DE2023304C3 - Cyanidfreies galvanisches Bad - Google Patents
Cyanidfreies galvanisches BadInfo
- Publication number
- DE2023304C3 DE2023304C3 DE19702023304 DE2023304A DE2023304C3 DE 2023304 C3 DE2023304 C3 DE 2023304C3 DE 19702023304 DE19702023304 DE 19702023304 DE 2023304 A DE2023304 A DE 2023304A DE 2023304 C3 DE2023304 C3 DE 2023304C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- metal
- cyanide
- acid
- baths
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
N—Alkylen -
N—Alkylen
A
A
-N
N —G —N
N-N
enthält, in denen /ι eine ganze Zahl von 0 bis 5. die Alkylengruppe
— CH2CH2 -. - CH(CH3)CH2
und - CH2CH2CH2 -
und - CH2CH2CH2 -
A Wasserstoff. Hydroxyl. Alkyl. Hydroxyalkyl und RPU(OM)2 sind, wobei R Methyl, Äthyl und
Propyl und M Wasserstoff. Alkalimetall, Ammonium, Alkylammonium und Amine sind, wenigstens
einer der Reste A RPO(OM)2 is? und G Piperazin.
Pyridin oder ein Alkylen oder substituiertes Alkylen mit I bis 6 Kohlenstoffatomen ist.
2. Bad nach Anspruch I, dadurch gckennzeichnet. daß die Chelatbildner Diäthylentriaminpentamethylphosphonsäure,
Triäthylentetraminhexamethylphosphonsäure. Tetraäthylenpentaminheptamethylphosphonsäure
und ihre Alkalimctalltind Ammoniumsalze sind.
3. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Chelatbildner
Äthyldiamintetramcthylphosphonsäurc.
Hexamethylendiaminte':ramethylphosphonsäure. Aminoäthyläthanolamintrimethylphosphonsäure.
Aminoäthylpiperazintrirnethylphosphonsäurc. Diaminpyridintetramethylphosphonsäurc
und ihre Alkalimetall- und Ammoniumsalze sind.
4. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Chclatbildner Hydrazintetramethylphosphonsäure und
ihre Alkalimetall- und Ammoniumsalze sind.
60
Die Erfindung betrifft ein cyanidfreies wäßriges galvanisches Bad. das Aminphosphonat-Chelatbildncr
und Metallionen, insbesondere Ionen von Eisen. Kobalt. Nickel. Zink. Silber, Kupfer, Cadmium und
Zinn enthält, zum Abscheiden von Metallüberzügen.
Metallcyanid-Galvanisierbiider werden in weiten Kreisen der Industrie bei der galvanischen Abscheidung verwendet, und es hat sich herausgestellt, daß
für die Abscheidung bestimmter Metalle Cyanidbäder die wirkungsvollsten Ergebnisse ergibt. Herkömmliche
Metallcyanid-Galvanisierbiider sind im wesentlichen wäßrige alkalische Lösungen des anorganischen
Cyanidsalzes des Metalls, das elektrolytisch abgeschieden werden soll. Man kann dem galvanischen
Bad bestimmte Zusätze beigeben, um die Qualität des aus ihm gewonnenen galvanischen Niederschlags
zu verbessern. Beispiele allgemein verwendeter Zusätze sind aromatische Alkylsulfonate,
die den Glanz der Niederschläge verbessern und die Einheitlichkeit der Schichtdicke erhöhen. Zur
Vergrößerung der Stromdichte bei der Abscheidung
und damit der Erhöhung der Abscheidungsgeschwindigkeit — gibt man den Metallcyanid-Galvanisierbädern noch andere Zusätze bei. Weitere Zusätze verwendet man zur Verbesserung der Sireukraft des Galvanisierbades.
und damit der Erhöhung der Abscheidungsgeschwindigkeit — gibt man den Metallcyanid-Galvanisierbädern noch andere Zusätze bei. Weitere Zusätze verwendet man zur Verbesserung der Sireukraft des Galvanisierbades.
Während mit den oben beschriebenen Metailcyanidbädcrn
ausgezeichnete Ergebnisse erzielt werden können, werden durch die extreme Giftigkeit
solcher Lösungen doch deutliche Nachteile geschaffen. Wenn beispielsweise dci pH-Wert des Bades
neutral oder sauer wird, kann sich tödliches C'yanwasscrstoffgas
bilden und für die den Arbeitsprozeß steuernden Leute eine eindeutige Lebensgefahr hervorrufen.
Außerdem ergibt sich durch clic Giftigkeit der Metallcyanid-Plattierungsbäder ein bedeutendes
Beseitigungsproblem. Eine geeignete chemische Beseitigung ist mühsam und teuer. Wenn man verbrauchte
Cyanidbäder in Abwasserkanal oder Wasserläufe wegschafft, ergibt sich dadurch ein bedeutendes
Verschmutzungsproblem.
Hin Versuch, die mit den Cyanidbädern zusammenhängenden
Probleme zu überwinden und gleichzeitig seine Vorteile zu bewahren, ist im französischen
Patent 1458 492 der Monsanto-Cornpany beschrieben. Es werden darin cyanidfreie Bäder beschrieben,
in denen der wesentliche Chelatbildner ein Derivat der Monoaminmethylenphosphonsäure
mit folgenden Formeln sein kann:
PvN[CH2PO(OMk]2 und N[CH2PO(C)M)2],
in denen R Wasserstoff oder Alkyl sein kann, M Wasserstoff oder Alkalimetall ist und die Methylengruppe
substituiert sein kann. Die oben Ldschricbenen Chelatbildner haben in bezug auf die galvanische
Abscheidung einige Nachteile, darunter schlechte Stabilität der Komplexe, die sie mit den ionischen
Salzen der abzuscheidenden Metalle bilden. Die schlechte Stabilität der Metallionenkomplexe macht
sie unbrauchbar fm die Abscheidung bei hohem basischem pH-Wert oder einem sauren pH-Wert.
Aus der deutschen Patentschrift 731 102 ist es bekannt.
Polyamincarbonsäuren. z. B. ÄDTL. als Komplexbildner zu verwenden. Diese Verbindungen fuhren
aber zu schlechten Abscheidungen und sind nicht ausreichend stabil.
Die Erfindung stellt sich zur Aufgabe, verbesserte Bäder zu schaffen, die frei sind von toxischen Metallcyanidsalzcn,
aber doch eine gute Streukraft und den hohen Glanz herkömmlicher Cyanidbäder in einem
großen pH-Bereich erreichen.
Die Erfindung besteht darin, daß das Bad als
Chelatbildner Polyaminphosphonate der Formeln
I, Ν— Alkylen A
N-Alkylen
A
A
— Ν
N —G —N
A A
NN —N
A A
A A
enthüll, in denen η eine ganze Zahl von 0 bis 5. die
Alkylengruppe CH-CH2 . CH(C H,)CH,
und CH2CH2CH, . A Wasserstoff. Hydroxyl. Alkyl, Hydroxyalkyl und RPO(C)M), sind, wobei R Methyl, Äthyl und Propyl und M Wasserstoff. Alkalimetall, Ammonium, Alkylammcnium und Amine sind. Wenigstens einer der Reste A ist RPC)(OM)2. und G ist Pberazin, Pyridin oder ein Alkylen oder substituiertes Alkylen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen. Die Metallchelat-Komplexe d.™ Erfindung sind stabil bei Temperaturen, die von Umgebungstemperaturen bis zu Temperaturen von etwa X) C (190 F) reichen, und in einem pH-Wert-Bereich, in dem der Komplex galvanische Niederschläge erzeugt.
und CH2CH2CH, . A Wasserstoff. Hydroxyl. Alkyl, Hydroxyalkyl und RPO(C)M), sind, wobei R Methyl, Äthyl und Propyl und M Wasserstoff. Alkalimetall, Ammonium, Alkylammcnium und Amine sind. Wenigstens einer der Reste A ist RPC)(OM)2. und G ist Pberazin, Pyridin oder ein Alkylen oder substituiertes Alkylen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen. Die Metallchelat-Komplexe d.™ Erfindung sind stabil bei Temperaturen, die von Umgebungstemperaturen bis zu Temperaturen von etwa X) C (190 F) reichen, und in einem pH-Wert-Bereich, in dem der Komplex galvanische Niederschläge erzeugt.
Beispiele der in Formel I dargestellten Chelatbildner sind Diäthylentriaminpentamelhylphosphonsäure,
Triäthylentetraminhexamethylp'hosphonsäure. Tetraäthylenpentaminhcptamethylphosphonsäureund
ihre Alkalimetall- oder Ammoniumsalze. Beispiele der in Formel Il dargestellten Chelatbildner sind
Äthylendiamintctramethylphosphonsäure. Hexamethylendiamintctramethylphosphonsäure.
Aminoäthyläthanolamintrimethylphosphonsäure. Aminoäthylpiperazintrimethylphosphonsüure.
Diaminopyridintetramethylphosphonsaure und ihre Alkalirietall- oder Ammoniumsalze. Ein Beispiel der in Formel 111 dargestellten
Chelatbildner ist Hydrazintetramethylphosphonsäure und ihre Alkalimetall- oder Ammoniumsalze.
Die Bäder der Erfindung lassen sieh durch Bildung einer wäßrigen Lösung einer geeigneten Metallverbitidung
und eines Polyaminphosphonat-Chelatbildr.ers der Erfindung herstellen. Eine zweite Methode
zur Herstellung der hier beschriebenen Bäder besteht in der Bildung einer wäßrigen Mischung aus einem
Metallchelatsalz, das zuvor beispielsweise durch die Reaktion eines zur Chelatbildung fähigen Metallcarbonats
mit einer Polyaminphosphonsäure der Erfindung hergestellt wurde.
Jede mit den oben beschriebenen Chelatbildnern Chelate bildende wasserlösliche Metallverbindung
läßt sich für die neuen Bäder verwenden, einschließlich lösliche Eisen-, Kobalt-, Nickel-, Zink-, Silber-. Kupfer-,
Cadmium- und Zinnverbindungen. Die verwendeten Metallverbindungen können
1, einfache ionische Metallsalze sein, die, wenn sie gelöst sind, ein zur Chelatbildung fähiges
Metallion freisetzen, z, B. Kupfersulfat, oder
2, komplexere Salze sein, die, wenn sie gelöst sind, ein zur Chelatbildung fähiges Metallion liefern,
z. B. Natriumzinkat, oder
3, Metallsalze, wie etwa die Carbonate sein, die mit einem Polyaminphosphonsäure-Chelatbildner
unter Bildung eines Metallchelatsalzes reagieren.
Die Abscheidung von Legierungen läßt sich durch Verwendung von zwei oder mehr verschiedenen zur
Chelatbildung fähigen Metallen im richtigen Verhältnis zueinander erreichen, Beispiele sind Kupfer-Nickel-Legierungen
und Kupfer-Zink-Legierungen. Geeignete Bäder lassen sich unter Verwendung von 0,01 bis 400 g eines Polyaminphosphonat-Chelatbildners
auf 1 1 herstellen, doch ist eine Konzentration
jo von 50 bis 150 g pro Liter bevorzug:. Der pH-Wert
der Bäder ist beliebig und hängt von der Art des verwendeten Metalls und der einzelnen Anwendungsweise
ab. Für viele Plaltierungsanwendungen ist ein pH-Wert von 6 bis 9 bevorzugt.
Die galvanischen Bäder können bekannte Aufheller. Puffer. Einebner und andere Zusätze enthalten. Ein
verträglicher Puffer für viele Ausführungsformen der Erfindung ist Bjrsäure und ihre Salze. Die bekannten,
für ein bestimmtes Metall geeigneten Aufheller sind.
y> wenn sie in den hier beschriebenen galvanischen
Bädern enthalten sind, im allgemeinen für das gleiche Metall zuträglich, beispielsweise sind Selenite und
Arsenite für Kupferbäder und Aldehyde und Ketone für Zinkbäder nützlich.
Spezifische Beispiele zur weiteren Erläuterung der neuen galvanischen Bäder sind unten beschrieben.
Es wurden neun Bäder hergestellt, indem die angegebene Menge der Metallverbindung, die galvanisch
niedergeschlagen soll und ein Polyamin-
phosphonat-Chelatbildner der Erfindung in Wasser gelöst wurden. Ein Alkalimetall-Hydroxid oder Ammoniumhydroxid
wurde der Lösung beigefügt, um den pH-Wert auf einen ausgewählten Bereich von
6 bis 12 zu bringen. Die Beispiele unten zeigen die verschiedenen Arten von Metallverbindungen auf.
die verwendet werden können, insbesondere Metallchelatsalze.
einfache Metallsalze. Oxide und Komplexsalze, die. wenn sie gelöst sind, ein Metallion
freisetzen. Bäder zur Abscheidung von Legierungen sind unten erläutert. Bei jedem der unten beschriebenen
Bäder wurde die Abscheidung des Metalls auf herkömmliche Weise bei einer im Bereich zwischen
Raumtemperatur und 60 C" liegenden Temperatur und einer Stromdichte von etwa 0.1 bis 4.3 A'dm2
ausgeführt. In vielen Fällen läßt sich mit den unten beschriebenen Bädern ein feiner körniger Metallniederschlag
einheitlicher Dicke auf dem Grundmctall erreichen. Wo Kornverfeinerung benötigt wird, kann
sie durch die Zugabe eines verträglichen Aufhellers
bo erreicht werden.
Metalkhelatsalze
Bad I
Gramm
(,<; pro Liier
Kuplercarbonat 30
Äthylendiamintetramcthylphosphonsäurc 120
Das Kupfercarbonat wurde mit der Phosphonsiiure
in I I Wasser gemischt. Der pH-Wert dieser Mischung wurde mit einer ausreichenden Menge
Kaliumhydroxid auf 3,0 eingestellt und die Mischung
dann erhitzt, bis die Entwicklung von Kohlendioxid.
aufhörte und das Kupfersalz vollstiindig gelöst war. Der pH-Wert wurde dann mit einer ausreichenden
Menge Kaliumhydroxid auf 8,0 eingeteilt.
Bad 2
Gramm
Bad 3
(irmnm pm I iler
C'admiumcarbonat 40
Hexamcthylendiamintctramethyl-
phosphonsiiurc 150
Zugesetztes Ammoniumhydroxid zur Einstellung des pH-Wertes auf 6.0.
Die galvanische Badlösung wurde auf dieselbe Weise wie Bad 1 hergestellt.
Einfache Metallsalze Bad 4
(iriimm pro I tier
60
Bad 5
(ir;:mm pro I.Her
. 50
Oxide
(,r„mm
If1
Eiscn(II)-sulfal
Diäthylcntriaminpentamethylphos-
phonsäure 150
Zugesetztes Kaliumhydroxid zur Einstellung des pH-Wertes auf 9.
Die obengenannten Bestandteile wurden in einem Liter Wasser gemischt, bis alle Salze gelöst waren.
40
Kobaltcitrat
Aminoäthylcmhanolamintrimcthy!-
phosphonsäu.c 140
Zugesetztes Natriumhydroxid zur Einstellung des pH-Wertes auf 7.5.
Die obengenannten Bestandteil'; wurden in einem Liter Wasser gemischt, bis alle Salze gelöst waren.
pro l.iicr
Zinkoxid 15 fio
Äthylendiaminlctramcthylphosphon-
siiurc 100
Zugesetztes Natriumhydroxid zur Einstellung des pH-Wertes auf 11.
Das Zinkoxid winde in einer ausreichenden Menge
Natriumhydroxidlösung gelöst. Der Phosphonsiiure wurde dann so vic! Wasser beigegeben, bis I I voll
wurde, und die Lösung wurde mit einem HberschuB
(in Natriumhydroxid auf einen pH-Wert von 11 eingestellt.
Komplexsube
Bad 7
(ir;imm
pn» I iler
IO
pro I.Her
Nickelcarbonat 25
Äthylendiaminteiramethylphosphonsäure 100
Zugesetztes Natriumhydroxid zur Einstellung ües pK-Wertes auf 7,0
Die galvanische Badlösung wurde auf dieselbe Wei&e wie Bad 1 hergestellt.
Nairiumzinkat -W
A'ihylcndiumintctramcthylphosphon-
säure 100
Zugesetztes Natriumhydroxid zur Einstellung des pH-Wertes auf 9.
Die obengenannten Bestandteile wurden in I
Wasser gemischt, bis alle Salze gelöst waren.
Wasser gemischt, bis alle Salze gelöst waren.
Legierungen
Cip-mm
pm I rter
Kupfersiillat <>0
Nickelsiilfat I?
Aiii) lend iaminletramet h\!rihosphon-
säure IW)
Zugesetztes Kaliumhydroxid zur 1:. i η -
stellung des pH-Wertes auf 7.5.
Die obengenannten Bestandteile wurden in I I
Wasser gemischt, bis alle Salze gelöst waren.
Bad 9
ι itamm
pro I üei
Natriumzinkat 15
Kupfersiillat 30
Λ thy lend iami Metra met hy Iphosphon-
siiure " KK)
Die obengenannten Bestandteile wurden in I I Wasser gemischt, bis alle Salze gelöst wan:n. Is
wurde dann genügend Natriumhydroxid beigegeben, um die Lösung auf einen pH-Wert von 12 einzustellen.
Zum Nachweis dafür, dall die Monoaminalkslphosphonale
des französischen Patents I 45S 492 schichte Komplexe iiei hohem pH-Wert bilden.
Polyaminphosphonale der lüindung aber eine gute Stabilität besitzen, wurden die folgenden Lösungen
hergestellt und folgende Versuche durchgeführt.
Lösung I
Kupfercarbonal 52 I IgI
Λ m in öl ri met hylen phosphonsäuren
150" u I ösiin'g) 300 ml I
Kaliumhydroxid ausreichend
zur Steigerung
des pi I-Werts auf 12.
Bei der Herstellung der Lösung bildeten sich braun- uiv1 giiingefärble Ausfüllungen bei der Zugabe
von Kaliumhvdroxid. als der pH-Wert der Lösung X überschritt, und bei einem pll-Wert von 12 gab es
beträchtliche Mengen dieser Ausladungen, die die Lösung für ein Bad völlig unbrauchbar machten.
Der im französischen Patent offenbarte Kupferkomplex aus Phosphonatmaterial war nicht stabil genug,
um das Metall bei diesen hohen pH-Werten in Lösung zu halten.
*) Diese Verbindung wird im fnin/ösischen l'ülcnl I 45X W2
im Heispiel I verwende!
Lösung 2
Kupfcrcarbonat 52 I 2 g I
Äthylendiamintetramcthylphos-
phonsäurc*) 320 g 1
Kaliumhydroxid —■ ausreichend
zur Steigerung
des pH-Werts auf 12.
Als bei der Herstellung der Lösung der pH-Wert bei 12 angelangt war, war immer noch alles in Lösung,
und das Bad war fähig. Kupfer bei diesem pH-Wert mit guten Ergebnissen zu plattieren.
Es wurde bei Vergleichen der beiden Lösungen 1 und 2 bei Temperaturen von etwa 800C oder mehr
weiterhin gefunden, daß die Lösung mit dem Monoaminmethylphosphonat des französischen Patents
einen starken Ammoniakgeruch abgab, der ein Zersetzen des Phosphonats in Ammoniak andeutete,
während die Lösung der Anmeldung mit der Äthylcndiaminverbindung keinen Geruch ausströmte oder
ein Anzeichen einer Zersetzung zeigte.
Es wurden auch Versuche durchgerührt, um zu zeigen, daß es tatsächlich bedeutende Unterschiede
zwischen den Äthylendiaminphosphonaten der Anmeldung verglichen mit den Äthylendiamincarboxylaten
des deutschen Patents 731 102 gibt. Es wurden daher die folgenden Lösungen hergestellt.
Lösung 3
Kupfcrsulfat (kristallin) 59 g 1
Äthylendiamintetramcthylphos-
phonsäure*) 127.5 g
Kaliumhydroxid zur Steigerung
des pH-Werts aui 8.0.
Lösung 4
Kupfersulfat (kristallin) 59 g 1
Äthylendiamintetraessigsäurc**) . 85 g 1
Kaliumhydroxid — ausreichend
Kaliumhydroxid — ausreichend
für eine Steigerung
des pH-Werts auf 8,0.
Abscheidungsversuche mit der ÄDTE-Vcrbindung zeigten, daß die Lösung in anderer Beziehung instabil
war. Es bildete sich ein Kupferspiegel auf der Abscheidungszelle nach 5minutigem Abscheiden, wodurch
angezeigt wurde, daß Kupfer aus der Lösung in seine metallische Zustandsform reduziert wird.
Außerdem ging die Lösung allmählich innerhalb von 5 Minuten von einem klaren Blau in ein trübes
Blau über, was ein weiteres Anzeichen für ihre In-Stabilität
war.
Lösungen mit der Phosphonatvcrbindung warer klar und blieben während der Abscheidungsversucht
klar, und es gab keine Kupferausrallung aus dem Bad
*) Verbindung nach Beispiel 1 der Anmeldung.
**) Diamincarbonsäureverbindung nach deutschem
**) Diamincarbonsäureverbindung nach deutschem
Patent 731 102.
Claims (1)
- Patentansprüche:I, Cyanidfreies wäßriges galvanisches Bad, das Aminphosphonat-Cbelatbildner und Metallionen, s insbesondere Ionen von Eisen, Kobalt, Nickel, Zink. Silber, Kupfer, Cadmium und Zinn enthält, zum Abscheiden von Meiallüberzügen, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad als Chelatbildner Polyaminphosphonate der Formein
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US82506769A | 1969-05-15 | 1969-05-15 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2023304A1 DE2023304A1 (de) | 1970-11-19 |
DE2023304B2 DE2023304B2 (de) | 1972-10-26 |
DE2023304C3 true DE2023304C3 (de) | 1974-08-29 |
Family
ID=25243037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702023304 Expired DE2023304C3 (de) | 1969-05-15 | 1970-05-13 | Cyanidfreies galvanisches Bad |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS4843786B1 (de) |
CA (1) | CA965729A (de) |
DE (1) | DE2023304C3 (de) |
FR (1) | FR2042660B1 (de) |
GB (1) | GB1314268A (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE791401A (fr) * | 1971-11-15 | 1973-05-14 | Monsanto Co | Compositions et procedes electrochimiques |
US3833486A (en) * | 1973-03-26 | 1974-09-03 | Lea Ronal Inc | Cyanide-free electroplating |
US4186064A (en) * | 1977-07-20 | 1980-01-29 | Technic, Inc. | Method and electrolyte for electrodeposition of bright gold and gold alloys |
-
1970
- 1970-05-01 CA CA081,660A patent/CA965729A/en not_active Expired
- 1970-05-06 GB GB2176370A patent/GB1314268A/en not_active Expired
- 1970-05-13 DE DE19702023304 patent/DE2023304C3/de not_active Expired
- 1970-05-14 FR FR7017705A patent/FR2042660B1/fr not_active Expired
- 1970-05-15 JP JP4153870A patent/JPS4843786B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2023304A1 (de) | 1970-11-19 |
FR2042660B1 (de) | 1974-09-20 |
DE2023304B2 (de) | 1972-10-26 |
JPS4843786B1 (de) | 1973-12-20 |
CA965729A (en) | 1975-04-08 |
FR2042660A1 (de) | 1971-02-12 |
GB1314268A (en) | 1973-04-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1114206B1 (de) | Wässriges alkalisches cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung von zink- oder zinklegierungsüberzügen | |
DE4105272C2 (de) | ||
DE3135595A1 (de) | Palladium/nickel-legierung-plattierungsloesung | |
DE2829980C2 (de) | Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold oder Goldlegierungen und Verfahren zur Herstellung des in diesem enthaltenen Ammonium-Gold(I)-sulfit-Komplexes | |
DE1496916B1 (de) | Cyanidfreies,galvanisches Bad und Verfahren zum Abscheiden galvanischer UEberzuege | |
DE832982C (de) | Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer | |
DE3012999C2 (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von hochglänzenden und duktiler Goldlegierungsüberzügen | |
DE2559059A1 (de) | Stabilisierte metallplattierungsloesung und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE2713507A1 (de) | Waessriges galvanisches bad | |
DE2023304C3 (de) | Cyanidfreies galvanisches Bad | |
CH629541A5 (de) | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung einer eisenlegierung. | |
DE3013191A1 (de) | Im wesentlichen cyanidfreies bad zur elektrolytischen abscheidung von silber oder silberlegierung | |
DE4428966C2 (de) | Verfahren zum Abscheiden eines weißen Palladiummetallüberzugs | |
DE3329958A1 (de) | Ein verfahren und eine loesung zur stromlosen kupferabscheidung auf einem substrat | |
DE2750932A1 (de) | Cyanidfreies bad zur stromlosen goldabscheidung und verfahren zum abscheiden von gold | |
DE3205951A1 (de) | Bad zur galvanischen abscheidung eines glaenzenden ueberzugs aus kobalt-zinn- oder kobalt-zink-legierung und ein verfahren zur herstellung solcher ueberzuege mit diesem bad | |
DE2249037A1 (de) | Verfahren zum plattieren von kupfer auf aluminium | |
DE2414650C3 (de) | Stromlos arbeitendes wässriges Verkupferungsbad | |
DE2352970A1 (de) | Korrosionsbestaendige metallueberzuege, die galvanisch abgeschiedenes nickel und mikroporoeses chrom enthalten | |
DE2032867A1 (de) | Goldbad und seine Anwendung | |
DE2839360C2 (de) | Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Überzügen aus Palladium oder seinen Legierungen | |
DE1621128C3 (de) | Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Herstellung von Überzügen aus Gold | |
DE1521512B1 (de) | Alkalisches Bad zur stromlosen Kupferabscheidung | |
DE1496916C (de) | tS-dräüt-r-eies, gaViaräBcYies i>a& utiö Verfahren zum Abscheiden galvanischer über züge | |
DE2704691A1 (de) | Cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung glaenzender silber- und silberlegierungsueberzuege und wasserloeslicher silberkomplex zur herstellung desselben |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |