DE2420639B2 - Anlage zur selektiven Reinigung von Heißgasen - Google Patents
Anlage zur selektiven Reinigung von HeißgasenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anlage zur selektiven Reinigung von Heißgasen, die aus mehreren Stoffen
zusammengesetzten Staub enthalten, mit einem ersten Elektroabscheider, einer ersten Kühlstufe, einem zweiten
Elektroabscheider, einer Wasserwaschstufe sowie einer zweiten, indirekt arbeitenden Kühlstufe.
Bei pyrometallurgischen Prozessen werden ausnahmslos Gase erzeugt, die Staubpartikel mit sich
führen. Diese Gase müssen gereinigt werden, bevor sie beispielsweise zur Herstellung von Schwefelsäure
verwendet oder in die Atmosphäre abgeleitet werden. Es sind bereits Gasreinigungsverfahren bekannt, wobei
Zyklone oder Filter, beispielsweise Filtersäcke oder Elektroabscheider, benutzt werden. Die bekannten
Verfahren haben alle zum Ziel, die Feststoffe in größtmöglichem Umfang von den Gasen zu trennen.
Von den Verfahren, bei dtnen Staub aus Gasen entfernt werden muß, sind insbesondere die Verfahren
sehr schwierig, die in Verbindung mit einem Röstprozeß durchgeführt werden, bei dem feinkörnige Sulfide
geröstet werden, da das Ausgangsmaterial häufig von sehr komplexer bzw. verschiedenartiger Natur ist. Die
Abgase können aus diesem Grund eine Vielzahl unterschiedlicher Substanzen mit sehr unterschiedlicher
Korngrößenverteilung enthalten. Abgase, die von Röstprozessen stammen, haben zusätzlich häufig sehr
hohe Temperaturen, so daß sie neben Feststoffen auch flüchtige Bestandteile wie beispielsweise As, Se und Hg
enthalten können. Als typische Beispiele von Prozessen, bei denen Abgase sehr unterschiedlicher Zusammensetzung
entstehen, können das Rösten von Kupferkonzentraten, das Eisenpyritrösten und das Rösten von
Sulfiderzen erwähnt werden, die Ni, Mo, Sb, Mn, Zn und As enthalten. Bei Schmelzprozessen, an denen die
erwähnten Elemente beispielsweise in oxidierter Form teilnehmen, treten im wesentlichen die gleichen
GasreinigungsprobleniP. auf wie beim Rösten von Sulfiden.
Beim Chalkopyritrösten beispielsweise wird zuerst ein Flotationskonzentrat in dem Ofen geröstet, in dem
der Schwefelanteil der Sulfide entweder ganz oder teilweise zu Schwefeldioxid oxidiert wird. Das geröstete
Material wird anschließend einem pyrometallurgischen Prozeß in Reaktoren unterworfen, die für die Kupfergewinnung
geeignet sind. Die Kupfersulfiderze sind in ihrem natürlichen Zustand häufig sehr komplex und
enthalten oft Verunreinigungen, wie beispielsweise PbS, ZnS, Sb2S^ AS2S3 und HgS. Diese Verunreinigungen
lassen sich häufig nicht vollständig durch beispielsweise Erzaufbereitungsverfahren abtrennen, und auch nicht
durch andere bekannte Anreicherungsverfahren, was der Grund dafür ist, daß bei der pyrometallurgisehen
Behandlung von Chalkoypritkonzentrat in den Abgasen ein sehr komplexer bzw. verschiedenartiger Staub
vorhanden ist, wobei diese Abgase zusätzlich als
ία wesentlichen Bestandteil Schwefeldioxid enthalten.
Schwefeldioxidgas wird normalerweise zur Herstellung von flüssigem Schwefeldioxid und Schwefelsäure
benutzt. Bei der Herstellung von Schwefelsäure nach dem Kontaktverfahren müssen die Gase staubfrei sein,
um die Verunreinigung bzw. Vergiftung der katalytischen Substanz zu verhindern. Der von pyrometallurgischen
Prozessen herrührende Staub ist häufig sehr wertvoll, so daß der Staub bzw. die wertvollen
Staubbestandteile wiedergewonnen werden müssen.
Gas, das von der Chalkopyritröstung herrührt, führt somit mitgerissene Feststoffpartikel, flüchtige Substanzen,
wie beispielsweise AS2O3, sowie Se- und Hg-Verbindungen
mit sich. Der Staub bzw. die Staubpartikel werden gewöhnlich zuerst in einem Trockenabscheidungsverfahren,
beispielsweise innerhalb eines Zyklons, wiedergewonnen bzw. abgetrennt, bevor das Gas
gewaschen und beispielsweise in einem Naßelektroabscheider
gereinigt wird, um die restlichen festen oder flüchtigen Partikel abzuscheiden. Wie bereits erwähnt,
ist eine möglichst vollständige Abscheidung sämtlicher von dem Gas mitgeführter Bestandteile erwünscht. Die
Elementaranalyse des bei der Kupferpyritröstung insgesamt abgeschiedenen Staubes ergibt beispielsweise
die folgende aufs Gewicht bezogene Verteilung:
Cu 8%
Pb 6%
Zn 7%
Sb 1%
As 20%
Kg 1,5%
Fe 8%
Die Zusammensetzung variiert naturgemäß von Fall zu Fall innerhalb weiter Grenzen, und zwar in
Abhängigkeit von der Zusammensetzung des Ausgangsmaterials.
Beim Rösten von Pyriten wird beispielsweise der Wärmeinhalt der Abgase normalerweise in einem
Dampfkessel wiedergewonnen, der direkt hinter dem Röstofen liegt. Derartige Anlagen sind beispielsweise in
den SE-PS'en 3 03 737 und 3 04 295 beschrieben. Andere Anlagen sind in Erzbergbau und Metallhüttenwesen
XXX (NFXXII) Jahrgang 1934, Seiten 197-201 beschrieben. Eine mehr allgemeine Übersicht von
5C angewandten Gasreinigungstechniken findet sich in
Batel: »Entstaubungstechnik« Berlin 1972, Seiten 180 ff. In dieser Vorveröffentlichung ist ein Fließdiagramm
zum Abscheiden von Schwefeldioxid aus Gasen beschrieben, die aus einem Wirbelbettofen stammen,
der bei der Pyritröstung benutzt wird. Aus der US-PS 12 04 906 ist es weiterhin bekannt, daß Staub selektiv
mittels mehrerer hintereinanderliegender Elektroabscheider abgeschieden werden kann.
Wie bereits erwähnt, handelt es sich bei der Gasreinigung oft um große Mengen Staub, dessen
Bestandteile sehr wertvoll sein können und deshalb wiedergewonnen werden müssen. Der Staub, der
ausnahmlos sehr komplex bzw. verschiedenartig ist,
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wird daher wieder in den Röstofen zurückgeführt, was
zu einer Ansammlung bzw. Anreicherung bestimmter Substanzen innerhalb des Prozesses führt. Um eine
Anreicherung bzw. Ansammlung dieser Art zu verhindern, ist es in diesen Fällen notwendig, einen Teil des
Staubes einer getrennten Behandlung zuzuführen. Für eine derartige gesonderte Behandlung werden häufig
aufwendige Anlagen und teure Prozesse bsnötigt
Bei einer in der FR-PS 10 63 127 behandelten Gasreinigungsanlage der eingangs beschriebenen Art
sind einer vorgeschalteten Kühlstufe ein kühlender Wärmetauscher und ein Speicherbehälter nachgeschaltet,
dem auch Flüssigkeit von einem Elektroabscheider zugeführt wird. Aus dem Flüssigkeitskreislauf der
vorgeschalteten Kühlstufe wird ein Teilstrom zum Kreislauf einer weiteren vorgeschalteten Direktkühlstufe
abgezweigt, der wiederum ein Flüssigkeitsteilstrom entnommen wird. Bei all diesen Strömen handelt es sich
um Flüssigkeitsströme, so daß alle aus den Kühlstufen und Elektroabscheidern stammenden Produkte in Form
von pumpfähigen Flüssigkeiten oder pumpfähigem Schlamm vorliegen, der entweder zu Schwierigkeiten
bei der Lagerung führt oder einer aufwendigen Nachreinigung zugeführt werden muß. Der wesentliche
Nachteil dieser bekannten Gasreinigungsanlage besteht somit darin, daß sie im nassen Milieu arbeitet.
Gemäß der DE-PS 6 67 791 ist es bei der Gasreinigung bekannt, der Reinigungsanlage eine Was scrwaschstufe
nachzuschalten. Auch bei diesem bekannten System fallen die in dem Gas vorhandenen Verunreinigungen
später als schwer zu behandelnder Schlamm an.
Aus der Zeitschrift »Zement-Kalk-Gips« 1970, Nr. 3, Seiten 110 und 111, sowie aus der US-PS 27 06 533 ist es
bei der Reinigung von mit Staub beladenem Gas bekannt, den das Gas begleitenden Staub bis zu einem
gewissem Niveau zu befeuchten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, auf dem sehr weitgehend erforschten und entwickelten Sachgebiet
der Gasreinigung ein System zu schaffen, welches es gestattet, die im Gas mitgeführten Verunreinigungen
in trockenem Zustand abzutrennen, ohne daß zum Schluß ein Schlamm anfällt, der aus dem System
abgelassen werden muß und Schwierigkeiten bei der weiteren Behandlung bereitet.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist die erfindungsgemäße Anlage dadurch gekennzeichnet, daß der ersten
Kühlstufe eine Wassereinlableitung zugeordnet ist, die Verbindung mit dem Auslaß der Wasserwaschstufe
sowie mit dem Kondenswasserauslaß der zweiten, indirekt arbeitenden Kühlstufe hat und daß über die so
Einlaßleitung in die erste Kühlstufe eine so große Wassermenge eingesprüht wird, daß diese unter
Einwirkung der in den Heißgasen enthaltenen Wärmemenge vollständig verdampft.
Bei der erfindungsgemäßen Anlage wird der das Gas begleitende Staub in trockenem Zustand in einem ersten
Elektroabscheider entfernt. Diese Staubentfernung kann gegebenenfalls durch Konditionieren des Staubes
gemäß der bekannten Technik verbessert werden. Der große und wesentliche Unterschied gegenüber allen
bekannten Gasreinigungssystemen besteht jedoch darin, daß ein Trockenabscheideverfahren mit einem
Naßabscheideverfahren kombiniert wird unter Gewinnung von nur trockenen Produkten aus den Reinigungsstufen.
Dieses wird dadurch erreicht, daß Verunreinigungen enthaltende flüssige Produkte aus nachfolgenden
Wasch- und Kühlstufen als Kühlmedium der ersten Kühlstufe zugeführt werden, wodurch das im ersten
Elektroabscheider vom Staub befreite Gi« gekühlt wird,
so daß gleichzeitig die Flüssigkeit in den zugeführten Produkten ganz verdampft und die Verunreingigungen
in dem zweiten Elektroabscheider abgeschieden und in trockenem Zustand abgeführt werden. Diese Kombination
ist durch den Stand der Technik weder vorweggenommen und läßt sich auch aus diesem Stand der
Technik nicht als naheliegende Maßnahme ableiten, wobei es auch nicht gegen die vorliegende Erfindung
spricht, dsß die apparativen Voraussetzungen für das
erfindungsgemäße System bereits vorhanden gewesen sind. Es ist vielmehr überraschen, daß unter Verwendung
an sich bekannter und üblicher Apparaturen die Möglichkeit geschaffen wurde, das Entfernen von
sowohl staubförmigen als auch gasförmigen Verunreinigungen in metallurgischen Gasen unter Gewinnung von
nur trockenen und leicht hantierbaren Produkten zu kombinieren, ohne daß schwer zu lagernde oder schwer
zu bearbeitende Schlammbeiprodukte entstehen.
Erfindungsgemäß lassen sich selektiv in trockenem Zustand teils metallhaltiger Staub, der vorteilhafterweise
direkt einer vorhergehenden metallurgischen Bearbeitungsstufe zugeführt werden kann, und teils flüchtige
Substanzen gewinnen, z. B. AS2O3. Es zeigt sich auch,
daß dabei ein zur Weiterraffinierung gut verwendbares Material mit geeigneten physikalischen Eigenschaften
erhalten «verden kann.
Die erfindungsgemäße Anlage führt somit bei der Reinigung von metallurgischen Gasen, d. h. auf einem
seit langem und weitgehend durchforschtem Gebiet zu dem Vorteil, daß man aus staubhaltigen Heißgasen alle
festen und kondensierbaren Bestandteile entfernen kann, ohne daß schwer zu handhabende flüssige oder
feuchte Restprodukte anfallen.
Die erfindungsgemäße Anlage wird im folgenden an Hand der Figur in Verbindung mit der Reinigung von
Gasen beschrieben, die Schwefeldioxid enthalten und beim Rösten von Chalkopyriten anfallen.
Die Chalkopyrite werden einem Mehrstufenofen 1 durch eine Leitung 2 zugeführt, und das geröstete
Material verläßt den Ofen durch eine Leitung 3. Dem Röstofen wird Luft durch die Leitung 4 zugeführt. Mit
Staub beladcnes Gas wird durch eine Leitung 5 einem Zyklon 6 zugeführt, in dem die Staubpartikel im
wesentlichen aus dem Gas abgeschieden werden. Die abgeschiedenen Feststoffe werden durch die Leitung 7
wieder in den Ofen 1 zurückgeführt. Das zum großen Teil von den Feststoffen befreite Gas wird durch eine
Leitung 8 einem ersten Elektroabscheider 9 in Form eines Heißelektroabscheiders zugeführt, in dem die
warmen Gase, die eine Temperatur von etwa 3000C
haben, von noch mitgeführten Staubpartikeln gereinigt werden, bei denen es sich hauptsächlich um Kupfer-,
Zink-, Blei-, Eisen- und Antimonverbindungen handelt. Die abgetrennten Feststoffe werden durch die Leitung
10 wieder in den Ofen 1 zurückgeführt. Wenn die in dem ersten Elektroabscheider 9 abgetrennten Feststoffe
größere Mengen Blei und Antimon enthalten, kann der Staub, bevor er in den Ofen 1 zurückgeführt wird,
mittels bekannter und in der Zeichnung nicht dargestellter Verfahren hinsichtlich des Bleis und des Antimons
gereinigt werden.
Das gereinigte Gas gelangt durch eine Leitung 11 in
eine erste Kühlstufe 12, in der eine Verdampfungskühlung stattfindet, indem durch eine Wassereinlaßleitung
13 Wasser in die Kühlstufe 12 eingespritzt wird. Nachdem das Gas auf eine Temperatur etwa zwischen
1000C und 1500C abgekühlt worden ist, wird es durch
eine Leitung 14 in einen zweiten Elektroabscheider 15 geleitet, in dem kondensierte Arsen-, Selen- und
Quecksilberpartikel abgeschieden und durch eine Leitung 16 abgeführt werden. Die gewählte Tempertur
hängt von der Schwefeltrioxidmenge und dem Kondensationspunkt des Gases ab. In dem Elektroabscheider
darf keine Kondensation des Wassers stattfinden. Das auf diese Weise weiter gereinigte Gas wird dann durch
eine Leitung 17 einer Wasserwaschstufe 18 zugeführt, in der das Gas mit Wasser gewaschen wird, das durch die
Leitung 19 zugeführt und durch den Auslaß 20 abgeleitet wird. Der Auslaß 20 ist über eine Zwischenleitung
21 mit der Leitung 19 verbunden. Ein Teil des beim Waschprozeß verunreinigten Waschwassers wird über
eine Zweigleitung 22 der Wassereinlaßleitung 13 zugeführt, so daß es als Kühlwasser bei dem
Yerdarnpfungskühlprozeß innerhalb der ersten Kühlstufe
12 verwendet werden kann. Das Gas gelangt durch eine Leitung 23 in eine zweite indirekt arbeitende
Kühlstufe 24, die aus einem Kühlaggregat besteht, in dem das Gas mittels Wasser gekühlt wird, das durch die
Leitung 25 zugeführt und durch die Leitung 26 abgeleitet wird. Bei diesem Kühlprozeß kondensiert ein
Teil des in den Gasen enthaltenen Wassers; das kondensierte Wasser wird durch einen Kondenswasserauslaß
27 in den durch die Wasserwaschstufe 18 zirkulierenden Waschwasserkreislauf oder durch die
Leitungen 30 und 13 in die erste Kühlstufe 12 geleitet. In bestimmten Fällen ist es notwendig, eine kleinere
Menge des durch die Wasserwaschstufe 18 zirkulierenden Wasv-hwassers aus dem Kreislauf herauszuführen,
wenn das Waschwasser Schwefeltiroxid absorbiert hat. Das Abscheiden von gebildeter Schwefelsäure kann
auch durch Zusatz von Kalk, Ammoniumhydroxid oder Natriumhydroxid erfolgen. In der Praxis wurde die
Verdampfungskühlung in Verbindung mit einer Gasmenge von 40 000 NmVh durchgeführt, wobei das Gas
etwa 0,8 m3 H^O/h enthielt, während das durch die
Leitung 23 abgeführte Gas 1 mJ H2CVh enthielt. Dem
iü System mußte daher Wasser in einer Geschwindigkeit
von 0,2 mVh zugeführt werden. Diese Wasserzufuhr erfolgt vorzugsweise durch die Leitung 29. Das System
enthält somit nur drei Materialausgänge, nämlich die Leitung 3 für geröstetes Material, die Leitung 16 für
Arsen, Selen und Quecksilber und die Gasauslaßleitung 28 für das gereinigte Gas. Für den adiabatischen
Kühlprozeß wurden etwa 4 m3 HrQ/h benötigt, was 0,!
1/std. und Nm3 Gas entspricht. Der größte Teil des in der Verdampfungskühlungsstufe benötigten Wassers
wird durch indirekte Kühlung der letzten Stufe erhalten. Um eine Ansammlung bzw. Anhäufung von Staub in
dem in der Wasserwaschstufe 18 benötigten Waschwasser zu verhindern, wird ein Teil dieses Wassers der
ersten Kühlstufe zugeführt, wodurch die ausgewaschenen Partikel freigegeben und weiter im Elektroabscheider
15 abgeschieden werden.
Die erfindungsgemäße Anlage ist nicht nur in Verbindung mit Röstprozessen anwendbar, sondern
auch auf verschiedenen anderen Gebieten, beispielsweise auf dem Gebiet der Pyrometallurgie.
Claims (1)
- Patentanspruch:Anlage zur selektiven Reinigung von Heißgasen, die aus mehreren Stoffen zusammengesetzten Staub enthalten, mit einem ersten Elektroabscheider, einer ersten Kühlstufe, einem zweiten Elektroabscheider, einer Wasserwaschstufe sowie einer zweiten, indirekt arbeitenden Kühlstufe, dadurch gekennzeichnet, daß der ersten Kühlstufe (12) eine Wassereinlaßleitung (13) zugeordnet ist, die Verbindung mit dem Auslaß der Wasserwaschstufe (18) sowie mit dem Kondenswasserauslaß (27) der zweiten, indirekt arbeitenden Kühlstufe (24) hat und daß über die Einlaßleitung (13) in die erste Kühlstufe (12) eine so große Wassermenge eingesprüht wird, daß diese unter Einwirkung der in den Heißgasen enthaltenen Wärmemenge vollständig verdampft
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8263 | Opposition against grant of a patent | ||
8230 | Patent withdrawn |