquivalente)
eines Epikots 828, 475 g (1 Äquivalent) eines
Epikots 1001 (Epoxyäquivalent 475), 201 g
(2,8 Mol) einer Acrylsäure und 352 g eines
Toluens gefüllt. Nach dem Hinzufügen von 1 g
(0,1 Gewichtsprozent auf einer Festkörperbasis)
eines Methoxyphenols als ein Polymerisations
inhibitor und 5,2 g (0,5 Gewichtsprozent auf
einer Feststoffbasis) eines Benzylmethylamins
wurde die Reaktion wie im Beispiel 12 durch
geführt.
Polyurethanacrylat synthetisiert in (1) | |
40 Teile [60% (24 Teile) auf einer Feststoffbasis] | |
Epoxyacrylat synthetisiert in (2) | 27 Teile [75% (20 Teile) auf einer Feststoffbasis] |
Methacrylsäure-Mischpolymer verwendet in Beispiel 12 | 30 Teile |
Benzophenon | 3 Teile |
Michler′s Keton | 0,6 Teile |
p-Methoxyphenol | 0,05 Teile |
Methylenblau | 0,01 Teile |
Methylethylketon | 28 Teile |
Unter Verwendung des oben dargestellten Rezepts
wurde eine Lösung einer lichtempfindlichen Harz
zusammensetzung entsprechend einem anderen
Ausführungsbeispiel eines anderen Aspekts der
vorliegenden Erfindung zubereitet und ein
lichtempfindliches Element wurde entsprechend
einem anderen Beispiel noch eines anderen Aspekts
der vorliegenden Erfindung hergestellt. Der
Trockenplan der Schicht der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung ist wie folgt: Aufheizen bei
Raumtemperatur für 20 Minuten, 80°C für 10
Minuten und 110°C für 5 Minuten.
Unter Verwendung eines so hergestellten licht
empfindlichen Elements wurde ein Schutzfilm
auf einem Substrat entsprechend Beispiel 12
gebildet und danach einem stromlosen Platierungs
verfahren wie in Beispiel 12 unterworfen.
Während der stromlosen Platierung und den
nachfolgenden Behandlungen zeigte der Schutzfilm
keine Verschlechterung, kein Anschwellen oder
Ablösen und hatte eine zufriedenstellende
Schutzeigenschaft. Als ein Test, wie in Beispiel
12 durchgeführt wurde, um die Widerstandsfähig
keit gegen Löthitze zu bewerten, wies der Schutz
film nach, zufriedenstellend widerstandsfähig
in der praktischen Anwendung zu sein.
Unter Verwendung von Urethanacrylaten und
Epoxyacrylaten, synthetisiert in den Beispielen
12-14, wurden Lösungen von lichtempfindlichen
Harzzusammensetzungen wie in Beispiel 12 ent
sprechend anderen Ausführungsbeispielen eines
anderen Aspekts der vorliegenden Erfindung zube
reitet und lichtempfindliche Elemente wurde
entsprechend anderen Ausführungsbeispielen
noch eines anderen Aspekts der vorliegenden
Erfindung hergestellt. Die in diesen Beispielen
verwendeten Rezepte sind in Tabelle 2 dargestellt.
Die in Tabelle 2 verwendeten Abkürzungen haben
die folgende Bedeutung:
UA-1: Urethanacrylat synthetisiert in Beispiel 12
UA-2: Urethanacrylat synthetisiert in Beispiel 14
EA-1: Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 12
EA-2: Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 13
EA-3: Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 14
BP-1: Methacrylsäure-Mischpolymer verwendet in Beispiel 12
BP-2: Methylmethacrylat/butylmethacrylat/N-phenyl maleimid (Gewichtsverhältnisse 80/15/5) Mischpolymer; Molgewicht ungefähr 1,2 × 10⁵
BP-3: Methylmethacrylat/butylmethacrylat/ tribromphenylacrylat (Gewichtsverhältnisse 50/20/30)Mischpolymer; Molgewicht ca. 1,5 × 10⁵.
UA-2: Urethanacrylat synthetisiert in Beispiel 14
EA-1: Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 12
EA-2: Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 13
EA-3: Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 14
BP-1: Methacrylsäure-Mischpolymer verwendet in Beispiel 12
BP-2: Methylmethacrylat/butylmethacrylat/N-phenyl maleimid (Gewichtsverhältnisse 80/15/5) Mischpolymer; Molgewicht ungefähr 1,2 × 10⁵
BP-3: Methylmethacrylat/butylmethacrylat/ tribromphenylacrylat (Gewichtsverhältnisse 50/20/30)Mischpolymer; Molgewicht ca. 1,5 × 10⁵.
Unter Verwendung der so erhaltenen lichtempfind
lichen Elemente wurde Schutzfilme wie in
Beispiel 12 gebildet und danach einer stromlosen
Platierungsbehandlung und einem Test zur
Bewertung der Widerstandsfähigkeit gegen Löthitze
unterworfen.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt, aus
der zu erkennen ist, daß die lichtempfindlichen
Elemente entsprechend den Beispielen eines
anderen Aspekts der vorliegenden Erfindung
eine zufriedenstellende Schutzfähigkeit sowohl
in stromlosen Platierungsbädern als auch als
Lötmaske zeigten.
Unter Verwendung von 336 g (4 Äquivalente) von
Hexamethylendiiosozyanat, 533 g (4,1 Mol) von
Hydroxyethylmethacrylat, 579 g von Methylethyl
keton und 1,7 g (0,2 Gewichtsprozente auf einer
Festkörperbasis) von Zinkoktylat wurde Urethan
acrylat wie in Beispiel 12 synthetisiert.
Unter Verwendung des unten gezeigten Rezepts
wurde eine Lösung einer lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung wie in Beispiel 12 zube
reitet und ein lichtempfindliches Element
wurde aus dieser Lösung hergestellt.
Urethanacrylat synthetisiert in (1) | |
40 Teile [60% (24 Teile) auf einer Festkörperbasis] | |
Epoxyacrylat synthetisiert in Beispiel 12 | 25 Teile |
lineares Polymer verwendet in Beispiel 12 | 40 Teile |
2-Ethylanthrachinon | 4,5 Teile |
p-Methoxyphenol | 0,1 Teile |
Methylethylketon | 45 Teile |
Unter Verwendung des so erhaltenen lichtempfind
lichen Elements wurde ein Schutzfilm auf einem
Substrat wie in Beispiel 12 hergestellt und
danach einer stromlosen Platierungsbehandlung
und einem Test zur Bewertung der Widerstands
fähigkeit gegen Löthitze unterworfen. Nach der
stromlosen Platierungsbehandlung wurde ein
Teil der Oberfläche des Schutzfilms opak und
ein dieses opaken Bereiches trennte sich vom
Substrat. In dem Test zur Bewertung der Wider
standsfähigkeit gegen Löthitze wurde ein An
schwellen in dem Bereich, in dem das Ablösen
auftrat, beobachtet, aber die anderen Bereiche
blieben unverändert. Wie diese Ergebnisse zeigen,
ist das lichtempfindliche Element nach dem
Vergleichsbeispiel 2 als Lötmaske verwendbar,
aber ungleich dem lichtempfindlichen Element,
entsprechend einem anderen Aspekt der vor
liegenden Erfindung ist es schwierig, diese
Vergleichsprobe als Schutzfilm bei der
chemischen Platierung zu verwenden.
Proben wurden mit dem Verhältnis des novolak
artigen Urethanacrylats, das wie in Tabelle 2
gezeigt, variiert wurde, zubereitet und diese
Proben wurden wie in Beispiel behandelt, gefolgt
von einer stromlosen Platierungsbehandlung und
einem Test zur Bewertung der Widerstandsfähigkeit
gegen Löthitze. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2
dargestellt.
Wie diese Ergebnisse zeigen, werden die gewünschten
Eigenschaften nicht erzielt, wenn die Zugabe
von novolakartigem Urethanacrylat außerhalb
des in der vorliegenden Erfindung spezifizierten
Bereichs liegt.
Polyurethanacrylat (PUA-1) wurde wie in Beispiel 1
erhalten und dieses Polyurethanacrylat (PUA-1)
wurde mit einem linearen Polymer, einem Foto
polymerisationsinitiator und Tetrazol oder
dessen Derivate in den Verhältnissen entsprechend
Tabelle 3 gemischt, wodurch lichtempfindliche
Harzzusammensetzungen entsprechend Ausführungs
beispielen eines anderen Aspekts der vorliegenden
Erfindung hergestellt wurden. Die Zahlenwerte
in Tabelle 3 bezeichnen Gewichtsteile. Unter
Verwendung von Methylethylketon als Lösungs
mittel wurden Harzlösungen (40 bis 60% in
Konzentration) zubereitet. Sie wurden auf
einen Polyurethanterephthalatfilm aufgebracht
und mit Wärme getrocknet, wodurch lichtempfind
liche Elemente entsprechend einem anderen
Aspekt der vorliegenden Erfindung gewonnen
wurden, die eine Schicht der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung in einer Dicke von ungefähr
50 µm hatten.
Durchgangslöcher und Teillöcher wurden in einem
kupferbeschichteten Glasepoxylaminat mit einer
Substratdicke von 1,6 mm und einer Kupfer
foliendicke von 18 µm gebildet. Danach wurde
das Laminat einer katalytischen Behandlung
zur stromlosen Platierung unterworfen und darauf
hin wurde ein Schaltungsmuster gebildet.
Die zuvor gewonnenen lichtempfindlichen trockenen
Filme wurden mit einem Laminator auf diese
Substrate auflaminiert. Nach der Laminierung
wurden die lichtempfindlichen Elemente durch
eine Negativmaske belichtet, bei 80°C für
10 Minuten aufgeheizt und danach mit
1,1,1-Trichlorethan (20°C × 80 Sekunden)
sprühentwickelt. Nach der Entwicklung wurden
die Elemente bei 80°C für 5 Minuten ge
trocknet und mit einer Quecksilberdampf
hochdrucklampe (80 W/cm) mit einem Energie
niveau von 2,5 J/cm² beleuchtet. Danach wurden
die Elemente bei 150°C für 30 Minuten
wärmebehandelt, um die Schutzfilme zu bilden.
An der nächsten Stelle wurden die Substrate
für 15, 20 oder 25 Stunden in ein stromloses
Platierungsbad (pH 12,5 (20°C); 60°C) einge
taucht, um die Durchgangslöcher mit einer
Verkupferung bis zu einer Dicke von ca. 23, 30
oder 38 µm zu füllen. Nach der stromlosen
Platierungsbehandlung wurden die Substrate
sorgfältig mit Wasser gewaschen, bei 80°C
für 10 Minuten getrocknet und weiter bei
130°C für 60 Minuten wärmebehandelt. Während
der stromlosen Platierung und den nachfolgenden
Behandlungen zeigten die Schutzfilme keine
Verschlechterung, kein Anquellen oder Ablösen
und zeigten eine zufriedenstellende Widerstands
fähigkeit.
Die Substrate wurden ebenfalls einem Test
zur Bewertung ihrer Widerstandsfähigkeit
gegen die Löthitze durch Eintauchen in ein
Lötbad (255-265°C) für 10 Sekunden unter
worfen. Die Schutzfilme blieben stabil und
Rißbildung oder Ablösen konnte nicht festge
stellt werden. Dies zeigt, daß die getesteten
lichtempfindlichen Elemente zufriedenstellend
als Lötmasken in praktischen Anwendungen dehnen
können.
Die Ergebnisse der Beispiele 30-39 sind in
Tabelle 4 gezeigt.
Unter Verwendung von 336 g (4 Äquivalente)
von Hexamethylendiisocyanat und 533 g (4,1 Mol)
von Hydroxyethylmethacrylat wurde Urethan
acrylat wie in Beispiel 1 synthetisch herge
stellt. Mit dem unten gezeigten Rezept wurde
eine Lösung einer lichtempfindlichen Zusammen
setzung wie in den Beispielen zubereitet und
ein lichtempfindlicher trockner Film wurde
aus dieser Lösung hergestellt.
Die Mischungsverhältnisse der Zutaten waren
wie folgt:
Urethanacrylat | |
55 Gewichtsteile | |
PMBMA | 40 Gewichtsteile |
M. K. (Michler′s Keton) | 0,5 Gewichtsteile |
B. P. (Benzophenon) | 4,5 Gewichtsteile |
Unter Verwendung des in Tabelle 3 gezeigten
Rezepts wurde eine lichtempfindliche Harz
zusammensetzung wie in den Beispielen zube
reitet und ein lichtempfindliches Element
wurde aus dieser Harzzusammensetzung hergestellt.
Unter Verwendung der so erhaltenen lichtempfind
lichen Elemente wurden Schutzfilme auf einen
Substrat wie in den Beispielen gebildet und
danach einer stromlosen Platierungsbehandlung
und einem Test zur Bewertung der Widerstands
fähigkeit gegen Löthitze unterzogen. Nach
der stromlosen Platierungsbehandlung wurde
ein Teil der Oberfläche des das in Vergleichs
beispiel 5 zubereitete lichtempfindliche Element
verwendenden Schutzfilms opak und ein Teil
dieses opaken Bereichs trennte sich vom Substrat.
In dem Test zur Bewertung der Widerstands
fähigkeit gegen Löthitze wurde ein Anquellen
in dem Bereich, in dem ein Ablösen auftrat,
beobachtet, aber die anderen Bereiche ver
blieben unverändert. Wie diese Ergebnisse zeigen,
war die in Vergleichsbeispiel 5 zubereitete
lichtempfindliche Harzzusammensetzung als
Lötmaske verwendbar, aber zum Unterschied zur
lichtempfindlichen Harzzusammensetzung nach der
vorliegenden Erfindung war es schwierig, diese
Vergleichsprobe als Schutzfilm bei der chemischen
Platierung zu verwenden.
Die das lichtempfindliche Element des Vergleichs
beispiels 6 verwendende Probe war zufrieden
stellend bei einer 15-stündigen stromlosen
Verkupferung. Allerdings nach einer 20-stündi
gen stromlosen Verkupferung wurde gefunden,
daß die Platierungslösung auf die verdrahteten
Leiter unter das Abdeckmittel in den Bereichen
um die Durchgangslöcher übergegriffen hatte.
Ein ähnliches Phänomen wurde beobachtet, als
die stromlose Verkupferung für 25 Stunden
durchgeführt wurde.
Die Probe zeigte gute Ergebnisse im Test zur
Bewertung der Widerstandsfähigkeit der Löt
hitze unabhängig davon, ob es einer 15-
stündigen oder 20-stündigen Verkupferung
unterworfen wurde. Allerdings nach einer
25-stündigen Verkupferung zeigte die ge
testete Probe ein Ablösen der Abdeckschicht
in den Bereichen, in denen ein Übergreifen
der Platierungslösung aufgetreten war.
Polyurethanacrylat (PUA-1) wurde wie in
Beispiel 1 erhalten und dieses Polyurethan
acrylat (PUA-1) wurde mit einem linearen
Polymer, einem Fotopolymerisationsinitiator
und einer heterozyklischen Stickstoffver
bindung in den in Tabelle 5 gezeigten Ver
hältnissen gemischt, wodurch lichtempfind
liche Harzzusammensetzungen entsprechend
Ausführungsbeispielen nach einem anderen Aspekt
der vorliegenden Erfindung hergestellt wurden.
Die Zahlenwerte in Tabelle 5 bezeichnen
Gewichtsteile. Unter Verwendung von Methyl
ethylketon als Lösungsmittel wurden Harz
lösungen (40-60% Konzentration) zubereitet.
Sie wurden auf ein Polyethylenterephthalatfilm
aufgebracht und mit Wärme getrocknet, um
lichtempfindliche Elemente entsprechend einem
anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung
mit einer Schicht der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzung von ungefähr 50 µm
zu erhalten.
Die in den Beispielen 40-52 hergestellten
lichtempfindlichen Elemente wurden Eigen
schaftsbewertungstests unterworfen, die die
gleichen wie in den Beispielen 30-39 waren.
Während der stromlosen Platierung und die
nachfolgenden Behandlungen zeigten die Schutz
filme keine Verschlechterung, kein Anquellen
oder Ablösen und hatten eine zufriedenstellende
Widerstandsfähigkeit. Die Proben wurden ebenfalls
einem Test zur Bewertung ihrer Widerstandsfähigkeit
gegen Löthitze unterworfen. Die Schutzfilme
verblieben stabil und eine Rißbildung oder
ein Ablösen konnte nicht festgestellt werden.
Dies zeigt, daß die getesteten lichtempfind
lichen Elemente zufriedenstellend als Lötmasken
in praktischer Anwendung dienen können.
Die Ergebnisse der Beispiele 40-52 sind in
Tabelle 6 dargestellt.
Unter Verwendung des Rezepts nach Tabelle 5
wurde eine lichtempfindliche Zusammensetzung
wie in den Beispielen erhalten und ein licht
empfindliches Element wurde von dieser Harz
zusammensetzung hergestellt.
Unter Verwendung der so erhaltenen lichtempfind
lichen Elemente wurden Schutzfilme auf einem
Substrat wie in den Beispielen gebildet und
danach einer stromlosen Platierungsbehandlung
und einem Test zur Bewertung der Widerstands
fähigkeit gegen Löthitze unterworfen. Nach der
stromlosen Platierungsbehandlung wurde ein
Teil der Oberfläche des dem in dem Vergleichs
beispiel 5 zubereiteten lichtempfindlichen
trockenen Film verwendenden Schutzfilms opak
und ein Teil dieses opaken Bereiches trennte
sich vom Substrat. In dem zur Feststellung
der Widerstandsfähigkeit gegen Löthitze durchge
führten Test wurde ein Anquellen in den Bereichen
beobachtet, in denen ein Ablösen auftrat, aber
die anderen Bereiche verblieben unverändert.
Wie diese Ergebnisse zeigen, war die im
Vergleichsbeispiel 5 zubereitete lichtempfind
liche Harzzusammensetzung als Lötmaske ver
wendbar, aber im Gegensatz zu der lichtempfind
lichen Harzzusammensetzung entsprechend dem
anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung war
es schwierig, diese Vergleichsprobe als
Schutzfilm bei der chemischen Platierung
zu verwenden.
Die den lichtempfindlichen trockenen Film
des Vergleichsbeispiels 7 verwendende Probe
ließ zufriedenstellend eine 15-stündige
Verkupferung zu. Allerdings wurde gefunden,
daß nach einer 20-stündigen stromlosen Ver
kupferung die Platierungslösung auf die
Leiter unter der Abdeckschicht in den Bereichen
um die Durchgangslöcher herum übergriff.
Ein ähnliches Phänomen wurde beobachtet, als
die stromlose Verkupferung für 25 Stunden
durchgeführt wurde.
Die Probe zeigte gute Ergebnisse in dem Test
zur Bewertung der Widerstandsfähigkeit gegen
Löthitze, unabhängig davon, ob es einer
15-stündigen oder einer 20-stündigen Platierung
unterworfen wurde. Allerdings nach einer
25-stündigen Platierung zeigte die getestete
Probe ein Ablösen der Abdeckschicht in den
Bereichen, in denen ein Übergreifen der
Platierungslösung aufgetreten war.
Die lichtempfindliche Harzzusammensetzung
der vorliegenden Erfindung weist eine Wärme
beständigkeit und eine Widerstandsfähigkeit
gegen Chemikalien auf und ist insbesondere
für die Verwendung der Bildung eines Schutz
films für die chemische Platierung geeignet.
Diese Zusammensetzung ist ebenfalls anwendbar
für die Herstellung von gedruckten Schaltungs
platinen mittels des Additivverfahrens.
Claims (5)
1. Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, enthal
tend:
- (a) 20-80 Gewichtsteile novolakartiges Poly urethan-Poly(meth)acrylat mit mindestens zwei (Meth)acryloylgruppen und mindestens zwei Ure thanbindungen in einem Molekül, das durch Reak tion eines (Meth)acrylat-monoesters eines zwei wertigen Alkohols mit einem multivalenten aroma tischen Isocyanat gewonnen wird, das durch die allgemeine Formel dargestellt ist: wobei k 1 oder 2, l 1 oder 2, m 1 oder 2 ist, P1-(5-k) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methyl gruppe, Q1-(4-) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R1-(5-m) ist ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe und n ist eine ganze Zahl von 0-20;
- (b) 20 bis 80 Gewichtsteile einer linearen hoch molekularen Verbindung auf Basis eines Vinyl mischpolymerisats mit Molekulargewicht 10.000 bis 500.000; und
- (c) 1 bis 10 Gewichtsteile Polymerisations initiator, der freie Radikale bei Belichtung erzeugt.
2. Lichtempfindliche Harzzusammensetzung nach An
spruch 1, weiterhin enthaltend:
- (aa) 5-45 Gewichtsteile eines biphenolartigen Epoxy(meth)acrylats; wobei die Summe aus (a) + (aa) und (b) 100 Ge wichtsteile bilden.
3. Lichtempfindliche Harzzusammensetzung nach An
spruch 1, weiterhin enthaltend:
- (d1) mindestens ein Tetrazol oder dessen Deriva te.
4. Lichtempfindliche Harzzusammensetzung nach An
spruch 1, weiterhin enthaltend:
- (d2) eine heterozyklische Stickstoffverbindung, die durch die allgemeine Formel dargestellt ist: wobei T eine orthoaromatische Kohlenwasserstoff gruppe ist; X ist CH₂, NCl, NY, S, O oder Se; Z ist N oder C-Y; Y ist H, NH₂, eine Alkylgruppe mit 1-4 Kohlen stoffatomen oder ein Halogen.
5. Lichtempfindliches Element mit einer auf einem
Träger aufgebrachten Schicht einer lichtempfind
lichen Harzzusammensetzung, wobei die Schicht
aus einer lichtempfindlichen Harzzusammensetzung
nach mindestens einem der Ansprüche von 1 bis 4
zusammengesetzt ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17147687 | 1987-07-09 | ||
PCT/JP1988/000669 WO1989000586A1 (en) | 1987-07-09 | 1988-07-05 | Photosensitive resin composition and photosensitive element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3891340C2 true DE3891340C2 (de) | 1996-11-28 |
Family
ID=15923811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3891340A Expired - Fee Related DE3891340C2 (de) | 1987-07-09 | 1988-07-05 | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und lichtempfindliches Element |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4988605A (de) |
JP (1) | JPH0820731B2 (de) |
KR (1) | KR920009904B1 (de) |
DE (1) | DE3891340C2 (de) |
GB (1) | GB2216895B (de) |
WO (1) | WO1989000586A1 (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5100762A (en) * | 1989-07-10 | 1992-03-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Radiation-sensitive polymer and radiation-sensitive composition containing the same |
JPH03160058A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-10 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 架橋硬化型樹脂組成物 |
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- 1988-07-05 KR KR1019890700403A patent/KR920009904B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-07-05 US US07/329,893 patent/US4988605A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-05 WO PCT/JP1988/000669 patent/WO1989000586A1/ja active Application Filing
- 1988-07-05 JP JP63168452A patent/JPH0820731B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-05 DE DE3891340A patent/DE3891340C2/de not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |