DE2333318C3 - Metallisierungsmasse - Google Patents
MetallisierungsmasseInfo
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- C03C2207/08—Compositions specially applicable for the manufacture of vitreous enamels for light metals
Description
Die Erfindung betrifft die Elektronik, insbesondere das sich natürlich auch als CuAlO2 darstellen läßt, und
!Leiter-Massen für die Herstellung elektronischer Cu3TiO6 (Kupfertitanat).
!Schaltungen. Die Funktion der Kupferverbindung liegt in der
Für elektronische Hybrid-Mikroschaltungen werden as Verbesserung der Haftung aufgebrannter Silber- und
in großem Umfang Silber- oder Palladium-Silber-Me- Siiber-Palladium-Metallisierungen im wärmegealterten
lallisierungen verwandt. Normalerweise wird die Me- Zustand. Vorzugsweise beträgt die Menge der Kupferlallisierungsmasse
von Silberpulver oder Palladium- verbindung 0,5 bis 10% vom Gewicht des Edelmetalls
Silber-Pulvern, anorganischem Bindemittel, wie Glas- (Ag und gegebenenfalls Pd) in der Masse, wobei sich die
Iritte, Wismutoxid usw., und gegebenenfalls inertem, 30 obere Grenze dieses Bereichs daraus ergibt, daß bei
flüssigem Träger zur Ausbildung der gewünschten höherem Gehalt der Kupferverbindung die Lötfähig-Druckeigenschaften
gebadet. Gewöhnlich wird die keit des anfallenden, gebrannten Leiters bei den mei-Masse
auf eine Keramikunterlage, wie Aluminium- sten Zwecker, zu wünschen übrig läßt.
oxid-Unterlage, aufgedruckt, getrocknet und bei ho- Die Erfindung macht Metallisierungen verfügbar, die
oxid-Unterlage, aufgedruckt, getrocknet und bei ho- Die Erfindung macht Metallisierungen verfügbar, die
hen Temperaturen (über 60O0C) gebrannt. Während 35 sich für das Aufdrucken von Leitermustern auf dielek-
«les Brennens brennen die organischen Komponenten trische Unterlagen, gewöhnlich dielektrische K.eramik-In
dem Träger ab, und die Metallisierung geht eine Unterlagen, eignen. Die leitfähige Komponente der
Bindung an die Keramikunterlage ein. An den metal- Metallisierungsmasse wird von feinteiligem Silberlisierten
Bereich werden aktive und passive Kompo- pulver oder einer Mischung von feinteiligem Silbernenten
durch Löten und nach anderen Methoden ange- 40 pulver und Palladiumpulver gebildet. Beim Einsatz
»etzt. Es ist wichtig, daß die Komponenten für die einer Palladium-Silber-Mischung hängt die eingelebenszeit
der Schaltung gut an dieser haften, und setzte Palladium-Menge von den gewünschten Merkjtwar
auch bei erhöhten'Temperaturen. Eine wichtige malen der Metallisierung ab, wie Schmelzpunkt, Leit-Prüfung
für solche Metallisierungen stellt die Wärme- fähigkeit, Reaktivität gegenüber Lot, Kosten usw. Im
ftlterung und Haftungsmessung dar. 45 allgemeinen können bis zu 40% des Gesamtgewichts
Gelötete Silber-Metallisierungen zeigen nach Wärme- (von Palladium und Silber) auf Palladium entfallen,
»lterung eine beträchtliche Verminderung der Haftung Anders ausgedrückt Wepen bei Her Edelmetall-Komp->(an
dielektrischen Unterlagen). Bei Palladium-Silber- nente der Metalli ierungsmassen im allgemeinen O bis
Metallisierungen mit größeren Anteilen an Silber ist 2 Gewichtsteile Palladium auf 3 Gewichtsteile Silber
allgemein das Altern in der Wärme ausgeprägter als bei 5° vor.
