DE1201152B - Galvanische Baeder - Google Patents
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- DE1201152B DE1201152B DED41416A DED0041416A DE1201152B DE 1201152 B DE1201152 B DE 1201152B DE D41416 A DED41416 A DE D41416A DE D0041416 A DED0041416 A DE D0041416A DE 1201152 B DE1201152 B DE 1201152B
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- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 14
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 13
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- -1 cycloaliphatic Chemical group 0.000 claims description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 7
- 125000001905 inorganic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003017 phosphorus Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 14
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 241001274216 Naso Species 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ITRFOBBKTCNNFN-UHFFFAOYSA-N tris(sulfanyl)-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound SP(S)(S)=S ITRFOBBKTCNNFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- RIFYBBXGYKFBFC-UHFFFAOYSA-K trisodium;thiophosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=S RIFYBBXGYKFBFC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- SNKZJIOFVMKAOJ-UHFFFAOYSA-N 3-Aminopropanesulfonate Chemical compound NCCCS(O)(=O)=O SNKZJIOFVMKAOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- YXLXNENXOJSQEI-UHFFFAOYSA-L Oxine-copper Chemical compound [Cu+2].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 YXLXNENXOJSQEI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000272534 Struthio camelus Species 0.000 description 1
- 229910000581 Yellow brass Inorganic materials 0.000 description 1
- YLZGVPCTROQQSX-UHFFFAOYSA-N [K].[Ni](C#N)C#N Chemical compound [K].[Ni](C#N)C#N YLZGVPCTROQQSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- NAGJZTKCGNOGPW-UHFFFAOYSA-N dithiophosphoric acid Chemical compound OP(O)(S)=S NAGJZTKCGNOGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- LKQUCICFTHBFAL-UHFFFAOYSA-N n-benzylbenzamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)NCC1=CC=CC=C1 LKQUCICFTHBFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Chemical group 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- OKQKDCXVLPGWPO-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenephosphane Chemical compound S=P OKQKDCXVLPGWPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001665 trituration Methods 0.000 description 1
- GTLDTDOJJJZVBW-UHFFFAOYSA-N zinc cyanide Chemical compound [Zn+2].N#[C-].N#[C-] GTLDTDOJJJZVBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
- C07F9/16—Esters of thiophosphoric acids or thiophosphorous acids
- C07F9/165—Esters of thiophosphoric acids
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
- C07F9/16—Esters of thiophosphoric acids or thiophosphorous acids
- C07F9/165—Esters of thiophosphoric acids
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a-S/OO
Nummer: 1201152
Aktenzeichen: D 41416 VI b/48 a
Anmeldetag: 24. April 1963
Auslegetag: 16. September 1965
Gegenstand der Patentanmeldung D 40723 VIb/48a (deutsche Auslegeschrift 1196 464) sind hochwertige
Metallüberzüge liefernde galvanische Bäder, welche Abkömmlinge saurer, schwefelhaltiger Phosphorderivate
der allgemeinen Formel Galvanische Bäder
Zusatz zur Zusatzanmeldung:
D 40723 VI b/48 a —
Auslegeschrift 1196 464
D 40723 VI b/48 a —
Auslegeschrift 1196 464
R-X
Y — R' — L
Z —R"—L
enthalten, in der R, R' und R" für aliphatische, cycloaliphatische,
aromatische und araliphatische Reste, die gegebenenfalls auch substituiert oder durch Heteroatome
oder Heteroatomgruppen unterbrochen sein können, Y, X und Z für Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen,
wie O, S, NH, stehen und L eine wasserlöslichmachende anorganische oder organische Gruppe
darstellt, wobei X und/oder Y und/oder Z fortfallen können.
Es wurde nun in Weiterbildung des Gegenstandes dieser Patentanmeldung gefunden, daß sich insbesondere
im Hinblick auf die glanzgebenden Eigenschaften in vielen Fällen eine weitere Verbesserung
der Bäder erzielen läßt, wenn man an Stelle von Verbindungen der obenstehenden Formel solche verwendet,
in denen sämtliche über ein Heteroatom an das Phosphoratom gebundenen organischen Reste wasserlöslichmachende
anorganische oder organische Gruppen besitzen.
Es handelt sich dabei um Verbindungen, die sich beispielsweise von der Thionophosphorsäure, Thiolothionophosphorsäure,Dithiolothionophosphorsäure,
Tetrathiophosphorsäure, Thionophosphonsäure, Thiolothionophosphonsäure, Trithiophosphonsäure, Thionophosphinsäure,
Dithiophosphinsäure ableiten und der allgemeinen Formel
Anmelder:
Dehydag Deutsche Hydrierwerke G. m. b. H.,
Düsseldorf, Henkelstr. 67
Als Erfinder benannt:
Dr. Wennemar Strauss,
Dr. Wolf-Dieter Willmund,
Düsseldorf-Holthausen;
Dr. Alfred Kirstahler, Düsseldorf
Y — R' — L
L-R-X-P
Z — R" — L
entsprechen. In dieser Formel stehen R, R' und R" für aliphatische, cycloaliphatische, aromatische und
araliphatische Reste, die gegebenenfalls auch substituiert oder durch Heteroatome oder Heteroatomgruppen
unterbrochen sein können, X, Y und Z für Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen, wie O, S, HN,
und L stellt eine wasserlöslichmachende anorganische oder organische Gruppe dar. Dabei können X und/oder
Y und/oder Z auch fortfallen. Als wasserlöslichmachende Gruppen kommen anionische, kationische
und elektroneutrale Gruppen in Betracht, wie COOH, SO3H, SO4H, PO2H, PO3H2, PO4H2, wasserlöslichmachende
basische Reste, wie durch Säuren neutralisierte primäre, sekundäre oder tertiäre Aminogruppen,
quaternäre Aminogruppen, Polyalkylenglykolreste, Zuckerreste usw.
Die erfindungsgemäß zu verwendenden Produkte sind bekannt oder lassen sich in Analogie zu bekannten
Verfahren herstellen, wie sie in der deutschen Patentschrift 938 548, der USA.-Patentschrift 2959 608,
der französischen Patentschrift 1 234 879, der schwedischen Patentanmeldung 5736-58 ζ und dem Journal
of Applied Chemistry (USSR), 25 (87), S. 2274 bis 2277 (November 1955) (referiert im Centralblatt
[1957], S. 84) beschrieben sind.
Für die in einzelnen Beispielen angegebenen Herstellungsverfahren der verwendeten Verbindungen
wird kein Schutz begehrt.
Es ist bereits bekannt, Phosphonsäuren der allgemeinen Formel
X-CH2- PO3H2
worin X=- PO3H2 oder — COOH bedeutet, und
deren Alkalisalze als Komplexbildungsmittel zur Bindung mehrwertiger Metallionen in Galvanisierungsprozessen
einzusetzen, wobei diese mit Vorteil die
509 687/390
3 4
Rolle der Alkalicyanide zur Erzeugung entsprechender gebundene aliphatische, cycloaliphatische, aromatische
Komplexe übernehmen. Die Phosphonsäure dienen oder araliphatische Reste, die keine wasserlöslich-
hierbei dem Zweck, die für den Überzug vorgesehenen machenden anorganischen oder organischen Gruppen
Metalle in eine für die galvanische Abscheidung tragen, und entsprechen der allgemeinen Formel
günstige Bindungsart zu bringen, sind also keine 5
galvanischen Zusatzmittel im üblichen Sinne, sondern j^ χ ^
als Komponenten des verwendeten Metallsalzes ein \ ^
nicht abstrahierbarer Bestandteil des Grundbades. / ^ \
Weiterhin ist bereits vorgeschlagen worden, üb- r/ γ ζ M
liehen Galvanisierungsbädern Abkömmlinge saurer io
schwefelhaltiger Phosphorderivate, die über Sauer- Als Beispiel für derartige erfindungsgemäß in den
stoff, Schwefel, Stickstoff oder Phosphor gebundene üblichen Galvanisierungsbädern, insbesondere Kup-
Reste enthalten, zuzusetzen. Im Gegensatz zu den fer-, Nickel-, Zink- und Cadmiumbädern zu ver-
erfindungsgemäßen Produkten besitzen jene aber zwei wendende Abkömmlinge saurer schwefelhaltiger Phos-
über Sauerstoff, Schwefel, Stickstoff oder Phosphor 15 phorderivate seien genannt:
1. Thionophosphorsäure-tris-ipropylester-cü-Natrium-sulfonat)
Il ,0 — (CH2)3 — SO3Na
Na-SO3-(CHa)3-O-P^
O- (CHa)3- SO3Na
2. Thionophosphorsäure-tris-[(2-hydroxy)-propylester-o)-Natrium-sulfonat]
OH
s I
Il 0-CH2-CH-CH2-SO3Na
NaSO3-CH2-CH-CH2-Ο —Ρ /
^ O — CH2 — CH — CH2—SO3Na
UJti ι
OH
3. Thionophosphorsäure-tris-(benzyl-p-Natriumsulfonat)
4. Thionophosphorsäure-tris-(benzylester-o-Natrium-sulfonat)
SO3Na
5. Thionophosphorsäure-tris-(äthylester-w-Natrium-sulfonat)
II ,0-CH2-CH2-SO3Na
NaSO3-CH2-CH2-O-P(^
O — CH2 · CH2 — SO3Na
6. Tetrathiophosphorsäure-tris-(propylester-w-Natrium-sulfonat)
|[ S-(CH1),- SO3Na
NaSO3-(CH2),,-S-P^
XS — (CH2)3 —SO3Na
7. Thionophosphorsäure-tris-imethylester-carbonsaures Kalium)
O- CH2- COOK
KOOC — CH2 — 0 — P (^
O — CH2 — COOK
8. Thionophosphorsäure-tris-(<w-Natriumsulfopropylamid)
I NH- (CH2J3-SO3Na
NaSO3-(CH2).,-NH-p(^
NaSO3-(CH2).,-NH-p(^
NH- (CH2)3 — SO3Na
9. Tris-(co-Natrium-sulfopropyl)-phosphinsulfid
j) (CH2)3 —SO3Na
NaSO3-(CH2)3 —P^
X(CH2)3 —SO3Na
Die beanspruchten Mittel können in allen Arten von von Sparbeizmitteln hoher Inhibitorwirkung vorbegalvanischen
Metallbädern als glanzgebende Zusätze 25 handelt und anschließend unmittelbar ohne Zwischenverwendet
werden, also z. B. in sauren oder cyani- spülung in einem sauren Kupferbad galvanisiert,
dischen Bädern der Metalle Kupfer, Messing, Bronze,
dischen Bädern der Metalle Kupfer, Messing, Bronze,
Zink, Cadmium, Silber und Nickel. Manche der Beispiel 1
erfindungsgemäß zu verwendenden Produkte weisen In ein saures Kupferbad, welches im Liter 60 g
neben glanzgebenden Eigenschaften auch noch Ein- 30 Schwefelsäure, 210 g Kupfersulfat und 8 g eines
ebnungseffekte auf, wodurch sie sich für die gal- Anlagerungsproduktes von 8 Mol Äthylenoxyd an
vanische Metallabscheidung als besonders geeignet l Mol eines Kokosfettalkoholgemisches C12 — C18 als
erweisen. Netzmittel gelöst enthält, gibt man als Glanzmittel
Die Mengen, in denen man die erfindungsgemäßen das Thionophosphorsäure-tris-(propylester-a)-Natri-Mittel
den Bädern zusetzt, liegen bei etwa 0,001 bis 35 um-sulfonat) (Nr. 1). Dieses Salz wird erhalten, indem
20 g pro Liter Badflüssigkeit. Im allgemeinen wird bei man 36 g thionophosphorsaures Natrium
den für die verschiedenen Badtypen üblichen Tempe- rpg coNat · 10 H OI
den für die verschiedenen Badtypen üblichen Tempe- rpg coNat · 10 H OI
raturen gearbeitet und bei Stromdichten, die zwischen
0,25 bis 8 A/dm2 und gegebenenfalls noch höher in 100 ecm Wasser löst und bei 60 bis 70°C mit
liegen. Der Stromdichtebereich optimaler Glanz- 4° 36,6 g geschmolzenem Propansulton tropfenweise verwirkung
ist bei den einzelnen Verbindungen und in setzt. Man läßt 4 Stunden bei 65 bis 7O0C nachAbhängigkeit
von der Badzusammensetzung ver- rühren, filtriert, engt das Filtrat im Vakuum ein und
schieden, in den meisten Fällen aber von erheblicher zerreibt die so erhaltene etwas schmierige Substanz
Breite. Man kann die Mittel im Bedarfsfall auch in im Mörser unter Alkohol, wobei man ein farbloses
Verbindung mit anderen bekannten Glanzmitteln 45 Pulver der in Formel Nr. 1 genannten Zusammensowie
mit Einebnungsmitteln, Porenverhütungsmitteln, setzung in einer Menge von 45,4 g erhält.
Härtebindungsmitteln, Inhibitoren, Netzmitteln, Leit- Bei einem Einsatz von 50 bis 500 mg pro Liter Badsalzen usw. anwenden. Als Metallunterlagen können flüssigkeit erhält man im Stromdichtebereich von alle üblichen für diesen Zweck bisher verwendeten 0,25 bis 8 A/dm* hochglänzende, festhaftende Kupfer-Metallarten dienen, wie z. B. Eisen, Stahl, Zink, 50 überzüge, die nach dem Spülen keiner weiteren NachKupfer, Nickel und sonstige unedle Metalle cder behandlung bedürfen.
Metallegierungen. Erforderlichenfalls werden die un- . .
Härtebindungsmitteln, Inhibitoren, Netzmitteln, Leit- Bei einem Einsatz von 50 bis 500 mg pro Liter Badsalzen usw. anwenden. Als Metallunterlagen können flüssigkeit erhält man im Stromdichtebereich von alle üblichen für diesen Zweck bisher verwendeten 0,25 bis 8 A/dm* hochglänzende, festhaftende Kupfer-Metallarten dienen, wie z. B. Eisen, Stahl, Zink, 50 überzüge, die nach dem Spülen keiner weiteren NachKupfer, Nickel und sonstige unedle Metalle cder behandlung bedürfen.
Metallegierungen. Erforderlichenfalls werden die un- . .
edlen Metalle wie üblich zunächst in dünner Schicht Beispiel 2
zyankalisch vorverkupfert. Galvanisiert man Stahlbleche bei Zimmertemperatur
Man erhält mit den Mitteln Metallüberzüge, die 55 mit einer Stromdichte von 4 bis 9 A/dm2 in einem
sehr fest haften und ausgezeichneten Glanz besitzen. sauren Zinkbad, das im Liter 200 g Zinksulfat,
Die erfindungsgemäßen Mittel haben überdies den 1 g Eisessig und als Glanzmittel 1 g des Thiono-Vorteil,
daß die damit betriebenen Bäder lange Zeit phosphorsäure-tris-(benzylester-p-Natrium-sulfonats)
betriebsfähig bleiben, da die Mittel ausreichend be- (Nr. 3) enthält, so erhält man einen gut glänzenden,
ständig sind bzw. auftretende Umlagerungs- oder Zer- 60 haftfesten Zinküberzug, der keiner Nachbearbeitung
Setzungsprodukte dieser Mittel nicht stören. bedarf.
Die erfindungsgemäßen Produkte können ins- Das erfindungsgemäße Salz wird erhalten, indem
besondere auch bei dem Verfahren der galvanischen man 32,4 g thionophosphorsaures Natrium und 68,6 g
Direktverkupferung verwendet werden, bei dem man p-chlorbenzylsulfonsaures Natrium in 300 ecm Wasser
ohne cyanidische Vorverkupferung auf unedle Me- 65 löst und die Lösung bei 65 bis 70° C während 5 Stunden
talle, wie z. B. Eisen, festhaftende Kupferüberzüge rührt. Nach Einengen im Vakuum und Trocknen
aufbringt, indem man die zu verkupfernden Metall- erhält man 87,2 g an Rohprodukt, welches nach Umgegenstände
in einem sauren Beizbad unter Zusatz kristallisieren aus wäßrigem Alkohol 18 g einer
kristallisierten Substanz der unter Nr. 3 angegebenen Zusammensetzung ergibt.
Bei einem Nickelbad der Zusammensetzung 265 g Nickelsulfat, 53 g Nickelchlorid und 33 g Borsäure pro
Liter, welches im Liter als Grundglanzmittel 2 g Benzyl-benzoylamid
enthält, werden pro Liter Badflüssigkeit 100 mg Thionophosphorsäure-tris-(benzylestero-Natrium-sulfonat)
(Nr. 4) gegeben. Das Bad liefert bei einer Badtemperatur von 550C im Stromdichtebereich
von 0,5 bis 6 A/dm2 gut glänzende, festhaftende, duktile und eingeebnete Nickelüberzüge.
B e i s ρ i e 1 4 lg
Werden in einem cyanidischen Cadmiumbad der Zusammensetzung 30 g Cadmiumoxyd, 110 g Natriumcyanid,
1 g Kaliumnickelcyanid und 1,5 g eines sulfatierten Fettalkoholpolyglykoläthers pro Liter als
Glanzmittel 1 g des Thionophosphorsäure-tris-[(2-hydroxy)-propylester-cj-Natrium-sulfonats]
(Nr. 2) pro Liter eingesetzt, so erhält man im Stromdichtebereich von 0,5 bis 4 A/dm2 vollen Glanz. Eine Nachbeizung
in schwach oxydierendem Medium ist nicht erforderlich.
Zu einem cyanidischen Kupferbad, welches pro Liter 81,7 g Kupfer(I)-cyanid, 118,3 g Kaliumcyanid,
10 g Rochellesalz, 15 g Natriumcyanid, 20 g Natriumhydroxyd und 55 g Natriumcarbonat enthält, wird als
Glanzmittel pro Liter Badflüssigkeit 1 g Thionophosphorsäure-tris-(methylester-carbonsaures
Kalium) (Nr. 7) gegeben. Dieses Salz wird erhalten, indem man 36 g thionophosphorsaures Natrium in 100 ecm
Wasser gelöst mit der Lösung von 28,4 g Chloressigsäure und 16,8 g Kaliumhydroxyd in 150 ecm Wasser
bei 283C versetzt. Man rührt dann 4 Stunden bei 400C nach und engt darauf die Lösung im Vakuum
ein. Das erhaltene Rohprodukt läßt sich durch Behandeln mit wenig Wasser enthaltendem Äthanol
reinigen, wobei das erfindugsgemäße Produkt in einer Menge von 16 g ungelöst zurückbleibt.
Das Bad liefert bei einer Badtemperatur von 75 bis 8O0C über den gesamten Stromdichtebereich von 0,5
bis 8 A/dm2 gut glänzende, sehr feinkörnige Kupferniederschläge.
In einem zyankalischen Messingbad, welches pro Liter 21 g Kupfer(I)-cyanid, 53,8 g Zinkcyanid, 75 g
Natriumcyanid und 20 g wasserfreies Natriumcarbonat enthält, werden pro Liter Badflüssigkeit als Glanzmittel
500 mg Tris-(co-natrium-sulfopropyl)-phosphinsulfid (Nr. 9) eingesetzt. Das Bad liefert bei einer Badtemperatur
von 303C im Stromdichtebereich von 0,25 bis 2,5 A/cm2 einen gleichmäßigen, fleckenfreien, gut
glänzenden, gelben Messingüberzug.
Das erfindungsgemäße Salz läßt sich erhalten, indem man 17 g Phosphin mit 183 g Propansulton in ben- So
zolischer Lösung bei etwa 750C in Gegenwart säurebindender
Mittel, wie z. B. Natrium in feiner Suspension, umsetzt. Man rührt 1 Stunde unter Rückfluß
nach und schwefelt das so erhaltene Reaktionsprodukt, indem man auf bekannte Weise 16 g fein-
gepulverten Schwefel bei Rückflußtemperatur einträgt. Man läßt 2 Stunden unter Rückfluß nachrühren,
engt im Vakuum ein, nimmt den Rückstand in Wasser auf und äthert diese Lösung aus. Die
wäßrige Lösung enthält das Produkt der oben angegebenen Zusammensetzung.
Zu einem sauren Kupferbad, der im Beispiel 1 angegebenen Grundzusammensetzung wurde als Glanzmittel
das Thionophosphorsäure-tris-(a)-Natrium-sulfopropylamid)
(Nr. 8) gegeben. Dieses Salz erhält man, wenn man zu einer wäßrigen Lösung von 32,2 g
3-Aminopropan-l-natriumsulfonat 16 g Pyridin gibt, die Lösung auf 6O0C erwärmt und innerhalb von
20 Minuten 113 g Phosphorsulfochlorid PSCl3 zutropfen läßt. Die Reaktion ist exotherm. Man läßt
21I2 Stunden bei 60 bis 65°C nachrühren, engt dann
im Vakuum ein, löst den Rückstand in wenig Wasser und versetzt mit Äthanol. Hierbei setzt sich das Reaktionsprodukt
als dickflüssiger Bodenkörper ab. Nach Dekantieren, Trocknen, Zerreiben unter Alkohol
und Abfiltrieren des festen Körpers erhält man 21,2 g der erfindungsgemäßen Substanz. Bei einem
Einsatz von 20 bis 200 mg pro Liter Badflüssigkeit erhält man im Stromdichtebereich von 0,25 bis
8 A/dm2 hochglänzende, festhaftende und duktile Kupferüberzüge.
Setzt man als Glanzmittel das Tetrathiophosphorsäure-tris-(propylester-co-Natrium-sulfonat)
(Nr. 6) in gleicher Menge ein, so werden gut glänzende Kupferüberzüge, vorwiegend im Bereich höherer Stromdichte,
erhalten.
Claims (2)
1. Galvanische Bäder nach Patentanmeldung D 40 723 VI/48 a, (deutsche Auslegeschrift 1196 464),
dadurch gekennzeichnet, daß an Stelle der dort verwendeten Abkömmlinge saurer schwefelhaltiger Phosphorderivate solche der allgemeinen
Formel
,Y-R'
R — X — P
Z — R"
eingesetzt werden, in der R, R' und R" für aliphatische,
cycloaliphatische, aromatische und araliphatische Reste, die gegebenenfalls auch substituiert
oder durch Heteroatome oder Heteroatomgruppen unterbrochen sein können, X, Y und Z für
Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen, wie O, S, NH, stehen und L eine wasserlöslichmachende
anorganische oder organische Gruppe darstellt, wobei X und/oder Y und/oder Z fortfallen können.
2. Galvanische Bäder nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich noch andere,
für sich bekannte Glanzmittel, Porenverhütungsmittel, Härtebindungsmittel, Inhibitoren und Netzmittel
enthalten.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 045 373.
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 045 373.
In Betracht gezogene ältere Patente:
Deutsches Patent Nr. 1 163 114.
Deutsches Patent Nr. 1 163 114.
509 687/390 9.65 © Bundesdruckerei Berlin
Priority Applications (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED40675A DE1192021B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-12 | Galvanische Baeder |
DED40723A DE1196464B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-19 | Galvanische Baeder |
DESCH33166A DE1235102B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad |
DED41416A DE1201152B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Galvanische Baeder |
GB49875/63A GB1056599A (en) | 1963-01-12 | 1963-12-17 | Improvements in and relating to electroplating baths |
US333724A US3298937A (en) | 1963-01-12 | 1963-12-26 | Electroplating baths and processes |
FR1392576A FR1392576A (fr) | 1963-01-12 | 1964-01-11 | Bains galvaniques |
AT232864A AT249466B (de) | 1963-01-12 | 1964-03-17 | Bad für die elektrolytische Abscheidung glänzender Zinküberzüge |
GB12380/64A GB1043618A (en) | 1963-01-12 | 1964-03-24 | Improvements in and relating to electrolytic processes and baths for the production of zinc deposits |
CH504364A CH457075A (de) | 1963-01-12 | 1964-04-20 | Cyanidfreies Bad zur elektrolytischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge |
CH211968A CH458006A (de) | 1963-01-12 | 1964-04-20 | Cyanidfreies Bad zur elektrolytischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge |
FR971661A FR1390051A (fr) | 1963-01-12 | 1964-04-21 | Bain et procédé pour réaliser des revêtements de zinc brillants par dépôt électrolytique |
NL6404457A NL6404457A (de) | 1963-01-12 | 1964-04-23 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED40675A DE1192021B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-12 | Galvanische Baeder |
DED40723A DE1196464B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-19 | Galvanische Baeder |
DED41416A DE1201152B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Galvanische Baeder |
DESCH33166A DE1235102B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1201152B true DE1201152B (de) | 1965-09-16 |
Family
ID=27436770
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED40675A Pending DE1192021B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-12 | Galvanische Baeder |
DED40723A Pending DE1196464B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-19 | Galvanische Baeder |
DED41416A Pending DE1201152B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Galvanische Baeder |
DESCH33166A Pending DE1235102B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED40675A Pending DE1192021B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-12 | Galvanische Baeder |
DED40723A Pending DE1196464B (de) | 1963-01-12 | 1963-01-19 | Galvanische Baeder |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DESCH33166A Pending DE1235102B (de) | 1963-01-12 | 1963-04-24 | Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3298937A (de) |
AT (1) | AT249466B (de) |
CH (2) | CH458006A (de) |
DE (4) | DE1192021B (de) |
FR (1) | FR1392576A (de) |
GB (2) | GB1056599A (de) |
NL (1) | NL6404457A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010514674A (ja) * | 2006-10-12 | 2010-05-06 | ベラス ヘルス (インターナショナル) リミテッド | 3−アミノ−1−プロパンスルホン酸を送達するための方法、化合物、組成物および媒体 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3522333A (en) * | 1967-06-01 | 1970-07-28 | Gaf Corp | Phosphonamide sulfonates |
US3626034A (en) * | 1967-11-29 | 1971-12-07 | Stauffer Chemical Co | Dialkyl phosphoryl n-alkyltaurinates |
US3791801A (en) * | 1971-07-23 | 1974-02-12 | Toyo Kohan Co Ltd | Electroplated steel sheet |
BE794048A (fr) * | 1972-01-17 | 1973-07-16 | Dynachem Corp | Procede et solution de revetement de cuivre sans traitement electrique |
GB1514514A (en) * | 1975-05-21 | 1978-06-14 | Texaco Belgium Nv Sa | Bispiperazido phosphorus and trispiperazidophosphorus compounds |
GB1514511A (en) * | 1975-05-21 | 1978-06-14 | Texaco Belgium Nv Sa | Polyureas |
US4124400A (en) * | 1975-07-28 | 1978-11-07 | Monsanto Company | Flame retardant polymer compositions |
GB8320284D0 (en) * | 1983-07-27 | 1983-09-01 | Gen Electric Co Plc | Electrodeposited zinc |
CN103789803B (zh) * | 2014-01-13 | 2016-04-27 | 孙松华 | 一种无氰铜锡合金电镀液及其制备方法 |
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Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE714829C (de) * | 1939-07-03 | 1941-12-08 | Rasselsteiner Eisenwerksgesell | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung glaenzender Zinkniederschlaege auf anderen Metallen |
DE731835C (de) * | 1941-07-20 | 1943-02-16 | Hoesch Ag | Saure galvanische Zinkbaeder zur Abscheidung eines hochwertigen glaenzenden Zinkueberzuges |
DE731102C (de) * | 1941-12-13 | 1943-02-03 | Dr Herbert Brintzinger | Verfahren zur Erzeugung metallischer UEberzuege |
US2488246A (en) * | 1944-08-25 | 1949-11-15 | United Chromium Inc | Process of electroplating zinc, and baths and compositions for use therein |
US3165513A (en) * | 1961-12-26 | 1965-01-12 | Dal Mon Research Co | Triazine phosphonium derivatives |
-
1963
- 1963-01-12 DE DED40675A patent/DE1192021B/de active Pending
- 1963-01-19 DE DED40723A patent/DE1196464B/de active Pending
- 1963-04-24 DE DED41416A patent/DE1201152B/de active Pending
- 1963-04-24 DE DESCH33166A patent/DE1235102B/de active Pending
- 1963-12-17 GB GB49875/63A patent/GB1056599A/en not_active Expired
- 1963-12-26 US US333724A patent/US3298937A/en not_active Expired - Lifetime
-
1964
- 1964-01-11 FR FR1392576A patent/FR1392576A/fr not_active Expired
- 1964-03-17 AT AT232864A patent/AT249466B/de active
- 1964-03-24 GB GB12380/64A patent/GB1043618A/en not_active Expired
- 1964-04-20 CH CH211968A patent/CH458006A/de unknown
- 1964-04-20 CH CH504364A patent/CH457075A/de unknown
- 1964-04-23 NL NL6404457A patent/NL6404457A/xx unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1392576A (fr) | 1965-03-19 |
DE1196464B (de) | 1965-07-08 |
US3298937A (en) | 1967-01-17 |
GB1056599A (en) | 1967-01-25 |
CH457075A (de) | 1968-05-31 |
CH458006A (de) | 1968-06-15 |
NL6404457A (de) | 1964-10-26 |
DE1192021B (de) | 1965-04-29 |
GB1043618A (en) | 1966-09-21 |
DE1235102B (de) | 1967-02-23 |
AT249466B (de) | 1966-09-26 |
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