DE2204326C3 - Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und duktilen Kupferüberzügen - Google Patents

Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und duktilen Kupferüberzügen

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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4076600A (en) * 1976-12-20 1978-02-28 R. O. Hull & Company, Inc. Leveling agent for acid zinc electroplating baths and method
JPH0762021B2 (ja) * 1986-11-05 1995-07-05 第一工業製薬株式会社 第4ホスホニウム化合物の製造方法
JPH0720978B2 (ja) * 1987-06-24 1995-03-08 株式会社クラレ ホスホニウム塩ならびにその製造方法
US5849171A (en) * 1990-10-13 1998-12-15 Atotech Deutschland Gmbh Acid bath for copper plating and process with the use of this combination
DE4211140A1 (de) * 1992-04-03 1993-10-07 Basf Ag Phosphoniumsalze und ihre Verwendung als Glanzmittel für wäßrig-saure galvanische Nickelbäder
US20060183328A1 (en) * 1999-05-17 2006-08-17 Barstad Leon R Electrolytic copper plating solutions
US6444110B2 (en) * 1999-05-17 2002-09-03 Shipley Company, L.L.C. Electrolytic copper plating method
US20040045832A1 (en) * 1999-10-14 2004-03-11 Nicholas Martyak Electrolytic copper plating solutions
DE10261852B3 (de) * 2002-12-20 2004-06-03 Atotech Deutschland Gmbh Gemisch oligomerer Phenaziniumverbindungen und dessen Herstellungsverfahren, saures Bad zur elektrolytischen Abscheidung eines Kupferniederschlages, enthaltend die oligomeren Phenaziniumverbindungen, sowie Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages mit einem das Gemisch enthaltenden Bad
US9399618B2 (en) * 2003-05-12 2016-07-26 Arkema Inc. High purity electrolytic sulfonic acid solutions
US9243339B2 (en) 2012-05-25 2016-01-26 Trevor Pearson Additives for producing copper electrodeposits having low oxygen content
US9809891B2 (en) 2014-06-30 2017-11-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Plating method
JP6631348B2 (ja) * 2015-03-26 2020-01-15 三菱マテリアル株式会社 ホスホニウム塩を用いためっき液
WO2016152983A1 (ja) * 2015-03-26 2016-09-29 三菱マテリアル株式会社 ホスホニウム塩を用いためっき液
US10988852B2 (en) 2015-10-27 2021-04-27 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Method of electroplating copper into a via on a substrate from an acid copper electroplating bath
US12394841B2 (en) 2019-01-24 2025-08-19 Octet Scientific, Inc. Zinc battery elecrtolyte additive

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1163114B (de) * 1962-02-13 1964-02-13 Dehydag Gmbh Galvanische Metallbaeder

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