DE2202801B2 - Verfahren zum Herstellen einer Kontaktierungsvorrichtung für Halbleiterkörper - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Kontaktierungsvorrichtung für Halbleiterkörper

Info

Publication number
DE2202801B2
DE2202801B2 DE2202801A DE2202801A DE2202801B2 DE 2202801 B2 DE2202801 B2 DE 2202801B2 DE 2202801 A DE2202801 A DE 2202801A DE 2202801 A DE2202801 A DE 2202801A DE 2202801 B2 DE2202801 B2 DE 2202801B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
conductor
conductor tracks
tracks
attached
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2202801A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2202801C3 (de
DE2202801A1 (de
Inventor
Martinus Adriaan Groenewegen
Jan Leendert Melse
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE2202801A1 publication Critical patent/DE2202801A1/de
Publication of DE2202801B2 publication Critical patent/DE2202801B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2202801C3 publication Critical patent/DE2202801C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • H05K3/182Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
    • H05K3/185Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method by making a catalytic pattern by photo-imaging
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49572Lead-frames or other flat leads consisting of thin flexible metallic tape with or without a film carrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/241Reinforcing the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/922Static electricity metal bleed-off metallic stock
    • Y10S428/9265Special properties
    • Y10S428/931Components of differing electric conductivity
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/922Static electricity metal bleed-off metallic stock
    • Y10S428/9335Product by special process
    • Y10S428/934Electrical process
    • Y10S428/935Electroplating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49121Beam lead frame or beam lead device
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren entspr echend dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Bei einem derartigen Verfahren ist es bekannt, die to Folie durch Aufdampfen mit einer Metallschicht zu bedecken und die Leiter dadurch zu erhalten, daß die gesamte Metallschicht, mit Ausnahme der Leiter, mit Hilfe eines Photoätzverfahrens durch Ätzen entfernt wird. Diese Herstellungsweise ist verhältnismäßig teuer <5 und zeitraubend.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein billigeres und schneller arbeitendes Verfahren zu schaffen, daß die genaue Herstellung auch sehr fein ausgebildeter Leitermuster gestattet, bei denen die >o Dicke der Leiterbahnen nach Wunsch gewählt werden kann.
Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmale gelöst.
Durch das galvanische Anwachsen können die '>' Leiterbahnen schneller und billiger in einem kontinuierlichen Prozeß erhalten werden. Ein besonders feines und genaues Muster von Leiterbahnen läßt sich unter Verwendung einer lichtempfindlichen Verbindung erhalten, die nach Belichtung imstande ist, Metallkeime <<o aus einer Lösung von Metallsalzen zu ergeben, welches Keimbild danach verstärkt werden kann. Beim Galvanisieren müssen jedoch sämtliche Leiterbahnen eines Musters dieselbe elektrische Spannung führen, damit eine absolut gleiche Stärke der Leiterbahnen erhalten M wird. Um dieses Problem auf für Massenfertigung günstige Weise zu lösen, werden die Leiterbahnen und die Verbindungsleiter vorgesehen. Durch diese Maßnahmen wird Galvanisieren möglich, wobei dann eine große Gleichmäßigkeit der Schichtdicke erhalten wird.
Es sei noch erwähnt, daß aus der DE-AS 12 63 126 ein Verfahren zur Herstellung einer Dünnfilmschaltung bekannt ist, bei dem ein Metallmuster mit einer Oxidschicht versehen wird.
Um eine elektrolytische Oxidation zu ermöglichen, sind dabei zusätzliche Verbindungsleitungen .zwischen den zu oxidierenden Teilen der Schaltung angebracht Das Anbringen der Metallmuster findet jedoch durch Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung statt
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.
Die Figur zeigt eine Folie 1 aus einem biegsamen elektrisch isolierenden Kunststoff. Die Folie besteht vorzugsweise aus einem Polyimid und hat eine Stärke von beispielsweise 25 μΐη. Auf der Folie 1 wird eine Anzahl von Leiterbahnreihen 2, 3 angebracht Die Leiterbahnen einer Leiterbahnreihe bestehen aus zwei Gruppen, die Leiterbahnen 2 bilden eine Gruppe, die Leiterbahnen 3 die andere. Die Leiterbahnen dienen als Stromzuführungselemente für einen nicht dargestellten Halbleiterkörper, wie eine integrierte Schaltung. Die Kontaktstellen auf diesem Halbleiterkörper werden dazu mit den einander zugewandten Enden der Leiterbahnreihen 2, 3 verbunden. Um eine gute Befestigung zu erreichen, ist es dabei notwendig, daß die Stärke sämtlicher Leiterbahnen 2,3 denselben Wert hat Im Interesse einer schnellen, wenig kostspieligen Herstellung erfolgt das Anwachsen der Leiterbahnen in einem galvanischen Prozeß.
Vorzugsweise werden die Leitermuster auf der Folie 1 mit Hilfe einer lichtempfindlichen Verbindung angebracht, die nach Belichtung imstande ist, Metallkeime aus einer Lösung von Metalisalzen, wie Merkurosalzen. Silber-, Gold-, Platin- und Palladiumsalzen zu liefern. Beim Anbringen des Keimbildes der Leiterbahnreihen werden zugleich Keimbilder vor Leiterbahnen 4 angebracht, mit denen die Enden der Leiterbahnreihen, welche letzten Endes die Leiterbahnen 2 bzw. 3 bilden, verbunden sind. Die Leiterbahnen werden beim Galvanisieren mit dem negativen Pol der Spannungsquelle verbunden, die Leiterbahnen liegen also auch an dieser negativen Spannung. Beim galvanischen Anwachsen der Leiterbahnen kann jedoch der Übergangswiderstand zwischen den Leiterbahnen 4 und einer in das galvanische Bad gestellten Führungsrolle für die Folie, die zugleich die negative Spannung auf die Metallspurbahnen überträgt, untereinander verschieden sein. Dadurch könnte eine Ungleichmäßigkeit in der Leiterbahndicke auftreten, wobei die Dicke der Leiterbahnen aus der Gruppe 2 nicht dieselbe sein würde wie die der Leiterbahnen aus der Gruppe 3. Auch ist es möglich, daß die elektrische Leitfähigkeit in den Keimbildern nicht überall gleich ist, wodurch insbesondere bei langen und breiten Folien die Dicke der galvanisch niedergeschlagenen Schicht örtlich abweichen könnte. Um dies zu vermeiden, wird wenigstens an einigen Stellen zwischen den Leiterbahnen 4 ein elektrisch leitender Verbindungsleiters angebracht. Die Spannung sämtlicher Leiterbahnen aus allen Reihen wird nun gleich sein, so daß man sicher sein kann, daß eine gleiche Leiterbahndicke erhalten wird. Die Verbindungsleiter 5 werden vorzugsweise zwischen den aufeinanderfolgenden Mustern angebracht. Dabei braucht der Verbindungsleiter dann bei Verwendung des Leitermusters als Träger eines Halbleiterkörpers
nicht entfernt zu werden- Zugleich können die Verbindungsleiter dann als Ausrichtkennzeichen bei der Befestigung der Halbleiterkörper an den Leiterbahnen, beim Schneiden der Leiterbahnen 4 und bei der automatischen elektrischen Messung dienen. Dazu hat der Verbindungsleiter vorzugsweise die in der Figur dargestellte Form, die aus zwei senkrecht auf den Leiterbahnen 4 stehenden untereinander verschobenen Teilen und einem in der Richtung der Leiterbahnen sich erstreckenden Verbindungsteil besteht
Bei einer günstigen Ausführungsform wurde auf dem Metallkeimbild zunächst eine 6 μπι dicke Kupferschtcht galvanisch angebracht Auf dieser Kupferschicht wurde eine Nickelschicht mit einer Slärke von 2 μπι niedergeschlagen, während danach eine Goldschicht von 1 μπι Stärke angebracht wurde. In diesem Falle wurde das Halbleiterelement mit den Leitern verlötet
Die Leiteroiuster können auch auf eine andere Art
und Weise angebracht werden, bevor galvanisiert wird So kann beispielsweise eine sehr dünne Metallschicht auf der Folie angebracht werden und mit Hilfe eines photochemischen Ätzverfahrens das Leitermuster erhalten werden. Die obengenannte Art und Weise, die Leitermuster anzubringen, wird jedoch bevorzugt
Zum Gebrauch als Träger für Halbleiterkörper wird ein Halbleiterkörper auf jedem Leiterbahnmuster befestigt beispielsweise dadurch, daß die Kontaktstellen des Halbleiterkörpers mit den Leiterbahnen verlötet werden, wonach die Leiterbahnen 4 weggeschnitten werden, beispielsweise entsprechend den angegebenen gestrichelten Linien. Ein auf diese Weise erhaltener Streifen kann elektrisch getestet werden und zu jedem gewünschten Zeitpunkt können gesonderte Folienteile mit einem Halbleiterkörper daraus geschnitten werden. Dieser Schnitt liegt dann vorzugsweise über dem Mittelteil des Verbindungsleiters 5.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Herstellen einer Kontaktierwmgsvorrichtung für Halbleiterkörper, bestehend aus einer isolierenden biegsamen Kunststoffolie, wobei Leitermuster aus zwei Gruppen von Leitern hergestellt werden, deren einander zugewandte Enden die Stellen zur Kontaktierung des Halbleiterkörpers bilden, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Folie eine Anzahl Leiterbahnreihen (2,3) angebracht werden, wobei die äußeren Enden der Leiterbahnen entsprechend der Gruppen in einer Reihe mit einer durchlaufenden Leiterbahn (4) verbunden werden, daß jeweils zwischen aufeinanderfolgenden Leitermustern (2,3) der einen Gruppe is und den Leitermustern der anderen Gruppe elektrische Verbindungsleiter (5) zwischen den durchlaufenden Leiterbahnen (4) angebracht werden und daß die Leiterbahnen (2, 3, 4, 5) durch galvanischen Aufbau wenigstens einer Metallschicht verstärkt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindungsleiter (5) durch zwei im wesentlichen senkrecht auf den Leiterbahnen (4) liegende Teile gebildet werden, die in der Längsrichtung der Leiterbahnen (4) untereinander verschoben sind, wobei diese beiden Teile durch einen sich in der Richtung der Leiterbahnen (4) erstreckenden Teil verbunden sind.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ^o gekennzeichnet daß aus der Folie (1) ein Teil mit einem Leitermuster ohne die Leiterbahnen (4) geschnitten wird.
DE2202801A 1971-02-05 1972-01-21 Verfahren zum Herstellen einer Kontaktierungsvorrichtung für Halbleiterkörper Expired DE2202801C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7101602A NL7101602A (de) 1971-02-05 1971-02-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2202801A1 DE2202801A1 (de) 1972-08-17
DE2202801B2 true DE2202801B2 (de) 1979-06-13
DE2202801C3 DE2202801C3 (de) 1981-12-17

Family

ID=19812419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2202801A Expired DE2202801C3 (de) 1971-02-05 1972-01-21 Verfahren zum Herstellen einer Kontaktierungsvorrichtung für Halbleiterkörper

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3821847A (de)
AU (1) AU471692B2 (de)
CA (1) CA978662A (de)
CH (1) CH537140A (de)
DE (1) DE2202801C3 (de)
FR (1) FR2124489B1 (de)
GB (1) GB1373433A (de)
IT (1) IT947242B (de)
NL (1) NL7101602A (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4134801A (en) * 1976-05-17 1979-01-16 U.S. Philips Corporation Terminal connections on microcircuit chips
GB2137805B (en) * 1982-11-19 1987-01-28 Stanley Bracey Chip carrier
GB8706857D0 (en) * 1987-03-23 1987-04-29 Bradley International Ltd Alle Chip carriers
US4827376A (en) * 1987-10-05 1989-05-02 Olin Corporation Heat dissipating interconnect tape for use in tape automated bonding
US4849857A (en) * 1987-10-05 1989-07-18 Olin Corporation Heat dissipating interconnect tape for use in tape automated bonding
US5032542A (en) * 1988-11-18 1991-07-16 Sanyo Electric Co., Ltd. Method of mass-producing integrated circuit devices using strip lead frame
JPH02306690A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Toshiba Corp 表面実装用配線基板の製造方法
DE59107919D1 (de) * 1990-07-23 1996-07-18 Siemens Nixdorf Inf Syst Filmträger zur bandautomatischen Verdrahtung
US5956237A (en) * 1993-12-24 1999-09-21 Ibiden Co., Ltd. Primary printed wiring board
US6860620B2 (en) * 2003-05-09 2005-03-01 Agilent Technologies, Inc. Light unit having light emitting diodes
US7128442B2 (en) * 2003-05-09 2006-10-31 Kian Shin Lee Illumination unit with a solid-state light generating source, a flexible substrate, and a flexible and optically transparent encapsulant

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2438205A (en) * 1945-09-15 1948-03-23 Douglas Aircraft Co Inc Measuring instrument
US2854386A (en) * 1955-02-07 1958-09-30 Aladdin Ind Inc Method of photographically printing conductive metallic patterns
US3099608A (en) * 1959-12-30 1963-07-30 Ibm Method of electroplating on a dielectric base
ES316614A1 (es) * 1964-08-24 1966-07-01 Gen Electric Un procedimiento para preparar una composicion electronicamente conductora.
DE1263126B (de) * 1966-04-01 1968-03-14 Standard Elektrik Lorenz Ag Verfahren zur Herstellung von Duennfilmschaltungen
GB1188451A (en) * 1968-01-26 1970-04-15 Ass Elect Ind Improvements relating to methods of making Connections to Small Components
US3548494A (en) * 1968-01-31 1970-12-22 Western Electric Co Method of forming plated metallic patterns on a substrate
US3668003A (en) * 1969-11-26 1972-06-06 Cirkitrite Ltd Printed circuits

Also Published As

Publication number Publication date
FR2124489B1 (de) 1975-10-24
DE2202801C3 (de) 1981-12-17
GB1373433A (en) 1974-11-13
NL7101602A (de) 1972-08-08
DE2202801A1 (de) 1972-08-17
FR2124489A1 (de) 1972-09-22
IT947242B (it) 1973-05-21
CA978662A (en) 1975-11-25
AU471692B2 (en) 1973-08-09
US3821847A (en) 1974-07-02
CH537140A (de) 1973-05-15
AU3853772A (en) 1973-08-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1185280B (de) Wicklung fuer eine elektrische Maschine mit axialem Luftspalt
DE1589480B2 (de) Leiterplatte für Halbleiteranordnungen und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2202801C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer Kontaktierungsvorrichtung für Halbleiterkörper
DE1640468A1 (de) Elektrische Verbindung an den Kreuzungspunkten von an gegenueberliegenden Seiten von Schaltkarten verlaufenden Leiterstreifen
DE102014206558A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines MID-Schaltungsträgers und MID-Schaltungsträger
DE2315710A1 (de) Verfahren zum herstellen einer halbleiteranordnung
DE1514004A1 (de) Verfahren zur Herstellung magnetischer Schichten
DE69207996T2 (de) Semi-additive elektrische Schaltungen mit erhöhten Einzelheiten unter Verwendung geformter Matrizen
DE2409312B2 (de) Halbleiteranordnung mit einer auf der Halbleiteroberfläche angeordneten Metallschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69606451T2 (de) Verbessertes biegsames Bandkabel
DE2509856B2 (de) Verfahren zum Anbringen von Anschlüssen an elektrischen Bauelementen und Bauelement mit mindestens einem gestanzten Anschluß
DE2107591A1 (de) Verfahren zur Durchkontaktierung von beidseitig mit Leiterbahnen beschichteten Folien
DE3104419C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Chipwiderständen
DE2031285C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer Anzahl plättchenförmiger elektronischer Bauelemente mit Kunststoffgehäuse
AT315947B (de) Verfahren zum Herstellen eines Systemträgers für integrierte Schaltkreise
DE3523646A1 (de) Mehrschichtige schaltungsplatine mit plattierten durchgangsbohrungen
DE2114075A1 (de) Trockenelektrolytkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2354264A1 (de) Verfahren zum herstellen von stromleitern auf einer isolierenden folie
DE10001852C2 (de) Verfahren zum Formen einer elektrischen Signalleitung zwischen zwei Elektroden, Erzeugnis mit einer derartigen Signalleitung und Verwendung des Erzeugnisses
DE2202077A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Mehrlagenleiterplatten
DE971562C (de) Verfahren zur elektrolytischen Aufrauhung von Ventilmetallfolien, insbesondere Aluminiumfolien
DE2651186A1 (de) Vorrichtung zur elektrisch leitenden verbindung zweier bauteile
DE1665248A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Traegers fuer miniaturisierte elektrische Schaltungen bzw. einer miniaturisierten elektrischen Schaltung mit einem derartigen Traeger
DE1640591A1 (de) Herstellungsverfahren fuer Leitungsmuster auf plattenfoermige oder kartenfoermige Grundlagen
DE3435335C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee