DE2261075B2 - Apparat zur behandlung on beiden seiten einer druckplatte - Google Patents

Apparat zur behandlung on beiden seiten einer druckplatte

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DE2261075B2 DE19722261075 DE2261075A DE2261075B2 DE 2261075 B2 DE2261075 B2 DE 2261075B2 DE 19722261075 DE19722261075 DE 19722261075 DE 2261075 A DE2261075 A DE 2261075A DE 2261075 B2 DE2261075 B2 DE 2261075B2
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3064Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the transport means or means for confining the different units, e.g. to avoid the overflow
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/08Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material
    • G03D3/13Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly
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Description

/ Gegenstand des Patents 22 50 235 ist ein Apparat zur . Behandlung beider Seiten einer Druckplatte mit einer -Einrichtung zum Vorweichen der beiden Seiten mit Entwicklerflüssigkeit und an die Vorweicheinrichtung sich anschließende; einander gegenüberliegende, gegenfiber der Druckplatte bewegte Bärsten, die die beiden Seiten der Druckplatte berühren, die sich dadurch auszeichnet, daß die Knrichtung zum Vorweichen eine einen Einlaß und einen Auslaß aufweisende Kammer ist, in der EntwidderflBssigkeU fortwährend in Kontakt mit den beiden Seiten der Druckplatte ist, daß die Bürsten, wie an sich bekannt, qaer zur Transp^ortricht^ng der Druckplatte bin und her beweglich sind, da? sieh an die Bürsten ebenfalls quer zvr TYansportricbtung hin und her gebende, einander gegenüberliegende Reibepolster anschließen, daß eine Vorrichtung zur gleichmäßigen Entwicklerzufuhr zu beiden Seiten der Druckplatte der Behandlungszone vorgesehen ist und daß die Bürsten und Reibepolster auf der einen Seite identisch sind mit denen auf der anderen Seite.
Mit diesem Apparat ist die Aufgabe gelöst worden, beide Seiten einer Druckplatte gleichzeitig präzise zu entwickeln. Dabei ist der Apparat einfach zu handhaben und zeichnet sicn durch einen relativ geringen Aufwand aus.
Nach dem Hauptpatent sind als Bürsten, weiche beide Seiten der Druckplatte berühren, flache Bürsten vorgesehen, deren Büschel stets gegen die Platte gerichtet sind.
Die vorliegende Erfindung hat eine neue Ausführungsform des Hauptpatents zum Ziel, mit der gleichwohl die dem Hauptpatent zugrunde liegende Aufgabi gelöst wird, beide Seiten einer Druckplatte gleichzeitig und sauber zu entwickeln, wobei der hierzu benötigte Apparat möglichst einfach zu handhaben sein soll und sich durch einen relativ geringen Aufwand auszeichnen soll.
Diese Aufgabe wird für einen Apparat der in dem Oberbegriff des Anspruchs 1 angegebenen Gattung, dadurch gelöst daß die Bürsten, wie an sich bekannt rotierende Bürstenwalzen sind.
Durch die Verwendung rotierender Bürstenwalzen kann auf eine quer zur Bewegungsrichtung der Druckplatte gerichtete Bewegung der Bürsten verzichtet werden. Dadurch werden die hin und her gehenden Massen gering gehalten — Werden andererseits die rotierenden Bürstenwalze zusätzlich quer zur Bewegungsrichtung bewegt so läßt sich eine besonders intensive Bearbeitung der Druckplattenoberflächen erzielen.
Bei dem Apparat gemäß dem vorliegenden Zusatzpatent wird unter anderem von einem Merkmal Gebrauch gemacht das in Verbindung mit einer anderen speziellen Gattung von Apparaten zur Behandlung beider Seiten einer Druckplatte bekannt ist nämlich von rotierenden Bürstenwalzen (US-PS 35 52 293). Dieser bekannte Apparat ist jedoch insgesamt nicht zur Lösung der vorliegenden Aufgabe geeignet: Der bekannte Apparat besteht im wesentlichen — in Transportrichtung der Metallplatte gesehen — aus einer Einrichtung zum Vorweichen beider beschichteter Seiten der Druckplatte mit Entwicklerflüssigkeit, einer Entwicklerstation, einer Fixierstation und einer Trockenstation. Die Einrichtung zum Vorweichen der beiden beschichteten Seiten der Druckplatte besteht aus Sprühdüsen, welche die Lösung aufbringen, und elastischen Klappen, die die Lösung verteilen. Die Entwicklerstation ,besteht^ aus 5 fest angeordneten Walzenpaaten, von denen! weit Walzenpaare zum Transport und 3 Walzenpaare, die bürstenförmig ausgebildet sind, zur Behandlung1 der^ Platte mit der Ehtwicklerlösung dienen. Jeweils die V· untere Walze jedes Walzenpaares taucht in dielli« Entwicklerlösung in der Wanne ein. In ähnlicher Weiset
jgt die fiserstation mit 4 fest angeordneten Paaren drehbarer Walzen ausgebildet IMe Oberflächen der gflrstenwalzen bewegen sidi insofern gegenüber der Platte, als ihre Umfangsgeschwindigkeit größer als die lYansportgeschwindigkek der Hatte is*. Außerdem ist die Bewegungsrichtung der BürstenwaJzen umkehrbar, so daß sich ihr Umfang entgegen der Platte bewegt, wenn sich diese an bestimmten Stellen innerhalb des Apparates befindet Die Bewegungsumkehr bat zum |5el Beschädigungen der in Transpoitrichtung /orderen und nieren Kante der Platte zu vermeiden.
Mit diesem Apparat wird jedoch nicht unter allen umständen eine gleichmäßig Entwicklung beider Seiten der Druckplatte erreicht Dies ist unter anderem darauf zurückzuführen, daß nur jeweils die untere Walze eines Walzenpaares in die Entwicklerlösung eintaucht Nur die unteren Walzen können sich mit der Entwicklerlösung vollsaugen und diese kontinuierlich auf die Druckplatte ebertragen, während die obere Walze eines jeden Paares der Bürstenwalzen allenfalls nur benetzt sein kann. Hinzu kommt daß sich der Gehalt Entwicklerlösung der oberen Bürstenwalzen während des Durchganges der Metallplatte durch den Apparat schnell erschöpft. Außerdem kommt hinzu, daß die Gefahr einer nicht genügend intensiven und gleichmäßigen Vorweichung der lichtempfindlichen Schicht der Platte durch die Sprühköpfe und elastischen Klappen besteht Infolgedessen ist die Entwicklung nicht gleichmäßig und insbesondere auf beiden Seiten der Platte unterschiedlich.
Mit dem erfindungsgemäßen Apparat werden hingegen die Unzulänglichkeiten des bekannten Apparates vermieden, obwohl auch nach der Erfindung unter anderem rotierende Bürstenwalzen verwendet werden: Nach der vorliegenden Erfindung wird zunächst die Druckplatte durch die Kammer, im folgenden auch als Vorkammer bezeichnet befördert, in der die Schicht an den Nicht-Bi'dstellen intensiv erweicht wird. Die Druckplatte mit der erweichten Schicht kann durch das sich anschließende Reinigungs- und Reibesystem mit den Bürstenwalzen und Reibepolstern wirkungsvoll gereinigt werden, so daß die unerwünschte Schicht auch an den kleinsten Stellen praktisch vollständig entfernt wird. Auf diese Weise läßt sich ein qualitativ sehr befriedigendes Bild herstellen. In der Reinigungs- und Reibestation wird weiterhin ständig Entwickler auf die Platte aufgebracht, und zwar sowohl unmittelbar an den Bürstenwalzen als auch zwischen den Reibepolstern. Durch die Relativbewegung der Bürstenwaizen und die Hin- und Herbewegung der Reibepolster und die ständige Entwicklerzufuhr im Bereich der Bürstenwalzen und zwischen den Reibepolstern werden die abgelösten Schichtteile, welche eine Verunreinigung der Bürsten und Reibepolster hervorrufen könnten, wirksam und ununterbrochen weggespült. In der Reinigungs- und Reibestation wird ständig neuer Entwickler auf beiden Seiten der Druckplatte gleichmäßig über die gesamte Oberfläche herangebracht, um eine intensive Entwicklung zu erzielen.
Wenn die einander gegenüberliegenden Bürstenwalzen in entgegengesetzter Richtung hin und her beweglich angeordnet sind, kann ein zusätzlicher Selbstreinigungseffekt erzielt werden, der die Selbsreinigung durch das Abschleudern der Schichtteilchen von den rotierenden Bürstenwalzen verstärkt.
Werden die Bürstenwalzen mit zwischen den einzelnen Büscheln liegenden Zwischenräumen ausgebildet so wird die Reinigungswirkung weiterhin gefördert da abgelöstes Schicbtmaterial durch die Zwischenräume zwischen den einzelnen Büscheln durch den Entwickler weggespült werden kann.
Weitere zweckmäßige Ausbildungen des Apparates gehei aus den Ansprüchen 4 bis 9 hervor.
Die Erfindung soll anhand der Zeichnungen näher erläutert werden. In diesen Zeichnungen stellen
A b b. 1 eine Seitenansicht teilweise im Schnitt einer Ausführungsform der Erfindung, vaul
Abb. 2 eine perspektivische Ansicht der Einlaufwalzen, der Einweichstation und der rotierbaren Reinigungsbürsten
dar.
Wie aus A b b. 1 ersichtlich, enthält der Apparat eine Unke obere Seitenplatte 2 und eine linke untere Seitenplatte 4, auf denen jeweils die Einlaufwalzen 6 und 8 befestigt sind, zwischen denen eine Platte in den Apparat eingeführt oder befördert werden kann. Die in den Apparat einlaufende Platte durchläuft zunächst eine Vorweichstation 12, die aus der oberen Platte 14 und der unteren Platte 16 gebildet ist die ihrerseits an den Montageplatten 18 und 20 angebracht sind. In die von den Platten 14 und 16 gebildete Kammer wird Entwicklerflüssigkeit durch die Entwicklerzuleitungen 22 und 24 geleitet die mit einer geeigneten Quelle für unter Druck stehende Entwicklerflüssigkeit in Verbindung stehen, welche in der Zeichnung nicht dargestellt ist.
Wenn die Platte 10 die Vorweichstation verläßt läuft sie zwischen ein Paar sich hin- und herbewegender Reinigungsbürsten 26 und 28, die von den Wellen 30 und 32 hin- und herbewegt werden. Diese Bürsten können entweder in der Richtung der Vorwärtsbewegung der Platte rotieren oder auch in entgegengesetzter Richtung. In der in den Zeichnungen dargestellten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung bewegen sich die Bürsten außerdem noch in entgegengesetzter Richtung hin und her. Die Bürsten 26 und 28 können mit Hilfe der Tragarme 29 hin- und herbewegt werden, mit denen die Halterungen der hohlen Wellen 30 und 32 an den Tragarmen 34 und 36 befestigt sind, welche ihrerseits durch die Wellen 38 und 40 hin- und herbewegt werden.
Durch die Hohlwellen 30 und 32 und durch die von den Hohlwellen 30 und 32 zur Außenseite der Bürsten 26 und 28 führenden Kanäle 42 kann zusätzliche Entwicklerflüssigkeit zugeführt werden, die zwischen die Borsten oder Büschel der Bürsten und von da auf die Oberfläche der zwischen den Bürsten hindurchlaufen sein, Platte 10 gebracht wird. Ebenso kann auch durch die Sprührohre 44 und 46 zusätzliche ErtwicklerflüssiR-keit auf beide Seiten der Platte aufgesprüht werden. Außerdem sind diese beiden Sprührohre so angebracht daß sie von den Oberflächen der Bürsten 26 und 28 gestreift werden und dadurch den Umlauf der Bürstenbüschel aufhalten, um anschließend von den Borsten daran anhaftende Schichtteilchen abzuschleudern und auf diese Weise zu verhindern, daß die Bürsten durch daringebliebene Schichtteilchen wirkungslos werden. Die Unterbrechung des Umlaufes der Borstenbüschel ist in A b b. 1 dargestellt
An dem oberen Tragarm 34 und dem unteren Tragarm 36 sind zwei Reibepolster 48 und 50 befestigt, die sich mit den Tragarmen 34 und 36 und den Reinigungsbürsten 26 und 28 hin- und herbewegen. Diese Reibepolster sind mit einem geeigneten weichen Material, z. B. Samt überzogen. Die Reibepolster sind an den Tragarmen 34 und 36 vermittels geeigneter
Aufhängungen 52 und 56 bzw. 54 und 58 befestigt, zwischen denen sich die Reibepolster 48 und 50 befinden. Durch die Zuleitungen 64 und 66, die mit einer geeigneten Quelle für ühier Dnick stehende Ehtwicklerflüssigkeit (in der Zeichnung nicht enthalten) in Verbindung stehen, wird Entwicklerflüssigkeit zwischen die Reibepolster gepumpt Der Druck der Reibepolster 48 und 50 auf die zwischen ihnen Hindurchlaufende Platte kann variiert ^erdeni indem man ein oder mehrere Gewichte 67 auf den oberen Tragarm 34 der Reibepolsterauflegt
Wenn die Platte die sich hin- und herbewegenden Reibepolster durchlaufen hat, wird sie zwischen die Quetschwalzen 68 und 70 transportiert Sollten sich auf der Oberfläche der Platte noch Schichtteilchen befinden, so bleiben diese jetzt normalerweise an der Oberfläche der Quetschwalzen hängen, da diese Walzen mit einem Material, z.B. synthetischem Gummi, überzogen sind, dessen Affinität für die Schichtteilchen größer ist als diejenige des Metalls, aus dem die Platte besteht An den Quetschwalzen 68 und 70 hängenbleibende Teilchen werden von den Abstreifern 72 und 74 entfernt, die über die Halterungen 76 und 78 an den Tragarmen 34 und 36 befestigt sind Die Abstreifer 72 und 74 bewegen sich mit den Reibepolstern und den rotierbaren Reinigungsbürsten hin und her und gleiten daher über die gesamte Oberfläche der Quetschwalzen und reinigen sie gründlich. Die Quetschwalzen sind an der rechten oberen Seitenplatte 79 und der rechten unteren Seitenplatte 80 angebracht.
Abb. 2 zeigt eine perspektivische Teilansicht der Einlaufwalzen, der Vorweichstation, der hin- und
S herbiäweglichen rotierbaren Reinigungsbürsten und der Reibepolster. Wie aus Fig.2 entnehmbar, sind die Reinigungsbürsten 26 und 28 hin- und herbeweglich, und zwar in bevorzugter Ausführungsform in zueinander entgegengesetzten Richtungen, und sind dadurch in der,
ίο Lage, eine von der Vorweichanordnung 12 kommende zwischen ihnen durchgeführte Platte wirkungsvoll zu reinigen. Wenn sich zwischen den Bürsten 26 und 28 keine Platte befindet berühren sich die Bürsten gegenseitig.
Der Apparat ist so konstruiert, daß das Oberteil des Apparates an seinem rechten Ende drehbar gelagert ist so daß der Apparat wie eine Muschel geöffnet werden kann. Bei geschlossenem Apparat sehen die Vorweichstation, die Reinigungsstation, die Bürstenanordnung und die Reibepolster so aus, wie sie in A b b. 1 dargestellt sind. Die unteren Walzen 8 und 70 können angetrieben sein, um die Platte durch den Apparat zu befördern.
Es ist für den Fachmann selbstverständlich, daß innerhalb des Umfangs der Erfindung noch viele Variationen möglich sind, ohne daß dabei von der Erfindung abgewichen wird, und die Erfindung soll diese Variationen mitumfassen.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (9)

  1. Patentansprüche:
    L Apparat zur Behandlung beider Seiten einer Druckplatte mit einer Einrichtung zum Vorwochen der beiden Seiten nut Entwiclderflüssigkeit, die aus einer einen SnIaB und einen Auslaß aufweisenden !Lämmer besteht, in der EntwicklerQüssigkeit fortwährend in Kontakt mit den beiden Seiten der Druckplatte ist, mit an die Vorweicheinrichtung sich anschließenden, einander gegenüberliegenden, gegenüber der Druckplatte bewegten Bürsten, die die beiden Seiten der Druckplatte berühren, mit an die Bürsten sich anschließenden, quer zur Transportrichtung hin- und hergehenden, einander gegen- Oberliegenden Reibepolstern sowie mit einer Vorrichtung zur gleichmäßigen Entwi^klerzufuhr zu beiden Seiten der Druckplatte in der Behandlungszane, wobei die Bürsten und Reibepolster auf der «inen Seite identisch sind mit denen auf der anderen Seite,nach Patent 2250235, dadurch gekennzeichnet, daß die Bürsten, wie an sich bekannt, rotierende Bürstenwalzen (26,28) sind.
  2. 2. Apparat gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die einander gegenüberliegenden Bürstenwalzen (26, 28) sich in entgegengesetzter Richtung hin- und herbewegen.
  3. 3. Apparat gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Bürstenwalzen (26, 28) mit zwischen den einzelnen Büscheln liegenden Zwischenräumen ausgebildet sind.
  4. 4. Apparat gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß Vorrichtungen (44,46) vorgesehen sind, um Entwickler zwischen die Büschel der genannten Bürstenwalzen zu geben.
  5. 5. Apparat gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Reibepolster (48, SO) zusammen mit den Bürstenwalzen (26, 28) hin- und herbeweglich sind.
  6. 6. Apparat gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß Vorrichtungen (64,66, 86) vorgeseher sind, um Entwickler zwischen die Reibepolster (48,50) zu geben.
  7. 7. Apparat gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Verrichtung (34, 67) vorgesehen ist, um den Druck der einander gegenüberliegenden Bürsten (26, 28) auf die zwischen ihnen durchlaufende Platte zu variieren.
  8. 8. Apparat gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet daß im Anschluß an die einander gegenüberliegenden Reibepolster (48, 50) Quetschwalzen (68, 70) vorgesehen sind, die mit Vorrichtungen (72,74,76,78) versehen sind, um ihre Oberfläche zu reinigen.
  9. 9. Apparat nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß den Büscheln der rotierbaren Bürstenwalzen ein Hindernis (44,46) in den Wig gestellt ist, so daß auf ihnen liegende Teilchen beim Vorbeigang an dem Hindernis abgeschleudert werden.
DE19722261075 1972-01-05 1972-12-14 Apparat zur Behandlung von beiden Seiten einer Druckplatte Expired DE2261075C3 (de)

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DE2261075A1 DE2261075A1 (de) 1973-07-12
DE2261075B2 true DE2261075B2 (de) 1977-01-20
DE2261075C3 DE2261075C3 (de) 1977-09-08

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FR2167744A1 (de) 1973-08-24
CA974750A (en) 1975-09-23
US4081815A (en) 1978-03-28
FR2167744B1 (de) 1976-08-27
YU321072A (en) 1979-09-10
NL7217522A (de) 1973-07-09
DE2261075A1 (de) 1973-07-12
AU5040072A (en) 1974-06-27
AT344200B (de) 1978-07-10
GB1417761A (en) 1975-12-17
IT974187B (it) 1974-06-20
ZA7364B (en) 1973-09-26
BE793607A (fr) 1973-07-02
ATA6673A (de) 1977-11-15
AU464045B2 (en) 1975-07-29
SE384280B (sv) 1976-04-26
CH547698A (de) 1974-04-11

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Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8340 Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent