DE2333318A1 - Metallisierungsmasse - Google Patents
MetallisierungsmasseInfo
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 32
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 21
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 claims description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- -1 copper aluminate Chemical class 0.000 description 12
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 12
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 10
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RUJPNZNXGCHGID-UHFFFAOYSA-N (Z)-beta-Terpineol Natural products CC(=C)C1CCC(C)(O)CC1 RUJPNZNXGCHGID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010665 pine oil Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N syringin Chemical compound COC1=CC(\C=C\CO)=CC(OC)=C1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N 0.000 description 2
- WUOACPNHFRMFPN-SECBINFHSA-N (S)-(-)-alpha-terpineol Chemical compound CC1=CC[C@@H](C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-SECBINFHSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical class CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N alpha-Terpineol Natural products CC(=C)C1(O)CCC(C)=CC1 OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KSUWPYXSYBTWFG-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);diborate Chemical class [Cd+2].[Cd+2].[Cd+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] KSUWPYXSYBTWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000007712 rapid solidification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/07—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/10—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
- C03C8/18—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions containing free metals
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/14—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material
- H01B1/16—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material the conductive material comprising metals or alloys
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C2207/00—Compositions specially applicable for the manufacture of vitreous enamels
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Description
. Patentanwälte:
Dr. Ing. Walter AbKz 29>
Juni 19?3
Dr. Dieter F. Mo rf EL_3
Dr. Hans-Α. Brauns
8 Münclien 86, Pienzenauerstr. 28-
E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 10th and Market Streets, Wilmington, Del. 19898, V.St.A,
Metallisierungsmasse
Die Erfindung betrifft die Elektronik, insbesondere Leiter-Massen für die Herstellung elektronischer Schaltungen.
-Für elektronische Hybriden-Mikroschaltungen werden in grossem
Umfang Silber- oder Palladium/Silber-Metallisierungen verwandt.
Normalerweise wird die Metallisierungsmasse von Silberpulver oder Palladium/Silber-Pulvern, anorganischem Bindemittel,
wie Glasfritte, Wismutoxid usw., und gegebenenfalls inertem, flüssigem Träger zur Ausbildung der gewünschten
Druckeigenschaften gebildet. Gewöhnlich wird die Masse auf eine Keramikunterlage, wie Aluminiumoxid-Unterlage, aufgedruckt,
getrocknet und bei hohen Temperaturen (über 600° C) gebrannt. Während des Brennens brennen die organischen Komponenten
in dem Träger ab, und die Metallisierung geht eine Bindung an die Keramikunterlage ein. An den metallisierten
Bereich werden aktive und passive Komponenten durch Löten und nach anderen Methoden angesetzt. Es ist wichtig, dass
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die Komponenten für die Lebenszeit der Schaltung gut an dieser haften, und zwar auch bei erhöhten Temperaturen. Eine wichtige
Prüfung für solche Metallisierungen stellt die Wärmealt
erung und Haftungsmessung dar.
Gelötete Silber-Metallisierungen zeigen nach Wärmealterung eine beträchtliche Verminderung der Haftung (an dielektrischen
Unterlagen). Bei Palladium/Silber-Metallisierungen mit grösseren Anteilen an Silber ist allgemein das Altern in der
Wärme ausgeprägter als bei solchen von geringerem Silbergehalt .
Bei einer üblichen Prüfung werden gelötete Metallisierungen 4-8 Std. bei 120 bis 150° G gealtert; Silber/Palladium-Metallisierungen
können nach Alterung einen Abfall der Haftung von bis zu 80 % derjenigen nichtgealterter Proben zeigen.
Während des Alterns stellt sich eine verwickelte Erscheinung ein. Es wird angenommen, dass bei erhöhten Temperaturen Zinn
aus Lot mit silberhaltigen Metallisierungen reagiert und die Bindung zwischen Metallisierung und Keramik schwächt.
Die vorliegende Erfindung stellt für das Aufbringen auf dielektrische Unterlagen und darauf Brennen zur Ausbildung
von Leitermustern geeignete Metallisierungen mit einem Gehalt an feinteiligem Edelmetallpulver in Form von Silber oder
Palladium/Silber und an anorganischem Bindemittel zur Verfügung,
die gebrannte Muster liefern, die gut an der Unterlage haften, und sich durch den Zusatz einer feinteiligen, anorganischen,
polynären, kristallinen Oxidverbindung des Kupfers, die über 1000° C schmilzt, in einer der Verbesserung der Gealtert-Haftung
des anfallenden Leiters an der Untenlage entsprechenden Wirkmenge kennzeichnet. Die Metallisierung kann in einem
inerten, flüssigen Träger dispergiert sein.
Vorzugsweise enthalten die Metallisierungen die Kupferverbindung in einer Menge von 0,5 bis 10 % vom Gewicht des Edelmetallpulvers.
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EL-3 - 2332318
Bevorzugte Kupferverbindungen sind Cu2Al2O., Cu5TiO,-, CuO-Pe2O5,
CuO-Mn2O5, CuO-Co2O, und Cu2OOr2O5. Optimale Kupferverbindungen
sind Cu2Al2O^ und CuTO
Die wesentliche Komponente in den Metallisierungen gemäss der
Erfindung ist eine Kupferverbindung, speziell kristalline, anorganische, polynäre Oxidverbindung des Kupfers, die über
1000° C schmilzt. Unter "polynär" ist zu verstehen, dass die
anorganische Verbindung drei oder mehr Elemente enthält, d. h. dass über Kupfer und Sauerstoff hinaus noch mindestens ein
anderes Element in ihr vorliegt. Solche Elemente sind z. B. Aluminium (z. B. in Cu2Al2O^), Titan (z. B. in Cu5TiO5),
Eisen (z. B. in CuO-Pe2O5), Mangan (z. B. in CuO-Mn2O5),
Kobalt (z. B. in CuO-Co2O5), Chrom (z. B. in Cu2O-Cr2O5) usw.
Bevorzugte solche Verbindungen sind Cu2Al2O^, Cu5TiOc,
CuO-Pe2O5, CuO-Mn2O5, CuO-Co2O5 und Cu2O-Cr2O5. Optimale
Kupferverbindungen gemäss der Erfindung sind Cu2Al2O^ (Kupferaluminat),
das sich natürlich auch als CuAlO2 darstellen
lässt, und Cu5TiOc (Kupfertitanat).
Die Punktion der Kupferverbindung liegt in der Verbesserung ·
der Haftung gebrannter Silber- und Silber/Palladium-Metallisierungen im wärmegealterten Zustand. Vorzugsweise beträgt
die Menge der Kupferverbindung 0,5 bis 10 % vom Gewicht des
Edelmetalls (Ag und gegebenenfalls Pd) in der Masse, wobei sich die obere Grenze dieses Bereichs daraus ergibt, dass
bei höherem Gehalt an der Kupferverbindung die Lötfähigkeit
des anfallenden, gebrannten Leiters bei den meisten Zwecken zu wünschen übrig lässt.
Die Erfindung macht Metallisierungen verfügbar, die sich für das Aufdrucken von Leitermustern auf dielektrische Unterlagen,
gewöhnlich dielektrische Keramik-Unterlagen, eignen. Die leitfähige Komponente der Metallisierung wird von feinteiligem
Silberpulver oder einer Mischung von feinteiligem Silberpulver und Palladiumpulver gebildet. Beim Einsatz einer Palladium-
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ORIGINAL INSPECTED
Silber-Mischung hängt die eingesetzte Palladium-Menge von den gewünschten Merkmalen der Metallisierung ab, wie Schmelzpunkt,
Leitfähigkeit, Reaktivität gegenüber Lot, Kosten usw. Im allgemeinen können bis zu 40 % des Gesamtgewichts von Palladium
und Silber auf Palladium entfallen. Anders ausgedrückt liegen bei der Edelmetall-Komponente der Metallisierungen im allgemeinen
O bis 2 Gew.teile Palladium auf 3 Gew.teile Silber
vor.
Zu den bei Oberflächen-Leitern, bei denen eine starke Haftung gewünscht wird, herkömmlicherweise verwendeten, anorganischen
Bindemitteln gehört jegliches anorganische Material, das im Sinne einer Bindung von Metall an der Unterlage wirkt, einschliesslich
Gläsern, Metalloxiden und Vorläufern von Glas und Oxiden. Beispielhaft hierfür sind die herkömmlichen Glasfritten,
wie Bleiborate, Bleisilicate, Bleiborsilicate, Cadmiumborate,
Bleibadmiumborsilicate, Zinkborsilicate und Ναι riumc admiumb or si lic ate· Die Wahl des Bindemittels und seiner
Menge liegt im Rahmen des technischen Könnens und richtet sich nach den gewünschten Eigenschaften des gebrannten Leiters.
Normalerweise setzt man bis zu 15 % Bindemittel ein, da eine grössere Bindemittel-Menge die Lötfähigkeit erheblich
herabsetzen würde. Alle Feststoff-Komponenten (Metall, Fritte, Kupferverbindung) dieser Metallisierungen sollen eine feinteilige
oder pulvrige Form haben, d. h. die Form von Pulvern genügender Feinheit, um ein Sieb von 0,044 mm lichter Maschenweite (325-Maschen-Sieb der US-Standard-Siebreihe) zu
passieren. Das Pulver enthält somit keine Teilchen mit einem Durchmesser von über etwa 40 Mikron. Im allgemeinen wird die
durchschnittliche Teilchengrösse des Pulvers 20 Mikron nicht
überschreiten. Zweckmässig liegt die durchschnittliche Teilchengrösse
der Metalle in Bereich von 0,1 bis 5 Mikron, während für die Fritte eine durchschnittliche Teilchengrösse
•im Bereich von 1 bis 15 Mikron bevorzugt wird.
3 09883/116 0
Die Metallisierungs-Feststoffe können, wie herkömmlicherweise
üblich, zur Bildung von Metallisierungsmassen durch mechanisches Mischen in einem inerten, flüssigen Träger dispergiert
werden. Das Verhältnis von Feststoffen zu Träger und die Art des Trägers richten sich nach den gewünschten Pasten-Eigenschaften
und in einem gewissen Grad auch nach der Methode, nach der die Dispersion auf eine Unterlage aufgetragen wird
(z. B. Siebdruck, !Spritzen, Tauchen, Streichen usw.)· Die
Wahl des Trägers und Verhältnisses von Feststoffen zu Träger liegt im Rahmen des technischen Könnens.
Als Träger kann jede inerte Flüssigkeit Verwendung finden. So kann man als Träger Wasser oder· all die verschiedenen organischen
Flüssigkeiten mit oder ohne Dickungs- und/oder Stabilisiermittel und/oder andere übliche Zusatzmittel verwenden.
Für die organischen Flüssigkeiten beispielhaft sind die aliphatischen Alkohole, Ester solcher Alkohole, z. B. die Acetate
und Propionate, Terpene, wie Pine-Oil, α- und ß-Terpineol und
dergleichen, Lösungen von Harzen, wie der Polymethacrylate von niederen Alkoholen, oder Lösungen von.Äthylcellulose,
wobei Lösungsmittel wie Pine-Oil und der Monobutyläther von Ithylenglykolmonoacetat Verwendung finden können. Zur Förderung
eines raschen Erstarrens nach der Auftragung auf die Unterlage kann der Träger flüchtige Flüssigkeiten enthalten oder
von solchen gebildet werden. Der Träger kann andererseits auch Wachse, thermoplastische Harze oder ähnliche Stoffe enthalten,
die thermofluid sind, so dass die trägerhaltige · Metallisierungsmasse bei erhöhter Temperatur auf einen relativ
kalten Keramikkörper aufgetragen werden kann, um auf diesem sofort zu erstarren.
Das Verhältnis von inertem Träger zu Feststoff in den Metallisierungsmitteln
gemäss der Erfindung kann sehr verschieden gewählt werden und hängt von der Art und Weise, in der die
Dispersion der Metallisierungsmasse im Träger aufzubringen ist, und der Art des eingesetzten Trägers-ab. Im allgemeinen wird
man zur Bildung einer Dispersion der gewünschten Konsistenz
309883/1Ί60
mit 1 bis 20 Gew.teilen Feststoff Je Gew.teil träger arbeiten,
wobei ein Bereich von 4 bis 10 Teilen bevorzugt wird. Dispersionen
mit einem Gehalt an flüssigem !Träger von JO bis 70 % sind optimal.
Die Metallisierungsmassen gemäss der Erfindung werden, wie
oben erwähnt, auf Keramik-Unterlagen aufgedruckt, worauf man die bedruckte Unterlage brennt, um die Metallisierungsmasse
zu "reifen" und hierdurch elektrisch kontinuierliche Leiter zu bilden.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung. Alle Teil-, Prozent-, Verhältnisangaben usw. beziehen
sich in den Beispielen wie auch der sonstigen Beschreibung auf das Gewicht. Als Träger zur Bildung von Dispersionen
der Metallisierungsmassen ist in den Beispielen ein solcher aus 90 % ß-Terpineol und 10 % Ithylcellulose
verwendet worden. Die Edelmetalle hatten eine durchschnitt-' liehe Teilchengrösse im Bereich von 0,1 bis 5 Mikron, und
die Kupferverbindungen hatten eine solche Feinheit, dass sie ein Sieb von 0,044 mm Maschenweite passierten. Die Teilchengrösse
der anorganischen Bindemittel lag im Bereich von 5 bis 44 Mikron. Die in den Beispielen verwendeten Glasfritten
hatten folgende Zusammensetzung (in Gew.%): Fritte A: 37,5 SiO2, 43,5 PbO, 9,8 Ca0, 4,3 Al3O5, 4,9 B2O3
Fritte B: 14,3 SiO2, 2,3 Al3O5, 59,6 OdO, 16,5 B2°3» 7,3 Na2O.
Die Dicke der gebrannten Metallisierungen betrug etwa 10 bis 20 Mikron.
Zur Herstellung von Kupfertitanat wurde 1 Mol TiO2 mit 3 Mol
CuO vermischt und diese Mischung 4 Std. bei IO5O0 C gesintert,
worauf die gesinterten Aggregate aufgebrochen wurden und das Pulver erneut 4 Std. bei 10500 C gesintert wurde. Das
gesinterte Produkt wurde kugelgemahlen und durch ein Sieb von 0,044 mm Maschenweite passiert.
- 6 - .
309883/1160
309883/1160
EL-3 γ
Zur Herstellung von Kupferaluminat wurde 1 Mol Cu2O mit
2 Mol Al(OH), vermischt und die Mischung 4· Std. bei
1250° C gesintert, worauf die Aggregate aufgebrochen wurden und das Produkt erneut 4· Std. bei 1250° G gesintert wurde.
Das gesinterte Produkt wurde 16 Std. kugelgemahlen und durch ein Sieb von 0,044- mm Maschenweite passiert.
Beispiele 1 bis 2 - Vergleichsversuch A -
Es wurden Metallisierungsmassen mit einem Gehalt an Silber- und Palladiumpulvern und anorganischen Bindemitteln mit Kupferaluminat
(Beispiele 1 uxvi 2) und ohne dieses hergestellt und auf das Haftungsverhalten bewertet. Die Masse von Beispiel 1
enthielt 4-,39 % GuAlO2, bezogen auf das Pd/Ag-Gewicht, und
diejenige von Beispiel 2 2,33 % GuAlO2-
Die in Tabelle I genannten Pasten-Komponenten wurden auf einer Mischwalze vermengt; die Tabellenwerte zeigen das verbesserte
Verhalten der Metallisierungen gemäss der Erfindung bei entsprechenden
Prüfungen.
Die drei Massen wurden im Siebdruck (lichte Maschenweite
0,074- mm; 200-Masehen-Sieb) in Form von 16 Quadraten von
2,5 x 2,5 mm Fläche auf 2,5 x 2,5 cm Keramikscheiben von
0,64· mm Dicke auf gebracht, die zu 96 % aus Aluminiumoxid bestanden,
und die bedruckten Scheiben 15 Min. bei 100° C getrocknet und dann In einem Bandofen 10 Min. bei 850° C
gebrannt. Die gebrannten Keramikscheiben wurden mit einem auf die metallisierten Bereiche aufgelegten 26-Gauge-Draht
auf jeder der vier Beinen von jeweils vier 2,5 x 2,5 mm Quadraten
bei 215° C tauchverlötet (Lot 62 Sn/36 Pb/2 Ag). Zur
Messung der Haftung wurde der angelötete Draht an einem Zugprüfgerät der Bauart Chatillon befestigt (unter 90°) und mit
einer Abziehgeschwindigkeit von 1,27 cm/Min* auf Zug beansprucht.
Die Haftungsergebnisse im gealterten und ungealterten
309883/1160
EL-3
Zustand nennt die Tabelle, wobei die Haftungswerte das Mittel
von 16 Proben darstellen. Wie sich zeigte, hatten die Metallisierungen nach Beispiel 1 und 2 (mit Eupferaluminat) gealtert
wie ungealtert Haftungswerte von über 0,53 kg/mm (7,5 Pounds); wie sich zeigte, riss bei Einwirkung der Kraft
von 0,53 kg/mm (,7^5 Pounds) der 26-G-auge-Draht selbst.
Tabe1IeI
Met aiii sierunKsmassen | (Gew.%); Bewertung der | Beispiel | Haftung |
Vergleichs versuch A |
52,0 | 1 Beispiel 2 | |
Silberpulver | 62,76 | 7,0 | 53,0 |
Palladiumpulver | 5,46 | 4,0 | 7,0 |
Glasfritte-A-Pulyer | 2,33 | 8,0 | 4,0 |
Wismutoxidpulver | 5,61 | 26,0 | 8,0 |
Träger | 23,84 | 3,0 | 26,0 |
Eupferaluminat | 2,0 | ||
Haftung | >O,53 | ||
ungealtert | 0,28 | >O,53 | > 0,53 |
gealtert (120° C, 64 St ä..) kg/mm |
0,23 | >O,53 | |
Lötfähigkeit | ausge zeichnet |
ausge- ausge zeichnet zeichnet |
Leitfähigkeit, Milliohm/Quadrat
20
Zur Erläuterung der Dimension (MiIIi-) Ohm/Quadrat bzw.
Ohm/Square vergl. "American Ceramics Society Bulletin",
Vol. 42, Hr. 9, 1963, besonders S. 491.
Die Masse von Vergleichsversuch A (ohne das Kupferaluminat)
zeigte gealtert wie ungealtert geringere Haftungswerte von 0,28 bzw. 0,23 kg/mm2. Die Lötfähigkeit der kupferaluminathaltigen
Masse wurde durch das Vorliegen der iQipferverbindung
309883/1160
nicht nachteilig beeinflusst, und die Leitfähigkeit war
akzeptabel.
akzeptabel.
Beispiel 3
- VerKleichsversuch B -
Die Paste von Vergleichsversuch A wurde mit 3 % ihres Gesamtgewichts
an Kupferaluminat (Beispiel 3) bzw. auf das Gewicht von Pd/Ag bezogen, 4,3 % αΜ^Ι,Λ-Ίι. versetzt und mit der Abänderung
wie in Vergleichsversuch. A bewertet, dass das Altern
anstatt 64 Std. bei 120° O hier 44 Std. bei 150° O erfolgte. Ferner wurde die Masse von Vergleichsversuch A bei den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 3 erneut bewertet (Vergleichsversuch B). Ergebnisse:
anstatt 64 Std. bei 120° O hier 44 Std. bei 150° O erfolgte. Ferner wurde die Masse von Vergleichsversuch A bei den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 3 erneut bewertet (Vergleichsversuch B). Ergebnisse:
Tabelle II
Vergleichs versuch B |
Beispiel 3 | |
Haftung gealtert , kg/mm^ |
||
Durchschnitt von 16 Proben |
0,14 | 0,39 |
niedrig | 0,07 | 0,27 |
hoch | 0,21 | 0,49 . |
Lötfähigkeit | ausgezeichnet | ausgezeichnet |
Leitfähigkeit, Milli- ohm/Quadrat |
9 | 20 |
309883/1160
Beispiele 4· und 5
- Verprleichsversuche C und D -
In Beispiel 4- und Vergleichsversuch C wurden Silberpulver-Pasten
eingesetzt, und zwar in Vergleichsversuch C ohne CuoAlpO^ 1^"1 ^n Beispiel 4- mit. 1,65 %» bezogen auf das Silbergewicht,
Cu^^0/!.· -^11 Beispiel 5 und Vergleichsversuch E kamen
Ag/Pd-Pasten (55»3 % Pd, bezogen auf das Gesamtgewicht von Pd
und Ag) zur Anwendung, und zwar in Vergleichsversuch E ohne CuoAloO/i und in Beispiel 5 mit 4-,9^- %>
bezogen auf das Pd/Ag-Gewicht, CupAloPü.· Nach der Arbeitsweise von Beispiel 1
wurde eine Aluminiumoxid-Unterlage mit den Pasten nach Tabelle III metallisiert, wobei die in der Tabelle zusammengefassten
Ergebnisse erhalten wurden. In Jedem Falle ergaben sich beim Arbeiten gemäss der Erfindung verbesserte Haftungseigenschaften.
- 10 -309883/1160
EL-5
T a b e 1 1 e III
Vergleichs- Beispiel 4 Vergleichs- Beispiel 5
versuch C versuch D
Silberpulver Palladiumpulver |
61,78 | (99 Teile Masse von C zuzüg lich 1 Teil Cu2Al2O4) . |
40,5 22,1 |
(97 Teile Masse von D zuzüglich 5 Teile Ou2Al2O4) |
Glasfritte-B- Pulver |
2,24 | 2,5 | ||
Vismutoxid | 8,96 | 9,0 | ||
Organischer Träger |
27,02 | 26,1 | ||
Eup f e r aluminat | - — | 1,0 | — | 5,0 |
Haftung zu Anfang | ||||
Durchschnitt von 52 Proben |
0,18 | 0,56 | 0,27 | 0,44 |
niedrig | 0,08 | 0,15 | 0,15 | 0,29 |
hoch | 0,27 | 0,49 | 0,57 | 0,62 |
Haftung nach 48stündiger Al terung bei 150° C |
||||
Durchschnitt von 52 Proben |
0,124 | 0,145 | 0,18 | 0,572 |
niedrig | 0,06 | 0,08 | 0,10 | 0,25 . |
hoch | ' 0,18 | 0,22 | 0,27 | 0,52 |
Beispiel 6
- Vergleichsversuch E -
In Beispiel 6 wurden mit einer Ag/Pd-Paste (8,0 % Pd, bezogen
auf Pd und Ag zusammen) mit einem Gehalt von 4,55 %, bezogen
auf Pd/Ag, an Cu^TiO^ wie in Beispiel 1 Metallisierungen auf
- 11 -
309883/1160
einer Aluminiumoxid-Unterlage hergestellt, wobei die Paste
97 Teile der Paste von Vergleichsversuch A und 3 Teile
enthielt. Diese Paste wurde zusammen mit der Paste
3 P
von Vergleichsversuch A in einer Alterungs-Haftungsprüfung (48 Std. bei 150° C) bewertet, wobei sich die in Tabelle IV genannten Resultate ergaben.
von Vergleichsversuch A in einer Alterungs-Haftungsprüfung (48 Std. bei 150° C) bewertet, wobei sich die in Tabelle IV genannten Resultate ergaben.
Tabelle IV
Haftung nach' 48stündiß:er Alterung | bei | 150° C |
6 | Vergleichs versuch E |
|
Beispiel | 0,29 0,21 0,39 |
|
Durchschnitt von 24 Proben 0,37 niedrig 0,28 hoch 0,56 |
Eine Wiederholung der Arbeitsweise von Beispiel 1 unter Einsatz von CuO-Pe2O5, CuO.MhgO^, CuO-Co2O5 oder Cu20'Cr20, als
Kupferverbindung führte zu ähnlichen verbesserten Ergebnissen.
- 12 30988 3/1160
Claims (1)
- Pat ent anspruchFür das Aufbringen auf dielektrische Unterlagen und darauf Brennen zur Erzeugung von Leitermustern, geeignete Metallisierungsmasse mit einem Gehalt an feinteiligem Edelmetallpulver in Form von Silber oder Palladium/Silber und an anorganischem Bindemittel, gekennzeichnet durch den Zusatz einer feinteiligen, anorganischen, kristallinen, polynären OxLdverbindung des Kupfers, die über 1000° 0 schmilzt, in einer der Verbesserung der Haftung des anfallenden Leiters an der Unterlage im gealterten Zustand entsprechenden Wirkmenge.309883/1160
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00268054A US3838071A (en) | 1972-06-30 | 1972-06-30 | High adhesion silver-based metallizations |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2333318A1 true DE2333318A1 (de) | 1974-01-17 |
DE2333318B2 DE2333318B2 (de) | 1975-03-27 |
DE2333318C3 DE2333318C3 (de) | 1975-11-06 |
Family
ID=23021273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2333318A Expired DE2333318C3 (de) | 1972-06-30 | 1973-06-29 | Metallisierungsmasse |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3838071A (de) |
JP (1) | JPS5320925B2 (de) |
CA (1) | CA1013623A (de) |
DE (1) | DE2333318C3 (de) |
FR (1) | FR2190893B1 (de) |
GB (1) | GB1379537A (de) |
IT (1) | IT990817B (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3922387A (en) * | 1973-08-28 | 1975-11-25 | Du Pont | Metallizations comprising nickel oxide |
US4050048A (en) * | 1975-04-09 | 1977-09-20 | Plessey Incorporated | Humidity sensor, material therefor and method |
US4016308A (en) * | 1975-04-09 | 1977-04-05 | Plessey Incorporated | Humidity sensor, material therefor and method |
US4090009A (en) * | 1977-03-11 | 1978-05-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Novel silver compositions |
US4243710A (en) * | 1978-12-06 | 1981-01-06 | Ferro Corporation | Thermoplastic electrode ink for the manufacture of ceramic multi-layer capacitor |
US4414143A (en) * | 1981-05-06 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Conductor compositions |
US4415624A (en) * | 1981-07-06 | 1983-11-15 | Rca Corporation | Air-fireable thick film inks |
JP2670679B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1997-10-29 | 日本特殊陶業株式会社 | メタライズ組成物 |
US5053283A (en) * | 1988-12-23 | 1991-10-01 | Spectrol Electronics Corporation | Thick film ink composition |
JPH02263732A (ja) * | 1989-04-05 | 1990-10-26 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘッド用吸光融着性ガラス |
US4968738A (en) * | 1989-04-06 | 1990-11-06 | Quantum Materials, Inc. | Silver-glass die attach paste with reduced resin |
US5264821A (en) * | 1990-11-27 | 1993-11-23 | United Technologies Automotive | Rotary, push-pull headlight switch with ceramic coated metal substrate rheostat and cam actuated dome light bypass switch |
US5119063A (en) * | 1990-12-19 | 1992-06-02 | United Technologies Corporation | Variable power resistor |
US5181313A (en) * | 1990-12-19 | 1993-01-26 | United Technologies Automotive | Method of making a variable power resistor |
US5925443A (en) * | 1991-09-10 | 1999-07-20 | International Business Machines Corporation | Copper-based paste containing copper aluminate for microstructural and shrinkage control of copper-filled vias |
US5250229A (en) * | 1991-10-10 | 1993-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Silver-rich conductor compositions for high thermal cycled and aged adhesion |
US5546067A (en) * | 1994-12-14 | 1996-08-13 | United Technologies Automotive, Inc. | Rotary potentiometer assembly for a push-pull switch |
JPWO2024004391A1 (de) * | 2022-06-26 | 2024-01-04 | ||
WO2024004394A1 (ja) * | 2022-06-26 | 2024-01-04 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4873341A (de) * | 1971-12-28 | 1973-10-03 |
-
1972
- 1972-06-30 US US00268054A patent/US3838071A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-06-21 CA CA174,601A patent/CA1013623A/en not_active Expired
- 1973-06-27 FR FR7323480A patent/FR2190893B1/fr not_active Expired
- 1973-06-28 IT IT26028/73A patent/IT990817B/it active
- 1973-06-29 DE DE2333318A patent/DE2333318C3/de not_active Expired
- 1973-06-30 JP JP7334273A patent/JPS5320925B2/ja not_active Expired
- 1973-07-02 GB GB3149473A patent/GB1379537A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1379537A (en) | 1975-01-02 |
DE2333318C3 (de) | 1975-11-06 |
FR2190893A1 (de) | 1974-02-01 |
DE2333318B2 (de) | 1975-03-27 |
FR2190893B1 (de) | 1976-05-28 |
IT990817B (it) | 1975-07-10 |
CA1013623A (en) | 1977-07-12 |
JPS4956822A (de) | 1974-06-03 |
US3838071A (en) | 1974-09-24 |
JPS5320925B2 (de) | 1978-06-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |