DE2153671B2 - Verfahren zur Herstellung von feinstteiliger Oxide des Siliciums - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von feinstteiliger Oxide des Siliciums

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung feinstteiliger Oxide des Siliciums durch hydrolytische Umsetzung von Siliciumtetrachlorid in einer Flamme, indem das Siliciumtetrachlorid im Gemisch mit unter Wasserbildung verbrennenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff einer aus einem von einer Ringdüse, in welche Wasserstoff zur Freihaltung des Brennermundes von Feststoffansätzen eingeleitet wird, umgebenen Brenner in einem Flammrohr abbrennenden Flamme zugeführt wird, wobei solche Mengen an Sauerstoff und brennbarem Gas eingesetzt werden, daß der Sauerstoffgehalt der Mischung zur vollständigen Verbrennung des brennbaren Gases mindestens ausreicht und daß das dabei gebildete Wasser zur Hydrolyse der flüchtigen Verbindungen mindestens ausreicht.
Nach bekannten Verfahren werden durch hydrolytische Verbrennung flüchtiger Metallhalogenid-Verbindungen feinstteilige Oxide hergestellt, indem die flüchtigen Verbindungen zusammen mit Wasserdampf bildenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff getrennt oder bereits in Mischung einem Brenner zugeführt werden. Dabei werden Luft bzw. Sauerstoff und Wasserstoff in einem solchen Mengenverhältnis vermischt, daß sowohl eine vollständige Verbrennung des Wasserstoffs als auch eine Hydrolyse der Halogenid-Verbindung gewährleistet ist Zur Herstellung besonders aktiver Produkte wird die Flammentemperatur durch Zugabe von überstöchiometrischen Luft- bzw. Sauerstoffmengen oder von Inertgasen, wie z. B. Stickstoff, gesteuert
Die nach diesen bekannten Verfahren gewonnenen Produkte fallen zusammen mit Halogenwasserstoffgas enthaltenden Abgas an, welches in einem Abscheider von den Oxidteilchen abgetrennt wird.
Bei Verwendung von Chloriden, z. B. Siliciumtetrachlorid, verläuft die Hydrolyse bzw. Pyrolyse nicht vollständig nach der folgenden Reaktionsgleichung
SiCl, + 2H2 + O2- SiO2 + 4HCl,
sondern das Brennerabgas nach dem Feststoffabscheider enthält bei Prozeßführung mit stöchiometrisch überschüssigen Sauerstoff 6Gew.-% bis 10Gew.-%
is reines Chlor, bezogen auf den ChiorwasserstoffantteiL
Das zwangsläufig als Nebenprodukt anfallende Chlor
muß durch zusätzlichen technischen Aufwand nach
Absorption des Chlorwasserstoffs aus dem Betriebsgas
entfernt werden. Dies erfolgt nach bekannten Verfah ren.
Infolge der Aufwendigkeit dieser Verfahren wurde auch schon versucht, die Bildung von Chlor während der pyrolytischen Umsetzung zu beeinflussen. So ist es aus der deutschen Patentschrift 12 10 421 bekannt, die Bildung von freiem Chlor dadurch zu vermeiden, daß die Pyrolyse nicht in Gegenwart von Sekundärluft, sondern von einem Inertgas, ζ. Β. Stickstoff, durchgeführt wird, da das Verfahren mit einer sogenannten autarken Flamme arbeitet, d. h, die Flamme bereits alle für die Reaktion notwendigen Komponenten homogen gemischt enthält Aus der deutschen Patentschrift 12 44 125 ist weiter bekannt, in Erweiterung vorgenannten Verfahrens einen Teil des Reaktionsabgases nach der Feststoff-Abscheidung abzuzweigen und statt der sogenannten Sekundärluft dosiert in einen abgeschlossenen Brennraum einzuführen.
Nach diesem bekannten Verfahren kann zwar die Bildung von freiem Chlor weitgehend verhindert werden, jedoch läßt sich die Umsetzung nur durch das Abbrennen der Flamme innerhalb einer Inertgas-Atmosphäre bzw. in einer geschlossenen Brennkammer durchführen.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung feinstteiliger Oxide des Siliciums durch hydrolytische Umsetzung von Siliciumtetrachlorid in einer Flamme, indem das Siliciumtetrachlorid im Gemisch mit unter Wasserbildung verbrennenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff einer aus einem von einer Ringdüse, in welche Wasserstoff zur Freihaltung
so des Brennermundes von Feststoffansätzen eingeleitet wird, umgebenen Brenner in einem Flammrohr abbrennenden Flamme zugeführt wird, wobei solche Mengen an Sauerstoff und brennbarem Gas eingesetzt werden, daß der Sauerstoffgehalt der Mischung zur vollständigen Verbrennung des brennbaren Gases mindestens ausreicht und daß das dabei gebildete Wasser zur Hydrolyse der flüchtigen Verbindungen mindestens ausreicht, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man die Flamme in einer Umgebung aus zusätzlichen Wasserdampf enthaltenden Gasen brennen läßt, wobei man den Wasserdampfmantel um die Flamme erzeugt, indem man Wasserstoff mit der eingesaugten sogenannten Sekundärluft umsetzt, die Öffnung des Flammrohres durch eine zusätzliche Lochblende so klein wie möglich hält und eine Einstellung wählt, bei welcher man 436 Mol/Stunde Siliciumtetrachlorid mit 25 Normkubikmeter/Stunde Wasserstoff und 60 Normkubikmeter/Stunde Luft dem
Brenner zuführt, über die Ringdüse 3,5 Normkubikmeter/Stunde Mantelwasserstoff zuführt und diesen Wasserstoff zusätzlich mit ca. 1,5 Normkubikmeter/ stunde Inertgas verdünnt, so daß in den durch das Mantelrohr gebildeten Ringraum um den Brenner s insgesamt 5 Nonnkubikmeter/Stunde Wasserdampf bildendes Gas geschickt wird, und zusätzlich 10 Normkubikmeter/Stunde Stickstoff in den Brenner einspeist
Unter Sekundärluft wird im wesentlichen selche Luft verstanden, welche an zwischen Brennermfindung und unterem Flammteil gelegenen Stellen parallel, senkrecht oder im Winkel zur Strömungsrichtung der Flamme zugesetzt wird oder infolge der Konstruktion der Umsetzungsvorrichtung von außen zuströmt is Letzterer Fall tritt dann ein, wenn eine Vorrichtung verwendet wird, bei der Brennermündung und Flammrohreintritt im Abstand stehen, die vom Brenner emittierte gasförmige Reaktionsmischung also vor Eintritt in das Flammrohr einen freien Luftraum passiert Das Einströmen der Sekundärluft in das Flammrohr kann durch den Sog der Flammgase und/oder durch Anlegen vcn Unterdruck in das Flammrohr bewirkt bzw. gefördert werden.
Nach einer Variante der erfindungsgemäßen Verfahrensführung setzt man bei Verwendung eines von der Brennermündung im Abstand stehenden offenen Flammrohres den zusätzlichen Wasserstoff innerhalb dieses Abstandes zu. Man kann aber auch den zusätzlichen Wasserstoff innerhalb des Flammrohres zusetzen. Letzteres hat sich für einen störungsfreien Betrieb als empfehlenswert erwiesen. In diesem Faii speist man zweckmäßig den zusätzlichen Wasserstoff mittels im oberen Teil des Flammrohres angeordneter Düse ein. Als Düsenanordnung kann man sowohl einen mit Düsen bzw. beliebig geformten Gasaustrittsöffnungen versehenen Ring oder einen ringförmigen Spalt verwenden.
Eine weitere Möglichkeit zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß man den zusätzlichen Wasserstoff über die zur Freihaltung des Brennermundes vorgesehene Ringdüse zusetzt
Die Menge an Sekundärluft kann durch an sich bekannte Mittel zur Beeinflussung des Durchtrittsquerschnittes von Gasströmen geregelt werden. Im vorliegenden Zusammenhang hat sich die Verwendung eines an seinem oberen Ende durch Lochblenden o.a. verengten Flammrohres als günstige Lösung erwiesen. Eine Veränderung der Flammentemperatur kann dadurch bewirkt werden, daß man in an sich bekannter so Weise zu einem Gemisch aus Siliciumtetrachlorid, unter Wasserbildung verbrennenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff ein Inertgas, vorzugsweise Stickstoff, zusetzt Die Erzeugung des die Flamme umgebenden wasserdampfhaltigen Mediums geht aus den Fig. 1—3 hervor. Diese zeigen einen Brenner 1 mit einer Ringdüse 2 im Bereich des Brennermundes für den einzuspeisenden Mantelwasserstoff zur Freihaltung des Brennermundes sowie ein gegenüber dem Brennermund im Abstand stehendes Flammrohr 3. Die F i g. 1 und 2 zeigen ferner einen Düsenring 4 aus Silber, in welchem Wasserstoff eingeleitet wird. In F i g. 1 ist zur Veranschaulichung zusätzlich die SiCU-Knallgas-Flamme 5 sowie der Wasserdampfmantel 6 gezeigt
Beispiel
Es wird durch Verbrennung des Wasserstoffs mit der eingesaugten sogenannten Sekundärluft der Wasserdampfmantel um die Flamme erzeugt, der erforderlich ist, uit; die Bildung an freiem Chlor in der Flamme zu verhindern (F i g. 3). Die öffnung des Flammrohres wird durch eine zusätzliche Lochblende so klein wie eben möglich gehalten. Hierbei wurden die folgende Einstellung gewählt: 436 Mol/h SiCU wurden mit 25 NmVh (1120 Mol/h) Wasserstoff und 60 NmVh Luft (560 Mol/h Sauerstoff) dem Brenner zugeführt Die Menge an Mantelwasserstoff beträgt 3,5 NmVh. Diese 3,5 NmVh Wasserstoff werden zusätzlich mit ca. 1,5NmVh Inertgas verdünnt, so daß in den durch das Mantelrohr gebildeten Ringraum um den Brenner (die Ringdüse 2) insgesamt 5 NmVh Gas geschickt werden. Um eine Oberfläche von 200 mVg zu erhalten, werden zusätzlich 10 NmVh (446 Mol/h) N2 in den Brenner eingespeist Es fällt auf, daß das nach dieser Verfahrensweise hergestellte Produkt eine um etwa 20% höhere Verdickungswirkung als das üblicherweise hergestellte Siliciumtetrachlorid mit einer spezifischen Oberfläche von 200 m2/g hat
Durch Zugabe von Inertgas in das Reaktionsgasgemisch anstelle des Luftüberschusses kann Siliciumdioxid mit unterschiedlicher Oberfläche hergestellt werden.
Die analytisch ermittelte Konzentration an Sauerstoff im Brennerabgas lag zwischen 5 bis 7 VoL-%. Eine eventuell überstöchiometrisch auftretende Menge an Wasserstoff im Reaktionsgemisch wird folglich noch im Flammrohr verbrannt und gelangt nicht in nachgeschaltete Vorrichtungen,
Demgegenüber ergibt sich bei der bisherigen Betriebsweise folgende Einstellung: 436 Mol/h SiCl4, 25 NrnVh (1120 Mol/h) Wasserstoff und 62 NmVh Luft (579 Mol/h Sauerstoff), um ein hochdisperses Oxid mit einer Oberfläche von ca 20OmVg zu erhalten. Als Mantelgas wird ca. 0,7 NmVh Wasserstoff hinzugegeben. Hierbei befinden sich 6 bis 10 Gew.-% Chlor im Abgas nach dem Abscheider.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Verfahren zur Herstellung feinstteiliger Oxide des Siliciums durch hydrolytische Umsetzung von Siliciumtetrachlorid in einer Flamme, indem das Siliciumtetrachlorid im Gemisch mit unter Wasserbildung verbrennenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff einer aus einem von einer Ringdüse, in welche Wasserstoff zur Freihaltung des Brennermundes von Feststorfansätzen eingeleitet wird, umgebenen Brenner in einem Flammrohr abbrennenden Flamme zugeführt wird, wobei solche Mengen an Sauerstoff und brennbarem Gas eingesetzt werden, daß der Sauerstoffgehalt der Mischung zur vollständigen Verbrennung des brennbaren Gases mindestens ausreicht und daß das dabei gebildete Wasser zur Hydrolyse der flüchtigen Verbindungen mindestem; ausreicht, dadurch gekennzeichnet, daß man die Ramme in einer Umgebung aus zusätzlichen Wasserdampf enthaltenden Gasen brennen läßt, wobei man den Wasserdampfmantel um die Flamme erzeugt, indem man Wasserstoff mit der eingesaugten sogenannten Sekundärluft umsetzt, die Öffnung des Flammrohres durch eine zusätzliche Lochblende so klein wie möglich hält und eine Einstellung wählt, bei welcher man 436 Mol/Stunde Siliciumtetrachlorid mit 25 Normkubikmeter/Stunde Wasserstoff und 60 Normkubikmeter/Stunde Luft dem Brenner zuführt, über die Ringdüse 3,5 Normkubikmeter/Stunde Mantelwasserstoff zuführt und diesen Wasserstoff zusätzlich mit ca. 1,5 Normkubikmeter/Stunde Inertgas verdünnt, so daß in den durch das Mantelrohr gebildeten Ringraum um den Brenner insgesamt 5 Normkubikmeter/Stunde Wasserdampf bildendes Gas geschickt wird, und zusätzlich 10 Normkubikmeter/Stunde Stickstoff in den Brenner einspeist
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SU1751533A SU464991A3 (ru) 1971-10-28 1972-02-25 Способ получени тонкодисперсных окислов металлов и кремни
NL7202620A NL7202620A (de) 1971-10-28 1972-02-29
NO734/72A NO136291C (no) 1971-10-28 1972-03-08 Fremgangsm}te til fremstilling av findelte oksyder av aluminium, titan, silisium eller blandinger derav
DD161553A DD98451A5 (de) 1971-10-28 1972-03-15
CH396972A CH582623A5 (de) 1971-10-28 1972-03-17
FR7212818A FR2158172B1 (de) 1971-10-28 1972-04-12
IT68644/72A IT958964B (it) 1971-10-28 1972-05-24 Procedimento per la produzione di ossidi finemente suddivisi
JP8497372A JPS5638521B2 (de) 1971-10-28 1972-08-24
SE7213728A SE386880B (sv) 1971-10-28 1972-10-24 Forfarande for framstellning av mycket finfordelade oxider av metaller och/eller kisel genom hydrolytisk omsettning av flyktiga metall och/eller kiselhalogenider
GB4956772A GB1412472A (en) 1971-10-28 1972-10-27 Process for the production of finely divided oxides
AT915972A AT326085B (de) 1971-10-28 1972-10-27 Verfahren zur herstellung feinstteiliger oxide
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Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2533925C3 (de) * 1975-07-30 1980-12-11 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von feinstteiligen Oxiden von Metallen und/oder des Siliciums
US4181532A (en) * 1975-10-22 1980-01-01 United Kingdom Atomic Energy Authority Production of colloidal dispersions
US4048290A (en) * 1976-01-28 1977-09-13 Cabot Corporation Process for the production of finely-divided metal and metalloid oxides
DE2620737C2 (de) * 1976-05-11 1982-07-29 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zum Herstellen von hochdispersem Siliciumdioxid
NL7707961A (nl) * 1977-07-18 1979-01-22 Stamicarbon Werkwijze ter bereiding van poreus, zuiver siliciumdioxyde.
NL7707960A (nl) * 1977-07-18 1979-01-22 Stamicarbon Werkwijze ter bereiding van poreus, zuiver siliciumdioxyde.
DE2849851C3 (de) * 1978-11-17 1981-11-05 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur pyrogenen Herstellung von feinstteiligem Oxid eines Metalls und/oder eines Metalloids
DE2904199A1 (de) * 1979-02-05 1980-08-07 Degussa Verfahren zur gelenkten herstellung von kieselsaeure mittels flammenhydrolyse
DE2909815C2 (de) * 1979-03-13 1984-11-22 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung von hochdispersem Siliciumdioxid
DE2923064A1 (de) * 1979-06-07 1980-12-11 Degussa Verfahren zur herstellung feinstteiliger oxide von metallen
DE2923182A1 (de) * 1979-06-08 1980-12-18 Degussa Verfahren zur pyrogenen herstellung von feinstteiligem oxid eines matalls und/oder eines metalloids
US4259311A (en) * 1979-07-24 1981-03-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Decomposition of AlCl3.6H2 O in H2 atmosphere
DE2931810A1 (de) * 1979-08-06 1981-02-19 Degussa Temperaturstabilisiertes siliciumdioxid-mischoxid, das verfahren zu seiner herstellung und verwendung
US4519999A (en) * 1980-03-31 1985-05-28 Union Carbide Corporation Waste treatment in silicon production operations
US4292290A (en) * 1980-04-16 1981-09-29 Cabot Corporation Process for the production of finely-divided metal and metalloid oxides
DE3016010C2 (de) * 1980-04-25 1985-01-10 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur pyrogenen Herstellung von Kieselsäure
DE3101720C2 (de) * 1981-01-21 1982-11-04 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Entfernung von Halogen aus den Reaktionsabgasen bei der pyrogenen Herstellung von Siliciumdioxid
DE3203743A1 (de) * 1982-02-04 1983-08-04 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Verfahren zur aufbereitung von bei der siliciumherstellung anfallenden abgasen
DE3223454A1 (de) * 1982-06-23 1983-12-29 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur herstellung von pyrogenerzeugter kieselsaeure mit verstaerkter verdickungswirkung
IT1161200B (it) * 1983-02-25 1987-03-18 Montedison Spa Processo e apparecchio per la preparazione di particelle di ossidi metallici monodisperse, sferiche, non aggregate e di dimensione inferiore al micron
CH658237A5 (en) * 1983-08-25 1986-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd Pyrogenic process and device for manufacturing highly conducting tin oxide powder
US4555389A (en) * 1984-04-27 1985-11-26 Toyo Sanso Co., Ltd. Method of and apparatus for burning exhaust gases containing gaseous silane
US4801437A (en) * 1985-12-04 1989-01-31 Japan Oxygen Co., Ltd. Process for treating combustible exhaust gases containing silane and the like
CA1327342C (en) * 1987-11-30 1994-03-01 James Kelly Kindig Process for beneficiating particulate solids
US5123836A (en) * 1988-07-29 1992-06-23 Chiyoda Corporation Method for the combustion treatment of toxic gas-containing waste gas
DE69120090T2 (de) * 1990-11-13 1996-12-05 Cabot Corp Verfahren zur reduzierung freier halogene in abgasen
US5217703A (en) * 1991-08-28 1993-06-08 United Technologies Corporation Method of manufacture of iron oxide particles
DE4228711A1 (de) * 1992-08-28 1994-03-03 Degussa Silicium-Aluminium-Mischoxid
US5340560A (en) * 1993-04-30 1994-08-23 General Electric Company Method for making fumed silica having a reduced aggregate size and product
DE4322804A1 (de) * 1993-07-08 1995-01-12 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochdisperser Kieselsäure und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US6193795B1 (en) 1993-08-02 2001-02-27 Degussa Corporation Low structure pyrogenic hydrophilic and hydrophobic metallic oxides, production and use
AU2364195A (en) * 1994-05-03 1995-11-29 Ulrich Research & Consulting, Inc. Method of producing fumed silica
US5698177A (en) * 1994-08-31 1997-12-16 University Of Cincinnati Process for producing ceramic powders, especially titanium dioxide useful as a photocatalyst
DE4445205A1 (de) * 1994-12-17 1996-06-20 Degussa Zirkondioxidpulver, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung
US6524548B1 (en) 1994-12-17 2003-02-25 Degussa Ag Zirconium dioxide powder, method of its production and use
JP3409294B2 (ja) * 1996-01-25 2003-05-26 株式会社豊田中央研究所 酸化物粉末の製造方法
DE19650500A1 (de) * 1996-12-05 1998-06-10 Degussa Dotierte, pyrogen hergestellte Oxide
DE19756840A1 (de) * 1997-01-23 1998-07-30 Degussa Pyrogene Oxide und Verfahren zu ihrer Herstellung
US20090075083A1 (en) * 1997-07-21 2009-03-19 Nanogram Corporation Nanoparticle production and corresponding structures
US7384680B2 (en) * 1997-07-21 2008-06-10 Nanogram Corporation Nanoparticle-based power coatings and corresponding structures
US6726990B1 (en) 1998-05-27 2004-04-27 Nanogram Corporation Silicon oxide particles
US6290735B1 (en) 1997-10-31 2001-09-18 Nanogram Corporation Abrasive particles for surface polishing
US6387531B1 (en) 1998-07-27 2002-05-14 Nanogram Corporation Metal (silicon) oxide/carbon composite particles
US20090255189A1 (en) * 1998-08-19 2009-10-15 Nanogram Corporation Aluminum oxide particles
US6106798A (en) * 1997-07-21 2000-08-22 Nanogram Corporation Vanadium oxide nanoparticles
US6099798A (en) * 1997-10-31 2000-08-08 Nanogram Corp. Ultraviolet light block and photocatalytic materials
US20060147369A1 (en) * 1997-07-21 2006-07-06 Neophotonics Corporation Nanoparticle production and corresponding structures
US5938979A (en) * 1997-10-31 1999-08-17 Nanogram Corporation Electromagnetic shielding
JP3750728B2 (ja) * 2000-12-05 2006-03-01 信越化学工業株式会社 微細シリカの製造方法
JP4154563B2 (ja) * 2001-07-23 2008-09-24 信越化学工業株式会社 シリカ含有複合酸化物球状微粒子及びその製造方法
DE10258858A1 (de) * 2002-12-17 2004-08-05 Degussa Ag Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid
WO2007127232A2 (en) * 2006-04-28 2007-11-08 Cabot Corporation Process for the production of fumed silica
WO2008085806A1 (en) 2007-01-03 2008-07-17 Nanogram Corporation Nanoparticle inks based on silicon/germanium, doped particles, printing and processes for semiconductor applications
CN104507868B (zh) * 2012-08-01 2018-02-09 俄铝工程技术中心有限责任公司 生产氧化铝的方法
CN103626191B (zh) * 2013-12-20 2015-09-16 贵州天合国润高新材料科技有限公司 纳米级二氧化硅的制备方法
CN106241821B (zh) * 2016-07-21 2018-07-03 宜昌南玻硅材料有限公司 一种纳米级气相法白炭黑原料的混合装置及方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE900339C (de) * 1951-07-05 1953-12-21 Degussa Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von kolloidaler Kieselsaeure in Aerogelform
DE974974C (de) * 1953-07-19 1961-06-22 Degussa Verfahren zur Herstellung von feinverteilten Oxyden
AT195893B (de) * 1953-12-15 1958-02-25 Degussa Verfahren zur Herstellung von Mischoxyden
US2990249A (en) * 1958-10-09 1961-06-27 Degussa Process of preparing finely divided oxides by hydrolysis
US3573945A (en) * 1965-07-06 1971-04-06 Ppg Industries Inc Process for improving pigmentary metal oxides
US3468689A (en) * 1965-08-09 1969-09-23 Ppg Industries Inc Process for preparing improved titanium dioxide

Also Published As

Publication number Publication date
DD98451A5 (de) 1973-06-20
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CH582623A5 (de) 1976-12-15
NL7202620A (de) 1973-05-02
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DE2153671C3 (de) 1982-06-09

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