DE2261075A1 - Apparat zur behandlung von beiden seiten einer druckplatte - Google Patents

Description

K 2211Aa/Gbm 609A¹ FP-Dr.P.-is 8. November 1972

Beschreibung
zur Anmeldung der

AMERICAN HOECHST CORPORATION Bridgewater, New Jersey, U. S. A.

für ein Patent
betreffend

Apparat zur Behandlung von beiden Seiten einer Druckplatte (Zusatzanmeldung zur Patentanmeldung P 22 50 235.8)

In der deutschen Patentanmeldung P 22 50 235.8 vom 13. Oktober 1972 betreffend "Apparat zur Behandlung von beiden Seiten einer Druckplatte" ist ein Apparat beschrieben, mit dem eine auf beiden Seiten mit einer lichtempfindlichen Schicht versehene Druckplatte nach der bildmäßigen Belichtung beider lichtempfindlicher Schichten zu gleicher Zeit auf beiden Seiten mit einer Entwicklerflüssigkeit entwickelt werden kann. Es handelt sich um einen verschlossenen Entwicklungsapparat, der eine Aufnahmestation .zur Aufnahme einer Druckplatte, ein kontinuierliches Transportsystem,

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und eine Entwicklungsstation aufweist, in welcher gleichzeitig auf beide Seiten der Platte und gleichmäßig über deren gesamte Oberfläche Entwickler aufgebracht wird, wobei die Entwicklungsstation eine Vorweichstation zum Aufweichen der Schicht und eine Reibe- und Schrubbstation einschließt, die aus einem Satz Reinigungsbürsten und einem Satz mit einem samtähnlichen überzug versehener Reibepolster zusammengesetzt ist, die so oberhalb und unterhalb der Platte angebracht sind, daß die Platte leicht zwischen den Reinigungsbürsten und Reibepolstern hindurchgeführt werden kann.

Während bei dem Apparat gemäß obiger Anmeldung die Bürsten flach sind und ihre Büschel stets gegen die Platte gerichtet sind, ist der Apparat gemäß vorliegender Anmeldung mit rotierbaren Rundbürsten ausgestattet.

Während die Reibepolster eine Hin- und Herbewegung quer über die Oberfläche der Platte ausführen, wobei jede der beiden Hälften sich in entgegengesetzter Richtung zur anderen bewegt, kann die Bürstenstation diese Bewegung entweder mitmachen oder nicht. Wenn sich in der Entwicklungsstation keine Druckplatte befindet, reiben die oberen und unteren

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Reibepolster gegeneinander. Am Ende der Reibepolster befinden sich noch Abstreifvorrichtungen, die aus den weiter unten dargelegten Gründen im Kontakt mit den sich anschliessenden Quetsch- und Transportwalzen stehen.

Ehe die Platte die soeben beschriebene Reinigungs- und Reibestation erreicht, wird in einer neuartigen Vorweichkammer Entwickler auf beide Seiten der Platte aufgebracht. Während die Platte durch die Vorweichkammer befördert wird, wird die Schicht an den Nicht-Bildstellen erweicht, so daß die Platte durch das sich anschließende Reinigungs- und Reibesystem wirkungsvoll gereinigt und die erwünschte Schicht auch an den kleinsten Stellen gänzlich entfernt werden kann. Auf diese Weise wird garantiert, daß das erzeugte Bild von höchster Qualität ist. In der Reinigungsund Reibestation wird auch weiterhin ständig Entwickler auf die Platte aufgebracht, und zwar sowohl durch die eigentlichen Reinigungsbürsten als auch zwischen den Reibepolstern. Indem man die gesamte Anlage hin- und herbewegt, wobei die obere Hälfte schwebt und sich in entgegengesetzter Richtung bewegt wie die untere Hälfte, und indem man ständig Entwickler durch die Reinigungsbürsten und zwischen die Reibepolster gibt, werden die abgelösten Schichtteile,

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die sonst die Reinigungsbürsten und Reibepolster verunreinigen würden, wirksam und ununterbrochen weggespült. Sollten trotz allem noch kleine Teilchen der abgelösten Schicht auf der Platte vorhanden sein, nachdem sie die Reibepolster verlassen hat, so werden diese Schichtteile von den sich anschließenden Transportwalzeh abgehoben, welche die Platte von der Entwicklungsstation in die nächsten Stationen innerhalb des Systems von Behandlungsapparaten transportieren. Zu diesem Zweck ist das Walzenpaar mit einem synthetischen weichen Material überzogen, dessen Affinität für die abge- , löste Schicht größer ist als die des Metalls. Die von den Walzen aufgenommenen Teilchen werden wiederum ständig von den sich hin- und herbewegenden Abstreifvorrichtungen entfernt, die an der Reibestation angebracht sind. Dieses Walzenpaar, das auch die Platte weiterbefördert, dient außerhalb als Quetschwalzen, um überschüssigen Entwickler von der Platte zu entfernen.

Die Vorweichkammer ist so lang, daß bei normaler Transportgeschwindigkeit der Platte die Schicht an den Nicht-Bildstellen gründlich aufgeweicht ist, ehe die Platte in die Reinigungs- und Reibestation einläuft. Der in der Vorweichkammer aufgebrachte Entwickler wird ständig umgewälzt und

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filtriert, so daß in dieser Kammer abgelöstes Schichtmaterial automatisch aus dem System entfernt werden kann.

In der Reinigungs- und Reibestation wird, wie bereits beschrieben, ständig neuer Entwickler an die Platte herangebracht, um eine bestmögliche Entwicklung zu erreichen. Auch dieser Entwickler wird ständig umgewälzt und filtriert,¹ damit er jederzeit frisch ist. Insbesondere der Entwickler, der innerhalb der Reibepolsterstation unter Druck auf beide Seiten aufgesprüht wird, trägt durch die damit erzeugten hydraulischen Kräfte wesentlich zur Entwicklung bei. Diese hydraulischen Kräfte werden in Kombination mit einem Gewicht angewendet, welches sich auf der oberen, schwebenden Hälfte der Reibestation befindet, um die angestrebte Wirkung der Reibepolster auf die Plattenoberfläche so zu regulieren, daß die bestmögliche Entwicklung erzielt wird. Ein weiterer Vorteil dieser hydraulischen Kräfte, die man auf beide Seiten der Platte einwirken läßt, besteht darin, daß sie dazu beitragen, die Platte auf der Mitte ihrer Bahn zu halten,

In einer bevorzugten Ausführung sind die Reinigungsbürsten nach Art einer Kleiderbürste angeordnet, wobei zwischen den einzelnen Büscheln Zwischenräume liegen. Diese Art der Anord-

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nung bietet die beste Reinigungswirkung bei einem Minimum an Verschmutzung, da abgelöstes Schichtmaterial aufgrund der Zwischenräume zwischen den einzelnen Büscheln ständig durch den Entwickler weggespült wird, der zur Entfernung der Schicht eingesprüht wird. Die Bürsten können entweder im Sinne der Richtung des Plattendurchlaufs oder entgegengesetzt dazu rotieren. Die Borsten der Bürste können ferner an eine Stange anstoßen, um dadurch beim Abschleudern von auf ihnen abgesetzten Teilchen zu helfen. Eine Hin- und Herbewegung der Bürsten wie oben erwähnt kann zur Erzielung der bestmöglichen Entwicklungswirkung eine weitere Hilfe sein.

Die Erfindung soll anhand der beigefügten Zeichnungen näher erläutert werden. In diesen Zeichnungen stellen

Abb. 1 eine Seitenansicht, teilweise im Schnitt, einer Ausführungsform der Erfindung, und

Abb. 2 eine perspektivische Ansicht der Einlaufwalzen, der Einweichstation und der rotierbaren Reinigungsbürsten

Wie aus Abb. 1 ersichtlich, enthält der Apparat eine linke obere Seitenplatte 2 und eine linke untere Seitenplatte 4,· auf denen jeweils die Einlaufwalzen 6 und 8 befestigt sind,

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zwischen denen, eine Platte in den Apparat eingeführt oder befördert werden kann. Die in den Apparat einlaufende Platte durchläuft zunächst eine Vorweichstation 12, die aus der oberen Platte 14 und der unteren Platte 16 gebildet ist, die ihrerseits an den Montageplatten 18 und 20 angebracht sind. In die von den Platten 14 und 16 gebildete Kammer wird Entwicklerflüssigkeit durch die Entwicklerzuleitungen 22 und geleitet, die mit einer geeigneten Quelle für unter Druck stehende Entwicklerflüssigkeit in Verbindung stehen, welche in der Zeichnung nicht dargestellt ist.

Wenn die Platte 10 die "Vorweichstation verläßt, läuft sie zwischen ein Paar sich hin- und herbewegender Reinigungsbürsten 26 und 28, die von den Wellen 30 und 32 hin- und herbewegt werden. Diese Bürsten können entweder in der Richtung der Vorwärtsbewegung der Platte rotieren oder auch in entgegengesetzter Richtung. In der in den Zeichnungen dargestellten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung bewegen sich die Bürsten außerdem noch in entgegengesetzter Richtung hin und her. Die Bürsten 26 und 28 können mit Hilfe der Tragarme 29 hin- und herbewegt werden, mit denen die Halterungen der hohlen Wellen 30 und 32 an den Tragarmen 34 und befestigt sind, welche ihrerseits durch die Wellen 38 und hin- und herbewegt werden.

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Durch die Hohlwellen 30 und 32 und durch die von den Hohlwellen 30 und 32 zur Außenseite der Bürsten 26 und 28 führenden Kanäle 42 kann zusätzliche Entwicklerflüssigkeit zugeführt werden, die zwischen die Borsten oder Büschel der Bürsten und von da auf die Oberfläche der zwischen den Bürsten hindurchlaufenden Platte 10 gebracht wird. Ebenso kann auch durch die Sprührohre 44 und 46 zusätzliche Entwicklerflüssigkeit auf beide Seiten der Platte aufgesprüht werden. Außerdem sind diese beiden Sprührohre so angebracht, daß sie von den Oberflächen der Bürsten 26 und 28 gestreift werden und dadurch den Umlauf der Bürstenbüschel aufhalten, um anschließend von den Borsten daran anhaftende Schichtteilchen abzuschleudern und auf diese Weise zu verhindern, daß die Bürsten durch daringebliebene Schichtteilchen wirkungslos werden. Die Unterbrechung des Umlaufs der Bürstenbüschel ist in Abb. 1 dargestellt.

An dem oberen Tragarm 34 und dem unteren Tragarm 36 sind zwei Reibepolster 48 und 50 befestigt, die sich mit den Tragarmen 34 und 36 und den Reinigungsbürsten 26 und 28 hin- und herbewegen. Diese Reibepolster sind mit einem geeigneten weichen Material, z.B. Samt, überzogen. Die Reibepolster sind an den Tragarmen 3^ und 36 vermittels geeigneter Auf-

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hängungen 52 und 56 bzw. 54 und 58 befestigt, zwischen denen sich die Reibepolster 48 und 50 befinden. Durch die Zuleitungen 64 und 66, die mit einer geeigneten Quelle für unter Druck stehende Entwicklerflüssigkeit (in der Zeichnung nicht enthalten) in Verbindung stehen, wird Entwicklerflüssigkeit zwischen die Reibepolster gepumpt. Der Druck der Reibepolster 48 und 50 auf die zwischen ihnen hindurchlaufende Platte kann variiert werden, indem man ein oder mehrere Gewichte 67 auf den oberen Tragarm 34 der Reibepolster auflegt.

Wenn die Platte die sich hin- und herbewegenden Reibepolster durchlaufen hat, wird sie zwischen die Quetschwalzen 68 und 70 transportiert. Sollten sich auf der Oberfläche^der Platte noch Schichtteilchen befinden, so bleiben diese jetzt normalerweise an der Oberfläche der Quetschwalzen hängen, da diese Walzen mit einem Material, z.B. synthetischem Gummi, überzogen sind, dessen Affinität für die Schichtteilchen größer ist als.diejenige des Metalls, aus dem die Platte besteht. An deaQuetschwalzen 68 und 70 hängenbleibende

Teilchen werden von.den Abstreifern 72 und 74 entfernt, die über die Halterungen 76 und 78 an den Tragarmen 34 und 36

befestigt sind. Die Abstreifer 72 und 74 bewegen sich mit

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den Reibepolstern und den rotierbaren Reinigungsbürsten hin und her und gleiten daher über die gesamte Oberfläche der Quetschwalzen und reinigen sie gründlich. Die Quetschwalzen sind an der rechten oberen Seitenplatte 79 und der rechten unteren Seitenplatte 80 angebracht.

Abb. 2 zeigt eine perspektivische Teilansicht der Einlaufwalzen, der Vorweichstation, der hin- und herbeweglichen rotierbaren Reinigungsbürsten und der Reibepolster. Wie aus Fig. 2 entnehmbar, sind die Reinigungsbursten 26 und 28 hin- und herbeweglich, und zwar in bevorzugter Ausführungsform in zueinander entgegengesetzten Richtungen, und sind dadurch in der Lage, eine von der Vorweichanordnung 12 kommende zwischen ihnen durchgeführte Platte wirkungsvoll zu reinigen. Wenn sich zwischen den Bürsten 26 und 28 keine Platte befindet, berühren sich die Bürsten gegenseitig.

Der Apparat ist so konstruiert, daß das Oberteil des Apparates an seinem rechten Ende drehbar gelagert ist, so daß der Apparat wie eine Muschel geöffnet werden kann. Bei geschlossenem Apparat sehen die Vorweichstation, die Reinigungsstation, die Bürstenanordnung und die Reibepolster so

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aus, wie sie in Abb. 1 dargestellt sind. Die unteren Walzen 8 und 70 können angetrieben sein, um die Platte durch den Apparat zu befördern.

Es ist für den Fachmann selbstverständlich, daß innerhalb des Umfangs der Erfindung noch viele Variationen möglich sind,■ohne daß dabei von der Erfindung abgewichen wird, und die Erfindung soll diese Variationen mitumfassen.

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Claims (10)

1. 2281075

   Patentansprüche,

   /lJ Apparat zur Behandlung von beiden Seiten einer Druckplatte, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zum Vorweichen der beiden Seiten einer Druckplatte mit Entwicklerflüssigkeit, an die Einrichtung sich anschließende, einander gegenüberliegende rotierende Bürsten, die beide Seiten dieser Platte zu berühren in der Lage sind, und im Anschluß an die Bürsten angebrachte einander gegenüberliegende Reibepolster.
2. 2. Apparat gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die einander gegenüberliegenden rotierbaren Bürsten hin- und herbeweglich sind.
3. 3. Apparat gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die einander gegenüberliegenden rotierbaren Bürsten in entgegengesetzten Richtungen hin- und herbeweglich sind.
4. 4. Apparat gemäß Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die einander gegenüberliegenden Reibepolster mit den Bürsten hin- und herbeweglich sind.

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5. 5. Apparat gemäß Anspruch 1,. 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß Vorrichtungen vorgesehen sind, um Entwickler zwischen die Büschel der Bürsten zu geben.
6. 6. Apparat nach Anspruch 1, 2, 3_} ^ oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß den Büscheln der rotierbaren Bürsten ein Hindernis in den Weg gestellt ist, so daß auf ihnen liegende Teilchen beim Vorbeigang an dem Hindernis' abgeschleudert werden.
7. 7. Apparat gemäß Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß Vorrichtungen vorgesehen sind, um Entwickler zwischen die Reibepolster zu geben.
8. 8. Apparat gemäß Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Vorrichtung vorgesehen ist, um den Druck der einander gegenüberliegenden Bürsten auf die zwischen ihnen durchlaufende Platte zu variieren.
9. 9. Apparat, gemäß Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß im Anschluß an die einander gegenüberliegenden Reibepolster Quetschwalzen vorgesehen sind.

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10. 10. Apparat gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß Vorrichtungen vorgesehen sind, um die Oberfläche der Quetschwalzen zu reinigen.

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    L e e r s e i t e