NL8303183A - Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. - Google Patents
Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8303183A NL8303183A NL8303183A NL8303183A NL8303183A NL 8303183 A NL8303183 A NL 8303183A NL 8303183 A NL8303183 A NL 8303183A NL 8303183 A NL8303183 A NL 8303183A NL 8303183 A NL8303183 A NL 8303183A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- metal
- aluminum
- oxide
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
« #- - -ί - * ΡΗΝ 10.780 1 N.V. Philips’ Gloeilampenfabrieken te Eindhoven
Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat.
De uitvinding heeft betrekking op een vrerkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag bestaande uit aluminiumoxide op een substraat en voer het aanbrengen van een lagenpakket, waarvan de ondersts laag uit aluminiuncixide bestaat.
5 Een dergelijke werkwijze voer het aanbrengen van metaalaxidela- gen, ook van andere oxiden dan dat van aluminium, volgens welke allereerst een laag van het betreffende metaal wordt aangebracht en dit metaal vervolgens chonisch in het betreffende metaaloxide wordt omgezet, is bekend uit het Duitse Octrcoischrift 757 763. Uit het CS Octrooi-10 schrift 4 190 321 is een soortgelijke werkwijze bekend, waarbij de omzetting van het metaal in het metaaloxide elektrochemisch tot stand wordt gebracht.
Dit type laagjes, bij voorkeur in een dikte van een kwart van de golflengte van het zichtbare licht, bijvoorbeeld 550 nm, wordt 15 vaak toegepast cm reflectie te verminderen. Aluminiumoxide wordt veelvuldig hiervoor gebruikt. De boven aangeduide werkwijze, waarbij de omzetting van metaal in oxide elektrolytisch wordt uitgevoerd, vertoont echter voer aluminium het nadeel, dat het metaal dan niet volledig in het oxide kan warden omgezet. Aan de binnenzijde van de laag wordt 20 een zone van het metaal niet omgezet in het oxide en dit heeft tot gevolg, dat er absorptie dan wel verstrooiing aan het niet-emgezette metaal plaatsvindt.
Dit nadeel van aluminium was ook reeds gesignaleerd in het US Cctrcoischrift 4 190 321. Het kan volgens dit octrcoischrift uit de weg 25 worden geruimd door na de elektrolytische oxidatie de laag gedurende 10 minuten in een verdunde oplossing van natriumchloriet bij 80°C in aanraking te houden.
De uitvinding verschaft een eenvoudiger oplossing van dit pro- , bleem.
30 De werkwijze voor de vervaardiging van een transparante laag uit aluminiumoxide op een substraat, volgens welke een laag uit metallisch aluminium wordt aangebracht en deze laag vervolgens elektrolytisch in aluminiumoxide wordt omgezet, is volgens de uitvinding daardoor ge- O 1 P - 1 *: 7
Vc* V _ 'J 1 O V
EHN 10.780 2 * (· kenmerkt, dat alvorens het aluminium wordt aangebracht, allereerst een transparante, elektrisch geleidende laag op het substraatoppervlak wordt aangebracht uit één of meer «oxiden van de metalen gekozen uit tin, indium en cadmium zonodig met een dotering teneinde het geleidings-g vermogen te verhogen.
De transparante geleidende laag kan door «omzetting van een hydrolyseerbare verbinding van het betreffende metaal of de betreffende metalen door waterdamp aan het verhitte substraatoppervlak of door pyrolyse van een dergelijke metaalverbinding of -verbindingen aan het 10 substraatoppervlak gevormd worden. Als substraat kan glas, metaal of een kunststof worden gekozen. Ook kan de laag door sputteren of opdampen worden aangebracht. De laag moet voldoende elektrisch geleidend zijn, teneinde de metaallaag of metaallagen elektrolytisch in het «oxide respectievelijk de oxiden cm te zetten. Dit kan proefctóervindelijk worden 15 vastgesteld.
Het aluminium kan qp deze «onderlaag door sputteren, opdampen en ook galvanisch uit een niet-waterige oplossing, bijvoorbeeld volgens de NOA 8100570 worden aangebracht. Bij de laatste variant heeft men het voordeel, althans voor wat betreft het aluminiumoxide dat de werk-2Q wijze geheel galvanisch is.
Vervolgens wordt het aluminium anodisch in zijn geheel in aluminiumoxide angezet in op zich voor dit doel bekende elektrolytap-lossingen, zoals die op basis van zwavelzuur of oxaalzuur.
Het is ook mogelijk de werkwijze volgens de uitvinding te 25 gebruiken voor de vervaardiging van een stapeling van lagen, door de aluminiumlaag af te wisselen met andere lagen, zoals Ti, Nb enz. Na voltooiing van de stapeling wordt het geheel in één bewerking elektrolytisch geoxideerd.
Thans volgt de beschrijving van een specifiek uitvoeringsvoor- 30
Op een glassubstraat wordt een laag met een dikte van 140 nm van een mengsel van indiumoxide en tinoxide in de mol.verhouding 90:10 door opdampen opgebracht. Hierop wordt een laag aluminium met een dikte van 85 nm door sputteren aangebracht.
35 Het substraat wordt vervolgens anodisch geschakeld in een ano- diseeroplossing met de samenstelling 50 g oxaalzuur per liter bad- Λ vloeistof en gedurende ½ uur met een strocmsterkte van 50 mA/dm aan het elektrolyseproces onderworpen.
Na spoelen en drogen van het van de lagen voorziene substraat O T Λ ~ Ί Q Ί
O O V v? ' w O
- 1aS 10 780 3 ml ^ is sen alraniniumaxidelaag met een dikte van ongeveer 1/4 X voor 550 nm verkregen.
Bij deze proef werkt de Al203-laag op de h λ laag van indium-oxidetinoxide als een tweelaags antireflectieve coating, waarvan de 5 reflectie bij 530 ran door de axidatieve behandeling daalt van 4,1 naar 0,8%.
10 15 20 25 30 35 C ^ ^ ?
Claims (1)
- 2. Substraat met een samenstel van transparante lagen verkregen volgens conclusie 1. 15 20 25 % 30 35 n ’ ' ·; -"> 7 " ! a 0
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8303183A NL8303183A (nl) | 1983-09-15 | 1983-09-15 | Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. |
| US06/647,247 US4717457A (en) | 1983-09-15 | 1984-09-04 | Method of providing a transparent layer on a substrate |
| DE8484201322T DE3468668D1 (en) | 1983-09-15 | 1984-09-12 | Method of providing a transparent layer on a substrate |
| JP59189814A JPS6077317A (ja) | 1983-09-15 | 1984-09-12 | 透明なアルミニウム酸化物被膜を基体上に設ける方法 |
| EP84201322A EP0138251B1 (en) | 1983-09-15 | 1984-09-12 | Method of providing a transparent layer on a substrate |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8303183A NL8303183A (nl) | 1983-09-15 | 1983-09-15 | Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. |
| NL8303183 | 1983-09-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8303183A true NL8303183A (nl) | 1985-04-01 |
Family
ID=19842404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8303183A NL8303183A (nl) | 1983-09-15 | 1983-09-15 | Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4717457A (nl) |
| EP (1) | EP0138251B1 (nl) |
| JP (1) | JPS6077317A (nl) |
| DE (1) | DE3468668D1 (nl) |
| NL (1) | NL8303183A (nl) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61256506A (ja) * | 1985-05-08 | 1986-11-14 | 工業技術院長 | 低抵抗透明導電膜の生成方法 |
| JPS6491101A (en) * | 1987-10-01 | 1989-04-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Plane lens plate |
| US5178967A (en) * | 1989-02-03 | 1993-01-12 | Alcan International Limited | Bilayer oxide film and process for producing same |
| JP4788880B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-10-05 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | バルブ金属酸化物ナノ構造体の製造方法 |
| US20110278770A1 (en) * | 2009-01-30 | 2011-11-17 | Akinobu Isurugi | Mold, mold manufacturing method and method for manufacturing anti-reflection film using the mold |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2455048A1 (de) * | 1973-11-23 | 1975-11-13 | Anvar | Verfahren zur herstellung von oberflaechenueberzuegen, sowie mittels desselben erhaltene ueberzuege und ueberzogene werkstuecke |
| JPS5086336A (nl) * | 1973-11-29 | 1975-07-11 | ||
| US3941630A (en) * | 1974-04-29 | 1976-03-02 | Rca Corporation | Method of fabricating a charged couple radiation sensing device |
| US3882000A (en) * | 1974-05-09 | 1975-05-06 | Bell Telephone Labor Inc | Formation of composite oxides on III-V semiconductors |
| US3982265A (en) * | 1975-09-19 | 1976-09-21 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Devices containing aluminum-V semiconductor and method for making |
| US4252843A (en) * | 1977-02-18 | 1981-02-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for forming a microstructured transmission and reflectance modifying coating |
| US4190321A (en) * | 1977-02-18 | 1980-02-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Microstructured transmission and reflectance modifying coating |
| JP3253529B2 (ja) * | 1996-06-12 | 2002-02-04 | 東洋電機製造株式会社 | 補助共振転流回路を用いた電力変換装置 |
-
1983
- 1983-09-15 NL NL8303183A patent/NL8303183A/nl not_active Application Discontinuation
-
1984
- 1984-09-04 US US06/647,247 patent/US4717457A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-09-12 DE DE8484201322T patent/DE3468668D1/de not_active Expired
- 1984-09-12 JP JP59189814A patent/JPS6077317A/ja active Granted
- 1984-09-12 EP EP84201322A patent/EP0138251B1/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0138251A1 (en) | 1985-04-24 |
| JPS6077317A (ja) | 1985-05-01 |
| EP0138251B1 (en) | 1988-01-13 |
| JPH0436361B2 (nl) | 1992-06-16 |
| DE3468668D1 (en) | 1988-02-18 |
| US4717457A (en) | 1988-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5978133A (en) | Aluminium reflector with composite reflectivity-enhancing surface layer | |
| EP0035906B1 (en) | Selectively light-transmitting laminated structure | |
| Searson et al. | Analysis of the photoelectrochemical response of the passive film on iron in neutral solutions | |
| US5760981A (en) | Aluminum reflector with a composite reflectivity-enhancing surface layer | |
| DK160758B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af en belaegning med lav emissionsevne paa et transparent substrat | |
| JPS6215496B2 (nl) | ||
| NL8303183A (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat. | |
| CN103668381B (zh) | 一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法 | |
| US3397446A (en) | Thin film capacitors employing semiconductive oxide electrolytes | |
| JP3106559B2 (ja) | 表面に金属酸化物を有する基材の製造方法 | |
| US2108604A (en) | Aluminum reflector | |
| Calzaferri et al. | Methyl viologen–zeolite electrodes: intrazeolite charge transfer | |
| US4145462A (en) | Process for producing solar collectors | |
| Hada et al. | Photoreduction of silver ion on the surface of titanium dioxide single crystals | |
| US4758929A (en) | Solid electrolyte capacitor and process for preparation thereof | |
| Yoshida et al. | Self-assembly of ZnO| Tetrabromophenol blue mixed thin film by one step electro-deposition and its sensitized photo-electrochemical performance | |
| Arurault et al. | Electrical behaviour, characteristics and properties of anodic aluminium oxide films coloured by nickel electrodeposition | |
| Sheasby et al. | The colouring of anodized aluminium by means of optical interference effects | |
| KR100793809B1 (ko) | 반사판, 반사판 제조방법 및 이를 이용한 히팅장치 | |
| EP0039360B1 (en) | A process for the preparation of a dark-coloured, weave-length selective oxide film on aluminium | |
| JP4957984B2 (ja) | 熱放射率に優れたマグネシウム系放熱材料及びその製造法 | |
| JPS6273203A (ja) | 無反射処理基板およびその製造方法 | |
| US2118053A (en) | Coating on aluminum | |
| Di Quarto et al. | Photoelectrochemical study of electrochemically formed semiconducting yttrium hydride (YH3− x) | |
| Klochko et al. | Utilization of alternating current methods for manufacture of selective absorbing coatings for heat collectors |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1B | A search report has been drawn up | ||
| BV | The patent application has lapsed |