DE1546051A1 - Verfahren zum Aufbringen von UEberzuegen auf Hochtemperatur-Legierungen - Google Patents
Verfahren zum Aufbringen von UEberzuegen auf Hochtemperatur-LegierungenInfo
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- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 61
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 29
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 26
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 25
- -1 silicon halide Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims description 24
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 23
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 14
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 10
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 16
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309466 calf Species 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910000601 superalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
- C23C16/345—Silicon nitride
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
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Description
Verfahren zum Aufbringen von überzugei auf
Hochtemperatur-Legierungen 1546051
Die Erfindung bezieht sich auf Metalle und Legierungen und betrifft
insbesondere ein Verfahren zum Überziehen von Metallen und Legierungen,
die gute Spannungsriss-Festigkeiten bei hohen Temperaturen haben, mit
dem Ziel, solche ii-etalle und Legierungen widerstandsfähig gegen
Oxydation, unerwünschte Veränderungen und gegen Verschjeiss zu machen»
i)ie Erfindung ist generell anwendbar auf Metalle und Legierungen, die
einer Zersetzung bei Temperaturen oberhalb 875 C widerstehen, sie ist
jedoch insbesondere vorteilhaft für die Behandlung von warmfesten Nickelhasislegierunt,en, warmfesten Kobaltbasislegierungen und Columbiumbasislegierungen.
In früheren Jahren sind warmfeste Nickelbasislegierungen, mrnifeste
Ikobaltbasislegierungen und Columbiuinbasislegierüngen entwickelt worden,
die hervorragende Spannungsriss-i'estigkeit bei hohen Temperaturen
besitzen« jüs ,wurden dabei warmfeste Ivickel- und Kobaltbasislegierungen,
oder sogenannte "auperlegierungen" entwickelt, die ausreichende
opaimungsrisaifestigkeit bei Temperaturen bis zu 982,2 C aufweisen,
und es wurden ferner bereits früher Columbiumbasislegierungen entwickelt,
die besonders gute Spannungsrissfestigkeit bei so hohen
Temperaturen wie I300 G zeigen. Solche Legierungen sind ganz besonders
vorteilhaft als Schaufeln und Flügel für Gasturbinen, insbesondere für
Ju.senflugzeug—Triebwerice, Das Hauptproblem bei solchen Legierungen
liegt darin, daß sie einem besonders starken Angriff durch Oxydation
und unliebsamen Veränderungen bei hohen Temperaturen ausgesetzt sind
und gegebenenfalls dabei unbrauchbar werden können, wenn sie nicht
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., BAD QRfGINAL
mit geeigneten Überzügen geschützt sind·
Besonders anfällig gegen Oxydation bei hohen Temperaturen sind Columbiumbasislegierungen, und diese fallen sehr schnell aus, wenn sie nicht
durch geeignete Schutzüberzüge geschützt sind,
Gemäss der vorliegenden Erfindung wurde ein neues und verbessertes
Verfahren zum Überziehen von Metallen und Legierungen des genannten
Types mit pyrolytischeiu Siliciumnitrid entwickelt, durch das die
Metalle und Legierungen widerstandsfähig gegen Oxydation und Korrosion
in Luft bei hohen Temperaturen gemacht werden»
Eine der der vorliegenden Erfindung zugrunde liegenden Aufgaben besteht
darin, Metalle und Legierungen, die gegen Temperaturen oberhalb 875 C beständig sind, mit einem verbesserten Schutzüberzug aus
p-y-rolytischein Siliciumnitrid zu versehen»
Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung bestehen darin, ein Verfahren
zum Aufbringen eines kontinuierlichen pyralytischen Silicium—
nitrid-Überzuges auf warmfeste, Hoehtemperatur-Nickelbaeislegierungen,
warmfeste Kobaltbasislegierungen und Columbiumbasislegierungen vorssu—
schlagen. Die so aufgebrachten Überzüge geben den genannten Metallen
und Legierungen hervorragende Widerstandsfähigkeit gegen Oxydation und
ungünstige Veränderungen in Luft bei erhöhten Temperaturen bis zu annähernd l6oo C,
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung bea-eht darin, einen
kontinuierlichen Überzug aus pyrolytischem Siliciumnitrid auf warmfeste Nickelbasislegierungen, warmfeste Kobaltbasislegierungen und
Columbiumbasislegierungen aufzubringen, die zur Verwendung als
Schaufelblätter in Gasturbinen vorgesehen sind* Ein solcher Überzug
verleiht den Turbinenschaufeln gute Widerstandsfähigkeit sowohl gegen
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Verschleiss als auch gegen Korrosion.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum
Aufbringen'eines dünnen, guthaftenden, nichtporösen, chemisch inerten,
verschleissfesten und kontinuierlichen Überzuges aus pyrolytischem
Siliciumnitrid auf warmfeste Nickelbasislegierungen,warmfeste Kobalt—
basislegierungen und Columbiumbasislegierungen in Vorschlag zu
bringen»
Weitere Aufgaben und Vorteile der Erfindung sind zum Teil in der nachstehenden
Beschreibung ausgeführt und sind zum Teil aus der Beschreibung ersichtlich, oder sie können bei der Durchführung des erfindungs—
gemässen Verfahrens erkannt werden, da diese Aufgaben und Vorteile
realisiert und erhalten werden vermittels der Bestandteile und einzelnen
Verfahrensschritte, wie sie in den beiliegenden Ansprüchen im
einzelnen genannt sind·
Gemäse einer Ausführungsform der Erfindung lässt sich der verbesserte
Überzug in der Weise erhalten, daß die Metalle und Legierungen zunächst
bei einer Temperatur oberhalb 875 C mit einer gasförmigen
Mishhung, bestehend aus Siliciumlialid und Wasserfreiem Ammoniak,
behandelt werden.
Falls gewünscht, kann das Basismetall, insbesondere die warmfesten
Nickelbasismetall—Legierungen und warmfesten Kobaltbasismetall-Legierungen
zuerst mit Luft oder Sauerstoff bei erhöhten Temperaturen, beispielsweise bei 8Üo — 95o C, behandelt werden, um eine Vorschicht
aus Oxyden zu erzielen,
(iemäss einer weiteren spezifischen und bevorzugten Ausführungsform
der vprliegenden Erfindung lässt sich ein verbesserter Überzug aus
pyrolytischem Siliciumnitrid auf warmfesten Mckelbasislegierungen,
warmfesten uobaltbasislegierungen und Columbiumbasislegierungen in
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der Weise erzielen, daß das Metall oder die Legierung bei einer Temperatur
von 875 ·* Hf)O0C in Kontakt gebracht wird mit einer ersten gasförmigen Mischung, die Siliciumhalid und Stickstoff enthält, und daß
danach das Metall oder die Legierung in Kontakt gebracht wird mit einer
zweiten gasförmigen Mischung, die Siliciumhalid und wasserfreien Ammoniak enthält»
Die aus pyrolytischem Siliciumnitrid bestehende Überzugsschicht, wie
sie erfindungsgemäss hergestellt-wird, h&t eine nahezu theoretische
kristallographische Dichte und ist dadurch gekennzeichnet, daß sie lichtdurchlässig, hart, chemisch inert ist und gute Üxydations·-
und Korrosionsbeständigkeit, ein hohes Emissionsvermögen, eine geringe wärmeleitfähigkeit, guten Verschleisswiderstand aufweist und hichtporös
ist. Der Überzug ist ferner ein guter elektrischer Isolator.
Die Erfindung soll mit Bezug auf die Metalle und Legierungen, die im
Einzelnen zuvor genannt wurden, beschrieben werden.
Das Verfahren der Erfindung zum Formen eines Überzuges von pyrolytischem
Siliciumnitrid auf einem aus warmfesten Nickelbasislegierungen, warmfesten
Kobaltbasislegierungen hergestellten Formkörper» besteht, allgemein
gesehen, darin, daß der zu überziehende Formkörper auf eine Temperatur von etwa 875 -* 115o C, vorzugsweise zwischen etwa 9oo und lloo C
erhitzt wird, daß danach eine gasförmige Misb.hung, die ein Metallhalid,
vorzugsweise üiliciumtetrafluorid, und Stickstoff enthält, mehrere ·
stunden lang über die heisse Oberfläche geleitet wird, um die Oberfläche
des Metalls mit einer Vorschicht von Nitrid zu versehen, und daß danach eine gasförmige Mischung, die ein Siliciumhalid, vorzugsweise
Siliciumtetrafluorid, und wasserfreies Ammoniak enthält, über
die heisse Oberfläche geleitet wird, bis die gewünschte Dicke des Niederschlages von Siliciumnitrid erhalten ist» ^
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Die Reaktion sollte zweekmässig im Vakuum durchgeführt werden.
Wenn man die Reaktion nicht im Vakuum durchführen will, so kann man
ein Trägergas verwenden und die Reaktion bei normalem Atmosphärendruck
oder sogar bei überatmosphärischem Druck durchführen» Geeignete Trägergase
sind beispielsweise Stickstoff und die Edelgase, wie Neon,
Kr pton, Argon u.dgl.
Unabhängig davon, oh Vakuum oder ein Inertgas verwendet wird, sollte
der Partialdruck der Ausgangsgase (Metallhalid im ersten Verfahrens—
schritt und Ammoniak und Siliciumhalid im zweiten Verfahrensachritt),
die in Kontakt mit den heissen Oberflächen des zu behandelnden Metalles
oder der Legierung gebracht we "den, unterhalb etwa 3oo mm Quecksilber
und vorzugsweise unterhalb loo mm Quecksilber liegen. Besonders gute
Ergebnisse werden erhalten, ivenn der öesamt«Partialdruck der .Ausgangs—
gase unterhalb Io mm Quecksilber oder zwischen etwa 1 und Io mm
Quecksilber liegto
In der letzten Behandlungsstufe kann das molare Verhältnis von
Ammoniak zu Siliciumhalid variiert werden, je nach dem Maß des Niederschlages,
üas molare Verhältnis von Ammoniak zu Jiliciumhalid kann
dabei von'l : 1 bis io : 1 variieren, obgleich vorzugsweise der
prozentuale molare Anteil an Ammoniak, berechnet auf die Gesamtmenge
an Siliciumhalid und Ammoniak, ■ zwischen etwa 5o und 85 f>
betragen sollte,
Bei der Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens sollte darauf
geachtet werden, daß die erste Verfahrensstuf#e,- in der der Vor—Überzug
aufgebracht wird, und in der Siliciumhalid und Stickstoff verwendet werden, einen besonders wichtigen Teil der iDrfindung bildet»
In dieser ersten Verfahrensstufe muss die Behandlung so lange durch—
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BAD ORfGiNM.
geführt werden, bis die gesamte Oberfläche der Legierung mit einer
extrem dünnen, kontinuierlichen Filmschicht des Nitrids überzogen ist.
Nachdem eine dünne, gleichmässige Schicht auf den Metallen und Legierungen, wie sie im einzelnen zuvor beschrieben sind, ausgebildet
ist, setzt sich, wie gefunden wurde, kein weiteres Nitrid ab, solange die gasförmige Mischung von riiliciumhaliti und Stickstoff verwendet
wird. In diesem Zeitpunkt wird die Stickstoffzugabe abgestellt und
anstelle des Stickstoffs wird Ammoniak zugegeben, wodurch sich der
Niederschlag in jeder gewünschten Dicke ausbildet.
Wenn man versucht, die Legierungen und Metali, wie wie im einzelnen
zuvor beschrieben wurden, direkt durch die Verwendung von Silicium—
halid und Ammoniak zu überziehen, so erreicht man, wie gefunden wurde,
keine Haftfestigkeit des Nitritüberzuges an der Legierungsoberfläche.
Eine Erklärung dafür konnte bisher noch nicht gefunden werden.
Wenn man Siliciumhalid und Stickstoff einsetzt, um einen dünnen Nitrid—
vorÜberzug aufzubringen, und danach mittels einer gasförmigen Mischung
von Ammoniak und Siliciumhalid die eigentliche Niederschlagsschieb/fc
herstellt, so haftet die Siliciumnitrid-Schutzschicht zäh und fest
an der Oberfläche des Basismetalls oder der Legierung, und es lässt sich
ein gleichmässiger und kontinuierlicher Niederschlag aufbauen.
Dagegen kann man, wie bereits ausgeführt wurde, mit einer gasförmigen
Mischung von Stickstoff und Siliciumhalid alleine nicht einen dicken
Niederschlag von Nitrid erzielen. Der Eilmüberzug, der mit Stickstoff
und Siliciumhalid alleine entsteht, vermag nicht den im einzelnen zuvor
beschriebenen Metallen oder Legierungen das erforderliche Ausmass an
Schutz zu verleihen* Nur dann, wenn man anschließend an die vermittels
der Verwendung von Stickstoff and Siliciumhalid erhaltene Vörschiciit
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einen Niederschlag aus einer gasformigen Mischung von Siliciumhalid und
Ammoniak aufbringt, wird der zähe und feste Überzug ausreichen dick,
tos den erforderlichen Schutz gegen Oxydation und Veraehleiss zu gewähren«
Zum klareren Verständnis der vorliegenden Erfindung dienen die nachstehenden speziellen -Beispiele« Biese Beispiele haben nur illustrativen
Charakter und seilen nicht den Umfang oder die der Erfindung zugrunde
liegenden Prinzipien einschränken«
Ein Überzug aus pyrolytischem Siliciumnitrid auf einem Streifen aus
einer Columbiumb as islegierung, die im wesentlichen aus Columbium und
etwa 1 Gew.-^ Zirkoniu» bestand, mit den Abmessungen 1,52 χ 1,52 χ o,o9 cm
wurde wie folgt hergestellt:
In einen 15*24 cm langen, einen inneren Durchmesser von ca, 3*81 cm
aufweisenden Graphitzylinder wurde an einem Ende Stickstoff und
SiliciuHitetrafluorid getrennt voneinander, jedoch gleichzeitig, eingeführt.
An dem anderen Ende wurde der Zylinder mit einer Vakuumpumpe
entlüftet.
Das Siliciumtetrafluorid und der Stickstoff wurden mit einer Geschwindigkeit
von 3»3 Milliaolen je Minute bzw« 15f6 Millimolen je Minute
in den Zylinder eingeführt. Der Zylinder enthielt den Streifen aus
Cοlumbiumbasislegierung, und zwar lag dieser in der Mitte des Zylinders
mit seiner Oberfläche- parallel zur Zylinderachse, und der Zylinder wurde
vermittels Widerstandsheizung auf lolo C erhitzt, wobei die Temperatur
mittels eines Pyrometers gemessen und durch eine schmale öffnung in
der Zylinderwand abgelesen wurde» .Die temperatur wurde nack einer halben
Stunde auf lloo € gesteigert« iiährend des gesamten \ferf ahrensvorganges
wurde ein absoluter Druck von 2 mm v^uecksüber aufrecht erhalten. Nachdem
909843/0928 ^s „ -7%
BAD OFSfGINAL
die Überfläche dee Streifens aus Cοlumbiumbasislegierung in dieser
weise mehrere Stunden lang behandelt worden war, wurde die Stickstoff—
zufuhr auf 12,2 Millimole je Minute verringert und wasserfreies Ammoniak stattdessen ersetzt« Nach einer weiteren Stunde wurde die
Stickstoffzufuhr abgestellt und der Ammoniakzustrom verstärkt. Die
Zuführung von Siliciumtetrafluorid wurde wie zuvor fortgeführt, so daß
Ammoniak und Siliciumtetrafluorid getrennt^ jedoch gleichzeitig, in
den iteaktor eingeführt wurde. In der Verfahrensendstufe wurden
Ammoniak und Siliciumtetrafluorid mit einer Geschwindigkeit von
7,8 fciillimolen je Minute bzw, 3»3 Millimolen je Minute zugegeben,
.auf dem Streifen aus Columbiumbasislegierung setzte sich ein Überzug
aus einem pyrolytischen Siliciumnitrid ab.
Der so hergestellte Überzug aus pyrolytischem Siliciumnitrid auf
dem Streifen aus Columbiumbasislegierung war gleichmässig, lichtdurchlässig,
hart, nichtporös und chemisch inert und hatte eine geringe Wärmeleitfähigkeit,
Auf einem aus chromplatiertem Nickel bestehenden Streifen mit den
Abmessungen 1,27 x 1,27 x o,o76 cm wurde ein Überzug aus pyrolytischem
Siliciumnitrid in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben
erhalten, jedoch mit folgender Abänderung:
In einen wie im Beispiel 1 beschriebenen Zylinder, in dem der Streifen
aus chromplaftiertem Nickel wie im Beispiel 1 beschrieben angebracht,
wurde, als der Zylinder eine Temperatur von lloo C hatte und unter
einem Druck von 3 mm liuecksilber stand, eine Mischung aus Siliciumtetrafluorid
und Stickstoff eingeführt. Der Zufluss von Siliciumtetrafluorid
betrug 3j3 Millimole je Minute und derjenige von Stickstoff
betrug Id,6 Millimole je Minute, während die Temperatur und der Druck
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154bO5i
aufrecht erhalten wurden. Nach 2 Stunden wurde die Temperatur auf
looo C reduziert, und der Zufluss von Silieiunitetrafluorid wurde auf
6,6 -Minimale je Minute verstärkt; dabei wurde wasserfreies Ammoniak
mit einer Geschwindigkeit von 15,6 Millimolen je Minute zugegeben
und der Stickstoffzufluss wurde abgestellt« Zu diesem Zeitpunkt wurde
der Druck auf orö mm Quecksilber reduziert. Eine halbe Stunde später
wurde der Druck auf 7 mm Quecksilber erhöht»
Die Eigenschaften des aus pyrolytischem Siliciumnitrid bestehenden
Überzuges, der nach diesem Beispiel erhalten worden war, waren praktisch
die gleichen wie diejenigen .es geniäss Beispiel 1 erhaltenen Überzuges.
In der gleichen ',Veise wie im Beispiel 1 beschrieben wurde ein überzug
aus pyrolytischem Siliciumnitrid auf einem Streifen aus einer warmi'esten
!.iekelaasislegierung, die im wesentlichen aus Kickel Miit 13,5
Gew.-/ΰ Chrom und 8 tiew.-^ üiis en bestand, erhalten, jedoch'mit folgenden
Abänderungen;
Die üeli and lung mit der gasförmigen Mischung aus Stickstoff und oiliciiuiitetrafluorid
erfolgte bei 9oo C, und danach wurde die Behandlung mit
der gasförmigen Mischung «us wasserf reiem ^immoniak und i:Jiliciumte trai'luüi'id
bei der gleichen Temperatur vorgenommen. Die iiÜgenscllaften
des so erhaltenen Überzuges waren die gleichen wie diejenigen des
nach Beispiel 1 gewonnenen Überzuges«
In der gleichen iVeise wie in Beispiel 1 beschrieben wurde ein Überzug
aus pyroiytischem Siliciumnitrid auf einem Streifen aus einer vsrärinfesien
l.ickelbasislegierüng, die im wesentlichen aus Micke! mit etwa 19,5
Gewi-)ö Chrom, kt2y Gewj-yi Molybdän^ J Gew.-/i Titan, 1,4 Gew»-/i
Aluminium, o^oo5 Gewt-/i Bor und 0,00"J Gew.-/» Zirkon bestand, erhalten,
909*43/0928;
jedoch mit folgenden Abänderungen:
Die gasförmige Mischung von Stickstoff und Siliciuiatetraflnxorid wurde <
bei einer Temperatur von lolo C und einem Druck von 3 nun tluecksilber
über die Probe geleitet* Der Zufluss des Siliciumtetrafluorids beferug^ 'V
3,3 Millimole je Minute und derjenige des Stickstoffes 15,6 Millimole
je Minute» Nach einer halben Stunde wurde der Druck auf 7 mm Quecksilber
gesteigert, Nach 3 l/2 Stunden wurde wasserfreies Ammoniak mit einer ■·
Geschwindigkeit von 3,5 Millimolen je Minute zugeführt, und der Zufluss
von Stickstoff wurde auf 12,3 Millimole je Minute reduziert. Der Druck
wurde auf 3 nun Juecksilber verringert. Eine Stünde später wurde der
Zufluss von Stickstoff abgestellt, und es wurden Siliciumtetraflüorid
in einer Menge von 6,6 Millimolen je Minute und wasserfreies Ammoniak
in einer Menge von 13,6 Millimolen je Minute zugegeben. Der Drück wurde
auf 7 mm iueck3iIber erhöht, '■' .
Üeispiel 5 ..·■-.,- .....*....
In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurde ein Überzug
aus pyrolytischem Siliciumnitrid auf einem Streifen aus ^iner Kobaltbas
is legierung j die im wesentlichen aus Kobalt mit 2i Gew.~)i Chrom,
2 GeWi-^'-iilisen, Ii Gew,-/o Wolfram und 2 Cräw,-^ Columbiuiii beetand,
erhalten, jedoch mit fol ehden Abänderungen:
Die Behandlung mit der gasförmigen Mischung aus stickstoff und Siliciumtetrafluorid
wurde bei einer Temperatur von lloo C und die
Üehandlung mit der gasförmigen Mischung von wasserfreiem Ammoniak und
Siliciumtetrafluorid bei einer Temperatur von iolo C vorgenommen» In
den Versuchen in diesem üeispiel wurden ßemühungen angestellt, um die
erste Behandlung bei loi'o C varzunehmenj jedoch war dabei keine anliafw
tende Überzugsschicht zu erhalten, iiiii Versuch, die zw'öite i3ehandluhg bei
lloo € vorzunehmen, erbrachte ebeäfäÜs kein& anhaftende Überzugs—
schicht aus pyrdlyfcisehem Siliciumnitrid» , . --■-.-,.-
8 - - - ^io«
BAD OR/GiNAL
I OtOUO I
■■:■. ■■■■./'■' : :: U : .;■■ ■■■■
Das pyrolytische Siliciumnitrid, das in diesem Beispiel als Überzugs—
schicht aufgebracht wurde, hatte die gleichen Eigenschaften wie die
gemäss Beispiel 1 aufgebrachte Überzugsschicht^
Als Ammoniak wurde in dem vorstehend beschriebenen Beispiel wasserfreies
Ammoniak verwendet.
Versuche, Streifen, die genau so zusammengesetzt waren wie diejenigen,
die in den Beispielen 2, 3» 4. und 5 eingesetzt wurden und Streifen
aus unplatiertem oder unlegiertem Nickel durch Behandlung mit Siliciumtetrafluorid
und Luft und nachfolgender Behandlung mit -iliciumtetrafluorid und Ammoni 1 zu überziehen, waren in allen Beispielen
ohne Erfolg, mit Ausnahme des Beispiels 4, bei ( ein man einen diskontinuierlichen
Üb jrzug bei einer Temperatur von 12oo C erhielt, \.enn man
diese gleichen Metalle mit Wasserstoff (der bei Zimmertemperatur mit Wasser gesättigt war) und Siliciumtetrafluoridbebandelte, so
Hess sich mit Ausnahme des Nickels, auf dem eine diskontinuierliche
Überzugeschichtsich bildete, keine Schichtbildung erzielen.
Wie in den Beispielen ausgeführt, lässt sich nach dem erfindungsge—
massen Verfahren eine bberzugsschicht aus pyrolytischem Siliciumnitrid
herstellen, die Widerstand gegen Oxydation und korrosion in Luft bei hohen Temperaturen, die weit oberhalb der maximalen Arbeitstemperatur von warmfesten Nickel— mnd Kobaltbasislegierungen und
Columbiumbasislegierun. en liegen,verleiht und diese Legierungen beim
Einsatz bei-hohen Temperaturen, für die sie bestimmt sind, gegen Oxy—
dationa- und Korrosionsangriffe schützt.
(iemäsB einer abgeänderten Ausführung«form der Erfindung zum Überziehen
von warmfesten Nickel— und Kobaltbasislegierungen werden die Legierungen
zuerst mit Luft bei etwa 8f>o — 950 C, vorzugsweise bei etwa 9«o C, behandelt,
um einen Oxyd-Uberzug auf den Metallen zu erzeugen. Die Le-
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■■'.■-'■ BAD ORJGfNAL
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gierungen werden dann auf etwa 95° - logo C, vorzugsweise auf etwa
looo°C bei reduziertem Druck, wie zuvor ausgeführt, in einem Stickstoffstrom,
der Metallhalide, wie Silicium,- Titan-oder Zirkoniumhai id, jedoch vorzugsweise 'i'itante.trachlorid, enthält, erhitzt. Beispielsweise
kann der Stickstoff mit Titantetrachlorid gesättigt werden dadurch, daß der Stickstoff über oder durch Titantetrachlorid geleitet wird.
Nachdem eine Nitrid—Vorschicht sich auf der Legierung ausgebildet
hat, wird wasserfreier Ammoniak zu.dem Strom zugegeben. Zum Schluss
wird die Legierung mit wasserfreiem Ammoniak und Siliciumt^trafluorid
wie zuvor beschrieben behandelt.
Obgleich das Verfahren der vorliegenden Erfindung insbesondere zweck—
massig ist zur Anwendung auf warmfeste Nickelbasislegierungen, warmfeste Kobaltbasislegierungen und Columbiumbasislegierungen und demge— ,
mass durch die vorliegende Erfindung mit einem Überzug versehene
Metalle der genannten Art geschützt sind, die charakterisiert sind
dadurch, daß sie mit einem dünnen anhaftenden, Oxydatione— und Korrosionsbeständigkeit verlei/henden Niederschlag von pyrolytischem
Siliciumnitrid, wie es erzielt wird gemäss den zuvor beschriebenen
Vfcxiahrensmaßnahmen, überzogen sind, kann das vorliegende Verfahren
auch, falls gewünscht, verwendet werden zur Behandlung einer Vielzahl von Metallen und Legierungen, die widerstandsfähig sind gegen Zersetzung
bei Temperaturen oberkalb 875 C.
t -
In ihrem weitesten Lmfnng ist die Erfindung nicht beschränkt auf die
spezifischen Einzelheiten, wie sie gezeigt und bewchrieben sind,
sondern es kann von diesen Einzelheiten abgewichen werden, ohne daß von dem Wesentlichen des Verfahrens der vorliegenden Erfindung und
den damit erreichten hauptsächlichen Vorteilen abgewichen werden muss,
909843/0928
Claims (1)
- Patentansprüche Λ , £ Λ γ Π ΐΖ Λ1, Verfahren zur Herstellung eines dünnen, anhaftenden, nichtporösen, Oxydations- und Korrosionsfestigkeit verleihenden Überzuges aus pyrolytischem Siliciumnitrid auf einem Grundmetall, das aus einer warmfesten Nickelbas islegierung, einer warmfesten Kobaltbasislegierung oder einer Columbiumbasislegierung besteht, dadurch gekennzeichnet, daß man die Oberfläche des Grundmetalles erhitzt und bei einer Temperatur zwischen etwa 875 und 119 ο C eine gasförmige Mischung, bestehend aus Metallhalid und Stickstoff mit der heissen überfläche des Metalls in Kontakt bringt und danach bei einer Temperatur zwischen etwa 875 und 12oo C eine gasförmige Mischung, bestehend aus Siliciumhalid und Ammoniak mit der heissen Oberfläche in Kontakt bringt.2» Verfahren nach Anspruch l,dadurch gekennzeichnet, daß man sowohl als Metallhalid als auch als Siliciumhalid jeweils Silicium— tetrafluorid verwendet»3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Stickstoff und das Mefcallhalid gleichzeitig nahe bei dem "Grundmetall eingeführt werden, und daß das Siüjciumhalid und der Ammoniak getrennt voneinander, jedoch gleiehzeitigy ebenfalls nahe bei dem Grundmetall eingebracht werden. . %4« Verfahren nach Anspruch 1 «- 3» dadurch gekennzeichnet, daß man auf dein Grundmetall einen absoluten Druck von weniger als 3oo mm Jaecksilber aufrecht erhält, . ■ ·5» Verfahren nach Anspruch 1 — kt dadurch gekennzeichnet, daßman die Mischung von Ammoniak und äiliciumhalid in eineoimolaren Ver-909843/0923 - «13«BADORtGlNALhältnis von ammoniak zu ailieiumhalid zwischen etwa 1:1 und Io : 1 einsetzt. Λψ 1&460516. Verfahren nach Anspruch 1 - 5| dadurch gekennzeichnet, daß man als Grundmetall eine Nickel-Chrom-^isen-Legierung verwendet und die Temperatur während der Behandlung auf etwa 9oo C hält«7. Verfahren nach Anspruch 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß man als Grundmetall eine warmfeste Nickelbasislegierung verwendet und die Temperatur während der Behandlung bei etwa lolo C hält.8. Verfahren nach Anspruch 1 - 5» dadurch gekennzeichnet, daß man als Grundmetall ein chromplattiertes Nickel verwendet und dass man die gasförmige Mischung von Stickstoff und Metallhalid bei etwa lloo°C on Kontakt mit der Oberfläche bringt und die gasförmige Mischung von Ammoniak und Siliciumhalid bei einer Temperatur von etwa lolo C in Eontakt mit der Oberfläche bringt.9. Verfahren nach Anspruch 1 — 5t dadurch gekennzeichnet,daß man als Grundmetall eine warmfeate Kobaltbaaislegierung verwendet und die gasförmige iüiachung von Stickstoff und Metallhalid bei einer Temperatur von etwa lloo C mit der Oberfläche in Kontakt bringt und die gasförmige Mischung von Ammoniak und Siliciumhalid bei einer Temperatur von etwa lolo C mit der Oberfläche in Kontakt bringt.Io. Verfahren nach Anspruch 1 - 5i dadurch gekennzeichnet,daß man als Grundmetall eine Columbiumbasislegierung verwendet, und. eine Temperatur von lioo C während des Verfahrens aufrecht erhält.11« Verfahren nach Anspruch 1 — lo,dadurch gekennzeichnet,daß man auf dem Grundmetall einen absoluten Dinick von weniger als909843/0928 - - -i*-*BAO 0RK3INALASIo mn Quecksilber aufrecht erhält.15A60512. Verfahren nach Anspruch 1 - 11, dadurch gekennzeichnet,daß man als Grundmetall eine warmfeste Nickel- oder Kobaltbasislegierung verwendet und diese Legierung, bevor man sie mit dem Metallhalid und dem Stickstoff in Eontakt bringt mit einem Oxydfilmvor—überzieht»13· Verfahren nach Anspruch 1 « 12, dadurch gekennzeichnet, daß man in der ersten Stufe, in der die heisse Oberfläche in Kontakt nit einer gasförmigen Mischung gebracht wird, eine solche Mischung einsetzt, die aus Siliciumtetrafluoridund Stickstoff besteht und' in der der Partialdruck des Siliciumtetrafluorids geringer als 3oo mm Quecksilber ist, und daß man in der zweiten Stufe eine gasförmige Mischung verwendet, die aus Siliciumtetrafluorid und · Ammoniak besteht und in der der gesamte Partialdruck von Silicium— tetrafItiorid und Ammoniak weniger als 3oo mm Quecksilber beträgt,14. Verfahren nach Anspruch 13« dadurch gekennzeichnet,daß man in der ersten Stufe eine gasförmige Mischung verwendet, in der der Partialdruck des Siliciumtetrafluorida weniger als Io mm Quecksilber beträgt, und daß man in der zweiten oetufe eine gasförmige Mischung verwendet, in der der Gesamt-Partialdruck von Siliciumtetrafluorid und Ammoniak weniger als etwa Io mm Quecksilber ausmacht«15·. ' Verfahren nach Anspruch 1- 12, dadurch gekennzeichnet, daß die heisse Oberfläche des Grundmetalles zuerst mit einer gasförmigen Mischung, bestehend aus Siliciumhalid und Stickstoff, und dann mit einer gasförmigen Mischung, bestehend aus Siliciumhalid und Ammoniak in Kontaktgpbracht wird«909843/0928 -15-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US222663A US3200015A (en) | 1962-09-10 | 1962-09-10 | Process for coating high temperature alloys |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1546051A1 true DE1546051A1 (de) | 1969-10-23 |
DE1546051B2 DE1546051B2 (de) | 1971-06-09 |
Family
ID=22833177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19631546051 Withdrawn DE1546051B2 (de) | 1962-09-10 | 1963-09-02 | Verfahren zum aufbringen von ueberzuegen aus pyrolytischem siliciumnitrid auf superlegierungen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3200015A (de) |
CH (1) | CH450104A (de) |
DE (1) | DE1546051B2 (de) |
GB (1) | GB1063306A (de) |
SE (1) | SE313229B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4089992A (en) * | 1965-10-11 | 1978-05-16 | International Business Machines Corporation | Method for depositing continuous pinhole free silicon nitride films and products produced thereby |
US3472689A (en) * | 1967-01-19 | 1969-10-14 | Rca Corp | Vapor deposition of silicon-nitrogen insulating coatings |
US3520722A (en) * | 1967-05-10 | 1970-07-14 | Rca Corp | Fabrication of semiconductive devices with silicon nitride coatings |
US3787223A (en) * | 1968-10-16 | 1974-01-22 | Texas Instruments Inc | Chemical vapor deposition coatings on titanium |
NL7209294A (de) * | 1972-07-01 | 1974-01-03 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US448915A (en) * | 1891-03-24 | Georg erlwein | ||
FR1142646A (fr) * | 1956-02-11 | 1957-09-20 | Cedel | Nouvelles résistances électriques et leurs procédés de réalisation |
US3073717A (en) * | 1958-12-31 | 1963-01-15 | Robert J Pyle | Coated carbon element for use in nuclear reactors and the process of making the element |
US3095527A (en) * | 1959-08-31 | 1963-06-25 | Charles R Barnes | Electrical capacitor having a silicon nitride dielectric |
-
1962
- 1962-09-10 US US222663A patent/US3200015A/en not_active Expired - Lifetime
-
1963
- 1963-09-02 DE DE19631546051 patent/DE1546051B2/de not_active Withdrawn
- 1963-09-04 CH CH1093463A patent/CH450104A/de unknown
- 1963-09-05 GB GB35034/63A patent/GB1063306A/en not_active Expired
- 1963-09-10 SE SE9881/63A patent/SE313229B/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1546051B2 (de) | 1971-06-09 |
SE313229B (de) | 1969-08-04 |
US3200015A (en) | 1965-08-10 |
GB1063306A (en) | 1967-03-30 |
CH450104A (de) | 1968-01-15 |
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SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |