DE1201152B - Galvanische Baeder - Google Patents

Galvanische Baeder

Info

Publication number
DE1201152B
DE1201152B DED41416A DED0041416A DE1201152B DE 1201152 B DE1201152 B DE 1201152B DE D41416 A DED41416 A DE D41416A DE D0041416 A DED0041416 A DE D0041416A DE 1201152 B DE1201152 B DE 1201152B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
sodium
bath
german
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DED41416A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Wennemar Strauss
Dr Wolf-Dieter Willmund
Dr Alfred Kirstahler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DEHYDAG GmbH
Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH
Original Assignee
DEHYDAG GmbH
Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DED40675A priority Critical patent/DE1192021B/de
Priority to DED40723A priority patent/DE1196464B/de
Application filed by DEHYDAG GmbH, Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH filed Critical DEHYDAG GmbH
Priority to DESCH33166A priority patent/DE1235102B/de
Priority to DED41416A priority patent/DE1201152B/de
Priority to GB49875/63A priority patent/GB1056599A/en
Priority to US333724A priority patent/US3298937A/en
Priority to FR1392576A priority patent/FR1392576A/fr
Priority to AT232864A priority patent/AT249466B/de
Priority to GB12380/64A priority patent/GB1043618A/en
Priority to CH504364A priority patent/CH457075A/de
Priority to CH211968A priority patent/CH458006A/de
Priority to FR971661A priority patent/FR1390051A/fr
Priority to NL6404457A priority patent/NL6404457A/xx
Publication of DE1201152B publication Critical patent/DE1201152B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/22Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/16Esters of thiophosphoric acids or thiophosphorous acids
    • C07F9/165Esters of thiophosphoric acids
    • C07F9/1651Esters of thiophosphoric acids with hydroxyalkyl compounds with further substituents on alkyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/16Esters of thiophosphoric acids or thiophosphorous acids
    • C07F9/165Esters of thiophosphoric acids
    • C07F9/1653Esters of thiophosphoric acids with arylalkanols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/22Amides of acids of phosphorus
    • C07F9/224Phosphorus triamides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/22Amides of acids of phosphorus
    • C07F9/24Esteramides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/30Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/32Esters thereof
    • C07F9/3205Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/3211Esters of acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3834Aromatic acids (P-C aromatic linkage)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40Esters thereof
    • C07F9/4003Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4021Esters of aromatic acids (P-C aromatic linkage)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40Esters thereof
    • C07F9/4071Esters thereof the ester moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4075Esters with hydroxyalkyl compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/44Amides thereof
    • C07F9/4403Amides thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4419Amides of aromatic acids (P-C aromatic linkage)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/53Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
    • C07F9/5304Acyclic saturated phosphine oxides or thioxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6527Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07F9/6533Six-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a-S/OO
Nummer: 1201152
Aktenzeichen: D 41416 VI b/48 a
Anmeldetag: 24. April 1963
Auslegetag: 16. September 1965
Gegenstand der Patentanmeldung D 40723 VIb/48a (deutsche Auslegeschrift 1196 464) sind hochwertige Metallüberzüge liefernde galvanische Bäder, welche Abkömmlinge saurer, schwefelhaltiger Phosphorderivate der allgemeinen Formel Galvanische Bäder
Zusatz zur Zusatzanmeldung:
D 40723 VI b/48 a —
Auslegeschrift 1196 464
R-X
Y — R' — L
Z —R"—L
enthalten, in der R, R' und R" für aliphatische, cycloaliphatische, aromatische und araliphatische Reste, die gegebenenfalls auch substituiert oder durch Heteroatome oder Heteroatomgruppen unterbrochen sein können, Y, X und Z für Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen, wie O, S, NH, stehen und L eine wasserlöslichmachende anorganische oder organische Gruppe darstellt, wobei X und/oder Y und/oder Z fortfallen können.
Es wurde nun in Weiterbildung des Gegenstandes dieser Patentanmeldung gefunden, daß sich insbesondere im Hinblick auf die glanzgebenden Eigenschaften in vielen Fällen eine weitere Verbesserung der Bäder erzielen läßt, wenn man an Stelle von Verbindungen der obenstehenden Formel solche verwendet, in denen sämtliche über ein Heteroatom an das Phosphoratom gebundenen organischen Reste wasserlöslichmachende anorganische oder organische Gruppen besitzen.
Es handelt sich dabei um Verbindungen, die sich beispielsweise von der Thionophosphorsäure, Thiolothionophosphorsäure,Dithiolothionophosphorsäure, Tetrathiophosphorsäure, Thionophosphonsäure, Thiolothionophosphonsäure, Trithiophosphonsäure, Thionophosphinsäure, Dithiophosphinsäure ableiten und der allgemeinen Formel
Anmelder:
Dehydag Deutsche Hydrierwerke G. m. b. H.,
Düsseldorf, Henkelstr. 67
Als Erfinder benannt:
Dr. Wennemar Strauss,
Dr. Wolf-Dieter Willmund,
Düsseldorf-Holthausen;
Dr. Alfred Kirstahler, Düsseldorf
Y — R' — L
L-R-X-P
Z — R" — L
entsprechen. In dieser Formel stehen R, R' und R" für aliphatische, cycloaliphatische, aromatische und araliphatische Reste, die gegebenenfalls auch substituiert oder durch Heteroatome oder Heteroatomgruppen unterbrochen sein können, X, Y und Z für Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen, wie O, S, HN, und L stellt eine wasserlöslichmachende anorganische oder organische Gruppe dar. Dabei können X und/oder Y und/oder Z auch fortfallen. Als wasserlöslichmachende Gruppen kommen anionische, kationische und elektroneutrale Gruppen in Betracht, wie COOH, SO3H, SO4H, PO2H, PO3H2, PO4H2, wasserlöslichmachende basische Reste, wie durch Säuren neutralisierte primäre, sekundäre oder tertiäre Aminogruppen, quaternäre Aminogruppen, Polyalkylenglykolreste, Zuckerreste usw.
Die erfindungsgemäß zu verwendenden Produkte sind bekannt oder lassen sich in Analogie zu bekannten Verfahren herstellen, wie sie in der deutschen Patentschrift 938 548, der USA.-Patentschrift 2959 608, der französischen Patentschrift 1 234 879, der schwedischen Patentanmeldung 5736-58 ζ und dem Journal of Applied Chemistry (USSR), 25 (87), S. 2274 bis 2277 (November 1955) (referiert im Centralblatt [1957], S. 84) beschrieben sind.
Für die in einzelnen Beispielen angegebenen Herstellungsverfahren der verwendeten Verbindungen wird kein Schutz begehrt.
Es ist bereits bekannt, Phosphonsäuren der allgemeinen Formel
X-CH2- PO3H2
worin X=- PO3H2 oder — COOH bedeutet, und deren Alkalisalze als Komplexbildungsmittel zur Bindung mehrwertiger Metallionen in Galvanisierungsprozessen einzusetzen, wobei diese mit Vorteil die
509 687/390
3 4
Rolle der Alkalicyanide zur Erzeugung entsprechender gebundene aliphatische, cycloaliphatische, aromatische
Komplexe übernehmen. Die Phosphonsäure dienen oder araliphatische Reste, die keine wasserlöslich-
hierbei dem Zweck, die für den Überzug vorgesehenen machenden anorganischen oder organischen Gruppen
Metalle in eine für die galvanische Abscheidung tragen, und entsprechen der allgemeinen Formel
günstige Bindungsart zu bringen, sind also keine 5
galvanischen Zusatzmittel im üblichen Sinne, sondern j^ χ ^
als Komponenten des verwendeten Metallsalzes ein \ ^
nicht abstrahierbarer Bestandteil des Grundbades. / ^ \
Weiterhin ist bereits vorgeschlagen worden, üb- r/ γ ζ M
liehen Galvanisierungsbädern Abkömmlinge saurer io
schwefelhaltiger Phosphorderivate, die über Sauer- Als Beispiel für derartige erfindungsgemäß in den
stoff, Schwefel, Stickstoff oder Phosphor gebundene üblichen Galvanisierungsbädern, insbesondere Kup-
Reste enthalten, zuzusetzen. Im Gegensatz zu den fer-, Nickel-, Zink- und Cadmiumbädern zu ver-
erfindungsgemäßen Produkten besitzen jene aber zwei wendende Abkömmlinge saurer schwefelhaltiger Phos-
über Sauerstoff, Schwefel, Stickstoff oder Phosphor 15 phorderivate seien genannt:
1. Thionophosphorsäure-tris-ipropylester-cü-Natrium-sulfonat)
Il ,0 — (CH2)3 — SO3Na
Na-SO3-(CHa)3-O-P^
O- (CHa)3- SO3Na
2. Thionophosphorsäure-tris-[(2-hydroxy)-propylester-o)-Natrium-sulfonat]
OH
s I
Il 0-CH2-CH-CH2-SO3Na NaSO3-CH2-CH-CH2-Ο —Ρ /
^ O — CH2 — CH — CH2—SO3Na UJti ι
OH
3. Thionophosphorsäure-tris-(benzyl-p-Natriumsulfonat)
4. Thionophosphorsäure-tris-(benzylester-o-Natrium-sulfonat)
SO3Na
5. Thionophosphorsäure-tris-(äthylester-w-Natrium-sulfonat)
II ,0-CH2-CH2-SO3Na
NaSO3-CH2-CH2-O-P(^
O — CH2 · CH2 — SO3Na
6. Tetrathiophosphorsäure-tris-(propylester-w-Natrium-sulfonat)
|[ S-(CH1),- SO3Na NaSO3-(CH2),,-S-P^
XS — (CH2)3 —SO3Na
7. Thionophosphorsäure-tris-imethylester-carbonsaures Kalium)
O- CH2- COOK
KOOC — CH2 — 0 — P (^
O — CH2 — COOK
8. Thionophosphorsäure-tris-(<w-Natriumsulfopropylamid)
I NH- (CH2J3-SO3Na
NaSO3-(CH2).,-NH-p(^
NH- (CH2)3 — SO3Na
9. Tris-(co-Natrium-sulfopropyl)-phosphinsulfid
j) (CH2)3 —SO3Na
NaSO3-(CH2)3 —P^
X(CH2)3 —SO3Na
Die beanspruchten Mittel können in allen Arten von von Sparbeizmitteln hoher Inhibitorwirkung vorbegalvanischen Metallbädern als glanzgebende Zusätze 25 handelt und anschließend unmittelbar ohne Zwischenverwendet werden, also z. B. in sauren oder cyani- spülung in einem sauren Kupferbad galvanisiert,
dischen Bädern der Metalle Kupfer, Messing, Bronze,
Zink, Cadmium, Silber und Nickel. Manche der Beispiel 1
erfindungsgemäß zu verwendenden Produkte weisen In ein saures Kupferbad, welches im Liter 60 g
neben glanzgebenden Eigenschaften auch noch Ein- 30 Schwefelsäure, 210 g Kupfersulfat und 8 g eines ebnungseffekte auf, wodurch sie sich für die gal- Anlagerungsproduktes von 8 Mol Äthylenoxyd an vanische Metallabscheidung als besonders geeignet l Mol eines Kokosfettalkoholgemisches C12 — C18 als erweisen. Netzmittel gelöst enthält, gibt man als Glanzmittel
Die Mengen, in denen man die erfindungsgemäßen das Thionophosphorsäure-tris-(propylester-a)-Natri-Mittel den Bädern zusetzt, liegen bei etwa 0,001 bis 35 um-sulfonat) (Nr. 1). Dieses Salz wird erhalten, indem 20 g pro Liter Badflüssigkeit. Im allgemeinen wird bei man 36 g thionophosphorsaures Natrium
den für die verschiedenen Badtypen üblichen Tempe- rpg coNat · 10 H OI
raturen gearbeitet und bei Stromdichten, die zwischen
0,25 bis 8 A/dm2 und gegebenenfalls noch höher in 100 ecm Wasser löst und bei 60 bis 70°C mit liegen. Der Stromdichtebereich optimaler Glanz- 4° 36,6 g geschmolzenem Propansulton tropfenweise verwirkung ist bei den einzelnen Verbindungen und in setzt. Man läßt 4 Stunden bei 65 bis 7O0C nachAbhängigkeit von der Badzusammensetzung ver- rühren, filtriert, engt das Filtrat im Vakuum ein und schieden, in den meisten Fällen aber von erheblicher zerreibt die so erhaltene etwas schmierige Substanz Breite. Man kann die Mittel im Bedarfsfall auch in im Mörser unter Alkohol, wobei man ein farbloses Verbindung mit anderen bekannten Glanzmitteln 45 Pulver der in Formel Nr. 1 genannten Zusammensowie mit Einebnungsmitteln, Porenverhütungsmitteln, setzung in einer Menge von 45,4 g erhält.
Härtebindungsmitteln, Inhibitoren, Netzmitteln, Leit- Bei einem Einsatz von 50 bis 500 mg pro Liter Badsalzen usw. anwenden. Als Metallunterlagen können flüssigkeit erhält man im Stromdichtebereich von alle üblichen für diesen Zweck bisher verwendeten 0,25 bis 8 A/dm* hochglänzende, festhaftende Kupfer-Metallarten dienen, wie z. B. Eisen, Stahl, Zink, 50 überzüge, die nach dem Spülen keiner weiteren NachKupfer, Nickel und sonstige unedle Metalle cder behandlung bedürfen.
Metallegierungen. Erforderlichenfalls werden die un- . .
edlen Metalle wie üblich zunächst in dünner Schicht Beispiel 2
zyankalisch vorverkupfert. Galvanisiert man Stahlbleche bei Zimmertemperatur
Man erhält mit den Mitteln Metallüberzüge, die 55 mit einer Stromdichte von 4 bis 9 A/dm2 in einem sehr fest haften und ausgezeichneten Glanz besitzen. sauren Zinkbad, das im Liter 200 g Zinksulfat, Die erfindungsgemäßen Mittel haben überdies den 1 g Eisessig und als Glanzmittel 1 g des Thiono-Vorteil, daß die damit betriebenen Bäder lange Zeit phosphorsäure-tris-(benzylester-p-Natrium-sulfonats) betriebsfähig bleiben, da die Mittel ausreichend be- (Nr. 3) enthält, so erhält man einen gut glänzenden, ständig sind bzw. auftretende Umlagerungs- oder Zer- 60 haftfesten Zinküberzug, der keiner Nachbearbeitung Setzungsprodukte dieser Mittel nicht stören. bedarf.
Die erfindungsgemäßen Produkte können ins- Das erfindungsgemäße Salz wird erhalten, indem
besondere auch bei dem Verfahren der galvanischen man 32,4 g thionophosphorsaures Natrium und 68,6 g Direktverkupferung verwendet werden, bei dem man p-chlorbenzylsulfonsaures Natrium in 300 ecm Wasser ohne cyanidische Vorverkupferung auf unedle Me- 65 löst und die Lösung bei 65 bis 70° C während 5 Stunden talle, wie z. B. Eisen, festhaftende Kupferüberzüge rührt. Nach Einengen im Vakuum und Trocknen aufbringt, indem man die zu verkupfernden Metall- erhält man 87,2 g an Rohprodukt, welches nach Umgegenstände in einem sauren Beizbad unter Zusatz kristallisieren aus wäßrigem Alkohol 18 g einer
kristallisierten Substanz der unter Nr. 3 angegebenen Zusammensetzung ergibt.
Beispiel 3
Bei einem Nickelbad der Zusammensetzung 265 g Nickelsulfat, 53 g Nickelchlorid und 33 g Borsäure pro Liter, welches im Liter als Grundglanzmittel 2 g Benzyl-benzoylamid enthält, werden pro Liter Badflüssigkeit 100 mg Thionophosphorsäure-tris-(benzylestero-Natrium-sulfonat) (Nr. 4) gegeben. Das Bad liefert bei einer Badtemperatur von 550C im Stromdichtebereich von 0,5 bis 6 A/dm2 gut glänzende, festhaftende, duktile und eingeebnete Nickelüberzüge.
B e i s ρ i e 1 4 lg
Werden in einem cyanidischen Cadmiumbad der Zusammensetzung 30 g Cadmiumoxyd, 110 g Natriumcyanid, 1 g Kaliumnickelcyanid und 1,5 g eines sulfatierten Fettalkoholpolyglykoläthers pro Liter als Glanzmittel 1 g des Thionophosphorsäure-tris-[(2-hydroxy)-propylester-cj-Natrium-sulfonats] (Nr. 2) pro Liter eingesetzt, so erhält man im Stromdichtebereich von 0,5 bis 4 A/dm2 vollen Glanz. Eine Nachbeizung in schwach oxydierendem Medium ist nicht erforderlich.
Beispiel 5
Zu einem cyanidischen Kupferbad, welches pro Liter 81,7 g Kupfer(I)-cyanid, 118,3 g Kaliumcyanid, 10 g Rochellesalz, 15 g Natriumcyanid, 20 g Natriumhydroxyd und 55 g Natriumcarbonat enthält, wird als Glanzmittel pro Liter Badflüssigkeit 1 g Thionophosphorsäure-tris-(methylester-carbonsaures Kalium) (Nr. 7) gegeben. Dieses Salz wird erhalten, indem man 36 g thionophosphorsaures Natrium in 100 ecm Wasser gelöst mit der Lösung von 28,4 g Chloressigsäure und 16,8 g Kaliumhydroxyd in 150 ecm Wasser bei 283C versetzt. Man rührt dann 4 Stunden bei 400C nach und engt darauf die Lösung im Vakuum ein. Das erhaltene Rohprodukt läßt sich durch Behandeln mit wenig Wasser enthaltendem Äthanol reinigen, wobei das erfindugsgemäße Produkt in einer Menge von 16 g ungelöst zurückbleibt.
Das Bad liefert bei einer Badtemperatur von 75 bis 8O0C über den gesamten Stromdichtebereich von 0,5 bis 8 A/dm2 gut glänzende, sehr feinkörnige Kupferniederschläge.
Beispiel 6
In einem zyankalischen Messingbad, welches pro Liter 21 g Kupfer(I)-cyanid, 53,8 g Zinkcyanid, 75 g Natriumcyanid und 20 g wasserfreies Natriumcarbonat enthält, werden pro Liter Badflüssigkeit als Glanzmittel 500 mg Tris-(co-natrium-sulfopropyl)-phosphinsulfid (Nr. 9) eingesetzt. Das Bad liefert bei einer Badtemperatur von 303C im Stromdichtebereich von 0,25 bis 2,5 A/cm2 einen gleichmäßigen, fleckenfreien, gut glänzenden, gelben Messingüberzug.
Das erfindungsgemäße Salz läßt sich erhalten, indem man 17 g Phosphin mit 183 g Propansulton in ben- So zolischer Lösung bei etwa 750C in Gegenwart säurebindender Mittel, wie z. B. Natrium in feiner Suspension, umsetzt. Man rührt 1 Stunde unter Rückfluß nach und schwefelt das so erhaltene Reaktionsprodukt, indem man auf bekannte Weise 16 g fein- gepulverten Schwefel bei Rückflußtemperatur einträgt. Man läßt 2 Stunden unter Rückfluß nachrühren, engt im Vakuum ein, nimmt den Rückstand in Wasser auf und äthert diese Lösung aus. Die wäßrige Lösung enthält das Produkt der oben angegebenen Zusammensetzung.
Beispiel 7
Zu einem sauren Kupferbad, der im Beispiel 1 angegebenen Grundzusammensetzung wurde als Glanzmittel das Thionophosphorsäure-tris-(a)-Natrium-sulfopropylamid) (Nr. 8) gegeben. Dieses Salz erhält man, wenn man zu einer wäßrigen Lösung von 32,2 g 3-Aminopropan-l-natriumsulfonat 16 g Pyridin gibt, die Lösung auf 6O0C erwärmt und innerhalb von 20 Minuten 113 g Phosphorsulfochlorid PSCl3 zutropfen läßt. Die Reaktion ist exotherm. Man läßt 21I2 Stunden bei 60 bis 65°C nachrühren, engt dann im Vakuum ein, löst den Rückstand in wenig Wasser und versetzt mit Äthanol. Hierbei setzt sich das Reaktionsprodukt als dickflüssiger Bodenkörper ab. Nach Dekantieren, Trocknen, Zerreiben unter Alkohol und Abfiltrieren des festen Körpers erhält man 21,2 g der erfindungsgemäßen Substanz. Bei einem Einsatz von 20 bis 200 mg pro Liter Badflüssigkeit erhält man im Stromdichtebereich von 0,25 bis 8 A/dm2 hochglänzende, festhaftende und duktile Kupferüberzüge.
Setzt man als Glanzmittel das Tetrathiophosphorsäure-tris-(propylester-co-Natrium-sulfonat) (Nr. 6) in gleicher Menge ein, so werden gut glänzende Kupferüberzüge, vorwiegend im Bereich höherer Stromdichte, erhalten.

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Galvanische Bäder nach Patentanmeldung D 40 723 VI/48 a, (deutsche Auslegeschrift 1196 464), dadurch gekennzeichnet, daß an Stelle der dort verwendeten Abkömmlinge saurer schwefelhaltiger Phosphorderivate solche der allgemeinen Formel
,Y-R'
R — X — P
Z — R"
eingesetzt werden, in der R, R' und R" für aliphatische, cycloaliphatische, aromatische und araliphatische Reste, die gegebenenfalls auch substituiert oder durch Heteroatome oder Heteroatomgruppen unterbrochen sein können, X, Y und Z für Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen, wie O, S, NH, stehen und L eine wasserlöslichmachende anorganische oder organische Gruppe darstellt, wobei X und/oder Y und/oder Z fortfallen können.
2. Galvanische Bäder nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich noch andere, für sich bekannte Glanzmittel, Porenverhütungsmittel, Härtebindungsmittel, Inhibitoren und Netzmittel enthalten.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 045 373.
In Betracht gezogene ältere Patente:
Deutsches Patent Nr. 1 163 114.
509 687/390 9.65 © Bundesdruckerei Berlin
DED41416A 1963-01-12 1963-04-24 Galvanische Baeder Pending DE1201152B (de)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DED40675A DE1192021B (de) 1963-01-12 1963-01-12 Galvanische Baeder
DED40723A DE1196464B (de) 1963-01-12 1963-01-19 Galvanische Baeder
DESCH33166A DE1235102B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad
DED41416A DE1201152B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Galvanische Baeder
GB49875/63A GB1056599A (en) 1963-01-12 1963-12-17 Improvements in and relating to electroplating baths
US333724A US3298937A (en) 1963-01-12 1963-12-26 Electroplating baths and processes
FR1392576A FR1392576A (fr) 1963-01-12 1964-01-11 Bains galvaniques
AT232864A AT249466B (de) 1963-01-12 1964-03-17 Bad für die elektrolytische Abscheidung glänzender Zinküberzüge
GB12380/64A GB1043618A (en) 1963-01-12 1964-03-24 Improvements in and relating to electrolytic processes and baths for the production of zinc deposits
CH504364A CH457075A (de) 1963-01-12 1964-04-20 Cyanidfreies Bad zur elektrolytischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge
CH211968A CH458006A (de) 1963-01-12 1964-04-20 Cyanidfreies Bad zur elektrolytischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge
FR971661A FR1390051A (fr) 1963-01-12 1964-04-21 Bain et procédé pour réaliser des revêtements de zinc brillants par dépôt électrolytique
NL6404457A NL6404457A (de) 1963-01-12 1964-04-23

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DED40675A DE1192021B (de) 1963-01-12 1963-01-12 Galvanische Baeder
DED40723A DE1196464B (de) 1963-01-12 1963-01-19 Galvanische Baeder
DED41416A DE1201152B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Galvanische Baeder
DESCH33166A DE1235102B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1201152B true DE1201152B (de) 1965-09-16

Family

ID=27436770

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DED40675A Pending DE1192021B (de) 1963-01-12 1963-01-12 Galvanische Baeder
DED40723A Pending DE1196464B (de) 1963-01-12 1963-01-19 Galvanische Baeder
DED41416A Pending DE1201152B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Galvanische Baeder
DESCH33166A Pending DE1235102B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DED40675A Pending DE1192021B (de) 1963-01-12 1963-01-12 Galvanische Baeder
DED40723A Pending DE1196464B (de) 1963-01-12 1963-01-19 Galvanische Baeder

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DESCH33166A Pending DE1235102B (de) 1963-01-12 1963-04-24 Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3298937A (de)
AT (1) AT249466B (de)
CH (2) CH458006A (de)
DE (4) DE1192021B (de)
FR (1) FR1392576A (de)
GB (2) GB1056599A (de)
NL (1) NL6404457A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010514674A (ja) * 2006-10-12 2010-05-06 ベラス ヘルス (インターナショナル) リミテッド 3−アミノ−1−プロパンスルホン酸を送達するための方法、化合物、組成物および媒体

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3522333A (en) * 1967-06-01 1970-07-28 Gaf Corp Phosphonamide sulfonates
US3626034A (en) * 1967-11-29 1971-12-07 Stauffer Chemical Co Dialkyl phosphoryl n-alkyltaurinates
US3791801A (en) * 1971-07-23 1974-02-12 Toyo Kohan Co Ltd Electroplated steel sheet
BE794048A (fr) * 1972-01-17 1973-07-16 Dynachem Corp Procede et solution de revetement de cuivre sans traitement electrique
GB1514514A (en) * 1975-05-21 1978-06-14 Texaco Belgium Nv Sa Bispiperazido phosphorus and trispiperazidophosphorus compounds
GB1514511A (en) * 1975-05-21 1978-06-14 Texaco Belgium Nv Sa Polyureas
US4124400A (en) * 1975-07-28 1978-11-07 Monsanto Company Flame retardant polymer compositions
GB8320284D0 (en) * 1983-07-27 1983-09-01 Gen Electric Co Plc Electrodeposited zinc
CN103789803B (zh) * 2014-01-13 2016-04-27 孙松华 一种无氰铜锡合金电镀液及其制备方法
CN103755738B (zh) * 2014-01-13 2016-06-01 孙松华 一种络合剂及其制备方法和用途

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1045373B (de) * 1957-04-26 1958-12-04 Hoechst Ag Verwendung von Phosphonsaeuren

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE714829C (de) * 1939-07-03 1941-12-08 Rasselsteiner Eisenwerksgesell Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung glaenzender Zinkniederschlaege auf anderen Metallen
DE731835C (de) * 1941-07-20 1943-02-16 Hoesch Ag Saure galvanische Zinkbaeder zur Abscheidung eines hochwertigen glaenzenden Zinkueberzuges
DE731102C (de) * 1941-12-13 1943-02-03 Dr Herbert Brintzinger Verfahren zur Erzeugung metallischer UEberzuege
US2488246A (en) * 1944-08-25 1949-11-15 United Chromium Inc Process of electroplating zinc, and baths and compositions for use therein
US3165513A (en) * 1961-12-26 1965-01-12 Dal Mon Research Co Triazine phosphonium derivatives

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1045373B (de) * 1957-04-26 1958-12-04 Hoechst Ag Verwendung von Phosphonsaeuren

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010514674A (ja) * 2006-10-12 2010-05-06 ベラス ヘルス (インターナショナル) リミテッド 3−アミノ−1−プロパンスルホン酸を送達するための方法、化合物、組成物および媒体
JP2015007047A (ja) * 2006-10-12 2015-01-15 ビーエイチアイ リミテッド パートナーシップ 3−アミノ−1−プロパンスルホン酸を送達するための方法、化合物、組成物および媒体

Also Published As

Publication number Publication date
FR1392576A (fr) 1965-03-19
DE1196464B (de) 1965-07-08
US3298937A (en) 1967-01-17
GB1056599A (en) 1967-01-25
CH457075A (de) 1968-05-31
CH458006A (de) 1968-06-15
NL6404457A (de) 1964-10-26
DE1192021B (de) 1965-04-29
GB1043618A (en) 1966-09-21
DE1235102B (de) 1967-02-23
AT249466B (de) 1966-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1207177B (de) Verfahren zur Herstellung glaenzender galvanischer Metallueberzuege
EP1325175B1 (de) Elektrolyt und verfahren zur abscheidung von zinn-kupfer-legierungsschichten
DE2255728A1 (de) Elektrochemische zubereitungen und verfahren
DE1201152B (de) Galvanische Baeder
EP1285104B1 (de) Elektrolyt und verfahren zur abscheidung von zinn-silber-legierungsschichten
DE1496916B1 (de) Cyanidfreies,galvanisches Bad und Verfahren zum Abscheiden galvanischer UEberzuege
DE2204326C3 (de) Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und duktilen Kupferüberzügen
DE1214069B (de) Galvanische Kupferbaeder
DE2900105A1 (de) Waessriges saures plattierungsbad fuer die galvanische abscheidung eines glaenzenden zinkueberzugs auf einem substrat, verfahren zum galvanischen abscheiden eines glaenzenden zinkueberzugs auf einem substrat und additivzubereitung fuer ein solches waessriges saures zinkgalvanisierungsbad
DE1143075B (de) Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Kupfer- und Kupferlegierung?
DE3611627C2 (de) Grenzflächenaktive Verbindungen als solche und diese enthaltende Zusammensetzungen zum Elektroplattieren
DE1168208B (de) Galvanische Metallbaeder
DE2334813C2 (de) Bad zur elektrolytischen Abscheidung von Weißgoldlegierungen
DE1670376A1 (de) Elektrolytisches Nickelbad
DE2215737C3 (de) Wäßriges saures galvanisches Halbglanznickelbad
DE2818780C2 (de)
DE1146322B (de) Saure galvanische Metallbaeder
DE1793558C3 (de) Cumarinderivate und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2852432A1 (de) Waessriges saures galvanisches zinkbad
DE2815786A1 (de) Waessriges bad zur edektrochemischen abscheidung von glaenzenden eisen-nickel- ueberzuegen
DE102006025847A1 (de) Verwendung von Phosphinsäure in der Galvanotechnik
DE1916118A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer halbglaenzenden,schwefelfreien Nickelauflage sowie Nickelbaeder hierfuer
DE1521512B1 (de) Alkalisches Bad zur stromlosen Kupferabscheidung
DE2023304C3 (de) Cyanidfreies galvanisches Bad
WO1997035049A1 (de) Bad und verfahren für die galvanische abscheidung von halbglanznickel