DE2455048A1 - Verfahren zur herstellung von oberflaechenueberzuegen, sowie mittels desselben erhaltene ueberzuege und ueberzogene werkstuecke - Google Patents
Verfahren zur herstellung von oberflaechenueberzuegen, sowie mittels desselben erhaltene ueberzuege und ueberzogene werkstueckeInfo
- Publication number
- DE2455048A1 DE2455048A1 DE19742455048 DE2455048A DE2455048A1 DE 2455048 A1 DE2455048 A1 DE 2455048A1 DE 19742455048 DE19742455048 DE 19742455048 DE 2455048 A DE2455048 A DE 2455048A DE 2455048 A1 DE2455048 A1 DE 2455048A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- oxide
- niobium
- aluminum
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
- H01C17/075—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques
- H01C17/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques by chemical deposition
- H01C17/16—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques by chemical deposition using electric current
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
- Y10T428/12549—Adjacent to each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12583—Component contains compound of adjacent metal
- Y10T428/1259—Oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12597—Noncrystalline silica or noncrystalline plural-oxide component [e.g., glass, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12611—Oxide-containing component
- Y10T428/12618—Plural oxides
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
AGENGE NATIONALE DE VALORISATION DE LA RECHERCHE (ANVAR)
13, rue Madeleine Michelis, F-92522 Neuilly-sur-Seine
Verfahren zur Herstellung von Oberflächenüberzügen, sowie
mittels desselben erhaltene Überzüge und überzogene Werkstücke ·
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung
von oberflächlichen Überzügen, die mit diesem Verfahren hergestellten Überzüge selbst und die mit derartigen
Überzügen versehenen Werkstücken oder Substrate.
Bekanntlich müssen auf zahlreichen und äusserst
vielseitigen Anwendungsgebieten Oberflächenüberzüge hergestellt werden, insbesondere an metallischen Werkstücken oder- Substraten.
Es sei z.B. der Pail der Herstellung von Oberflächenüberzügen zum Schutz derartiger Substrate gegen die Korrosion oder
auf einem ganz anderen Gebiet die Herstellung von Widerstände bildenden Gebilden in dünnen Schichten erwähnt.
509846/0921
~2" 2455Ö48 l
Ähnliche Probleme können jedoch auch auf verschiedenen
Anwendungsgebieten auftreten. So kann z.B» in dem J'all des Schutzes der Substrate, z.B. von Niobium gegen die
Korrosion daran erinnert werden, daß die am häufigsten benutzten
Techniken zur Erzielung dieses Schutzes im wesentlichen t darin bestehen, auf diese Substrate Verbindungen zwischen Metallen oder dgl. aufzubringen und diese Ablagerungen z.B. durch
Wärmebehandlungen mit hohen Temperaturen in Schutzüberzüge der gewünschten Art umzuwandeln. Derartige Wärmebehandlungen sind
jedoch häufig für die mechanischen Eigenschaften der zu schützen-·
den Werkstücke oder Substrate schädlich. j
Außerdem besitzen, was wesentlich ist, die mit J den bekannten Verfahren hergestellten Schutzüberzüge nicht immer
den Isolationsgrad, welcher auf zahlreichen Anwendungsgebieten der betreffenden Werkstücke wünschenswert sein kann. Ein Isola~
tionsfehler, insbesondere durch Grübchenbildung, macht diesen Schutz leicht wirkungslos, und zwar in nicht umkehrbarer Weise.
Auf dem anderen beispielshalber erwähnten Gebiet, nämlich dem Gebiet der Herstellung von dünnen, Widerstän-'
de bildenden Schichten, z.B. auf der Basis von reinem Tantal, j nitriertem Tantal oder mit gelöstem Sauerstoff gesättigtem Tan- I
tal, Tantal-Aluminium-Legierungen oder Tantal-Silizium-Legie- j
rungen usw., ist bereits vorgeschlagen worden, eine anodische j Oxydation dieser Materialien zu benutzen, um die Widerstandswerte
dieser Widerstände bildenden Schichten genau einzustellen· Die Anwendung dieser Technik, sowie übrigens anderer bekannter
Techniken zur Herstellung derartiger, Widerstände bildender
Schichten, wirft jedoch noch ein wesentliches Problem auf, für welches bisher noch keine befriedigende Lösung gefunden werden ·
konnte. Dieses Problem betrifft die Veränderungen der Widerstands
schicht, welche im Laufe der Zeit unter der Wirkung des äusseren Mittels auftreten, insbesondere bei hohen Temperaturen,
und welche eine Veränderung des elektrischen Widerstands zur I'olge haben, insbesondere v/eil sich die Zusammensetzung der
iYiderstandsschicht ändert, oder-weil diese eine Korrosion erfährt.
So kann insbesondere eine Lösung des Sauerstoffs oder
des atmosphärischen Stickstoffs in der Widerstanässchicht während
der Benutzung auftreten, oder auch eine Zunahme der Dicke des an der Oberfläche der Widerstendsschicht vorhandenen Oxyd-
509846/0921
-5 "-Ζ 24 550A 8
films und zwar wegen der großenAufnähmefähigkeit des Tantals
für Sauerstoff. In allen diesen Fällen tritt eine nicht umkehrbare
Änderung des ' ""Widerstandswerts auf.
Man stellt also fest, daß allen diesen Verfahren gemeinsam ist, daß sie nicht eine befriedigende'Beherrschung
und zeitliche Aufrechterhaltung der Zusammensetzung derauf den behandelten Substraten gebildeten Oberflächenschichten
ermöglichen.
Die Erfindung hat daher ein Verfahren zum Gegenstand, welches die Nachteile der früheren Verfahren zu vermeiden
,und insbesondere die Bildung der Überzüge unter be sonder sj
einfachen Bedingungen ermöglicht, bei welchen außerdem nur eine j Behandlung bei wenig hohen Temperaturen vorgenommen wird, welche
mit der Aufrechterhaltung der mechanischen Eigenschaften
des Substrats durchaus verträglich sind. .' ' ....
Die Erfindung bezweckt insbesondere auf dem
Gebiet des Korrosionsschutzes die Herstellung von widerstandsfähigen
und hochisoiierenden Überzügen· Im besonderen bezweckt sie ausserdem auf dem Gebiet des Korrosionsschutzes die Ermöglichung
der Regenerierung von zerstörten Schlitzüberzügen oder auch die Verbesserung aer Eigenschaften der Schutzüberzüge
welche durch andere Verfahren hergestellt werden können".
Ein weiterer Zweck: der Erfindung betrifft die
genaue Beherrschung der Bedingungen, unter welchen dieser Über-*
zug gebildet wird, wobei diese Beherrschung insbesondere auf
dem Gebiet.der Widerstände bildenden Gebilde in dünnen Schichten
benutzt werden kann, um den ohmschen Widerstand derselben genau
einzustellen·
Die Erfindung nutzt die Entdeckung aus, daß die anodische. .Oxydation diese Zwecke zu erreichen gestattet, wenn
sie, auf Substrate angewandt wird, welche Vereinigungen ν on gemäß "bestimmten Bedingungen ausgewählten Elementen in der ITähe
der Oberflächen der behandelten Werkstücke oder Substrate enthalten.
Das erfindungsgemäße Verfahren besteht im we- ■
sentlichen darin, einer anodischen Oxidationsbehandlung ein Ί Substrat zu unterwerfen, welches wenigstens in seinen unmittelbar
unter seiner Oberfläche liegenden Teilen wenigstens ein erstes, aus iTiöbiura, Chrom, Molybdän, Wolfram, Titan und Vana-
509846/0921
j dium gewähltes Element oder eine ein derartiges erstes Element
enthaltende Verbindung, und wenigstens ein zv/eites, von dem ersten verschiedenes Element enthält, welches insbesondere aus
j Silizium, Aluminium, Gallium, Tantal, Uran und Molybdän ausge-I
wählt ist, und zwar entweder in metallischem Zustand, wenn es ; selbst eine Halbleiterverbindung bildet oder durch Oxydation
eine Halbleiterverbindung oder auch eine isolierende Verbindung bilden kann,.oder in Verbindung mit wenigstens einem anderen
Element zur Bildung einer Halbleiterverbindung oder auch isolierenden Verbindung, wobei dieses zweite Element wenigstens
teilweise bündig mit der Oberfläche des Substrats abschneidet· Die anodische Oxydation wird so vorgenommen, daß v/enigstens die
teilweise Oxydation des ersten Elements und außerdem gegebenenfalls
die Oxydation des zweiten Elements gewährleistet wird.
Wie bereits oben ausgeführt, muß sich das
erste Element in einem Zustand befinden, in welchem es leitend
ist. Es kann sich daher in dem Werkstück entweder in metallischem Zustand oder in Form einer Legierung oder einer Verbindung
zwischen Metallen mit wenigstens einem anderen Element,
ζ·Β. Aluminium, befinden· Es ist wichtig, daß es sich vor der
Anwendung des Oxydationsverfahrens wenigstens teilweise in einem metallischen leitenden Zustand befindet. j
Für das zweite Element kann Silizium, Alumini-j um, Tantal, Uran oder Molybdän in metallischem Zustand benutzt
werden.
Diese Elemente können, ebenso wie das Gallium, auch in Form von halbleitenden oder auch isolierenden Verbindungen benutzt werden.
Als Beispiel seien Siliziumnitrid Sijfy, Aluminiumnitrid
AlN, oder die Suizide von Molybdän, Uran, Tantal oder Aluminium angeführt.. Es kann auch Gallium im Zustand von
Galliumphosphid GaP oder Galliumarsenid GaAs usw. benutzt werden.
Es ist jedoch wohlverstanden, daß sich das zweite Element auch ursprünglich in einer anderen und sogar
metallischen Form befinden kann, wie das Aluminium, vorausgesetzt, daß es dann in einem ersten Arbeitsschritt der anodischen
Behandlung ein halbleitendes oder isolierendes Oxyd bilden karm· Selbstverständlich muß^ie Dicke der wenig-
50984 6/0921
stens teilweise bündig mit der Oberfläche des Substrats abschneidenden
Schichten des zweiten. Elements umso geringer sein, je geringer die !leitfähigkeit der benutzten-Halbleiterverbindung
ist, welches dieses zweite Element enthält oder von diesem zweiten Element aus während des Vorgangs der anodischen
Oxydation gebildet wird, so daß der eigentliche Vorgang der anodischen Oxydation möglich wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat verschiedene
Ausführungsmöglichkeiten, welche insbesondere von dem Material oder Substrat abhängen, welches die Masse der Werkstücke bildet, auf welche es angewandt wird·
So können die beiden'einander zugeordneten Elemente
unmittelbar von den Elementen einer die Masse des Werkstücks bildenden Legierung gebildet werden, welche dann selbst
der Behandlung zur an.6disch.en Oxydation ausgesetzt wird. Die
beiden Elemente können auch die Form einer Legierung in einer oberflächlichen Auflage haben, welche in einer einzigen Schicht
auf einem Substrat gebildet ist, welches dann aus einem beliebigen
Material bestehen kann, i
Es ist jedoch besonders zweckmässig, daß sich j die beiden Elemente in verschiedenen Schichten befinden. Das j
erste, unter Niobium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Titan oder Vana4 dium ausgewählte Element kann sich dann in dem Substrat selbst
befinden, gegebenenfalls in Legierung mit anderen Elementen, oder eine untere Schicht einer auf einem beliebigen Material
erzeugten oberflächlichen Auflage bilden. Hierauf wird auf diesem
Substrat oder auf dieser unteren Schicht eine obere Schicht aus dem zweiten, unter Silizium, Aluminium, Gallium, Wolfram,
Uran und Molybdän ausgewählten Element gebildet, und das Ganze wird der anodischen Oxydation unterworfen, bis die Oxydation
des zweiten Elements und die wenigstens teilweise Oxydation des ersten Elements erfolgt ist. Das zweite Element kann sich jedoch
gegebenenfalls bereits vor der Behandlung zur anodischen
Oxydation in der oberen Schicht in Oxydform befinden.
Gemäß einer bevorzugten Ausübungsform des Ver-;
f ahrens v/erden nacheinander auf das Werkstück eine durch das erste Element gebildete untere Schicht und eine durch das zwei-·
te Element gebildete obere Schicht aufgebracht. Dies bedeutet,
'daß die beiden Elemente die Hauptbestandteile der beiden Schich-
-ten sind,. .daß._üla_4.ed.o^h..ander..c. Elemente...oder andere _yerbin-__ I
509846/0921
düngen im Zustand von Spuren oder in so kleinen Anteilen enthalten
können, daß der Vorgang der Bildung der Überzüge nicht behindert wird·
Die das zweite Element enthaltende obere/Schicht ist vorzugsweise kontinuierlich. Ihre Dicke kann z.B. zwischen
70 und 15ΟΟ S liegen. Dieser Wert kann auch erforderlichenfalls
größer sein. Die Dicke der Schicht des ersten Elements ist normalerweise
größer als 200 % und beträgt vorzugsweise 500 S.
Das erfindungsgemäße Verfahren führt in diesen
. verschiedenen Ausübungsformen nach der anodischen Oxydation
j zu einem Überzug, in welchem man eine von dem Oxyd des ersten :" Elements gebildete hauptsächliche Oberflächenschicht unter-
! scheiden kann. Ih dem bevorzugten Fall, in welchem .der anodi- : sehen Oxydation eine obere Schicht des zweiten Elements unter-
: worfen wird, welche eine untere Schicht oder ein Substrat des
; ersten Elements überzieht, erhält man insbesondere einen Über— j
ι zug, in welchem man eine Oberflächenschicht unterscheiden kann, i
! welche hauptsächlich durch das Oxyd des ersten Elements gebil- !
j det und von dem mehr oder weniger oxydierten Rest des ersten j Elements durch eine hauptsächlich durch das Oxyd des zweiten j
Elements gebildete Zwischenschicht getrennt ist. j
Die Erfindung beruht nämlich auf der Feststellung
daß gewisse Elemente, wie niobium, Chrom, Molybdän und Wolfram, j wenn sie einer Behandlung zur anodischen Oxydation unterworfen
v/erden, die Eigenschaft besitzen, eine weite Strecke zur Bildung des Oxyds an der Oberfläche zu wandern. Man kann so die
Bildung des erfindungsgemäßen Überzugs durch die Wanderung dieser Elemente durch Oxydschichten von verschiedenen geeignet gewählten
Elementen erklären, welche insbesondere Silizium, Aluminium,
Gallium, Tantal, Uran und Molybdän sind, wobei diese Schichten gegebenenfalls durch Oxydation während eines ersten
Arbeitsschritts der anodischen Behandlung gebildet werden. Es ist aber natürlich wohlverstanden, daß dieser Versuch zur Erklärung
der Vorgänge keinesfalls als eine Einschränkung der Tragweite der Erfindung ausgelegt werden kann.
Die Erfindung betrifft auch außer dem obigen
Verfahren die erhaltenen Überzüge sowie die derartige Überzüge
aufweisenden Werkstücke. Sie hat insbesondere einen Überzug, insbesondere einen korrosionsfesten Überzug, zum Gegenstand,
5098 4 6/0921
welcher dadurch gekennzeichnet ist, daß er eine Oberflächenschicht
aufweist, welche hauptsächlich durch ein Oxyd gebildet
wird, welches aus den Oxyden von Niobium Nb0Oc, von Chrom Cr^OW von Molybdän MoO, oder von Wolfram WO* ausgewählt ist, wobei j diese Schicht durch eine Zwischenschicht, welche hauptsächlich [ durch wenigstens ein verschiedenes Oxyd, welches insbesondere 1 aus den Oxyden von Silizium SiO2, von Aluminium AIpO^, von Tan- \ tal Ta2Oc, von Uran TTCw oder von Molybdän MoO, ausgewählt ist, ί j oder ein Nitrid von Silizium Si,N^ oder von Aluminium AlN, oder I ein Silizid von Mo, V, Ta oder Al, oder ein Phosphid oder Arse- j nid von Gallium (GaP oder GaAS) gebildet wird, von einer unteren , Schicht oder einem Substrat getrennt ist, v/elches wenigstens das dem Oxyd der Oberflächenschicht entsprechende Element enthält, I j nämlich Niobium, Chrom, Wolfram- oder Molybdän, welches seiner- ί seits wenigstens teilweise in unmittelbarer ITähe der Zwischen- i schicht oxydiert ist· ;
wird, welches aus den Oxyden von Niobium Nb0Oc, von Chrom Cr^OW von Molybdän MoO, oder von Wolfram WO* ausgewählt ist, wobei j diese Schicht durch eine Zwischenschicht, welche hauptsächlich [ durch wenigstens ein verschiedenes Oxyd, welches insbesondere 1 aus den Oxyden von Silizium SiO2, von Aluminium AIpO^, von Tan- \ tal Ta2Oc, von Uran TTCw oder von Molybdän MoO, ausgewählt ist, ί j oder ein Nitrid von Silizium Si,N^ oder von Aluminium AlN, oder I ein Silizid von Mo, V, Ta oder Al, oder ein Phosphid oder Arse- j nid von Gallium (GaP oder GaAS) gebildet wird, von einer unteren , Schicht oder einem Substrat getrennt ist, v/elches wenigstens das dem Oxyd der Oberflächenschicht entsprechende Element enthält, I j nämlich Niobium, Chrom, Wolfram- oder Molybdän, welches seiner- ί seits wenigstens teilweise in unmittelbarer ITähe der Zwischen- i schicht oxydiert ist· ;
j Die Dicke der durch das Oxyd des ersten EIe- ;
\ ments gebildeten Oberflächenschicht- hängt natürlich von den Be- ;
j dingungen ab, unter welchen die anodische Oxydation vorgenommen:
'' wurde, insbesondere von ihrer Dauer und. der angelegten Spannung·
Als keineswegs beschränkendes Beispiel sei angegeben, daß die
Dicke dieser Schicht zwischen etwa 100 & und etwa 5000 Ä oder . auch noch mehr betragen kann. · '
Dicke dieser Schicht zwischen etwa 100 & und etwa 5000 Ä oder . auch noch mehr betragen kann. · '
Die Erfindung betrifft insbesondere den Korrosionsschutz
von Werkstücken, welche in ihrer Masse aus dem
das erste Element bildenden Metall- bestehen, wie Niobium, Chrom, V/o 1fram oder Molybdän (jedoch unter Ausschluß von Titan und Vanadium, die zur Bildung von oberflächlichen Oxyden mit nur geringem Schutzwert führen), oder einer legierung dieses Metalls, ; und insbesondere von Werkstücken aus Niobium oder einer Niobium4 legierung. In diesem Fall .ermöglicht das Verf ahrea die Her-' j stellung einer Oberflächenschicht aus Oxyd, insbesondere aus j Niob ium oxyd Nb^Oc, mit sehr geringer Dicke, .welche durch die ; angelegte Anodisierungsspannung leicht einstellbar, glatt und j gleichmässig ist, und zwar ohne den mechanischen Eigenschaften
dea Substrats zu schaden, da die Anodisierungsbehandlung keine
Erwärmung auf hohe Temperaturen bedingt.
das erste Element bildenden Metall- bestehen, wie Niobium, Chrom, V/o 1fram oder Molybdän (jedoch unter Ausschluß von Titan und Vanadium, die zur Bildung von oberflächlichen Oxyden mit nur geringem Schutzwert führen), oder einer legierung dieses Metalls, ; und insbesondere von Werkstücken aus Niobium oder einer Niobium4 legierung. In diesem Fall .ermöglicht das Verf ahrea die Her-' j stellung einer Oberflächenschicht aus Oxyd, insbesondere aus j Niob ium oxyd Nb^Oc, mit sehr geringer Dicke, .welche durch die ; angelegte Anodisierungsspannung leicht einstellbar, glatt und j gleichmässig ist, und zwar ohne den mechanischen Eigenschaften
dea Substrats zu schaden, da die Anodisierungsbehandlung keine
Erwärmung auf hohe Temperaturen bedingt.
Die Erfindung ist auch mit den gleichen Vorteilen
auf den Schutz von Werkstücken aus anderen Materialien
509846/0921
anwendbar, z.B. aus Stahl. Id. diesem Fall wird Chrom, Molybdän,
oder vorzugsweise Niobium auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht
oder in diese eingeführt. Das zweite Element wird eben
falls, gleichzeitig oder später, in die Oberfläche eingeführt, z.B. durch eine oberflächliche Auflage des Elements oder seines
Oxyds, bevor das Ganze dem Anodisierungsvorgang ausgesetzt, wird. Diese Auflagen werden mit Hilfe eines beliebigen auf diesem Gebiet
bekannten Verfahrenster ge stellt, wofür Beispiele weiter
j unten angegeben sind. Natürlich wird vorzugsweise ein derartiges Verfahren benutzt, welches bei Temperaturen ausgeübt werden
kann, welche unter den Schellen werten liegen, über ■ welchen
! das Metall des Substrats für die Oxydation empfindlich wird,
insbesondere wenn in einem atmosphärischen Mittel gearbeitet wird.
Ähnliche Schutzüberzüge mit einer Oberflächenschicht von Niobium-, Chrom- oder Molybdänoxyd können auch auf
Substraten aus einem das zweite Element enthaltenden Material hergestellt werden. So kann man z.B. gegen die Korrosion bei
niedriger Temperatur Werkstücke aus Aluminium oder Silizium schützen, indem man in dieses Material Niobium einführt, welches
bei der Anodisierungsbehandlung an die Oberfläche der Werkstücke wandert und eine Schutzschicht aus NbgOc bildet, welche
insbesondere dem Chlor und den anderen Halogenen widersteht·
Man stellt fest, daß die gebildete Schicht aus
j NbpOc kontinuierlich ist und die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren
behandelten Oberflächenabschnitte vollständig überzieht. Die Dicke dieser Schicht kann beliebig eingestellt werden, insbesondere
entsprechend der während des Vorgangs zur anodischen Oxydation angelegten Spannung (die erhaltenen Dicken hängen
■ auch von der Dauer der anodischen Oxydation und der Dicke der
darunterliegenden Schicht ab, welche das zweite Element, insbesondere Tantal oder Aluminium,in Form ihrer Oxyde enthält).
; Man könnte natürlich auch die Dicke des gebildeten Überzugs
• durch Veränderung der Dauer der anodischen Oxydation (bei einer
bestimmten anodischen Oxydationsspannung) einstellen. Dieser
■ Parameter ist jedoch weniger leicht zu benutzen als die Werte
\ der angelegten Spannung, da diese Vorgänge zur anodischen Oxydation im allgemeinen in aehr kurzen Zeiten erfolgen, welche im
allgemeinen zwischen etwa 2 und etwa 20 Minuten liegen (außer
509846/0 921
in dem Fall der anodischen Oxydation mit Hilfe eines Plasmas, welche im allgemeinen erheblich längere Zeiten erfordert). '
• Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausübungs-I
form der Erfindung, welche insbesondere zur Herstellung von j korrosionsfesten Überzügen anwendbar ist, sind die beiden zur
! Bildung des Überzugs gewählten Elemente Niobium bzw. Aluminium,
j Die Überzüge besitzen dann in Kombination die Eigenschaften des
! Aluminium oxyds Al2O^, welches gut der Korrosion durch Sauerstoff
i widersteht, selbst bei hoher Temperatur, und die des Niobium-I
oxyds Nb2Oc, welches zwar keinen Schutz gegen Sauerstoff bei
\ hoher Temperatur ergibt, aber bei niedriger Temperatur für Sauerstoff korrosionsfest ist.
Anders ausgedrückt, die so/gebildeten Überzüge
besitzen die kombinierten Eigenschaften des Aluminiumoxyds Al5O,
und des Niobiumoxyds. Das Aluminiumoxyd schützt die darunterliegenden Werkstoffe gegen die Korrosion bei hoher Temperatur
und bildet einen wirksamen Schirm gegen die Wanderung des Sauerstoffs
und von Metallarten. Das Niobiumoxyd schützt sehr wirksam die Aluminiumoxydschicht gegen die chemische Korrosion, insbesondere
unter der Wirkung der Halogene und/oder des Wassers
in flüssigem Zustand oder in Dampffcrm, und zwar sowohl bei
hoher als auch bei niedriger Temperatur.
Das Niobium kann insbesondere das Substrat bilden oder in einer unteren Schicht auf das Substrat aufgebracht ;
werden, deren Dicke vorzugsweise größenordnungsmässig einige
tausend &igström beträgt, worauf diese Schicht mit einer oberen
Schicht aus Aluminium überzogen wird, deren Dicke vorzugsweise · grö ssenordnungsmäßig einige hundert &igström beträgt. Die spä- i
! tere anodische Oxydationsbehandlung wird vorzugsweise vorgencm- '
men, bis ein oxydierter Überzug über einige tausend Sngström erhalten wird, und zwar vorzugsweise ohne das Niobium vollständig ;
zu oxydieren. j
Es ist jaämlich, und dies ist ein wesentlicher \
Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens und der mit diesem er^- ;
haltenen Überzüge, ganz allgemein wünschenswert, die Anodisierung nicht bis zur vollständigen Oxydation der in dem wandernden
Element Niobium, Chrom, Wolfram oder Molybdän verfügbaren
Atome durchzuführen, so daß bei' einer zufälligen Zerstörung des
Überzugs dieser bequem ohne Zufuhr von Zusatzmaterial regeneriert
509846/0921
werden kann, indem der Überzug von neuem einer anodisehen Oxidationsbehandlung
unterworfen wird, welche sehr lokalisiert "bleiben kann. So bewirkt z.B. bei Überzügen, bei welchen die
Elemente Niobium und Aluminium sind, eine zusätzliche Anodisierung die Wanderung eines Q?eils des noch nicht oxydierten Niobiums
durch das Aluminiumoxyd, und man erhält eine Neubildung des Niobiumoxyds an der Oberfläche.
Bei der Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens
kann man die Aufbringung der anschliessend der_anodischen
Oxydation unterworfenen Metallschichten oder die von Oxydschichten
mit einer beliebigen bekannten Technik vornehmen, insbesondere durch Aufspritzen in dem Pail einer Gxydschicht, wie
Alurainiumoxyd, oder durch Elektrolyse, Zerstäubung oder Verdampfung
im Vakuum im Falle einer Metallschicht· Man kann ζ·Β.
auf ein Substrat, welches aus Eisen, Stahl, Kupfer oder einem
beliebigen anderen Metall, einer Legierung oder einem Halbleitermaterial
sein kann, eine Niobiumschicht von einigen tausend
Sngström Dicke und hierauf eine Schicht des zugeordneten Metalls,
ZeB. Aluminium, von einigen hundert Angstrom Dicke durch die
bekannten !Techniken der Kathodenzerstäubung aufbringen. Man kann auch einen oberflächlichen Niederschlag aus einer Legierung von
Aluminium und Niobium durch gleichzeitige Verdampfung der beiden Elemente im Vakuum herstellen und diesen bei etwa 400° C :
während grössenordnungsmäßig einer Stunde glühen« Man kann auch
eine derartige Legierung auf dem Substrat durch ionische Einbringung mit niedriger Energie bilden.
Zur Vornahme der anodisehen Oxydationsbehandlung können ebenfalls verschiedene an sich bekannte Verfahren
benutzt werden, im häufigsten wird in einer wässerigen
oder organischen Lösung gearbeitet. Wenn z.B. die einander zu- ·
geordneten Elemente Niobium und Aluminium sind,, kann die anodische
Oxydation in einer wässerigen oder organischen Atcmoniumboratlösung
vorgenommen werde., z.B. in Glykol. Falls das Niobium dem Silizium zugeordnet· ist, hat sich das organische Mittel ■
zweckmässiger als das wässerige Mittel erwiesen. :■
Gemäß einer Ausführungsabwandlung kann die
anodische Oxydation unter den obigen Bedingungen entsprechenden
Spannungsbedingungen in Gegenwart eines sogenannten "festen"
Elektrolyten vorgenommen werden, welcher in Wirklichkeit durch .
509846/0921
ein poröses, mit dem Elektrolyten getränktes Polymer geMldet
wird und in kaltem Zustand eine starke Leitfähigkeit "besitzt.
Diese Technik bietet den Vorteil, die Lokalisierung des Oxydationsvorgangs auf die Oberfläche des Werkstücks zu beschränken,
wenn eine derartige Lokalisierung wünschenswert ist. Der elektrische
Kontakt wird dadurch hergestellt, daß die Masse des mit Elektrolyt getränkten Polymers zwischen der Kathode und dem die
Anode bildenden Werkstück leicht zusammengedrückt wird. . Eine andere ebenfalls benutzbare Technik ist
die der anodischen Oxydation im Plasma, wobei die Leitfähigkeit zwischen dem ?/erkstück und der Kathode durch ein durch ein j
Elektronenbündel oder bei Hochfrequenz erzeugtes Plasma hergestellt
wird.
Bei der Anwendung der Erfindung auf die Herstel4
lung von elektrische Widerstände bildenden Gebilden enthält das j
Substrat im wesentlichen eine auf einer isolierenden Unterlage
gebildete Widerstandsbasisschicht. Die Widerstandsbasisschicht und ihre isolierende Unterlage können aus beliebigen Werkstoffen
gebildet werden, welche an sich in der Technik der Widerstände in dünnen Schichten bekannt sind. Die Unterlage ist im
allgemeinen aus Keramik, sie kann jedoch auch z.B. aus oxydiertem
Silizium bestehen. Die Widerstandsbasisschicht wird zweekmässig durch einen ein Metall, im besonderen Tantal, enthaltenden
Werkstoff gebildet. Dieses Metall kann gegebenenfalls in
Form einer,Verbindung, zVB. mit Stickstoff oder Sauerstoff, oder in Form einer Legierung vorliegen. Vorzugsweise befindet es
sich Jedoch wenigstens teilweise in einem durch die anodische ■
Behandlung oxydierbaren Zustand. Gemäß einer bevorzugten Ausübungsform
der Erfindung besteht die Widerstandsbasisschicht aus einem Werkstoff auf Tantalbasis, in welchem-das Tantal gegebenenfalls
teilweise nitriert sein oder sich in Form einer Legierung, z.B. mit Aluminium oder Silizium, befinden oder auch
gelösten Sauerstoff in einer Menge enthalten kann, welche kleiner als die Sättigungsmenge oder gleich dieser ist, wobei das
Tantal sich sogar teilweise im Oxydzustand befinden kann.
Die Anteile der Bestandteile der Widerstandsbasisschicht
können in Verbindung mit ihrer Dicke so eingestellt werden, daß dieser Schicht vor der anodischen Behandlung
ein elektrischer Eigenwiderstand mit einem bestimmten Wert
509846/0921
gegeben wirdo Dieser Wert bildet einen Teil des Ge sam twider stands'
des schliesslich mit der anodischen Oxydation enthaltenen, einen
Widerstand bildenden Gebildes, und seine Einstellung kann dazu ;dienen9 die Größenordnung des Gesamtwiderstands des erhaltenen
Gebildes zu bestimmen. Natürlich können auch andere Metalle als ,Tantal als wesentliche Bestandteile der Widerstandsbasisschicht
.benutzt werden, das Tantal ist jedoch besonders zweckmässig, da
jes insbesondere gestattet, Widerstände bildende Gebilde herzüjstellen,
bei welchen der Wert des Widerstands für Temperaturschwankungen wenig empfindlich ist. ·
Gemäß den obigen Ausführungen können sich die bei- ;den Elemente, welche in den unmittelbar unter der Oberfläche des
Substrats befindlichen Teilen desselben vorhanden sind, d.h. an . !der Oberfläche der Widerstandsbasisschicht bei der Anwendung der
Erfindung auf die Herstellung von V/iderstände bildenden Gebilden,·
in metallischem Zustand befinden, oder in legierungen oder anderen
Verbindungen gebunden sein. Ferner können das erste Element, oder auch alle beide, mit dem Material der Widerstandsschicht
gemischt oder mit diesem verbunden sein. Sie können !und zwar vorzugsweise, auf dieses Material in einer getrennten
I oberflächlichen Auflage aufgebracht werden und in dieser Auflage!
!entweder in einer einzigen Schicht mit einheitlicher Zusammen- ·
j I
; setzung oder in zwei verschiedenen Schichten enthalten sein.
j Es ist ferner bei der Anwendung der Erfindung auf
die Herstellung von Widerstände bildenden Gebilden besonders :
ι zweckmässig, die anodische Oxydation soweit fortzusetzen, bis ;das erste Element vollständig oxydiert ist. Ferner wird vor-'
zugsweise die anodische Oxydation so vorgenommen, daß nicht nur
■ die vollständige Oxydation dieses ersten Elements erfolgt, son- j
; dern außerdem auch eine wenigstens teilweise Oxydation eines ;
!■ oxydierbaren Bestandteils der Widerstandsbasisschicht, insbe- ;
! sondere des Metalls, z.B. Tantal, welches diese enthalten, kann. ·
: Die Bestimmung der Dicke des oxydierten Bruchteils der Wider- :
■ standsbasisßchicht ermöglicht die genaue Einstellung des
schließlichen Werte des Widerstands des erhaltenen Gebildes.
• Bei den verschiedenen oben genannten Ausführungs-
; abwandlungen ist es ausserdem besonders zweckmässig, die anodi-
;' sehe Oxydation unter bestimmten Bedingungen hinsichtlich der
ί Stromstärke und der höchsten Spannung vorzunehmen, welche einem
bestimmten Wert des Widerstands des hergestellten, einen Widerstand
bildenden Gebildes entsprechen.
Bei der Anwendung auf die Herstellung von
Widerstände bildenden Gebilden ist eine besonders zweckmässige
Ausübungsabwandlung des erfindungsgemäßen Verfahrens, insbe- ·
sondere j falls die Widerstandsbasisschicht Santa! enthält, die, I bei welcher das zweite Element Aluminium in metallischer Form *
Ausübungsabwandlung des erfindungsgemäßen Verfahrens, insbe- ·
sondere j falls die Widerstandsbasisschicht Santa! enthält, die, I bei welcher das zweite Element Aluminium in metallischer Form *
oder in Form von Aluminiumoxyd und das erste Element Fi ob ium '
ist· Ih den so erhaltenen, Widerstände bildenden Gebilden be- I
wirkt das Niobiumoxyd den Korrosionsschutz, während eine konti- [ nuierliehe Aluminiumoxydschicht die etv/aige Wanderung von Sau- ■!
erstoff und Kationen zu der Widerstandsschicht verhindert, was j die zeitliche Stabilität der Beschaffenheit des einen Wider- !
stand bildenden Gebildes und des Wertes seines elektrischen \
Widerstands gewährleistet. ' !
Die Erfindung betrifft ferner die durch das ;
obige Verfahren hergestellten, Widerstände bildenden Gebilde, j oder die Y/iderstände bildenden Gebilde mit einem "Überzug gemäß j
den anderen genannten Verfahren, v/elcher auf einem Substrat ge- I
bildet ist, welches eine dünne Widerstandsschicht auf einer j
isolierenden Unterlage aufweist. j
' Die Erfindung hat im besonderen ein einen \ Widerstand'bildendes Gebilde zum Gegenstand, welches aus übereinanderliegenden
Schichten besteht, welche nacheinander eine
Oberflächenschicht aus dem Oxyd eines ersten, unter Niobium,
Chrom, Molybdän oder Wolfram gewählten Elements, eine unmittelbar darunterliegende, ein zweites, insbesondere unter Silizium,
Aluminium, Gallium, Tantal, Uran und Holybdän gewähltes Element enthaltende Zwischenschicht, wobei sich dieses Element
in dieser Schicht in Form einer halbleitenden oder sogar isolierenden Verbindung, insbesondere in Form eines Oxyds befin-'
det, eine innere Schicht, welche das gleiche erste Element wie
die Oberflächenschicht enthält, welches wenigstens teilweise
in unmittelbarer Nähe der Zwischenschicht oxydiert ist, und
eine Widerstandsschicht umfassen, welche wenigstens ein Metall,
ζ.3. Tantal, enthält, welches von dem zweiten Element verschieden ist, wobei diese Schicht auf einer isolierenden Unterlage
Oberflächenschicht aus dem Oxyd eines ersten, unter Niobium,
Chrom, Molybdän oder Wolfram gewählten Elements, eine unmittelbar darunterliegende, ein zweites, insbesondere unter Silizium,
Aluminium, Gallium, Tantal, Uran und Holybdän gewähltes Element enthaltende Zwischenschicht, wobei sich dieses Element
in dieser Schicht in Form einer halbleitenden oder sogar isolierenden Verbindung, insbesondere in Form eines Oxyds befin-'
det, eine innere Schicht, welche das gleiche erste Element wie
die Oberflächenschicht enthält, welches wenigstens teilweise
in unmittelbarer Nähe der Zwischenschicht oxydiert ist, und
eine Widerstandsschicht umfassen, welche wenigstens ein Metall,
ζ.3. Tantal, enthält, welches von dem zweiten Element verschieden ist, wobei diese Schicht auf einer isolierenden Unterlage
gebildet ist« .
Bei einer "bevorzugten Ausführungsabwand-
509846/0921
lung befindet sich das erste Element praktisch über die ganze
Dicke der inneren Schicht in oxydiertem Zustand. Das Metall der Widerstandsbasisschicht befindet sich ebenfalls vorzugsweise
über wenigstens einen Teil der Dicke dieser Widerstahdsschicht in oxydiertem Zustand. .
. Die Erfindung ist nachstehend im einzelnen in den nachstehenden Beispielen beschrieben. Die Beispiele 1 bis 9
behandeln im besonderen die Herstellung von Überzügen mit einer Oberflächenschicht von Niobiumoxyd NbpOc, die beschriebenen
Techniken können jedoch auch dem Pail angepasst werden, in welchem
das Niobium durch Chrom, Wolfram'oder Molybdän ersetzt ist,
Ganz allgemein besitzt jedoch das Niobium gegenüber den anderen Metallen den Vorteil, daß es die Herstellung von dickeren Über- j
zügen ermöglicht* " . ,j
Bei diesen Beispielen 1 bis 9 wird auf Pig. 1
bis 2 bezuggenomraen, in welchen §κ&· Fig. 1 ein Spektrum der
Rückdiffusion von Heliumionen durch einen erfindungsgemäß hergestellten
Überzug und Fig. 2 die aus diesem., ableitbare Beschaffenheit des Überzuges darstellt·
j Unter den nachstehend beschriebenen Be-
: dingungen wird der Aufbau von Überzügen aus Niobium-, Tantal-,
oder Aluminiumoxyd auf massiven Niobiumsubstraten untersucht. ; Auf chemisch polierte Niobiumproben wurden
; mit der Elektronenkanone oder durch Kathodenzerstäubung Tantalschichten
aufgebracht, deren Dicke von einer Probe zur anderen ; zwischen 100 und 600 S veränderlich ist. Diese Proben werden
! hierauf einer anodischen Oxydation in Bädern einer wässerigen ! Ammoniumboratlösung mit fünf Gewichtsprozenten und pH 7 unter- ·
einem konstanten Strom von 1 mA/om ^u einer konstanten Tem-
peratur von 23° C - 1° C während einer Zeit von einigen Minuten unterworfen. Bei Veränderung der höchsten Anodenspannung
j stellt man fest, daß zunächst die Tantalschicht und hierauf ein immer grösserer Anteil des Niobiumsubstrats oxydiert wird·
: Die Mikroanalyse durch Rückdiffusion von Heliumionen von 1,8 MeV ermöglicht die Bestimmung des Verteilungsprofils
der Niobium- und Tantalatcme in Punktion der Tiefe,
da die Energie der rückdiffundierten Tgliehen durch das Tantal
(Masse 181) größei1 als die der durch das Niobium (Masse 95)
5098Λ6/0921
, - 15 - ".;■■
rückdiffundierten Teilchen ist. Das z.B. für eine Tantaldicke von 200 Ä und eine Anodenspannung von 120 V erhaltene Spektrum ί
entspricht dem Schema der Fig.1, in welches die Energien E j als Abzissen und die Teilchenzahlen N als Ordinaten eingetragen
sind. .
In diesem Schema entspricht der Scheitel 1 dem Tantal, die Zone 2 dem darunterliegenden Niobium, und der
Scheitel 5/einer Zwischenenergie zeigt das Vorhandensein von I
Niobium an der Oberfläche an. Dieses Schema zeigt somit, daß }
ein Teil der Niobiumkationen bei ihrer Oxydation eine Oxyd- j
schicht an der Oberfläche über dem Tantaloxyd bildet. Der Über- j ! zug enthält so entsprechend dem Schema der Fig. 2 eine Schicht !
ι von Tantaloxyd Ta2Oc zwischen zwei Schichten von Niobiumoxyd
j ITb2Oc. Außerdem beobachtet man eine leichte Mischung zwischen
j der an der Oberfläche fixierten Niobiumoxydschicht und der
darunterliegenden Tantaloxydschicht. Das Verhältnis der das
j an der Oberfläche fixierte Niobiumoxyd darstellenden Fläche
des Spektrums zu der dem gesamten gebildeten Oxyd entsprechenden j Fläche ermöglicht die Bestimmung des Anteils . der. Niobiumkationen, welche so über eine große Entfernung durch das Tantaloxyd
v/andern (etwa 15 Prozent bei dem betrachteten Beispiel).
Ferner wurden die Bewegungen des Sauerstoffs
während der Bildung der oxydierten Überzüge dadurch festgestellt,
daß nacheinander eine erste Oxydation in einer natürlichen wässerigen Lösung (Sauerstoff 16) und eine zweite Oxydation in einer
mit Sauerstoff 18 angereicherten wässerigen Lösung vorgenommen
warden, wobei die Spannung bei der zweiten Oxydation ' höher (um 10 Volt) als die bei der ersten Oxydation benutzte
Die Analyse der aufeinanderfolgenden oxydierten Schichten durch Beobachtung der Erregerkurven der Reaktion
O18 (p, a) N^ zeigt, daß die Reihenfolge des Sauerstoffs beibehalten
ist, da sich der Sauerstoff an der Grenzschicht Oxyd/ Lösung fixiert. Hieraus'kann geschlossen werden, daß die Wan- ;
derung der> Niobiums vor«, einer der Kationenbewegung eigentümlichen
physikalischen Erscheinung herrührt, und nicht von einer mangeLuden Haaogeriität der Tantaloxydschicht·
Boic/oiol 2
509846/09?. V BAD ORIGINAL
Die in Beispiel 1 berichteten Ergebnisse wurden durch andere Versuchsreihen bestätigt, bei welchen die Dicke
aufgebrachten Tantalschicht 100, 300 und 400 2 betrug, und zwar
unabhängig davons ob die Aufbringung des Tantals mittels einer
Elektronenkanone oder durch Kathodenzerstäubung erfolgte. Die gleichen Ergebnisse wurden bei der Oxydation von Niederschlagen
mit zwei Schichten erhalten, welche auf einer Aluminiumunterlage durch Aufbringung von 1200 2 Niobium und hierauf von 200 2
Tantal hergestellt wurden.
Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1, jedoch unter Ersatz des Tantals durch durch Kathodenzerstäubung
aufgebrachtetes Aluminium beobachtet man die Wanderung von
25 Prozent Niobiumkationen über eine große Strecke durch das Aluminiumoxyd.
Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 3, unter Vornahme der anodischen Oxydation in einer wässerigen I
Ammoniumbor at lösung mit 5 Gewichtsprozenten und pH 7» aber unterj
Fortsetzung bis zu einer höchsten Spannung von 250 Volt (etwa
6 Minuten), wobei der Strom auf 1 mA/cm konstant gehalten wur-j
de, erhält man eine Gesamtdicke des oxydierten Überzuges von 4000 2, welcher eine Zwischenschicht von Aluminiumoxyd AIpO5
zwischen einer Oberflächenschicht von Niobiumoxyd und einer j darunterliegenden Niobiumschicht, welche in der dem Aluminiumoxyd
benachbarten Zone oxydiert ist, aufweist. Ein ähnlicher Versuch* bei welchem die anodische Oxydation in einer-wässerigen
Ammoniumboratlösung mit 0,5 Gewichtsprozenten erfolgt, führt ' bei einer höchsten Spannung von 500 Volt zu einer Gesaratdicke
des oxydierten Überzuges von 7000 2·
An mit Aluminium wie in Beispie1.3 und 4 überzogenem
Niobium wird eine anodische Oxydation in einer organischen Lösung von 1 % Ammoniumborat in Glykal mit einem konstan-'
p '
ten Strom von 1 mA/cm bis zu einer höchsten Spannung von 200
Volt vorgenommen. Diese Spannung wird während 5 Minuten aufrechterhalten.
Die Temperatur ist konstant und beträgt grössenordnungsmäßig 20° c. Man erhält wie in dem vorhergehenden
603846/0921 bad original
Pali ein mit einer Schicht von Nb2O5 überzogenes Werkstück*
Beispiel 6
Ein massives Niobiumstück wird mit einem Aluminiumüberzug
überzogen· Hierauf wird das überzogene Stück mittels eines
Plasmas einer anodischen Oxydation unterworfen. Man benutzt einen Plasmastrom von 50 mÄ in einer Sauerstoffatmosphäre unter
einem auf 5·10~* mmHg herabgesetzten Druck· Man erhält für eine
Höchstspannung von 80 YoIt einen oxydierten Überzug von 1600 S.
Die Temperatur der behandelten Oberfläche steigt in diesem Fall auf etwa 200° 0,und die Behandlung dauert etwa 20 Stunden.
Tantal wird in Spuren auf Niobium durch Kathodenzerstäubung
aufgebracht. Die Dicke der Auflagen liegt · zwischen 0,5 und 2 £· Die Untersuchung der Lage des Tantalscheitels vor !
und nach der anodischen Oxydation mit 120 Volt während einiger I Minuten unter den Bedingungen des Beispiels 1 an den in der in j
Beispiel 1 beschriebenen Weise hergestellten Spektren der He- i
liumrückdiffusion zeigt, daß etwa 10 % des oxydierten Niobiums \
während des Vorgangs an die Oberfläche gewandert sind. i
Wie bereits ausgeführt, ist eine der bevorzugten ' An wandungen der Erfindung die Bildung von korrosionsfesten Über·-';
zügen· Man erhält besonders interessante Ergebnisse, wenn das ! erste Element durch Niobiuia gebildet wird· Es gestattets insbesondere
wenn das zweite Element Aluminium enthält, die bequeme Herstellung von Schichten von Niobiumoxyd Nbp°5 1^* Dicken
von ζ·Β. etwa 1000 bis etwa 4000 1, welche bei einem beliebigen;
ursprünglichen Oberflächenzustand des Werkstücks vollkommen zu-j
sammenhängend sind und die Gesamtheit der Oberfläche des Substrats
überziehen.
Ebenso können auf zu schützenden Werkstücken Überzüge gebildet werden, welche als erstes Element Ghrom, Wolfram.
oder Molybdän anstatt Niobium benutzen.. Die an der Oberfläche
der zu schützenden Werkstücke erhaltenen oberflächlichen konti-,
nuierliehen Schichten der Oxyde dieser Elemente sind unter j
sonst gleichen Arbeitsbedingungen dünner als die mit Niobium j Erhaltenen. Die mit Chrom1 oder Wolfram erhaltenen Überzüge, sind;
äedcch sehr widerstandsfähig und schützen die betreffenden üerk|
stücke-wirksam gegen die Korrosion» Bei Benutzung von Molybdän \
09846/0921
erhält man ähnliche Ergebnisse. Es ist jedoch zweckmässig, die
erhaltenen Überzüge einer Wärmebehandlung zu unterwerfen, um die
Molybdänoxydbestandteile der gebildeten Schutzüberzüge zu stabilisieren.
Die Erfindung ist auch auf die Verbesserung der Schutz eigenschaften der durch bekannte Verfahren gebildeten Überzüge
anwendbar· Es ist z*B» bekannt, Schutzüberzüge auf Werkstücken
auf Niobiumbasis herzustellen, indem man. auf diese Auflagen
mit Zusammensetzungen aufbringt, welche nach einer Wärmebehandlung
Schichten von Niobiumsilizid WbSi, oder Hiobiumaluminid
ITbAl, an der Oberfläche der Werkstücke bilden. Diese
sehr harten überzüge neigen jedoch zur Rißbildung, wenn die
Werkstücke thermisch beansprucht werden, so daß die Gefahr besteht, daß der diesen· Werkstücken durch diese Überzüge erteilte
Schutz verloren geht· Es ist bereits vorgeschlagen worden, diesen Schutz dadurch zu verbessern, daß diese Überzüge bei hoher
Temperatur ζ·Β· mit einer Aluminium, Zinn und Silizium enthaltenden
Legierung "benetzt" werden. Diese Legierung dringt dann in die sich bildenden Risse ein. und haftet an den Wänden derselben
durch. Kapillarität. Die Benetzbarkeit dieser Wände wird jedoch durch Austreten von Aluminiumoxyd beeinträchtigt.
Die Erfindung gestattet, dieser Schwierigkeit dadurch abzuhelfen, daß die betreffenden Werkstücke durch anodische
Oxydation behandelt werden, bevor sie mit der flüssigen Legierung in Berührung gebracht werden, was zur Folge hat, daß
alle in Betracht kommenden Oberflächen einschliesslich des ausgetretenen Aluminiumoxyds vollständig mit einer dünnen Schicht
von Niobiumoxyd NbpO,- überzogen werden, welches seinerseits
durch die flüssige Legierung vollständig benetzbar ist.
Die Erfindung hat übrigens auch eine Verbesserung der bekannten Verf ahren der obigen Art zum Gegenstand, um einen;
Überzug zu erhalten, welcher gleichzeitig die Härte der für Fiobiutnwerkstücke auf der Basis von Niobiumsilizid oder Niobiumaluminid
bekannten überzüge und eine bisher unbekannte Nachgie-. bigkeit besitzt, welche-ihm gestattet, wirksam die thermischen
oder mechanischen Beanspruchungen der oben betrachteten Art auszuhalten,
welche bei den bekannten Überzügen eine Rißbildung hervorrufen können ο
Dieses verbesserte Verfahren besteht darin, ein
5098 4 6/0921
einen Überzug des Typs Niobiumsilizid oder -aluminid tragendes
Werkstück· einer ersten anodischen Oxydation in einem Mittel zu unterwerfen, in welchem das Aluminiumoxyd oder das Siliziumoxyd
teilweise löslich ist, und hierauf dieses Werkstück einer zweiten anodischen Oxydation in einem Mittel auszusetzen, in wel-.
chem das Aluminiumoxyd oder das Siliziumoxyd unlöslich ist·
Die erste anodische Oxydation führt zu der Bildung eines porösen Überzuges auf der Basis von Aluminiumoxyd
und Niobiumoxyd, wobei diese Porosität von der Auflösung eines
Teils des durch diese anodische Oxydation gebildeten Aluminiumoxyds in dem Mittel herrührt· Die zweite anodische Oxydation
ermöglicht die Bildung des Niobiumoxydhäutchens auf allen freien
Mikrof lachen, wenigstens an der Nähe des Substrats, unter den oben erwähnten Bedingungen. Anders ausgedrückt, man erzielt
eine richtige Einbettung der Mikrof lachen und entsprechenden Teilchen des Aluminiumoxyds., des porösen Überzuges in Niobiumoxydhäutehen.
Der so gebildete überzug besitzt dann gleichzeitig
die gewünschte Härte und eine von der ursprünglichen Poro- j
sität der durch die erste anodische Oxydation gebildeten porö- t
sen Schicht herrührende genügende Nachgiebigkeit, um die -gebil- \
deten Überzüge gegen thermische oder mechanische Beanspruchungen zu schützen· . 1
Der EicBchluß in den ursprünglichen Überzug oder
die Einführung von gewissen Bestandteilen in das für die erste | anodische Oxydation benutzte Mittel ermöglicht die Veränderung j
der physikalischen und mechanischen Eigenschaften der gebil- i deten Überzüge· So gestattet z.B. die Einführung von Cbromoxyd ]
OrO, in die für die erste anodische Oxydation benutzte lösung :
die Herstellung von porösen bildsamen Schichten, während die Einführung von Chromsulfat zu porösen sehr harten Schichten >
führt. 5
Nachstehend-sind Beispiele der Ausübungsform dieser
Abwandlung des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben. j
Bei spiel, j* ' - ■ '.
Das erfindungsgemäße Verfahren wiixi auf ein .'·
■Wiobiuiawerkstück angewandt, dessen Oberflächen durch ein Niobi-'
uinaluminidhäutchen NbAl7 geschützt sind. Dieses Haut dien wurde
durch Eintauchen des 7/erkstücks in eine Suspension von. A.lumini~
509846/0921
umteilchen in einem organischen Lösungsmittel, insbesondere j
einem Nitrozelluloselack, durch Trocknen des Werkstücks und j
Wärmebehandlung bei hoher Temperatur (1200 - 1400° C) gebildet· i
Die benutzte Technik ist die in der Revue Physique Appliquee, i Band 5, 1970, beschriebene. Man arbeitet unter den Bedingungen, j
welche die Herstellung eines Niobiumaluminidüberzuges mit einer j
Dicke von etwa 20 μ gestatten. . J
Das so mit einem Niobiumaluminidüberzug übei?-
■ zogene Werkstück wird einer anodischen Oxydation in einer was- ί
! serigen lösung mit 10 bis 15 Gewichtsprozenten von Chromoxyd i ϊ CrO,, unterworfen. Die anodische Oxydation erfolgt während 40 M17
j nuten unter einer Spannung von 40 Volt bei einer Temperatur von; 50 - 55°C. Diese Technik ermöglicht die Bildung einer Oberflä- j
S chenschicht von 8 μ Dicke mit einer kompakten "Schranke" an j :' der Stelle ihrer Berührung mit dem Substrat von Ο,Οδμ Dicke, j
während die restliche Dicke der Schicht porös ist. Diese durch j ; Oxyde Nb O^ und Al2O, gebildete und Einschlüsse von CrO, ent- j
1 haltende Schicht ist sehr korrosionsfest und bildsam. |.
j Das so behandelte Werkstück wird dann einer:
j zweiten anodischen Oxydation in einer Ammoniumboratlösung unter
j einer Spannung von 160 Volt bei einer Temperatur von 20° C ! während einiger Minuten unterworfen. Diese Behandlung bringt
die Dicke der kompakten"Schranke" von 0,06 μ auf 0,3 μ. Diese Behandlung führt zu einer bedeutenden Erhöhung der Korrosions-
! festigkeit der Oberflächenschicht. Man stellt fest, daß die in
der "Schranke" enthaltenen Aluminiumoxydteilchen in die Masse ; von Niobiumoxyd eingebettet sind, welches aus dem Substrat ab-
: gewandert ist.
Beispiel 9 ' ;
I · Unter Ausgang von einem Werkstück aus Niobi-
! um. welches unter den in Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen ! mit einer Niobiumaluminidschicht überzogen wurde, nimmt man eine
j erste anodische Oxydation des Werkstücks in einer Oxalsäurelösung
von 5 Gewichtsprozenten vor, welche 0,1 g/l Schwefelsäure ;
ι und 1 g/l Chromsulfat Cr0 (SOy,), enthält, und zwar bei einer
! Temperatur von 5 - 10 C unter einer Stroradichts von 4,4 A/dm*- ;
unter einer Spannung von 50 Volt während einer Dauer von 20 Minuten.
Man erhält so an der Oberfläche des Werkstücks ©inen porösen Überzug mit einer Dicke von et v/a 10 μ.
509846/092
. Hierauf wird zur Erhöhung der Korrosionsfestigkeit
dieser porösen Schicht eine zweite anodische Oxydation unter den in Beispiel 8 beschriebenen Bedingungen vorgenommen.
Man erhält einen porösen sehr harten Überzug, dessen Härte größenordnungsmäßig 1000 - 1200 TPN-Einheiten beträgt
·
Fig· 3 zeigt beispielshalber ein erfindungsgemäßes,
einen Widerstand bildendes Gebilde.
Dieses Gebilde wird durch anodische Oxydation einer dünnen Widerstandsschicht aus mit gelöstem Sauerstoff gesättigtem
Tantal hergestellt, welche von einer isolierenden Unterlage aus Keramik getragen wird, und auf welche vorher eine
untere Niobiumschicht· und hierauf eine obere Schicht aus Aluminium
oder Aluminiumoxyd aufgebracht wurde. Die Dicke der Tantalschicht beträgt z.B. grÖssenordnungsmäßig 1000 S, die Dicke
der Aluminiumschicht beträgt grössenordnungsmäßig einige nun- j dert £, und die Dicke der Kxobiumschicht beträgt grössenordnungsmäßig 500 &. Die anodische Oxydation erfolgt, bis der Gesamt- j
widerstand des erhaltenen Gebildes den gewünschten Wert hat, \
welcher jedoch so gewählt wird, daß er die vollständige 0xyda~ tion der ITiobium- und Aluminiumschichten und die Oxydation eines
Bruchteils der Widerstandsbasisschicht erfordert. Die anodische Oxydation kann insbesondere mit einer konstanten Stromstärke
bis zu einer bestimmten, dem Y/ert des zu erhaltenden Widerstands
entsprechenden Höchst spannung vorgenommen werden.
Wie Fig. 3 zeigt, wird das nach dieser anodischen Oxydationsbehandlung erhaltene Gebilde durch übereinander
liegende Schichten gebildet, in welchen man einen Überzug \
mit drei Schichten der oben beschriebenen Art wiederfindet, da , das Niobium während der anodischen Oxydation durch die Aluminiumoxydschicht
gewandert ist» Diese Schichten umfassen nach-' einander eine Oberflächenschicht 11 aus Niobiumoxyd NbpOy
eine Zwischenschicht 12 aus Aluminiumoxyd Al2O^ und eine innere,
Schicht 13, welche ebenfalls aus Hiobiuraoxyd Kb^O^ besteht,
aber von der Oberflächenschicht durch die Aluiainiumoxydschicht \
getrennt ist. Die innere Schicht 13 ist über ihre ganze Dicke oxydiert.
Der aus den drei Schichten 11, 12 und 13 ge-
5098 46/09 2 1
bildete Überzug überzieht kontinuierlich und mit Dicke die von der isolierenden Unterlage 15 getragene Widerstandsschicht
14 aus Tantal oder einer Tantallegierung. Die Wi-
( derstandsbasisschicht bildet jedoch ihrerseits auf einem Bruchteil
ihrer Dicke unmittelbar unter der Niobiumoxydschicht 1$ : eine zusätzliche Schicht 16 aus Tantaloxyd Ta?0t-.
Das so erhaltene Widerstandsgebilde besitzt ei-
j nen elektrischen Widerstand, dessen Wert zeitlich stabil bleibt.
: Die Aluminiumoxydschicht schützt ihn gegen etwaige Änderungen
' z.B. durch Einwanderung von atmosphärischem Sauerstoff, während
die obere Niobiumoxydschicht Angriffe durch Korrosion verhindert
Ferner gestattet das benutzte Herstellungsverfahren die Herstellung von vorbestimmten genauen Widerstandsgebilden. Ausserdem
besitzt dieses Verfahren verschiedene Vorteile, u.a. seine ! Einfachheit und die Tatsache, daß es eine anodische Oxydationsbehandlung benutzt, d.h. das vorhandene Material ist bereits in !
den ?/erkstätten zur Herstellung von Widerstandsschichten durch | die bekannten Verf ahren vorhanden. j
In dem vorhergebenden Beispiel können das Niobium und das Aluminium vor der anodischen Oxydationsbehandlung j
eine einzige homogene Schicht bilden, oder das Niobium kann als! Bestandteil der Widerstandsschicht eingeführt werden, auf welche
anschliessend vor der anodischen Oxydationsbehandlung eine Auflage von Aluminium oder Aluminiumoxyd aufgebracht wird.
Ganz allgemein betrifft die Erfindung die Behandlung von Werkstücken mit einem Substrat, welches ein erstes
Element der oben definierten Art enthält und an seiner Oberin lache eine das zweite Element ebenfalls der oben definierten
Art enthaltende poröse Schicht aufweist. Es ist dann möglich, durch anodische Oxydation die Kationen des ersten Elements in
die leeren Räume des porösen Gebildes v/andern zu lassen, um ein Oxyd dieser Kationen zu bilden. j
Die Anwendungen der Erfindung sind nicht auf ! die Herstellung von korrosionsfesten Überzügen oder Widerstand^
gebilden in dünnen Schichten mit einem bestimmten Widerstand ■ beschränkt. Von den anderen möglichen Anwendungen kann die Bildung
von dielektrischen Schichten mit veränderlichen Oberflä- ■
chenindizes angeführt werden. Man kann z.B. unter Ausgang von :
einein Substrat, welches an seiner Oberfläche Niobium aufweist
und in.it einer dielektrischen Schicht von 0? an b al oxyd ^SpCk oder
509846/0921
von Aluminiumoxyd überzogen ist, die Wanderung des Niobiums aus dem Substrat durch die dielektrische Schicht bis zu der freien
Oberfläche derselben bewirken·
Die Erfindung ist auch vorteilhaft auf die
Änderung des Brechungsindex von reflektierenden Flächen anwendbar,
insbesondere bei Benutzung von Substraten, welche ein erstes Element und em>
zweites Element der oben definierten Art enthalten, deren Brechungsindizes sehr weit voneinander entj
fernt sind. So beträgt der Brechungsindex des Aluminiumoxyds 1,65 und der. des Niobiumoxyds NboOc 2,37· Unter Ausgang von
einer Oberfläche, welche auf einem Niobium enthaltenden Substrat gebildet und mit einer dünnen Aluminiumoxyd schicht überzogen
ist, kann man nach Belieben den Wer-t des Brechungsindex zwischen
den beiden obigen Werten und somit das Reflexionsvermögen dieser Oberfläche verändern, indem man eine anodische Oxydation dieser Oberfläche unter den obigen Bedingungen vornimmt,
wobei die angelegte Spannung von dem gewünschten endgültigen Index abhängt. Man erhalt so ein Verfahren, welches gestattet,
die geometrischen Eigenschaften eines von dieser Oberfläche reflektierten Lichtbündels und die Verteilung des Lichts in
einem Querschnitt dieses Bündels durch die Änderung der Indizes der verschiedenen Abschnitte der reflektierenden Oberfläche
unter den oben beschriebenen Bedingungen in weiten Grenzen zu ! verändern, ohne daß die geometrischen Formen dieser Oberfläche j
selbst verändert werden müssen. j
509846/092
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE1· Verfahren zur Herstellung von Oberflächenüberzügen auf einem Substrat durch anodische Oxydation, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat wenigstens in seinen unmittelbar unter seiner Oberfläche fliegenden Teilen wenigstens ein erstes, aus Niobium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Titan und Vanadium gewähltes Element, oder eine ein derartiges erstes Element enthaltende leitende Verbindung, und wenigstens ein zweites, von dem ersten verschiedenes Element enthält, welches insbesondere aus Silizium, Aluminium, Gallium, Tantal, Uran und Molybdän ausgewählt ist, und zwar entweder in metallischem Zustand, wenn es selbst eine halbleitende oder sogar isolierende Verbindung bildet, oder in Verbindung oder Legierung mit wenigstens einem anderen Element zur Bildung einer halbleitenden oder sogar isolierenden Verbindung, wobei dieses zweite Element wenigstens teilweise bündig mit der Oberfläche des Substrats i abschneidet. i2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- j zeichnet, daß das Substrat eine das zweite Element enthaltende i Oberflächenauflage auf v/eist. j5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- I zeichnet, daß das Substrat eine Oberflächenauflage aus einer j Legierung des ersten Elements und des zweiten Elements auf- j weist. s4-, Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- | zeichnet, daß das Substrat eine Oberflächenauflage aufweist, welche eine untere, das erste Element enthaltende Schicht und eine obere, das zweite Element enthaltende Schicht umfasst·5?. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Element Niobium ist.6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich das erste Element in dem zu behandelnden Substrat entweder in metallischem Zustand oder in Form einer Legierung einer halbmetallischen oder zwischenmetallischen Verbindung mit wenigstens einem anderen Element befindet.7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekenn- _...zeichnet, .daß_das erste Element durch rait Aluminium oder SiIi-509846/0921I zium legiertes Niobium gebildet wird. ·8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4-,dadurch gekennzeichnet, daß das erste Element durch Chrom, Wolf-j ram oder Molybdän gebildet wird.9· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8,'dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element Aluminium ist.10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, j dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element durch Silizium, j Aluminium, Tantal, Uran oder Molybdän in metallischem Zustand i gebildet wird. . . j11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, \dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element in Form einer I halbleitenden oder sogar isolierenden Verbindung benutzt wird, ! wie Siliziuonitrid, Aluminiumnitrid oder auch Molybdän-, Uran-, ; Tantal- oder Aluminiumsilizid. - -12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, ; dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element durch Gallium im ' Zustand von Galliumphosphid oder Galliumarsenid gebildet γ/ird. .13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, ■ dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element in Form eines Oxyds benutzt wird, wie Siliziumoxyd SiO2, Uranoxyd UO2, Galliumoxyd Ga^O-,, Tantaloxyd Ta2OcJ Aluminiumoxyd Al2O, oder Molybdänoxyd MoO-,.14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13» dadurch gekennzeichnet, daß die anodische Oxydation vor der vollständigen Oxydation des ersten Elements unterbrochen wird» ■15.. Verfahren zur Herstellung von Widerstände bildenden Gebilden in dünnen Schichten unter Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 13> dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat eine auf einer' isolierenden.Unterlage gebildete Widerstandsbasisschicht umfasst.16. Verfährea nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Widerstandsschicht eine Tantal enthaltende · Basisschicht, eine erste, niobium enthaltende Schicht und eine j zweite, Aluminium enthaltende Schient umfasst.17· Verfahren nach .Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß die anodische Oxydation so vorgenommen'wird, daß das erste Element vollständig oxydiert wird.18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekenn-L 509846/09 21zeichnet, daß die anodische Oxydation so vorgenommen wird, daß ausserdem eine wenigstens teilweise Oxydation eines oxydierbaren! Bestandteils der Widerstandsbasisschicht erfolgt.19· Verfahrai nach einem der Ansprüche Λ5 bisj 18, dadurch gekennzeichnet, daß die anodische Oxydation bis zur ; ι Erzielung eines vorbestimmten Werts des Widerstands des erhalte-» j nen Widerstandsgebildes fortgesetzt wird. ' ~ jj 20. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis jj 19, dadurch geleennzeichaet, daß die Widerstandsbasisschicht aus ; einem Werkstoff auf der Basis von Tantal besteht, gegebenenfalls ,' in Verbindung mit Stickstoff oder Sauerstoff, oder im Zustand ' einer legierung mit Aluminium oder insbesondere Silizium. 21. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die anodische Oxydation in einem Mittel vorgenommen wird, in welchem das von dem zweiten Element gebildete Oxyd teilweise löslich ist, derart, daß eine poröse Oberflächenschicht entsteht,und daß hierauf die anodische Oxydation in einem Mittel fortgesetzt wird, in welchem die gleichen Oxyde der beiden Elemente unlöslich sind. j22· Verfahren nach Anspruch 21, dadurch ge- j kennzeichnet, daß in dem zu behandelnden Oberflächenüberzug das erste Element durch Niobium und das zweite Element durch Aluminium oder Silizium gebildet wird, wobei diese beiden Elemente insbesondere in einer Legierung von Niobium und Aluminium oder Silizium enthalten sind.23· Werkstück mit einem Substrat und einem } Überzug auf diesem Substrat, dadurch gekennzeichnet, daß der j Überzug eine Oberflächenschicht aus einem Oxyd eines Elements, welches unter Niobium, Chrom, Molybdän,. Wolfram, Titan und Vanadium gewählt ist, und eine unmittelbar darunterliegende Zwischenschicht,' welche ein zweites, von dem ersten Element verschiedenes Element enthält, welches insbesondere unter Silizium, Aluminium, Gallium, Tantal, Uran und Molybdän gewählt ist,-umfasst, wobei dieses zweite Element in einer .nalbleitenden oder sogar isolierenden Verbindung enthalten ist, wobei diese darunterliegende Schicht zwischen der Oberflächenschicht J und einer inneren, das gleiche Oxyd wie die Oberflächenschicht jenthaltenden Schicht liegt. ä24. Werkstück nach Anspruch- 23, dadurch ge-5098A6/0 921kennzeichnet, daß der Überzug auf einem Substrat gebildet ist, welches das erste Element im Zustand eines Metalls oder einer Legierung, oder einer halbmetallischen Verbindung oder einer Verbindung zwischen Metallen mit wenigstens einem anderen Element enthält· . .25· Werkstück nach Anspruch 23,. dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat eine Widerstandsbasisschicht ent- ! ι - ■ Ihält, welche wenigstens ein Metall, z.B. Tantal, enthält und auf einer isolierenden Unterlage gebildet ist.26. ' Werkstück nach Anspruch 25* dadurch gekennzeichnet, daß das erste Element sich praktisch vollständig über die ganze Dicke der inneren Schicht in oxydiertem Zustand befindet, und daß das Metall der Widerstandsbasisschicht sich über wenigstens einen Teil der Dicke der Widerstandsschicht ebenfalls in oxydiertem Zustand befindet. j27· Werkstück nach Anspruch 23 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß der Überzug eine Oberflächenschicht aufweist, ■welche hauptsächlich durch ein Oxyd gebildet wird, welches aus den Oxyden von Niobium Nb2Oc, Chrom Cr2O,, Wolfram WO, oder Molybdän MoO, ausgewählt ist, wobei diese Oberflächenschicht durch eine Zwischenschicht, welche hauptsächlich durch wenigstens ein anderes Oxyd gebildet wird, welches insbesondere unter den Oxyden von Silizium SiO2, Aluminium Al2Ov, Gallium Ga2O,, Tantal Ta2O1-, Uran UO2 oder Molybdän MoO, ausgewählt ist, von einer unteren Schicht getrennt wird, welche wenigstens das dem Oxyd, der Oberflächenschicht entsprechende Element enthält, nämlich Niobium, Chrom, Wolfram oder Molybdän, welches seinerseits in unmittelbarer Nähe der Zwischenschicht wenigstens teilweise oxydiert ist.28. Werkstück nach Anspruch 25 oder 26,- gekennzeichnet durch eine Oberflächenschicht (11, Fig. 3) aus Niobiumoxyd NbpOc, welche durch eine hauptsächlich durch Aluminiumoxyd AIpO, gebildete Zwischenschicht (12) von einer inneren Schicht (13) getrennt ist, welche hauptsächlich durch" Niobiumoxyd Nb5Oc- gebildet wird und eine Tantal in metallischem Zustand oder im Zustand einer Legierung enthaltende Widerstandsschicht (14) überzieht, weiche ihrerseits vorzugsweise eine Schicht (16) .aus Tantaloxyd (Tao0c) in unmittelbarer Nähe der unteren-Niobi«. umoxydschicht aufweist. ·5098467092129. Werkstück mit einem aus einem Substrat gebildeten Oberflächenüberzug, gekennzeichnet durch ein poröses .Gebilde, welches Oxyde eines zweiten, aus Silizium, Aluminium, .Gallium, Tantal, Uran und Molybdän ausgewählten Elements enthält, v/obei die Poren dieses porösen Überzugs wenigstens in eijnem Teil der Dicke desselben unter Ausgang von dem Substrat mit !einem Oxyd eines ersten, aus Niobium, Chrom, Molybdän oder WoIfiram ausgewählten Elements ausgefüllt sind.; 30. Werkstück mit einem Überzug nach Anspruch 291 dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat durch eine Legierung von Niobium und Aluminium gebildet wird, daß die poröse Schicht Oxyde von Niobium und Aluminium enthält, und daß die Poren durch ein Niobiumoxyd ausgefüllt werden. j 31· Anwendung des Verfahrens nach einem der: Ansprüche 1 bis 14, 21· oder 22 auf den Korrosionsschutz eines j ein erstes und ein zweites Element der in den Ansprüchen 1 bis j : 14, 21 oder 22 definierten Art enthaltenden Substrats, dadurch 1 gekennzeichnet, daß wesentlich durch anodische Oxydation auf dem Substrat eine Oberflächenschutzschicht aus einem Oxyd des ersten. ' Elements gebildet wird.i 32. Anwendung des Verfahrens gemäß einemder Ansprüche 1 bis 14 auf die Herstellung von reflektierenden Oberflächen mit einem bestimmten Brechungsindex unter Ausgang von Oberflächen, welche ein erstes und ein zv/eites Element mit verschiedenen Brechungsindizes enthalten, welche unter den in einem der Ansprüche 1 bis 14 definierten Bedingungen einander zugeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Oberfläche einer anodischen Oxydation unterworfen wird, welche aufrechterhalten wird, bis diese Oberfläche einen Brechungsindex mit dem gewünschten Wert aufweist.33· Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 15 bis 20 auf die Einstellung des Widerstands von Widerstandsgebilden auf einen bestimmten Wert, wobei diese Wi- . derstandsgebilde in der Nähe ihrer Oberflächen ein erstes und j ein zweites Element enthalten, welche unter den in den Ansprü- j chen 15 bis 20 definierten Bedingungen einander zugeordnet sind,-dadurch gekennzeichnet, daß die Widerstandsgebilde einer anodi-' sehen Oxydationsbehandiung unterworfen werden, bis ihr Widerstand den bestimmten Wert besitzt.509846/092:1Leerseite
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7341847A FR2253848A1 (en) | 1973-11-23 | 1973-11-23 | Protective, insulating anodically oxidised coatings - on base materials contg. at least two metals in parts under surface |
FR7426017A FR2280182A2 (fr) | 1974-07-26 | 1974-07-26 | Procede de realisation de revetements superficiels, revetements et pieces revetues ainsi obtenues |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2455048A1 true DE2455048A1 (de) | 1975-11-13 |
Family
ID=26218044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742455048 Pending DE2455048A1 (de) | 1973-11-23 | 1974-11-20 | Verfahren zur herstellung von oberflaechenueberzuegen, sowie mittels desselben erhaltene ueberzuege und ueberzogene werkstuecke |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4108736A (de) |
JP (1) | JPS50113433A (de) |
DE (1) | DE2455048A1 (de) |
GB (1) | GB1496145A (de) |
NL (1) | NL7415254A (de) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2402944A1 (fr) * | 1977-09-12 | 1979-04-06 | Thomson Csf | Procede de realisation d'un compose superficiel entre un substrat et une espece reactive |
JPH0643128B2 (ja) * | 1983-02-05 | 1994-06-08 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド |
NL8303183A (nl) * | 1983-09-15 | 1985-04-01 | Philips Nv | Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. |
JPH062416B2 (ja) * | 1984-01-30 | 1994-01-12 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 |
US4582588A (en) * | 1984-09-04 | 1986-04-15 | Texas Instruments Incorporated | Method of anodizing and sealing aluminum |
JP3120521B2 (ja) * | 1991-12-24 | 2000-12-25 | カシオ計算機株式会社 | 金属膜の陽極酸化方法 |
CA2126251A1 (en) | 1994-02-18 | 1995-08-19 | Ronald Sinclair Nohr | Process of enhanced chemical bonding by electron beam radiation |
US5766379A (en) * | 1995-06-07 | 1998-06-16 | The Research Foundation Of State University Of New York | Passivated copper conductive layers for microelectronic applications and methods of manufacturing same |
US6124538A (en) * | 1996-06-21 | 2000-09-26 | Landell; Jonathon A. | Musical instrument |
FR2862433B1 (fr) * | 2003-11-17 | 2006-01-13 | Dcn | Pile electrique de propulsion d'engin en milieu aquatique. |
US20050218005A1 (en) * | 2004-04-01 | 2005-10-06 | Yanming Liu | Anodizing electrolytes for high voltage capacitor anodes |
JP2006126234A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Sony Corp | 撮像装置、光量調整機構、光量制御羽根及び光量制御羽根の製造方法 |
WO2013092580A2 (de) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | Ionbond Ag | Anodisierungsverfahren, dekorative beschichtung, schutzschicht und artikel |
WO2019074470A1 (en) * | 2017-10-09 | 2019-04-18 | Keysight Technologies, Inc. | MANUFACTURE OF HYBRID COAXIAL CABLE |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3075896A (en) * | 1958-10-27 | 1963-01-29 | Shuron Optical Company | Process for coating titanium articles |
BE628956A (de) * | 1962-02-28 | |||
US3457148A (en) * | 1964-10-19 | 1969-07-22 | Bell Telephone Labor Inc | Process for preparation of stabilized metal film resistors |
US3378471A (en) * | 1965-06-17 | 1968-04-16 | Gen Electric | Anodized tantalum and niobium and method of forming an oxide coating thereon |
US3493475A (en) * | 1967-02-13 | 1970-02-03 | Gen Electric | Method of forming cryotrons on rolled aluminum substrates |
GB1246447A (en) * | 1967-09-26 | 1971-09-15 | Imp Metal Ind Kynoch Ltd | Improvements in or relating to the manufacture of oxide-coated electrodes for use in electrolytic processes |
US3784951A (en) * | 1968-05-22 | 1974-01-08 | Bell Telephone Labor Inc | Thin film resistors |
JPS4913143B1 (de) * | 1970-08-10 | 1974-03-29 | ||
BE792614A (fr) * | 1971-12-13 | 1973-03-30 | Western Electric Co | Procede de realisation d'une couche d'oxyde sur un semi-conducteur |
US3859178A (en) * | 1974-01-17 | 1975-01-07 | Bell Telephone Labor Inc | Multiple anodization scheme for producing gaas layers of nonuniform thickness |
US3882000A (en) * | 1974-05-09 | 1975-05-06 | Bell Telephone Labor Inc | Formation of composite oxides on III-V semiconductors |
-
1974
- 1974-11-20 DE DE19742455048 patent/DE2455048A1/de active Pending
- 1974-11-22 NL NL7415254A patent/NL7415254A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-11-22 GB GB50762/74A patent/GB1496145A/en not_active Expired
- 1974-11-25 JP JP49135417A patent/JPS50113433A/ja active Pending
- 1974-11-25 US US05/526,915 patent/US4108736A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS50113433A (de) | 1975-09-05 |
NL7415254A (nl) | 1975-05-27 |
GB1496145A (en) | 1977-12-30 |
US4108736A (en) | 1978-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3535548C2 (de) | Beschichteter Gegenstand und Verfahren zum Herstellen einer Beschichtung eines Gegenstandes | |
DE2455048A1 (de) | Verfahren zur herstellung von oberflaechenueberzuegen, sowie mittels desselben erhaltene ueberzuege und ueberzogene werkstuecke | |
DE3046695C2 (de) | ||
DE60206207T2 (de) | Kappa- und gamma-A1203-Mehrfachbeschichtung,hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung bei niedrigen Temperaturen | |
DE2801218C3 (de) | Verfahren zum elektrolytischen Ätzen einer rekristallisierten Aluminiumfolie und deren Verwendung | |
EP1972322A2 (de) | Verfahren zum Polieren von metallischen Zahnrekonstruktionen | |
DE2450850B2 (de) | Verfahren zum herstellen von isolierenden ueberzuegen auf orientiertem si-stahlblech zur verringerung der magnetostriktion | |
DE1952877B2 (de) | Verfahren zur herstellung von gussteilen aus einer nickelgusslegierung | |
DE69602226T2 (de) | Eisenlegierung mit Fe-Al Diffusionsschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
WO2020064546A1 (de) | Verfahren zur modifikation von feuerverzinkten oberflächen | |
DE3640433A1 (de) | Titan-verbundanordnung mit einer spiralfoermigen skelettartigen konstruktion auf ihrer oberflaeche und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE2430363C3 (de) | Verfahren zur Bildung eines metallischen Überzugs auf einer Oberfläche aus mindestens einem hochwarmfesten Metall | |
DE1458275A1 (de) | Verfahren zum Herstellen korrosionsbestaendiger,dichter Nickelueberzuege auf Stahlband | |
DE2650989A1 (de) | Verfahren zur behandlung von aluminiumoberflaechen durch oxidation mit einer nachfolgenden verdichtung | |
DE3601439C1 (de) | Schichtverbundwerkstoff,insbesondere fuer Gleit- und Reibelemente,sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2229785A1 (de) | Warmfeste Nickel Chrom Legierung | |
DE2715291A1 (de) | Verfahren zur herstellung amorpher, leichter, festhaftender phosphatueberzuege an eisenmetalloberflaechen | |
DE2205367B2 (de) | Anlaufbestandiges Erzeugnis auf Silberbasis | |
CH645135A5 (de) | Aluminiumlegierungsfolie zur verwendung als kathodenfolie in elektrolytkondensatoren und verfahren zu deren herstellung. | |
DE810097C (de) | Verfahren zur Herstellung eines Oxydueberzuges auf Aluminium | |
WO2017127859A1 (de) | Verfahren zur abscheidung einer schicht auf einem gleitlagerelementrohling | |
DE4215017A1 (de) | Komponente auf der Basis intermetallischer Phasen des Systems Titan-Aluminium und Verfahren zur Herstellung solcher Komponente | |
DE1446117C3 (de) | Verfahren zur Erzeugung einer Diffusionsschicht auf Gegenständen aus Legierungen | |
DE1546051A1 (de) | Verfahren zum Aufbringen von UEberzuegen auf Hochtemperatur-Legierungen | |
DE2540999C3 (de) | Elektrischer Steckkontakt mit einer Kontaktschicht aus einer Silber-Palladium-Legierung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHJ | Non-payment of the annual fee |