DE2247840C3 - Galvanisches Chrombad - Google Patents
Galvanisches ChrombadInfo
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Description
Anode entwickelt Wenn diese Gase entweichen, führen sie beträchtliche Mengen des Chrombades mit sich, was
zu einer ernsthaften Gesundheitsgefährdung führen kann und aufwendige Abluftanlagen notwendig macht.
Gemäß den Entgegenhaltungen wird dieses Problem dadurch beseitigt, daß speziell definierte oberflächenaktive
Mittel zugegeben werden, um so die Oberflächenspannung des Chrombades zu verringern und das
Mitreißen der Lösung durch das entweichende Gas einzuschränken. Die oberflächenaktiven Mittel dienen
nach diesem Stand der Technik somit lediglich dazu, ein unerwünschtes physikalisches Phänomen auszuschließen,
das gewöhnlich bei solchen speziellen Chrombädern auftritt
Die Aufgabe der Erfindung besteht nun darin, Chrombäder auf Cr(III)-Basis zu schaffen, die das
kostspielige dipolare organische Lösungsmittel in geringeren Konzentrationen enthält, und die Probleme
zu vermeiden, die normalerweise bei diesen geringen Konzentrationen auftreten.
Es hat sich nunmehr gezeigt, daß, wenn man solchen
galvanischen Chrombädern auf Cr(I H)-Basis, die ein dipolares organisches Lösungsmittel mit einem starken
elektronegativen Sauerstoffatom und Wasser enthalten, ein grenzflächenaktives Mittel zusetzt, die Konzentrationen
des dipolaren organischen Lösungsmittels vermindert werden und dennoch ein Chrombad
erhalten werden kann, das in hervorragender Weise zur galvanischen Abscheidung von Chromüberzügen geeignet
ist
Gegenstand der Erfindung ist daher ein galvanisches Combad auf Cr(III)-Basis, das ein dipolares organisches
Lösungsmittel mit einem stark elektronegativen Sauerstoffatom und Wasser einhält, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß es 10 bis 90% Wasser und wenigstens 5 ppm eines grenzflächenaktiven Mittels enthält, das aus
folgenden Verbindungen ausgewählt wird: Tetraalkylammoniumsalzen der allgemeinen Formel:
IXT IXi
/l\
R3 R+ X
und substituierten Irnidazolen der allgemeinen
Formel:
CH2
R6 R7COONa
worin Ri für einen Alkylrest mit 8 bis 12 Kohlenstoffatomen
steht, R2, R3 und R.a Alkylreste mit I bis 2 Kohlenstoffatomen sind, R; einen kurzkettigen aliphatischen
Alkohol der allgemeinen Formel CnH2nOH oder
ein Natriumsalz einer Carbonsäure der allgemeinen Formel
CH2nOC, H2nCOONa
dargestellt, Rt, einen Alkylres.t mit 9 bis 17 Kohlenstoffatomen
versinnbildlicht. R? für einen Alkylrest mit 1 bis
4 Kohlenstoffatomen steht, X Bromid, Chlorid oder
Jodid darstellt und π und rf Zahlen von 1 bis 6 sind.
In vorteilhafter Weise verwendet man ein Tetraalkylammoniumsalz der obigen allgemeinen Formel, in der
die Gruppen R2, R3 und Rt Methylgruppen darstellen.
Bevorzugt verwendet man als grenzflächenaktives Mittel Cetyltrimethylammoniumbromid und als polares
organisches Lösungsmittel mit stark elektronegativem Sauerstoffatom Dimethylformamid. Das erfindungsgemäße
Chrombad enthält das grenzflächenaktive Mittel vorteilhafterweise in einer Konzentration, die zwischen
5 ppm und einer solchen Menge liegt, die ein Schäumen
der Elektrolytlösung verursacht, wobei diese Konzentration vorteilhafterweise zwischen 5 und 20 ppm liegt
und noch bevorzugter wenigstens 10 ppm beträgt. Unterhalb 5 ppm wird nur eine geringe oder überhaupt
keine Wirkung festgestellt, während die Nachteile der grenzflächenaktiven Mittel bei Konzentrationen oberhalb
20 ppm sichtbar werden. Es scheinen keine oder nur geringfügige Vorteile bei der Einhaltung von
Konzentrationen an grenzflächenaktiven Mitteln von oberhalb 20 ppm erzielbar zu sein.
Lösungen, die dreiwertige Metallsalze, wie zum Beispiel Chrom(III)-chlorid, in Kombination mit organisehen
dipolaren Lösungsmitteln und Wasser enthalten, können bezüglich ihrer Zusammensetzung sowie der
Galvanisierungseigenschaften instabil sein. Die physikalischen Eigenschaften der Lösung, beispielsweise die
Farbe, der pH-Wert sowie die Viskosität, verändern sich während der Lagerung, so daß die Farbe und das
Haftvermögen von aus dem gleichen Bad aufeinanderfolgend aufgebrachten Metallüberzügen in nachteiliger
Weise beeinflußt werden können. Ferner besitzen Galvanisierungsbäder mit einer geringen Wasserkonzentration
ein relativ niedriges Leitvermögen, während Lösungen mit höheren Wasserkonzentrationen während
der Galvanisierung zur Entwicklung übermäßiger Mengen an Wasserstoff an der Kathode neigen. Es
wurde gefunden, daß das Vorliegen eines Ammonium-
salzes die Stabilität der Lösung verbessert und die Neigung des Bades zum Freisetzen von Wasserstoff bei
einem höheren Wassergehalt vermindert. Darüber hinaus hat es sich herausgestellt, daß das Vorliegen von
Ammoniumsalzen merklich die Wirkung von Änderungen des pH-Wertes auf die untere begrenzende
Galvanisierungs-Stromdichte vermindert. Die Ammoniumionen sollten in einer Konzentration von wenigstens
0,2 Mol/l und vorzugsweise in einer Konzentration von 0,6 bis 1 Mol/l vorliegen. Bei niedrigeren
Konzentiationen an Dimethylformamid kann es vorzuziehen sein, die Ammoniumionen-Konzentrationen auf
oberhalb 1 Mol/l zu erhöhen.
Eine Voraussetzung für eine erfolgreiche Chromabscheidung aus einem dipolaren organischen Lösungs-
5_s mittel besteht darin, daß die dreiwertigen Chromionen
mäßig stabile Komplexe mit dem Lösungsmolekül bilden. Erfolgt keine Komplexbildung, dann ist es
unwahrscheinlich, daß die Chromsalze in ausreichendem Maße löslich sind. Sind die gebildeten Komplexe sehr
ho stabil, dann kann sich die galvanische Abscheidung
schwierig gestalten. Derartige Lösungen ergeben jedoch als solche keine glatten und kohärenten
metallischen Abscheidungen.
Der pH-Wert der Lösung sollte zwischen I und 3,5
6s und vorzugsweise bei ungefähr 2 liegen. Ist der pH-Wert
zu niedrig, dann besteht die Neigung, daß Wasserstoff an der Kathode vor dem Chrom freigesetzt wird. Ist der
pH-Wert zu hoch, dann besteht die Neigung dafür, daß
basische Chromverbindungen ausfallen. Der pH-Wert kann gegebenenfalls durch Verwendung von Chlorwasserstoffsäure
oder Natriumhydroxid eingestellt werden.
Der Stromwirkungsgrad der Lösung kann durch die
Zugabe von Borsäure, vorzugsweise bis zu einer Konzentration von wenigstens 0,1 Mol/l, verbessert
werden. Borsäure ist normaler« eise nicht in einem Ausmaß von mehr als 0,2 Mol/l löslich.
Zusätzlich zu den vorstehend erwähnten Ammoniumionen können die erfindungsgemäßen Galvanisi=:rungsbäder
ein Natriumhalogenid enthalten, das den Galvanisierungsbereich
ausweitet und den Stromwirkungsgrad erhöht. Natriumhalogenide sind ebenfalls günstig, da sie
das Deckvermögen des Bades steigern. Es ist vorzuziehen, daß das Natriumhalogenid in einer Konzentration
von wenigstens 0,8 Mol/l vorliegt. Sollen jedoch niedrigere Dimethylformamid-Konzentrationen eingehalten
werden, dann kann es vorteilhaft sein, die Halogenidionen-Konzentration auf mehr als ungefähr 5
Mol/l, beispielsweise auf 7 Mol/l bis 10 Mol/l, zu erhöhen. Die bevorzugten Halogenide sind Chlorid,
Bromid und Jodid.
Wie vorstehend erwähnt wurde, ist es im allgemeinen aus wirtschaftlichen Gründen vorzuziehen. Lösungen
mit geringeren Dimethylformamid-Konzentrationen und damit mit größeren Wassermengen zu verwenden.
Bei der Verweisung von derartigen Lösungen treten jedoch bestimmte Probleme auf.
Die Verwendung von erheblichen Mengen an Chlorid und Ammoniumionen steigert die Kosten, wobei der
Galvanisierungs-Wirkungsgrad und der Stromdichtebereich nicht sehr gut sein können und die Abscheidutigen
dazu neigen, dunkel zu werden oder auf andere Weise weniger attraktiv zu sein als diejenigen Abscheidungen,
die aus Bädern mit höheren Gehalten an organischen Komponenten erhalten werden.
Erfindungsgemäß werden diese Probleme durch die Zugabe eines grenzflächenaktiven Mittels zu der
Galvanisierungslösung beseitigt. Wenn es sich auch herausgestellt hat, daß ein grenzflächenaktives Mittel
den Galvanisierungsbereich bei jedem Mengenverhältnis von Wasser zu dipolarem organischen Lösungsmittel
verbessern kann, so ist diese Zugabe dennoch besonders vorteilhaft beim Mengenverhältnissen von Wasser zu
d'polarem organischen Lösungsmittel von mehr als 60 :40, bezogen auf das Volumen, da innerhalb dieses
Bereiches glänzende Chromabscheidungen unter geeigneten Bedingungen erhalten werden, und zwar im
ίο Gegensatz zu matten Abscheidungen, die beim Fehlen
eines grenzflächenaktiven Mittels erzeugt werden. Wenn auch glänzende Chromabscheidungen aus Lösungen
erhältlich sind, die nur 250 g/l Dimehtylformamid in Anwesenheit eines grenzflächenaktiven Mittels enthalten,
so ist es dennoch vorzuziehen, daß das Verhältnis von Wasser zu Lösungsmittel zwischen 60:40 und
75 :25 schwankt. Der Elektrolyt funktioniert zwar bei tieferen Dimethylformamid-Konzentrationen, die GaI-vanisierungsbereiche
werden jedoch in zunehmendem Maße kleinen Bei höheren Dimethylformamid-Konzentrationen
ist keine Beeinträchtigung der Galvanisierung festzustellen, jedoch steigen die Arbeitszellenspannung
sowie die Elektrolytkosten an.
Das Volumenverhältnis von Wasser zu Dimethylformamid
kann somit zwischen 10:90 und 90:10 variieren, liegt jedoch vorzugsweise zwischen 60:40
und 90 : 10. Die unteren Konzentrationen an Dimethylformamid
ermöglichen eine Verminderung der Kosten des galvanischen Bades, ohne daß dabei die Galvanisierung
in nachteiliger Weise beeinflußt wird.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Die
eingesetzten Galvanisierungsbäder enthalten jeweils folgende Komponenten:
Chrom(lII)-chlorid 1,4 Mol/l
Ammoniumchlorid variabel
Natriumchlorid 0,8 Mol/l
Borsäure 2 g/l
Beispiel | NFU- | Gewichts | Grenzflächenaktives | Konzentration | pH-Wert | Galvani | Bemerkungen |
Konzen- | verhältnis | Mittel | sierungs | ||||
tration | Wasser: | bereich | |||||
Dimethyl | |||||||
formamid | |||||||
Moi/I | ppm | A/m2 | |||||
1 | 1,0 | 60:40 | 1,2 | 2250-160 | Durchschnittliches | ||
Ergebnis | |||||||
2 | 1,0 | 60:40 | Natriumlaurylsulfat | 10 | 1,2 | 2250-140 | Leichte Verbesserung, |
schwarze Flecken auf | |||||||
der Abscheidung | |||||||
3 | 1,0 | 60:40 | Cetyltrimethyl- | 10 | 1,1 | 2250-130 | Gutes Ergebnis |
ammoniumbromid | |||||||
4 | 1,0 | 60:40 | Cetyltrimethyl- | 15 | 1,2 | 2250-120 | Sehr gutes Ergebnis |
ammoniumbromid | |||||||
5 | 1,0 | 60:40 | Cetyltrimethyl- | 30 | 1,2 | 2250-130 | Gut, jedoch leichte |
ammoniumbromid | Mattierung bei höherer | ||||||
Stromdichte | |||||||
6 | 1.0 | 60:40 | Substituiertes | 10 | 1,2 | 2250-130 | Gutes Ergebnis |
Imidazolin*) | |||||||
7 | 1.5 | 70:30 | __ | _ | 1.1 | 2250-180 | Durchschnittliches |
Fortsetzung
Beispiel NlIj Gewichts- Grenzflächenaktives Konzentration pH-Wert (ialvuni- Bemerkungen
Konzcn- verhältnis Mittel sierungs-
tration Wasser: bereich
Dimethylformamid
Mol/l
1,5 70:30 Cetyltrimethyl- 10
ammoniumbromid
1,0
76:24
1,0 76:24 Cetyltrimethyl- 10
ammoniumbromid
Λ/ητ
1,1 2250-130 So gut wie das
60:40-Bad
1,1 2250-450 Merkliche Einengung
des Galvanisierungsbereichs
1,1 2250-475 Merkliche Einengung
des Galvanisierungsbereichs
*) Handelsübliches grenzflächenaktives Mittel, das als Hauptbestandteil
CH,
C-
CH2CH2OCH2COONa
-N
!i CH,COO
enthält.
Claims (5)
- Patentansprüche:S. Galvanisches Chrombad auf Cr(!II)-Basis. das ein dipolares organisches Lösungsmittel mit einem stark elektronegativen Sauerstoffatom und Wasser enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es 10 bis 90% Wasser und wenigstens 5 ppm eines grenzflächenaktiven Mittels enthält, das aus folgenden Verbindungen ausgewählt wird: Tetraalkylammoniumsalzen der allgemeinen Formel:N
R3 R4 Xund substituierten Imidazolen der allgemeinen Formel:CH2N CH,R5-ΝR6 R7COONaworin Ri für einen Alkylrest mit 8 bis 12 Kohlenstoffatomen steht, R2, R3 und R4 Alkylreste mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen sind, Rs einen kurzkettigen aliphatischen Alkohol der allgemeinen Formel CnH2nOH oder ein Natriumsalz einer Carbonsäure der allgemeinen FormelCnH2nOCn- H2n-COONadarstellt, Rb einen Alkylrest mit 9 bis 17 Kohlenstoffatomen versinnbildlicht, R? für einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen steht, X Bromid, Chlorid oder Jodid darstellt und η und n' Zahlen von 1 bis 6 sind. - 2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Ammoniumionen in einer Konzentration von wenigstens 0,2 Mol/l enthält und die Halogenidionen in einer Konzentration von wenigstens 0,8 Mol/l vorliegen.
- 3. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das grenzflächenaktive Mittel aus Cetyltrimethylammoniumbromid besteht.
- 4. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es zwischen 5 und 20 ppm des grenzflächenaktiven Mittels enthält.
- 5. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es einen pH-Wert zwischen 1 und 3,5 aufweist.Die Erfindung betrifft ein galvanisches Chrombad auf Cr(III)-BaSiS, das ein dipolares organisches Lösungsmittel mit einem stark elektronegativen Sauerstoffatom und Wasser enthält.Im Zusammenhang mit dem galvanischen Aufbringen von Metallüberzügen, insbesondere Chromüberzügen. sind bereits beachtliche Erfolge erzielt worden. Bei der Durchführung der zu diesem Zweck eingesetzten Verfahren sind jedoch noch erhebliche Nachteile in Kauf zu nehmen. Beispielsweise wird aus üblichen S Chromsäurebädern das Metall mit einem geringen Kathodenwirkungsgrad abgeschieden, wobei Überzüge erhalten werden, die ein schlechtes Deckvermögen besitzen. Darüber hinaus besitzen übliche Bäder oft ein schlechtes Streuvermögen. Chromüberzüge aus QbIichen Bädern liegen in einem Zustand hoher Spannung vor, so daß sis zu Rissen neigen, wenn die Dicke einige Zehntelmillimeter erreicht Höhere Stromwirkungsgrade, die 40% erreichen können, lassen sich uuter Verwendung von wäßrigen Lösungen dreiwertiger Verbindungen erzielen, die unter Verwendung derartiger Lösungen erzeugten Überzüge sind jedoch nur dann hinsichtlich ihres Aussehens befriedigend, wenn die Abscheidung innerhalb eines sehr engen pH-Bereiches erfolgt Die große Menge an Wasserstoffgas, das während der Abscheidung in Freiheit gesetzt wird, hat erhebliche Veränderungen des pH-Wertes der Lösung in der Nähe der Kathode zur Folge, so daß die Steuerung des pH-Wertes schwierig und der zulässige Stromdichtebereich, der eingehalten werden kann, eingeschränkt wird.Es wäre sehr vorteilhaft, wenn es gelänge, den Stromwirkungsgrad zu erhöhen. Dies gilt insbesondere im Hinblick auf Chrombäder. Ferner ist die Freisetzung von Wasserstoff an der Kathode während der Abscheidung des Metalls ein ernsthaftes Problem. Man könnte Überzüge mit einer ausgezeichneten Korrosionsbeständigkeit und einem zufriedenstellenden Aussehen herstellen, wenn die Freisetzung von Wasserstoff gesteuert werden könnte. Die in neuerer Zeit durchgeführten Untersuchungen unter Verwendung von modifizierten Bädern aus Chromsäure und dreiwertigen Chromverbindungen haben keine günstigen Aussichten bezüglich der Qualität der Abscheidungen ohne gleichzeitige Verminderung des Stromwirkungsgrades eröffnet.Zur Verbesserung einer galvanischen Chromabscheidung aus üblichen wäßrigen Chromsäurebädern wurde ein Verfahren entwickelt, bei dessen Durchführung Chromabscheidungen mit merklich verbesserter Korrosionsbeständigkeit, die ein sehr zufriedenstellendes Aussehen besitzen, auf galvanisch erzeugt werden können, und zwar unter Verwendung eines Bades, das aus Chromionen, insbesondere dreiwertigen Chromionen, sowie einer homogenen Mischung aus Wasser undso einem dipolaren organischen Lösungsmittel, vorzugsweise einem aprotischen Lösungsmittel, wie zum Beispiel Dimehtylformamid, bestehtAus der GB-PS 1144 913 ist ein galvanisches Chrombad auf Cr(IlI)-Basis bekannt, das ein dipolares organisches Lösungsmittel mit einem stark elektronegativen Sauerstoffatom und dreiwertige Chromionen enthält. Der Wassergehalt dieser Lösung ist auf ein Maximum von 60% begrenzt. Die Lösung enthält daneben noch Ammonium- und Halogenidionen sowie(o geringe Anteile eines anorganischen Ammoniumsalzes.Die US-PS 27 50 335 und 33 41434 offenbarenherkömmliche Chrombäder auf Cr(VI)-Basis. Die Aufgabe dieser Entgegenhaltungen besteht darin, das Schäumen und die Bildung von Flüssigkeitsriebein zu(>·> verhindern, die bei solchen Bädern während der Elektrolyse auftreten. Bekanntlich werden bei solchen Chrombädern auf Cr(Vl)-Basis in starkem Maße Wasserstoff und Sauerstoff an der Kathode bzw. an der
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4566971A GB1368749A (en) | 1971-09-30 | 1971-09-30 | Electrodeposition of chromium |
GB4568971A GB1305156A (de) | 1970-12-10 | 1971-09-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2247840A1 DE2247840A1 (de) | 1973-04-05 |
DE2247840B2 DE2247840B2 (de) | 1977-10-20 |
DE2247840C3 true DE2247840C3 (de) | 1978-06-08 |
Family
ID=26265633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2247840A Expired DE2247840C3 (de) | 1971-09-30 | 1972-09-29 | Galvanisches Chrombad |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3788957A (de) |
AU (1) | AU471915B2 (de) |
DE (1) | DE2247840C3 (de) |
FR (1) | FR2154725B1 (de) |
GB (1) | GB1368749A (de) |
NL (1) | NL7213209A (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1455580A (en) * | 1973-12-13 | 1976-11-17 | Albright & Wilson | Electrodeposition of chromium |
USRE29749E (en) * | 1973-12-13 | 1978-08-29 | Albright & Wilson Ltd. | Trivalent chromium electroplating baths and electroplating therefrom |
GB1562188A (en) * | 1975-08-27 | 1980-03-05 | Albright & Wilson | Chromium electroplating baths |
US4472249A (en) * | 1981-08-24 | 1984-09-18 | M&T Chemicals Inc. | Bright chromium plating baths and process |
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US4801511A (en) * | 1985-06-28 | 1989-01-31 | Union Oil Company Of California | Battery cell electrolyte |
US4755265A (en) * | 1985-06-28 | 1988-07-05 | Union Oil Company Of California | Processes for the deposition or removal of metals |
JP5050048B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2012-10-17 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 結晶質クロム堆積物 |
WO2009046181A1 (en) | 2007-10-02 | 2009-04-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Crystalline chromium alloy deposit |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1304844A (de) * | 1969-04-24 | 1973-01-31 | ||
AU2348470A (en) * | 1969-12-29 | 1972-07-06 | International Lead Zinc Research Organization | Aqueous chromium plating baths |
-
1971
- 1971-09-30 GB GB4566971A patent/GB1368749A/en not_active Expired
-
1972
- 1972-09-28 AU AU47217/72A patent/AU471915B2/en not_active Expired
- 1972-09-29 NL NL7213209A patent/NL7213209A/xx not_active Application Discontinuation
- 1972-09-29 FR FR7234499A patent/FR2154725B1/fr not_active Expired
- 1972-09-29 DE DE2247840A patent/DE2247840C3/de not_active Expired
- 1972-10-02 US US00293860A patent/US3788957A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2154725B1 (de) | 1976-06-04 |
DE2247840B2 (de) | 1977-10-20 |
FR2154725A1 (de) | 1973-05-11 |
DE2247840A1 (de) | 1973-04-05 |
GB1368749A (en) | 1974-10-02 |
AU4721772A (en) | 1974-04-04 |
US3788957A (en) | 1974-01-29 |
AU471915B2 (en) | 1976-05-06 |
NL7213209A (de) | 1973-04-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |