DE2420186C2 - - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
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- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/36—Photoelectric screens; Charge-storage screens
- H01J29/38—Photoelectric screens; Charge-storage screens not using charge storage, e.g. photo-emissive screen, extended cathode
- H01J29/385—Photocathodes comprising a layer which modified the wave length of impinging radiation
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Leucht
schirms eines Röntgenbildverstärkers, wobei zunächst die Ober
fläche eines Trägers mit einer einem gewünschten Mosaikmuster
entsprechenden Oberflächenstruktur versehen wird und an
schließend eine die Oberflächenstruktur überdeckende aus
Cäsiumjodid bestehende Leuchtmaterialschicht aufgedampft wird.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, das Verfahren nach
dem Hauptanspruch so auszugestalten, daß sich eine größere
Auswahl für die Geometrie der Mosaikstruktur ergibt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Oberflächenstruktur durch Ätzen erzeugt wird.
Neben der größeren Wahlmöglichkeit in der Geometrie der Mosaik
struktur weist das erfindungsgemäße Verfahren die Vorteile
einer unbegrenzten Auswahl in der Art des Trägermaterials -
wenn nur ätzbar - und einer Vereinfachung beim Anbringen einer
Struktur in der Oberfläche des Trägers als Ansatz für die zu
bildende Mosaikstruktur auf. Auf diese Weise kann z. B. das
Eingangsfenster für einen Röntgenbildverstärker, das häufig
aus Aluminium oder Titan hergestellt wird, direkt als Träger
für die Schicht verwendet werden. Ebenso kann ein Glaseingangs
fenster als Träger benutzt werden.
Die Form und die Abmessung der Teilelemente der Mosaikstruktur,
in der Schichtebene gesehen, geben jetzt eine größere Wahl
möglichkeit. Diesen Teilelementen kann z. B. die Form von
Kreisen, Rechtecken, Sechsecken, Dreiecken usw. gegeben werden.
Auch können die Begrenzungen der Teilelemente in der Struktur
des Trägers frei gewählt werden. Diese Begrenzungen können
durch das Einführen eines Höhenunterschiedes zwischen den
Teilelementen mittels Ätzung zwischen den Teilelementen
gebildet werden. Das Ätzen weist dabei noch den Vorteil auf,
daß die zu bedampfende Oberfläche des Trägers, wenigstens
teilweise, aber ohne viel zusätzliche Arbeit auch vollständig,
von Unregelmäßigkeiten und Verunreinigungen befreit werden.
Als störende Unregelmäßigkeit kann z. B. eine durch Walzen
in den Träger gedruckte Struktur auftreten. Das Ätzen des
Trägers bewirkt nach dem Aufdampfen von Cäsiumjodid eine
gute Haftung zwischen dem Träger und der aufgedampften
Schicht. Wie bereits in dem DBP 22 30 802 erwähnt wurde,
kann die aufgedampfte Schicht in der Dickenrichtung der
Schicht gesehen in Teilschichten angebracht werden. Die
Struktur jeder Teilschicht setzt sich dabei in weiteren
Teilschichten fort. Dies gilt sowohl für Teilschichten, die
alle aus demselben Stoff bestehen, als auch für Teilschichten,
die gegenseitig aus verschiedenen Stoffen bestehen, wie
Extinktionsschichten, Interferenzschichten, oder Doppel
schichten von z. B. gegenseitig verschiedenen Lumineszenz
materialien.
Bei der Verwendung einer faseroptischen Platte als Eingangs
fenster können die Mäntel der verschiedenen Fasern als Be
grenzungen für die Teilgebiete fungieren, die hier also
durch die Kerne der getrennten Fasern gebildet werden. Gewöhn
lich sind die Mäntel und die Kerne derartiger Faserplatten
durch den Unterschied in der Glasart auf einfache Weise
unterschiedlich ätzbar.
Um zu vermeiden, daß die Mosaikstruktur durch eine zu große
Regelmäßigkeit im Strukturmuster störend in einer Bildformung
auftreten würde, kann mit Hilfe des Ätzverfahrens im Mosaik
muster ein gewünschtes Ausmaß von Unordnung angebracht werden.
Ätzverfahren zum Anbringen von Strukturen sind allgemein
bekannt und es ist deshalb nicht nötig, diese hier zu
erörtern. Insbesondere sei auf Photomaskentechniken hinge
wiesen, wie sie in der Metallurgie und z. B. bei der Her
stellung von Miniaturschaltungen angewandt werden.
Claims (7)
1. Verfahren zum Herstellen eines Leuchtschirmes eines
Röntgenbildverstärkers, wobei zunächst die Oberfläche eines
Trägers mit einer einem gewünschten Mosaikmuster entsprechenden
Oberflächenstruktur versehen wird und anschließend eine die
Oberflächenstruktur überdeckende aus Cäsiumjodid bestehende
Leuchtmaterialschicht aufgedampft wird, nach Hauptpatent
22 65 503,
dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächenstruktur durch
Ätzen erzeugt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß durch Ätzen unterschiedlich hohe
Teilgebiete erzeugt werden, die die Mosaikstruktur bilden.
3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Mosaikstruktur durch Ätzen
derart hergestellt wird, daß zwischen den Teilgebieten
Kanäle oder Erhöhungen gebildet werden.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß durch den Ätzvorgang viereckige
Teilgebiete erzeugt werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Begrenzungen der Teilgebiete
nach einem unregelmäßigen Muster aufgebracht werden.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Ätzen auf den Träger
die Leuchtmaterialschicht in mehreren Teilschichten aufge
dampft wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als Träger eine Faseroptikplatte
verwendet wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7306446A NL7306446A (de) | 1973-05-09 | 1973-05-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2420186A1 DE2420186A1 (de) | 1974-11-28 |
DE2420186C2 true DE2420186C2 (de) | 1987-10-15 |
Family
ID=19818823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742420186 Granted DE2420186A1 (de) | 1973-05-09 | 1974-04-26 | Lumineszenzschicht mit mosaikstruktur |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5027781A (de) |
BE (1) | BE814683R (de) |
DE (1) | DE2420186A1 (de) |
FR (1) | FR2229135B2 (de) |
GB (1) | GB1423935A (de) |
NL (1) | NL7306446A (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5294257A (en) * | 1976-01-31 | 1977-08-08 | Tokyo Juki Industrial Co Ltd | Pressor mechanism for cycles machine |
JPS58131644A (ja) * | 1981-12-26 | 1983-08-05 | Toshiba Corp | 放射線像増倍管及びその製造方法 |
JPS60134487U (ja) * | 1984-02-17 | 1985-09-07 | ブラザー工業株式会社 | ミシンの被縫製物挾持装置 |
US5171996A (en) * | 1991-07-31 | 1992-12-15 | Regents Of The University Of California | Particle detector spatial resolution |
US5608286A (en) * | 1994-11-30 | 1997-03-04 | Texas Instruments Incorporated | Ambient light absorbing face plate for flat panel display |
US5637958A (en) * | 1995-03-06 | 1997-06-10 | Texas Instruments Incorporated | Grooved anode plate for cathodoluminescent display device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1089992A (fr) * | 1953-07-03 | 1955-03-25 | Csf | Perfectionnements aux cibles utilisées dans la construction des tubes de mémoire |
US3293474A (en) * | 1963-08-01 | 1966-12-20 | Tektronix Inc | Phosphor dielectric storage target for cathode ray tube |
-
1973
- 1973-05-09 NL NL7306446A patent/NL7306446A/xx unknown
-
1974
- 1974-04-26 DE DE19742420186 patent/DE2420186A1/de active Granted
- 1974-05-04 JP JP4930674A patent/JPS5027781A/ja active Pending
- 1974-05-06 GB GB1977474A patent/GB1423935A/en not_active Expired
- 1974-05-07 BE BE144039A patent/BE814683R/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-05-08 FR FR7415877A patent/FR2229135B2/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7306446A (de) | 1974-11-12 |
DE2420186A1 (de) | 1974-11-28 |
FR2229135B2 (de) | 1977-10-21 |
FR2229135A2 (de) | 1974-12-06 |
AU6865074A (en) | 1975-11-06 |
JPS5027781A (de) | 1975-03-22 |
GB1423935A (en) | 1976-02-04 |
BE814683R (fr) | 1974-11-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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8178 | Suspension cancelled | ||
AF | Is addition to no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2230802 Format of ref document f/p: P |
|
8161 | Application of addition to: |
Ref document number: 2265503 Country of ref document: DE Format of ref document f/p: P |
|
8162 | Independent application | ||
AF | Is addition to no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2265503 Format of ref document f/p: P |
|
D2 | Grant after examination | ||
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