NL7415671A - Werkwijze tot het vervaardigen van een fotolak en daarmee vervaardigde bekleding en patronen. - Google Patents
Werkwijze tot het vervaardigen van een fotolak en daarmee vervaardigde bekleding en patronen.Info
- Publication number
- NL7415671A NL7415671A NL7415671A NL7415671A NL7415671A NL 7415671 A NL7415671 A NL 7415671A NL 7415671 A NL7415671 A NL 7415671A NL 7415671 A NL7415671 A NL 7415671A NL 7415671 A NL7415671 A NL 7415671A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- manufacturing
- patterns
- coating
- photo lacquer
- lacquer
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/026—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from the reaction products of polyepoxides and unsaturated monocarboxylic acids, their anhydrides, halogenides or esters with low molecular weight
- C08F299/028—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from the reaction products of polyepoxides and unsaturated monocarboxylic acids, their anhydrides, halogenides or esters with low molecular weight photopolymerisable compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5033—Amines aromatic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US42687773A | 1973-12-20 | 1973-12-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL7415671A true NL7415671A (nl) | 1975-06-24 |
Family
ID=23692577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL7415671A NL7415671A (nl) | 1973-12-20 | 1974-12-02 | Werkwijze tot het vervaardigen van een fotolak en daarmee vervaardigde bekleding en patronen. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5234935B2 (nl) |
| BR (1) | BR7410702D0 (nl) |
| CA (1) | CA1048328A (nl) |
| CH (1) | CH613287A5 (nl) |
| ES (1) | ES433118A1 (nl) |
| FR (1) | FR2255629B1 (nl) |
| GB (1) | GB1448643A (nl) |
| IT (1) | IT1030846B (nl) |
| NL (1) | NL7415671A (nl) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4169732A (en) * | 1978-01-09 | 1979-10-02 | International Business Machines Corporation | Photosensitive coating composition and use thereof |
| NO159729C (no) * | 1978-11-01 | 1989-02-01 | Coates Brothers & Co | Fremgangsmaate for fremstilling av et moenster av loddemetall paa et lag elektrisk ledende metall baaret av et ikke-ledende underlag. |
| JPS5622364A (en) | 1979-08-01 | 1981-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Coating composition |
| US4390615A (en) | 1979-11-05 | 1983-06-28 | Courtney Robert W | Coating compositions |
| DE3374413D1 (en) * | 1982-06-24 | 1987-12-17 | Ciba Geigy Ag | Photopolymerisable coating, photopolymerisable material and its use |
| JPS61125019A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-12 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 集積回路製造方法及びその方法に使用する光導電性フオトレジスト複合体 |
| GB8715436D0 (en) * | 1987-07-01 | 1987-08-05 | Ciba Geigy Ag | Substituted anthraquinones |
| US4933398A (en) * | 1987-07-01 | 1990-06-12 | Ciba-Geigy Corporation | Photosensitive epoxy resins and use thereof |
| JPH0491104A (ja) * | 1990-08-06 | 1992-03-24 | Ootex Kk | 光重合反応開始剤 |
-
1974
- 1974-10-18 FR FR7439740A patent/FR2255629B1/fr not_active Expired
- 1974-11-20 GB GB5034474A patent/GB1448643A/en not_active Expired
- 1974-11-27 CA CA214897A patent/CA1048328A/en not_active Expired
- 1974-11-29 IT IT2998874A patent/IT1030846B/it active
- 1974-12-02 NL NL7415671A patent/NL7415671A/nl not_active Application Discontinuation
- 1974-12-17 CH CH1680474A patent/CH613287A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-12-19 ES ES433118A patent/ES433118A1/es not_active Expired
- 1974-12-20 BR BR1070274A patent/BR7410702D0/pt unknown
- 1974-12-20 JP JP14582574A patent/JPS5234935B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2255629A1 (nl) | 1975-07-18 |
| CA1048328A (en) | 1979-02-13 |
| GB1448643A (en) | 1976-09-08 |
| ES433118A1 (es) | 1976-11-16 |
| IT1030846B (it) | 1979-04-10 |
| JPS5234935B2 (nl) | 1977-09-06 |
| JPS5097324A (nl) | 1975-08-02 |
| FR2255629B1 (nl) | 1976-10-22 |
| BR7410702D0 (pt) | 1975-09-02 |
| DE2459179A1 (de) | 1975-06-26 |
| DE2459179B2 (de) | 1977-04-21 |
| CH613287A5 (en) | 1979-09-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL7614031A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekle- ding met een metallische deklaag. | |
| NL150936B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een varistor van het dikke-film-type. | |
| NL168253C (nl) | Werkwijze voor het bekleden van een oppervlak. | |
| NL7409966A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een filmvormige deklaag op een voorwerp en het aldus verkregen voorwerp. | |
| NL176815C (nl) | Van een bekledingslaag voorziene dragerfoelie alsmede ermee vervaardigde magnetische registratieband. | |
| NL165054C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van met een tegen maag- sap resistente laklaag beklede capsules. | |
| NL184263B (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van een reliefvormige samengestelde bekleding. | |
| BE820802A (nl) | Elektrolytoplossing voor het elektrolytisch neerslaan van chroom op een substraat en werkwijze daarvoor | |
| NL7412383A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een in- richting met een geleiderpatroon. | |
| NL7416295A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een zachte wikkel. | |
| NL180707C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een positieve fotoresistlaag. | |
| NL7403665A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van riemschijven met een aantal groeven. | |
| NL160972C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een gesinterde tantaalanode. | |
| NL182545C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een netwerk. | |
| NL7409658A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een velg met een schuine schouder. | |
| NL7512535A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van draad met een klein doorsnede-oppervlak. | |
| NL7415671A (nl) | Werkwijze tot het vervaardigen van een fotolak en daarmee vervaardigde bekleding en patronen. | |
| NL164223C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een metalen ladder. | |
| NL173386C (nl) | Werkwijze voor het vormen van een metaaloxydebekleding op een ondergrond. | |
| NL7407985A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een patroon en patroon vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL163990C (nl) | Werkwijze voor het vormen van een decoratieve bekleding met gegolfd oppervlak. | |
| NL7506257A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een samenge- steld voorwerp. | |
| NL7317143A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een magneet- kop en magneetkop vervaardigd met behulp van de werkwijze. | |
| NL157774B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een patroon van dunne-film ketens. | |
| NL7407256A (nl) | Werkwijze voor het bekleden van een substraat. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| BV | The patent application has lapsed |