solchen von geringerem Silbergehalt. Bei Oberflächen-Leitern,, die eine starke Haftung
Bei einer üblichen Prüfung werden gelötete Metalli- aufweisen sollen, wird herkömmlicherweise als anorgalierungen
48 Std. bei 120 bis 1500C gealtert; Silber- nisches Bindemittel jegliches anorganisches Material
Palladium-Metallisierungen können nach Alterung verwendet, das im Sinne einer metallischen Bindung
fcinen Abfall der Haftung von bis zu 80% derjenigen 55 an der Unterlage wirkt, einschließlich Gläsern, Metallftichtgealterter
Proben zeigen. Während des Alterns oxiden und Vorläufern von Glas und Oxiden. Beistellt
sich eine verwickelte Erscheinung ein. Es wird spielhaft hierfür sind die herkömmlichen Glasfritten,
angenommen, daß bei erhöhten Temperaturen Zinn wie Bleiborate, Bleisilicate, Bleiborsilicate, Cadmiumaus
Lot mit silberhaltigen Metallisierungen reagiert und borate, Bleicadmiumborsilicate, Zinkborsilicate und
die Bindung zwischen Metallisierung und Keramik 60 Natriumcadmiumborsilicate. Die Wahl des Bindemitschwächt.
tels und seiner Menge richtet sich nach den gewünsch-
Die vorliegende Erfindung stellt für das Aufbringen ten Eigenschaften des gebrannten Leiters. Normalerauf
dielektrische Unterlagen und darauffolgendes weise setzt man bis zu 15% Bindemittel ein, da eine
Brennen zur Ausbildung von Leitermustern geeignete größere Bindemittel-Menge die Lötfähigkeit erheb-Metallisierungen
mit einem Gehalt an feinteiligem 65 Hch herabsetzen würde. Alle Feststoff-Komponenten
Edelmetallpulver in Form von Silber oder Palladium/ (Metall, Fritte, Kupferverbindung) dieser Metallisie-Silber
und an anorganischem Bindemittel zur Verfü- rungen sollen so !einteilig oder pulvrig sein, daß sie
gung, die gebrannte Muster liefern, die gut an der ein Sieb von 0,044 mm lichter Maschenweite (325-Ma-
ichen-Sieb der US-Standard-Siebreihe) passieren. Das
Pulver enthält somit keine Teilchen mit einem Durchmesser von über etwa 40 Mikron. Im allgemeinen wird
die durchschnittliche Teilchengröße des Pulvers 20 Mikron
nicht überschreiten. Zweckmäßig liegt die durchichnittliche Teilchengröße der Metalle im Bereich von
01 bis 5 Mikron, während für die Fritte eine dürchjchnittliche
Teilchengröße im Bereich von 1 bis 15 Mikron bevorzugt wird.
Fritte A: 37,5 SiO2, 43,5 PbO, 9,8 CaO, 4,3 Al2O,
4,9 B2O3
Fritte B: 14,3 SiO2, 2,3 Al2O3, 59,6CdO, 16,5 B2O3, 7,3 Na2O.
Fritte B: 14,3 SiO2, 2,3 Al2O3, 59,6CdO, 16,5 B2O3, 7,3 Na2O.
Die Dicke der gebrannten Metallisierungen betrug etwa 10 bis 20 Mikron.
Zur Herstellung von Kupfertitanat wurde 1 Mol
Die Feststoffe können, wie herkömmlicherweise io TiO2 mit 3 Mol CuO vermischt und diese Mischung
üblich, zur Bildung von Metallisierungsmassen durch 4 Std. bei 105O0C gesintert, worauf die gesinterten
mechanisches Mischen in einem inerten, flüssigen Tracer dispergiert werden. Das Verhältnis von Feststoffen
»u Träger und die Art des Trägers richten sich nach
- ι.* n«..*,»., c„„„^„u„.'.^_ j · _:
Sieb von 0,044 mm Maschenweite passiert.
Beispiele 1 bis 2 Vergleichsversuch A
Es wurden Metallisierungsmassen mit einem Gehalt an Silber- und Palladiumpulvern und anorganischen
Bindemitteln mit Kupferaluminat (Beispiele 1 und 2)
4,39% CuAlO2, bezogen auf das Pd/Ag-Gewicht, und
diejenige von Beispiel 2 2,33% CuAlO2.
Metallisierungsmassen (Gewichtsprozent) Bewertung der Haftung
Aggregate gemahlen wurden und das Pulver erneut 4 Std. bei 10500C gesintert wurde. Das gesinterte Pro-
__ dukt wurde in einer Kugelmühle gemahlen und durch
den gewünschten Pasten-Eigenschaften und in einem 15 ein Sieb von 0,044 mm Maschenweite passiert,
gewissen Grad auch nach der Methode, nach der die Zur Herstellung von Kupferaluminat wurde 1 Mol
Dispersion auf eine Unterlage aufgetragen wird (z. B. Cu2O mit 2 Mol Al(OH)3 vermischt und die Mischung
Siebdruck, Spritzen, Tauchen, Streichen usw.). 4 Std. bei 1250°C gesintert, worauf die Aggregate ge-
So kann man als Träger Wasser oder organische mahlen wurden und das Produkt erneut 4 Std. bei
Flüssigkeiten mit oder ohne Verdickungs- und/oder 20 1250°C gesintert wurde. Das gesinterte Produkt wurde
Stabilisierungsmittel und/oder andere übliche Zusatz- 16 Std. in einer Kugelmühle gemahlen und durch ein
mittel verwenden. Als organische Flüssigkeiten können z. B. die aliphatischen Alkohole, Ester solcher
Alkohole, z. B. die Acetate und Propionate, Terpene, wie Pine-Oil, α- und /J-Terpineol, Lösungen von 25
Harzen, wie der Polymethacrylate von niederen Alkoholen, oder Lösungen von Äthylcellulose, wobei Lösungsmittel
wie Pine-Oil und der Monobutyläther von Äthylenglykolmonoacetat Verwendung finden können.
Zur Förderung eines raschen Erstarrens nach der Auf- 30 und ohne dieses hergestellt und auf das Haftungsvertragung
auf die Unterlage kann der Träger flüchtige halten bewertet. Die Masse von Beispiel 1 enthielt
Flüssigkeiten enthalten oder von solchen gebildet werden. Der Träger kann andererseits auch Wachse, thermoplastische
Harze oder ähnliche Stoffe enthalten, die thermofluid sind, so daß die trägerhaltige Metalli- 35
sierungsmasse bei erhöhter Temperatur auf einen relativ kalten Keramikkörper aufgetragen werden kann,
um auf diesem sofort zu erstarren.
Das Verhältnis von inertem Träger zu Feststoff in den Metallisierungsmitteln gemäß der Erfindung kann 40
sehr verschieden gewählt werden und hängt von der Art und Weise, in der die Dispersion der Metallisierungsmasse
im Träger aufzubringen ist, und der Art des
eingesetzten Trägers ab. Im allgemeinen wird man zur
Bildung einer Dispersion der gewünschten Konsistenz 45 Silberpulver ..
mit 1 bis 20 Gewichtsteilen Feststoff je Gewichtsteil Palladiumpul-
Träger arbeiten, wobei ein Bereich von 4 bis 10 Teilen
bevorzugt wird. Dispersionen mit einem Gehalt an
flüssigem Träger von 30 bis 70% sind optimal.
Die Metallisisrungsmassen gemäß der Erfindung
wurden, wie oben erwähnt, auf Keramik-Unterlagen aufgedruckt, worauf man die bedruckte Unterlage
brennt.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläut:rung
der Erfindung. Alle Teil-, Prozent-, Verhältnis- 55 Kupferalumiangaben
usw. beziehen sich in den Beispielen wie auch nat
■ der sonstigen Beschreibung auf das Gewicht. Als Träger zur Bildung von Dispersionen der Metallisierungsmassen
ist in den Beispielen ein solcher aus 90% ß-Terpineol
und 10% Äthylcellulose verwendet worden. Die Edelmetalle hatten eine durchschnittliche Teilchengröße
im Bereich von 0,1 bis 5 Mikron, und die Kupferverbindungen hatten eine solche Feinheit, daß sie ein
Sieb von 0,044 mm Maschenweite passierten. Die Teilchengröße der anorganischen Bindemittel lag im Bereich
von 5 bis 44 Mikron. Die in den Beispielen verwendeten Glasfritten hatten folgende Zusammensetzung
(in Gewichtsprozent):
Vergleichsversuch A
ver
Glasfritte-A-Pulver .
Wismutoxidpulver
Träger
Haftung
ungealtert
gealtert
(12O0C,
64 Std.)
kg/mm2...
ungealtert
gealtert
(12O0C,
64 Std.)
kg/mm2...
Lötfähigkeit
Leitfähigkeit
Mjlliohm/
Quadrat ..
Mjlliohm/
Quadrat ..
62,76 | 52,0 |
5,46 | 7,0 |
2,33 | 4,0 |
5,61 | 8,0 |
23,84 | 26,0 |
— | 3,0 |
0,28 | >O,53 |
0,23 | >O,53 |
ausge zeichnet |
ausge zeichnet |
9 | 20 |
53,0 7,0 4,0
8,0 26,0
2,0 >O,53
>O,53
ausgezeichnet
16
Die in Tabelle I genannten Pasten-Komponenten wurden auf einer Mischwalze vermengt; die Tabellenwerte
zeigen das verbesserte Verhalten der Metallisierungen gemäß der Erfindung bei entsprechenden
Prüfungen.
Die drei Massen wurden im Siebdruck (lichte Maschenweite 0,074 mm; 200-Maschen-Sieb) in Form von
16 Quadraten von 2,5 χ 2,5mm Fläche auf 2,5 X 2,5cm Keramikscheiben von 0,64 mm Dicke aufgebracht, die
tu 96% aus Aluminiumoxid bestanden, und die be- ίο
druckten Scheiben 15 Min. bei 1000C getrocknet und dann in einem Bandofen 10 Min. bei 85O°C gebrannt.
Die gebrannten Keramikscheiben wurden mit einem auf die metallisierten Bereiche aufgelegten rund
7 Mikron starkem Draht auf jeder der vier Reihen von jeweils vier 2,5 χ 2,5 mm Quadraten bei 215°C tauchverlötet
(Lot 62 Sn/36 Pb/2 Ag). Zur Messung der Haftung wurde der angelötete Draht an einem handelsüblichen
Zugprüfgerät befestigt (unter 90°) und mit einer Abziehgeschwindigkeit von 1,27 cm/Min, auf
Zug beansprucht. Die Haftungsergebnisse im gealterten und ungealterten Zustand nennt die Tabelle, wobei
die Haftungswerte das Mittel von 16 Proben darstellen. Wie sich zeigte, hatten die Metallisierungen nach Beispiel
1 und 2 (mit Kupferaluminat) gealtert wie ungealtert Haftungswerte von über 0,53kg/mmi( wie sich
teigte, riß bei Einwirkung der Kraft von 0,53 kg/mm2
der Draht selbst.
Zur Erläuterung der Dimension (MiIIi-) Ohm/Quadrat bzw. Ohm/Square vgl. »American Ceramics Society
Bulletin«, Vol. 42, Nr. 9, 1963, besonders S. 491.
Die Masse von Vergleichsversuch A (ohne das Kupferaluminat) zeigte gealtert wie ungealtert geringere
Haftungswerte von 0,28 bzw. 0,23 kg/mm2. Die Lötfähigkeit
der Kupferaluminathaltigen Masse wurde
durch das Vorliegen der Kupferverbindung nicht nachteilig beeinflußt, und die Leitfähigkeit war akzeptabel.
Vergleichsversuch B
Die Paste von Vergleichsversuch A wurde mit 3% ihres Gesamtgewichts an Kupferaluminat (Beispiel 3)
bzw. auf das Gewicht von Pd/Ag bezogen, 4,3% Cu2Al2O4 versetzt und mit der Abänderung wie in
Vergleichsversuch A bewertet, daß das Altern anstatt 64Std. bei 1200C hier 44 Std. bei 150DC erfolgte.
Ferner wurde die Masse von Vergleichsversuch A bei den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 3 erneut bewertet
(Vergleichsversuch B). Ergebnisse:
Haftung gealtert, kg/mm2
Durchschnitt von
16 Proben
niedrig
hoch
Lötfähigkeit
Leitfähigkeit, Milliohm/
Quadrat
Quadrat
Vergleichsversuch B
0,14 0,07 0,21
ausgezeichnet
0,39 0,27 0,49
ausgezeichnet
20
Silber- und Silber-Palladium-Metallisierungen (Gewichtsprozent)
Haftungs-Bewertung
Vergleichsversuch C
Vergleichsversuch D
Silberpulver
Palladiumpulver
Glasfritte-B-Pulver
Wismutoxid
Organischer Träger
Kupferaluminat
Haftung zu Anfang
Durchschnitt von 32 Proben ....
Niedrig
Hoch
Haftung nach 48stündiger Alterung
bei 15O0C
bei 15O0C
Durchschnitt von 32 Proben ..
Niedrig
Hoch
61,78 (99 Teile Masse
von C zuzüglich ITeil
von C zuzüglich ITeil
2,24
8,96
27,02
0,18
0,08
0,^7
0,08
0,^7
0,124
0,06
0,18 1,0
0,36
0,13
0,49
0,13
0,49
0,145
0,08
0,22
40,5
22,1
2,3
9,0
2,3
9,0
26,1
0,27
0,13
0,37
0,13
0,37
0,18
0,10
0,27
0,10
0,27
(97 Teile Masse von D zuzüglich 3 Teile Cu2Al8O4)
3,0
0,44 0,29 0,62
0,372 0,25 0,52
Beispiele 4 und 5
Vergleichsversuche C und D
Vergleichsversuche C und D
In Beispiel 4 und Vergleichsversuch C wurden Silberpulver-Pasten eingesetzt, und zwar in Vergleichsversuch
C ohne Cu8Al2O4 und in Beispiel 4 mit 1,63 %, bezogen
auf das Silbergewicht, Cu2Al2O1. In Beispiel 5
und Vergleichsversuch E kamen Ag/Pd-Pasten (35,3 % Pd, bezogen auf das Gesamtgewicht von Pd und Ag)
zur Anwendung, und zwar in Vergleichsversuch E ohne Cu8Al8O4 und in Beispiel 5 mit 4,94%, bezogen
auf das Pd/Ag-Gewicht, Cu2Al2O1, Nach der Arbeitsweise
von Beispiel 1 wurde eine Aluminiumoxid-Unterlage mit den Pasten nach Tabelle III metallisiert,
wobei die in der Tabelle zusammengefaßten Ergebnisse erhalten wurden. In jedem Falle ergaben sich
beim Arbeiten nach den Beispielen verbesserte Haftungseigenschaften.
Beispiel 6
Vergleichsversuch E
Vergleichsversuch E
In Beispiel 6 wurden mit einer Ag/Pd-Paste (8,0% Pd, bezogen auf Pd und Ag zusammen) mit einem Gehalt
von 4,53 %, bezogen auf Pd/Ag, an Cu3TiO5 wie
in Beispiel 1 Metallisierungen auf einer Aluminium-
oxid-Unterlage hergestellt, wobei die Paste 97 Teile der
Paste von Vergleichsversuch A und 3 Teile Cu8TiO5
enthielt. Diese Paste wurde zusammen mit der Paste von Vergleichsversuch A in einer Alterungs-Haftungsprüfung
(48 Std. bei 15O0C) bewertet, wobei sich die in Tabelle IV genannten Resultate ergaben.
Tabelle IV
Haftung nach 48stündiger Alterung bei 15O0C
Haftung nach 48stündiger Alterung bei 15O0C
Durchschnitt von
24 Proben ....
24 Proben ....
Niedrig
Hoch
0,37 0,28 0,56
Vergleichsversuch E
0,29 0,21 0,39
Beispiele 7 bis 10
Eine Wiederholung der Arbeitsweise von Beispiel 1 unter Einsatz von CuO · Fe2O3, CuO · Mn2O3,
CuO · Co2O8 oder Cu8O · Cr2O3 als Kupferverbindung
führte zu ähnlichen verbesserten Ergebnissen.
$09 645/
Claims (1)
- 23 33 318 I/Unterlage haften und die durch den Zusatz einer fein-Patentanspruch: teiligen, anorganischen, polynären, kristallinen Oxidverbindung des Kupfers, die über 100O0C schmilzt,Für das Aufbringen auf dielektrische Unterlagen gekennzeichnet ist. Die Meiallisierungsmasse kann in und darauffolgendes Brennen zur Erzeugung von 5 einem inerten, flüssigen Träger dispergiert sein.
Leitermustern geeignete Metallisierungsmasse mit Die wesentliche Komponente in den Metallisierungs-einem Gehalt an feinteiligem Edelmetallpulver in massen gemäß der Erfindung ist eine Kupferverbin-Form von Silber oder Palladium-Silber und an dung, speziell kristalline, anorganische, polynäre anorganischem Bindemittel, gekennzeich- Oxidverbindung des Kupfers, dieüberlOOO°CschmiIzt. net durch den Zusatz einer feinteiligen, an- io Unter »polynär« ist zu verstehen, daß die anorganische organischen, kristallinen, polynären Oxidverbin- Verbindung drei oder mehr Elemente enthält, d. h., dung des Kupfers, die über 10000C schmilzt. daß über Kupfer und Sauerstoff hinaus noch mindestens ein anderes Element in ihr vorliegt. Solche Elemente sind z. B. Aluminium (z. B. in Cu2Al2O4), Titan, 15 (z. B. in Cu3TiO6), Eisen (z. B. in CuO · Fe2O3), Mangan (z. B. in CuO · Mn2O3), Kobalt, (z. B. inCuO · Co2O3), Chrom (z. B. in Cu2O · Cr2O3) usw.Bevorzugte solche Verbindungen sind Cu2Al8O4, Cu3TiO5, CuO-Fe2O3, CuO · Mn2O3, CuO · Co2O3 20 und Cu2O · Cr2O8. Optimale Kupferverbindungen gemäß der Erfindung sind Cu2Al2O4 (Kupferaluminat),
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00268054A US3838071A (en) | 1972-06-30 | 1972-06-30 | High adhesion silver-based metallizations |
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DE2333318B2 DE2333318B2 (de) | 1975-03-27 |
DE2333318C3 true DE2333318C3 (de) | 1975-11-06 |
Family
ID=23021273
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2333318A Expired DE2333318C3 (de) | 1972-06-30 | 1973-06-29 | Metallisierungsmasse |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3838071A (de) |
JP (1) | JPS5320925B2 (de) |
CA (1) | CA1013623A (de) |
DE (1) | DE2333318C3 (de) |
FR (1) | FR2190893B1 (de) |
GB (1) | GB1379537A (de) |
IT (1) | IT990817B (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1973-06-28 IT IT26028/73A patent/IT990817B/it active
- 1973-06-29 DE DE2333318A patent/DE2333318C3/de not_active Expired
- 1973-06-30 JP JP7334273A patent/JPS5320925B2/ja not_active Expired
- 1973-07-02 GB GB3149473A patent/GB1379537A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2333318A1 (de) | 1974-01-17 |
JPS5320925B2 (de) | 1978-06-29 |
US3838071A (en) | 1974-09-24 |
JPS4956822A (de) | 1974-06-03 |
DE2333318B2 (de) | 1975-03-27 |
IT990817B (it) | 1975-07-10 |
FR2190893B1 (de) | 1976-05-28 |
CA1013623A (en) | 1977-07-12 |
FR2190893A1 (de) | 1974-02-01 |
GB1379537A (en) | 1975-01-02 |
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E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |