DE19915740A1 - Flüssigkristallanzeigevorrichtung - Google Patents

Abstract

Ein Flüssigkristalldisplay verfügt in einem Abschnitt mit Ausnahme eines Anzeigemusters auf einem transparenten Substrat 12 über eine Lichtabschirmungsschicht 21, wobei das Material für die Lichtabschirmungsschicht über elektrische Isolationseigenschaften von nicht unter 10·12· OMEGA/Quadrat hinsichtlich des Isolationswiderstands sowie eine optische Dichte (OD-Wert) nicht unter 2,0 pro Filmdicke von 1 mum verfügt.

Description

GEBIET DER ERFINDUNG

Die Erfindung betrifft ein Flüssigkristalldisplay. Insbeson­ dere betrifft sie ein transmissives Flüssigkristalldisplay, das an seiner Rückseite mit einer Hintergrundbeleuchtung versehen sind.

ERÖRTERUNG DES HINTERGRUNDS

Bei einem transmissiven Flüssigkristalldisplay, das an sei­ ner Rückseite mit einer Hintergrundbeleuchtung versehen ist, ist im Inneren einer Flüssigkristallzelle eine Lichtabschir­ mungsschicht vorhanden, um die Erkennbarkeit zu verbessern. Fig. 2 ist eine schematische Schnittansicht eines typischen herkömmlichen Bauteils.

Gemäß Fig. 2 beinhaltet ein Flüssigkristalldisplay 10 ein Paar transparenter Substrate 11, 12 aus Glas oder derglei­ chen, wobei auf dem transparenten Substrat 11 ein Anschluss­ abschnitt 11a ausgebildet ist. Auf den transparenten Sub­ straten 11, 12 sind transparente Elektroden 111, 121 aus ITO (Indiumzinnoxid) mit jeweils einem vorbestimmten Anzeigemus­ ter ausgebildet, obwohl die Figur hierzu keine Einzelheiten zeigt. Auf dem transparenten Substrat 11 ist an einer Posi­ tion, die nicht dem dem Anzeigemuster entsprechenden Ab­ schnitt entspricht, eine Lichtabschirmungsschicht 112 vor­ handen. Im Anschlussabschnitt 11a sind eine erste herausfüh­ rende Elektrodengruppe 131, die unmittelbar von der transpa­ renten Elektrode 111 des transparenten Substrats 11 heraus­ geführt ist, und eine zweite herausführende Elektrodengruppe 132, die mit der transparenten Elektrode 121 des anderen transparenten Substrats 12 verbunden ist, ausgebildet.

Die transparenten Substrate 11, 12 sind durch Einfügen eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements 14 aus Epoxidharz oder dergleichen so miteinander verbunden, dass die transpa­ renten Elektroden 111, 121 einander zugewandt sind. In den so erzeugten Zellenzwischenraum ist ein Flüssigkristall 15 abgedichtet eingebracht. Das Abdichtelement 14 beinhaltet ein Übertragungsmaterial, z. B. leitende Kugeln, und die transparente Elektrode 121 am anderen transparenten Substrat 12 ist mittels dieses Übertragungsmaterials elektrisch mit der zweiten herausführenden Elektrodengruppe 132 am An­ schlussabschnitt 11a verbunden.

An den Außenseiten der transparenten Substrate 11, 12 sind Polarisatoren 161, 162 angeordnet. Bei diesem Flüssigkris­ talldisplay 10 ist das transparente Substrat 11 mit der Lichtabschirmungsschicht 112 als Rückseite bestimmt, und an der Rückseite dieses transparenten Substrats 11 ist eine Hintergrundbeleuchtung 17 vorhanden. Demgemäß bildet das transparente Substrat 12 die Oberseite.

Beim Herstellen der oben genannten Lichtabschirmungsschicht wird bei herkömmlichen Displays hauptsächlich ein Druckver­ fahren verwendet. Um jedoch ausreichende Abschirmungseigen­ schaften von zwei oder mehr hinsichtlich der optischen Dich­ te (Wert OD) durch das Druckverfahren zu erhalten, erreicht die Filmdicke der Lichtabschirmungsschicht 3-4 µm. Demge­ mäß besteht der Nachteil, dass die Ebenheit der Oberseite schlecht war und aufgrund der Genauigkeit beim Drucken keine Feinbearbeitung ausgeführt werden konnte. Demgemäß war es beim Versuch, den Zellenzwischenraum klein auszubilden, nur möglich, die Abmessungen des Zwischenraums wegen der Be­ schränkungen der Filmdicke beim Drucken auf höchstens unge­ fähr 6 µm zu verringern. Ferner trat selbst in diesem Fall häufig zwischen den einander gegenüberstehenden transparen­ ten Substraten wegen der Ungleichmäßigkeit des Zwischenraums aufgrund von in der Lichtabschirmungsschicht ausgebildeten Vorsprüngen ein Kurzschluss auf, wodurch Probleme schlechter Ausbeute oder schlechter Qualität der Produkte bestanden.

Ferner existieren als Verfahren zum Erzielen eines Teilfarb­ displays unter Verwendung einer Zelle, die an ihrer Rücksei­ te mit einer Lichtabschirmungsschicht versehen ist, ein Ver­ fahren zum Ausführen eines Farbdruckvorgangs im Außenteil der Zelle durch Siebdrucken, ein Verfahren zum teilweisen Einfärben durch Anordnen eines Farbfilters in einem Außen­ teil der Zelle sowie ein Verfahren zum Aufdrucken einer Farbschicht auf eine Innenfläche der Zelle durch Siebdruck oder Offsetdruck. Jedoch bestanden die folgenden Probleme.

Beim Verfahren zum Aufdrucken oder Anbringen eines Farbfil­ ters an einer Außenseite einer Zelle ist es unmöglich, eine Farbverschiebung durch Parallaxe zu vermeiden, und das Auf­ tragen verschiedener Farben mit feinem Muster ist schwierig, wodurch es nur möglich war, ein grobes Muster mit einem Li­ nienintervall von ungefähr 1 mm oder mehr herzustellen. Fer­ ner sollte beim Verfahren des Anbringens eines Farbfilters in einer Zelle durch Drucken der Druckvorgang auf dem ITO, also der transparenten Elektrode, ausgeführt werden, und demgemäß wurde eine Spannung über das Farbfilter an die Flüssigkristallschicht angelegt, was die Schwellenwerteigen­ schaften beeinträchtigte. Ferner existierte ein Verfahren zum Ändern der anzuzeigenden Farben durch Ausbilden von Ab­ schnitten mit verschiedenen Farben in einem Farbpolarisator. Jedoch war dieses Verfahren zur Verwendung zu teuer.

Außerdem ist eine Technik zum Herstellen eines Farbfilters unter Verwendung eines schwarzen Resists und eines farbigen Resists wohlbekannt, die für Vollpunktanzeige bei großen Displays unter Verwendung des STN(superverdrillt-nematisch)-Ef­ fekts, TFTs (Dünnschichttransistoren) oder dergleichen praktisch ausgeübt wurde.

Die für das Farbfilter für TFTs verwendete Lichtabschir­ mungsschicht benötigt keine Eigenschaften elektrischer Iso­ lierung, und es ist eher bevorzugt, dass sie ein bestimmtes Ausmaß an Leitungseigenschaften aufweist. Dies, da dann, wenn auf dem Farbfilter ein ITO-Film hergestellt wird, die Leiteigenschaften der Lichtabschirmungsschicht eine Kompen­ sation für den ITO-Film mit unzureichenden Leiteigenschaften bilden, und es zeigen sich hervorragende Betriebseigenschaf­ ten, obwohl der ITO-Film einen relativ hohen Widerstand auf­ weist.

Andererseits ist es im Fall der Verwendung eines Farbfilters für STN, wobei ein ITO-Film mit streifenförmiger Strukturie­ rung auf dem Farbfilter vorliegt, nicht bevorzugt, dass Leiteigenschaften vorliegen, und zwar aus den Gesichtspunk­ ten des Sicherstellens elektrischer Isolierung zwischen Lei­ tungen und einer Verringerung der elektrostatischen Kapazi­ tät. Jedoch ist die Ebenheit der Oberfläche ein wichtiger Faktor für ein bei STN verwendetes Farbfilter, und daher ist es erforderlich, auf den Farbfilter eine isolierende Glät­ tungsschicht aus Harz auszubilden.

Da das Harz einer isolierenden Glättungsschicht elektrische Isoliereigenschaften aufweist, stellt die Verwendung einer Lichtabschirmungsschicht mit niedrigen elektrischen Isolier­ eigenschaften auf dem Farbfilter kein großes Problem dar. D. h., dass zwar ein bestimmtes Material mit hohen Isolier­ eigenschaften und hoher Lichtabsorption bekannt war, jedoch niemand eine Verwendung eines Materials mit derartigen her­ vorragenden Eigenschaften fand.

Ferner war die Verbindungsfestigkeit zwischen dem transpa­ renten Substrat und der durch Drucken hergestellten Lichtab­ schirmungsschicht unzureichend, und es war unmöglich, das am Umfang verlaufende Abdichtelement auf die Lichtabschirmungs­ schicht zu drucken. Demgemäß kann, wenn ein Displayabschnitt einer an einem Kraftfahrzeug angebrachten Flüssigkristallta­ fel aus einer schrägen Richtung betrachtet wird, und der Blickwinkel zu tief ist, als dass er außerhalb der Lichtab­ schirmungsschicht läge, das Licht der Hintergrundbeleuchtung durchlecken.

Um diesen Nachteil zu verhindern, wurde auf einen Bereich der Oberseite der Zelle, einschließlich des Teils, der dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement entspricht, schwarze Farbe mit flammenähnlicher Form aufgedruckt, um Auslecken von Licht zu verhindern. Jedoch erhöhte diese Technik in unvermeidlicher Weise die Anzahl von Prozessschritten. Au­ ßerdem wurde hinsichtlich des oben genannten Problems ein Farbdisplaysystem zum Anzeigen verschiedener Farben durch Ansteuern der Zelle mit niedrigem Tastverhältnis vorgeschla­ gen. Jedoch bestehen bei dieser Technik die folgenden Prob­ leme. Wenn das Verfahren des Aufdruckens des Farbfilters oder des Verbindens des Farbfilters mit einem äußeren Teil der Zelle verwendet wird, ist es erforderlich, den Abstand zwischen den strukturierten Abschnitten zu vergrößern, um zu verhindern, dass sich Farben durch Parallaxe vermischen, und demgemäß ist es unmöglich, für genau abgeteilte Farben zu sorgen.

Andererseits war beim Verfahren des Aufdruckens eines Farb­ filters auf eine Innenseite der Zelle die Farbreinheit schlecht, obwohl kein Präzisionsproblem bestand, und die Zuverlässigkeit war niedrig. Selbst beim Verfahren des Auf­ druckens eines Farbfilters auf eine Innenseite einer Zelle ist es erforderlich, dass die durch Drucken hergestellte Lichtabschirmungsschicht eine Filmdicke von 2-4 µm auf­ weist, um ausreichende Absorption zu erzielen, und daher war die Entstehung einer ungleichmäßigen Filmdicke unvermeid­ lich. Demgemäß ergab sich eine Ungleichmäßigkeit des Zellen­ zwischenraums, wodurch sich eine Streuung der Eigenschaften der Enderzeugnisse ergab. Ferner existiert eine Grenze hin­ sichtlich der Genauigkeit beim Verwenden eines Druckverfah­ rens; es ist schwierig, ein Muster mit einer Feinheit von 200 µm oder weniger zu konzipieren, wenn auf jeder Seite eine andere Farbe vorhanden sein soll, und es besteht auch eine Designbeschränkung. Ferner entsteht, wenn der Vorkipp­ winkel bei einem verdrillt-nematischen Flüssigkristall 2° oder weniger beträgt, durch die Unebenheit der Innenfläche der Zelle eine Domäne. Demgemäß konnte keine Verringerung des Vorkippwinkels zum Verbessern der Eigenschaften reali­ siert werden. Ferner konnte, da die Ebenheit der Oberseite der herkömmlichen Zelle schlecht war, das STN-System oder ein System mit ferroelektrischem oder antiferroelektrischem Flüssigkristall nicht verwendet werden, obwohl tatsächlich ein Ansteuern mit einem Tastverhältnis von ungefähr 1/30 erwünscht war.

Ferner bestand die Tendenz, wenn für das am Umfang verlau­ fende Abdichtelement ein wärmehärtendes Harz verwendet wur­ de, dass der zentrale Teil der Zelle nach dem Aushärten des Abdichtelements aufgrund einer Differenz der Wärmeexpan­ sionskoeffizienten des Abdichtelements und des Glassubstrats in gequollenem Zustand vorlag. Selbst wenn ein Flüssigkris­ tall abgedichtet in die Zelle eingespritzt wird, verbleibt der Quellungszustand im zentralen Teil auf unveränderte Wei­ se, wodurch Unterschiede der Eigenschaften und der Hinter­ grundfarbe zwischen dem zentralen und dem Umfangsteil vor­ liegen können.

Um einen derartigen Nachteil insbesondere in Zusammenhang mit einer großen Tafel oder beim STN-System zu vermeiden, wo eine Ungleichmäßigkeit des Zellenzwischenraums die optischen Eigenschaften nachteilig beeinflusst, war es erforderlich, einen Abdichtvorgang unter Druck auszuführen. D. h., dass der Flüssigkristall in die Zelle eingespritzt wurde. Die Flüssigkristallschicht befand sich in einem Unterdruckzu­ stand, und sie wurde im Zustand abgedichtet, in dem der Zwi­ schenraum im zentralen Teil und im Umfangsteil der Zelle gleich waren.

Ferner kann bei einem Flüssigkristalldisplay unter Verwen­ dung eines smektischen Flüssigkristalls wie eines ferroelek­ trischen oder antiferroelektrischen Flüssigkristalls der Flüssigkristall aufgrund von Belastungen nach dem Abdichten, Stößen oder Schwingungen nicht mehr verwendet werden, da der Flüssigkristall keine Selbstausrichtungseigenschaften auf­ weist. Demgemäß war es erforderlich, wenn die Ausrichtung einmal gestört war, abhängig vom Ausmaß der Störung eine Erwärmungsbehandlung auszuführen, um dadurch eine gewünschte Ausrichtung zu erzielen.

Um die oben genannten Probleme zu überwinden, existiert ein Verfahren des Bereitstellens einer Harzschicht, die bei Wär­ me erweicht, um Abstandshalter herum, und des Verbindens des oberen und unteren Substrats zum Zeitpunkt des Aushärtens des am Umfang verlaufenden Abdichtelements durch Aufschmel­ zen. Bei diesem Verfahren besteht jedoch das Problem, dass es erforderlich ist, die Menge an Abstandshaltern und die Menge an in der Wärme erweichendem Harz zu erhöhen, um eine ausreichende Fixierwirkung zu erzielen, was durch selbstän­ diges Verstreuen und Zusammengehen der Abstandshalter zu einem Auslecken von Licht und einer Beeinträchtigung des Aussehens führen kann. Ferner können sich Komponenten des in der Wärme erweichenden Harzes im Flüssigkristall lösen, was die Zuverlässigkeit verringert.

Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine Flüssigkristall-An­ zeigevorrichtung mit einer Lichtabschirmungsschicht zu schaffen, die für hervorragende Anzeigequalität und hervor­ ragendes Aussehen des Erzeugnisses sorgt.

Gemäß der vorliegenden Erfindung ist ein transmissives Flüs­ sigkristalldisplay mit Folgendem geschaffen: einer Flüssig­ kristallschicht, einem Paar transparenter Substrate, die einander gegenüberstehend angeordnet sind und mit einem am Umfang verlaufenden Abdichtelement verbunden sind, um die Flüssigkristallschicht einzubetten, einem Polarisator, der an der Außenseite jedes der transparenten Substrate ange­ bracht ist, einer Beleuchtungseinrichtung, die an der Rück­ seite eines Polarisators an der Rückseite in Bezug auf eine Anzeigeseite vorhanden ist, einer Lichtabschirmungsschicht, die an der Innenseite eines der transparenten Substrate an Positionen vorhanden ist, die einem Nichtanzeigebereich und einem Nichtanzeigeabschnitt ausschließlich eines Abschnitts, der einem Anzeigemuster in einem Anzeigebereich entspricht, entsprechen, und einer im Anzeigebereich ausgebildeten transparenten Elektrode, wobei an einen gewünschten Ab­ schnitt der transparenten Elektrode im Anzeigemuster eine ausreichende Spannung zum Aktivieren der Flüssigkristall­ schicht angelegt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Nichtanzeigeabschnitt im Anzeigebereich mehrere Teilab­ schnitte von nicht weniger als 1 mm × 1 mm aufweist; die Lichtabschirmungsschicht aus einem photoempfindlichen Licht­ abschirmungsharz besteht, in dem eine Strukturierung ausge­ führt wurde und das elektrische Isolationseigenschaften nicht unter 10¹² Ω/ hinsichtlich des Isolationswiderstands und-eine optische Dichte (OD-Wert) nicht unter 2,0 pro Film­ dicke von 1 µm aufweist.

Gemäß der Erfindung kann die transparente Elektrode ohne Einfügen einer isolierenden Glättungsschicht unmittelbar auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt sein.

Als charakteristisches Merkmal gemäß der Erfindung verfügt die Lichtabschirmungsschicht im Anzeigebereich über mehrere Teilabschnitte nicht unter 1 mm × 1 mm, und in mindestens einem Teil der Lichtabschirmungsschicht ist eine Stützsäule aus demselben Material wie dem des am Umfang verlaufenden Abdichtelements vorhanden.

Als typisches Beispiel eines Anzeigemusters, bei dem ein Nichtanzeigeabschnitt im Anzeigebereich eine Anzahl von Teilabschnitten nicht unter 1 mm × 1 mm aufweist, ist ein segmentiertes Muster wie z. B. ein Muster einer numerischen 7-Segment-Anzeige. Jedoch existiert ein anderes Musterbei­ spiel, bei dem ein Punktmuster damit gemischt ist, wobei z. B. ein Teilabschnitt von 5 × 7 Punkten wiederholt mit bestimmten Zwischenräumen vorhanden ist.

Als charakteristisches Merkmal der Erfindung besteht ein lichtdurchlässiger Film aus einem photoempfindlichen Harz, in dem Strukturierung ausgeführt wurde, wobei der licht­ durchlässige Film, der das Hindurchlaufen von Licht einer bestimmten Farbe zulässt, so hergestellt ist, dass er einen dem Anzeigemuster entsprechenden Abschnitt bedeckt, und wo­ bei der lichtdurchlässige Film aus einem Harzmaterial mit einem Isolationswiderstand nicht unter 10¹² Ω/ besteht. Gemäß der Erfindung kann die transparente Elektrode unmit­ telbar auf der Lichtabschirmungsschicht und der lichtdurch­ lässigen Schicht, ohne Einfügung einer isolierenden Glät­ tungsschicht, hergestellt sein.

Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist die Flüssig­ kristallschicht eine nematische Flüssigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von ungefähr 90° zwischen den transparenten Substraten; das Paar Polarisatoren ist so an­ geordnet, dass ihre Polarisationsachsen parallel verlaufen; und der zwischen der Flüssigkristallschicht und den transpa­ renten Substraten erzeugte Vorkippwinkel beträgt 1,5° oder weniger.

Bei den oben genannten Erscheinungsformen der Erfindung ist die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüssigkristall­ schicht und das Tastverhältnis zum Ansteuern der nematischen Flüssigkristallschicht beträgt 1/1-1/33.

Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist die Flüssig­ kristallschicht eine nematische Flüssigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von ungefähr 90° zwischen den transparenten Substraten; das Paar Polarisatoren ist so an­ geordnet, dass ihre Polarisationsachsen einander rechtwink­ lig schneiden; und das Produkt und aus der Brechungsindexan­ isotropie Δn des nematischen Flüssigkristalls und dem Ab­ stand d zwischen den transparenten, leitfähigen Filmen, die das Anzeigemuster bilden, liegt im Bereich von 4-6 µm.

Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist die Flüssig­ kristallschicht eine nematische Flüssigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von 70-80° zwischen den transpa­ renten Substraten; das Paar Polarisatoren ist so angeordnet, dass der durch ihre Polarisationsachsen gebildete Schnitt­ winkel 70-80° beträgt; Δnd das Produkt und aus der Bre­ chungsindexanisotropie Δn des nematischen Flüssigkristalls und dem Abstand zwischen den transparenten leitenden Filmen, die das Anzeigemuster bilden, liegt im Bereich von 4-6 µm.

Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist die Flüssig­ kristallschicht eine nematische Flüssigkristallschicht, bei der der Verdrillungswinkel zwischen den transparenten Sub­ straten ungefähr 90° oder 70-80° beträgt, und das Tastver­ hältnis zum Ansteuern der nematischen Flüssigkristallschicht 1/1-1/4 beträgt.

Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist die Flüssig­ kristallschicht eine nematische Flüssigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von 180-270° zwischen den trans­ parenten Substraten; zwischen-mindestens einem der Polarisa­ toren und dem im gegenüberstehenden transparenten Substrat ist ein Nacheilungsfilm angeordnet; und das Paar Polarisato­ ren ist so angeordnet, dass Lichtabschirmung und Lichttrans­ mission durch Anlegen einer Spannung geschaltet werden.

Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist die Flüssig­ kristallschicht ein ferroelektrischer Flüssigkristall oder ein antiferroelektrischer Flüssigkristall; das Paar Polari­ satoren ist so angeordnet, dass ihre Polarisationsachsen einander im Wesentlichen rechtwinklig schneiden; und Licht­ abschirmung und Lichttransmission werden durch Anlegen einer Spannung geschaltet.

Da die Hafteigenschaften der Lichtabschirmungsschicht am transparenten Substrat hervorragend sind, kann sie zwischen dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement und dem transpa­ renten Substrat vorhanden sein, und es liegt auch der Außen­ rand der Abschirmungsschicht innerhalb des Abdichtelements.

Als charakteristisches Merkmal der Erfindung wird, wenn zum Anzeigen einer Negativanzeige ein TN (verdrillt-nematisches) System verwendet wird, ein nematischer Flüssigkristall, zu dem ein dichroitischer Farbstoff zugesetzt ist, zum Verbes­ sern des Kontrastverhältnisses verwendet.

Es ist bevorzugt, als Beleuchtungseinrichtung eine Weiß­ lichtquelle wie eine weiße LED (Lichtemissionsdiode) mit Spektren der drei Farben R, G und B oder eine weiße CCT zu verwenden, obwohl eine Wolframlampe, eine Xenonlampe, ein EL oder dergleichen, wie sie herkömmlicherweise verwendet wur­ den, verwendbar sind.

Ferner kann das Harzmaterial mit schwarzem Pigment ein Harz­ material sein, das dadurch erhalten wurde, dass eine Harzzu­ sammensetzung polymerisiert wurde, die ein Säureaddukt eines alkalisch löslichen Epoxidacrylats, einschließlich isolie­ rendem Kohlenstoff, enthält. Ferner kann das Harzmaterial für die lichtdurchlässige Schicht ein Harzmaterial sein, das durch Polymerisieren einer Harzzusammensetzung erhalten wur­ de, die ein Säureaddukt eines alkalisch löslichen Epoxid­ acrylats enthält. Ferner ist die Lichtabschirmungsschicht unter einem unteren Abschnitt des am Umfang verlaufenden Abdichtelements vorhanden, und der Randabschnitt der Licht­ abschirmungsschicht liegt über dem gesamten Umfang innerhalb der Breite des am Umfang verlaufenden Abdichtelements.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Eine vollständigere Würdigung der Erfindung und vieler der zugehörigen Vorteile derselben werden leicht gewonnen, wenn dieselbe unter Bezugnahme auf die folgende detaillierte Be­ schreibung besser verständlich wird, wenn diese in Zusammen­ hang mit den beigefügten Zeichnungen herangezogen wird.

Fig. 1 ist eine schematische Schnittansicht, die ein Aus­ führungsbeispiel eines Flüssigkristalldisplays gemäß der Erfindung zeigt; und

Fig. 2 ist eine schematische Schnittansicht eines herkömm­ lichen Flüssigkristalldisplays, in dem eine durch ein Druck­ verfahren hergestellte Lichtabschirmungsschicht verwendet ist.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGS- BEISPIELE

Nun werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.

Fig. 1 zeigt ein Flüssigkristalldisplay 10A als ein Ausfüh­ rungsbeispiel der Erfindung, bei dem dieselben Bezugszahlen dieselben oder entsprechende Teile kennzeichnen.

Bei diesem Ausführungsbeispiel sind transparente Substrate 11, 12 verwendet, die dadurch hergestellt wurden, dass eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid auf je­ weils einem Glassubstrat angebracht wurde. Als Erstes wurde auf das als Oberseite verwendete transparente Substrat 12 ein photoempfindliches Harzmaterial mit schwarzem Pigment (V-259BKIS-H (Handelsname) von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), d. h. eine Harzzusammensetzung, die ein Säureaddukt eines alkalisch löslichen Epoxidacrylats als Harzkomponente und isolierenden Kohlenstoff enthielt, durch ein Schleuder­ beschichtungsverfahren mit einer Dicke von ungefähr 1 µm aufgebracht.

Dann wurde unter Verwendung einer Photomaske, die einen An­ zeigeabschnitt vom Segmentanzeigetyp und einen Abschnitt außerhalb des am Umfang verlaufenden Abdichtelements 14, das am Umfang der transparenten Substrate 11, 12 positioniert war, bedeckte, eine Belichtung mit Licht von 300 mJ ausge­ führt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvor­ gänge ausgeführt, wodurch auf dem transparenten Substrat 12 eine Lichtabschirmungsschicht 21 hergestellt wurde. Das Lichtabschirmungsharzmaterial von Nippon Steel Chemical Co., Ltd. zeigte einen Wert OD von ungefähr 3,0 pro einer Dicke von 1 µm, und es hatte ausreichendes Absorptionsvermögen. Für den Beschichtungsvorgang kann eine Walzen-, eine Stab-, eine Schlitz-Beschichtungseinrichtung oder dergleichen ver­ wendet werden. Jedoch bewirkt eine ungleichmäßige Filmdicke einen ungleichmäßigen Zellenzwischenraum. Ferner verursacht ungleichmäßige Filmdicke, wenn der lichtdurchlässige Film hergestellt wird, leicht eine Entfärbung. Demgemäß ist Schleuderbeschichten wünschenswert. Jedoch können eine Stab- oder eine Schlitzbeschichtungseinrichtung gemeinsam verwen­ det werden, um die Menge verwendeter Flüssigkeit zu verrin­ gern. Jedes Beschichtungsverfahren ist verwendbar, solange es für gleichmäßige Filmdicke sorgen kann. Die Lichtabschir­ mungsschicht besteht aus aufgetragenem Ruß, einer Harzkompo­ nente wie einem Polymermonomer, -oligomer oder dergleichen, einem Photopolymerisationsstarter, einem Lösungsmittel usw. Die Hauptkomponente kann eine übliche photoempfindliche Harzkomponente sein, insbesondere eine photopolymerisierbare Verbindung mit einer ethylenmäßig ungesättigten Gruppe, oder einer als alkalisch entwickelbaren ungesättigten α-, β-Carb­ oxylgruppe und/oder dem zugehörigen Ester oder einem Copoly­ mer, das unter Verwendung einer solchen Säure und eines Esters, vorzugsweise eines Säureaddukts von Epoxidacrylat eines Bisphenols, wie Bisphenolfluoren, wie in JP-A-8-278629 offenbart, hergestellt wurde.

Es ist möglich, dass nur die Lichtabschirmungsschicht 21 hergestellt wird und dass Einfärben durch Aufdrucken oder Anbringen eines Farbfilters in einem Außenteil der Zelle erfolgt. Bei diesem Ausführungsbeispiel wurde jedoch, um an einer Innenfläche der Zelle gewünschte Farben anzubringen, eine Photomaske so hergestellt, dass ein Farbfilter als lichtdurchlässige Schicht in einem Anzeigeabschnitt vom Seg­ menttyp ausgebildet wurde, wobei anschließend ein farbiges Harz für R, G und Y (V-259R-H, V-259G-H und V-259Y-H von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) aufeinanderfolgend durch Schleuderbeschichten aufgetragen wurden, gefolgt von einer Belichtung mit Licht, einem Entwickeln, einem Trocknen und einem Brennen, um dadurch lichtdurchlässige Schichten 22 auszubilden. Unter Verwendung derartiger Materialien ist es möglich, eine Zelle zu schaffen, bei der im Temperaturbe­ reich bis ungefähr 250°C selbst nach dem Ausführen eines Filmbildungsschritts für den durchsichtigen, leitenden Film und einem Zellenherstellschritt keine Farbänderung besteht. Demgemäß können lichtdurchlässige Schichten mit hoher Farb­ echtheit, die hervorragende Farben in Kombination mit einer Hintergrundbeleuchtung als Weißlichtquelle zeigen, herge­ stellt werden.

Ferner kann zum Wiedergeben gewünschter Farben einschließ­ lich farblos (weiß) eine Farbanordnung dadurch erfolgen, dass, nach Bedarf, eine Auswahl aus mehreren Arten vorab hergestellter ursprünglicher Farben erfolgt. Es ist wün­ schenswert, als Grundfarben mindestens sechs Farbarten be­ reitzustellen, wie Rot, Blau, Grün, Gelb, Purpur und Klar. Aus dem Gesichtspunkt einer Glättung der Innenfläche der Zelle ist es bevorzugt, ein klares-Harz zu verwenden, obwohl ein Abschnitt existiert, in dem ein Färbung überflüssig ist. In diesem Fall sollte, um die Differenz im Lichttransmissi­ onsvermögen zwischen dem klaren Harz und einem gefärbten Abschnitt zu verringern, zum klaren Harz eine kleine Menge an Pigment hinzugefügt werden, um dadurch das Lichttransmis­ sionsvermögen des klaren Harzes auf ungefähr 70% zu verrin­ gern. Für das Pigment besteht keine spezielle Beschränkung insowie es leicht verfügbar ist und hohe Farbechtheit ohne Streueigenschaften aufweist.

Die Lichtabschirmungsschicht 21 kann so positioniert werden, dass sie sich unter dem am Umfang erstreckenden Abdichtele­ ment 14 oder sich nicht über einen Außenrand (Seite der Flüssigkristallschicht) des am Umfang verlaufenden Abdichte­ lements 14 innerhalb der Flüssigkristallzelle erstreckt. Bei der Struktur, bei der sich die Lichtabschirmungsschicht 21 unterhalb des am Umfang verlaufenden Abdichtelements er­ streckt, ist dieses blickmäßig mittels der Lichtabschir­ mungsschicht von der Seite des transparenten Substrats 12 durch die Lichtabschirmungsschicht hindurch verdeckt, und demgemäß kann die effektive Oberfläche des Anzeigeabschnitts der Zelle groß sein. In diesem Fall ist es aus dem Gesichts­ punkt des Verhinderns einer Verringerung der Abdichtungssta­ bilität bevorzugt, dass sich der Randabschnitt der Lichtab­ schirmungsschicht über dem gesamten Umfang innerhalb der Breite des am Umfang verlaufenden Abdichtelements erstreckt. Bei dieser Struktur betrugen die Abdichtungsfestigkeiten im Anfangszustand und nach einem Beständigkeitstest bei hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit (80°C, 90%, 50 Stunden) 5,6 × 9,8 N bzw. 4,7 × 9,8 N. Andererseits waren die Abdich­ tungsfestigkeiten unter derselben Bedingung dann, wenn sich der Randteil der Lichtabschirmungsschicht über den Außenrand des Abdichtelements erstreckte, auf 3,5 × 9,8 N bzw. 2,3 × 9,8 N verringert.

Herkömmlicherweise wird, um eine große Öffnung der Anzeige­ fläche zu erzielen, häufig am Polarisator an der Vorderseite der Zelle durch Siebdruck eine schwarze Flammenstruktur aus­ gebildet, um den dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement 14 entsprechenden Teil zu verdecken. Bei diesem Ausführungs­ teil erstreckt sich jedoch die Lichtabschirmungsschicht 21 unter dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement 14, wodurch der Druckschritt weggelassen werden kann, um die Herstell­ kosten zu verringern. Ferner kann, um das Auslecken von Licht vom am Umfang verlaufenden Abdichtelement vollständig zu verhindern, ein solches mit einem schwarzen Pigment ver­ wendet werden.

Bei diesem Ausführungsbeispiel ist es bevorzugt, wenn die lichtdurchlässige Schicht 22 auf der Lichtabschirmungs­ schicht 21 ausgebildet ist, wenn die lichtdurchlässigen Schichten 22 sich nicht über den Innenrand des am Umfang verlaufenden Abdichtelements 14 erstrecken. Beim Konzipieren der Zelle in solcher Weise, dass die lichtdurchlässigen Schichten 22 mit der Lichtabschirmungsschicht 21 überlappen, ist der Überlappungsabschnitt der lichtdurchlässigen Schich­ ten 22 nicht erkennbar, wenn die Zelle von einer Seite der Lichtabschirmungsschicht 21 her betrachtet wird. Wenn jedoch die Zelle von einer Seite der lichtdurchlässigen Schichten 22 her betrachtet wird, kann etwas die Form der Anordnung der lichtdurchlässigen Schichten 22 erkannt werden.

Nur im Anzeigeabschnitt ausgebildete lichtdurchlässige Schichten 22 sind nicht bevorzugt, da die Kontur erkennbar ist. Um diesen Nachteil zu vermeiden, sollten jeweilige Far­ ben der lichtdurchlässigen Schichten 22 nicht miteinander überlappen, und die Abstände der Farben sollten nicht so groß sein, wobei der Zwischenraum so konzipiert ist, dass er nicht mehr als 0,5 mm beträgt.

Wenn ein Display von einer Seite der Lichtabschirmungs­ schicht her betrachtet wird, sind die Grenzabschnitte ver­ schiedener Farben durch die Lichtabschirmungsschicht ver­ deckt. Demgemäß existiert aus dem Gesichtspunkt der Erkenn­ barkeit kein Problem der Abmessung der Zwischenräume, und es ist das Konzipieren eines Überlappungszustands möglich. Wenn z. B. ein Zwischenraum von ungefähr 5 µm besteht, ist die Überdeckung des Photoresists zum Strukturieren der transpa­ renten Elektrode in diesem Teil unzureichend, wodurch eine Leitungsunterbrechung hervorgerufen wird. Demgemäß ist eine Konzeption zum Bereitstellen eines Überlappungszustands be­ vorzugt, wenn Toleranz hinsichtlich der Gleichmäßigkeit der Zwischenräume in der Zelle existiert.

Wenn die Lichtabschirmungsschicht 21 so ausgebildet wird, dass sie sich auf dem transparenten Substrat 12 unterhalb dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement 14 erstreckt, wird die transparente Elektrode 121 auf der Lichtabschirmungs­ schicht 21 und den lichtdurchlässigen Schichten 22 herge­ stellt. Da diese Schichten Isolierschichten mit einem Isola­ tionswiderstand von nicht unter 10¹² Ω/ sind, ist es über­ flüssig, eine Schutzschicht zur Isolierung anzubringen. Der Isolationswiderstand zwischen Leitungen sollte nicht kleiner als 10¹¹ Ω/ sind. In diesem Zustand tritt in der herge­ stellten Flüssigkristallzelle kein EIN-Zustand des Flüssig­ kristalls an unerwarteten Segmenten auf.

Auf dem so hergestellten Farbsubstrat wurde durch Sputtern bei einer Substrattemperatur von ungefähr 230°C ein leiten­ der Film hergestellt. Der Wert des Oberflächenwiderstands hängt von der Konzeption des Musters ab, jedoch ist es be­ vorzugt, dass der Wert von ungefähr 100 Ω/ bis ungefähr 10 Ω/ beträgt. Auf das Substrat wurde ein Photoresist auf­ getragen. Auf dem Photoresist wurde eine Photomaske positi­ oniert, um einen Leitungsabschnitt zu bedecken, damit eine Spannung an einen Teil des Anzeigemusters angelegt wurde. Nachdem eine Belichtung mit UV-Licht und ein Entwicklungs­ vorgang ausgeführt waren, wurde ein überflüssiger Teil des ITO-Films durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und ferner wurde der Resist durch eine wässrige NaOH-Lösung entfernt, um dadurch die transparente Elektrode 121 herzustellen.

Da die Materialien für die Lichtabschirmungsschicht und den lichtdurchlässigen Film bei den Schritten zum Herstellen des Farbsubstrats durch die Ätzflüssigkeit und die Flüssigkeit zum Entfernen des Resists behandelt werden, sollten diese Materialien gegen derartige chemische Flüssigkeiten bestän­ dig sein.

Wenn die Flüssigkristallzelle von der Seite der Lichtab­ schirmungsschicht 21 her betrachtet wird, läuft Licht nur durch einen Teil, in dem keine Lichtabschirmungsschicht aus­ gebildet ist. Ferner wird selbst dann, wenn die Zelle unter Verwendung von Lichtreflexion betrachtet wird, das Muster des Leitungsabschnitts nicht erkannt, da zwischen der Licht­ abschirmungsschicht und dem Glassubstrat keine transparente Elektrode vorhanden ist. Wenn jedoch die Zelle von der Seite des transparenten Substrats 11 her, das dem mit der Lichtab­ schirmungsschicht 21 versehenen Substrat gegenübersteht, unter der Bedingung normaler Reflexion betrachtet wird, kann ein Muster transparenter Elektroden, das sich an der Ober­ fläche der Lichtabschirmungsschicht 21 erstreckt, erkannt werden.

Damit das ausgedehnte Muster der transparenten Elektrode nicht auffällt, ist es bevorzugt, wenn der Zwischenraum zwi­ schen benachbarten Leitungen in der transparenten Elektrode ungefähr 100 µm beträgt. Obwohl es bevorzugt ist, in jedem Teil des Musters einen derart kleinen Zwischenraum zu erzie­ len, ist die Herstellung eines kleinen Zwischenraums manch­ mal durch Designbeschränkungen unmöglich. In diesem Fall sollte der Bedeckungsanteil der transparenten Elektrode ge­ mäß einer Grobbestimmung 90% oder mehr betragen. Der Be­ deckungsanteil ist vorzugsweise hoch.

Wenn am Umfang des Anzeigeabschnitts eine Raumtoleranz exis­ tiert und die Lichtabschirmungsschicht 21 nicht unterhalb dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement 14 ausgebildet ist, kann die Lichtabschirmungsschicht hergestellt werden, nachdem das Muster der transparenten Elektrode auf dem transparenten Substrat hergestellt wurde. In diesem Fall ist es bevorzugt, wenn die Seite des transparenten Substrats 11, die dem mit der Lichtabschirmungsschicht 21 versehenen Sub­ strat 12 zugewandt ist, eine Anzeigefläche ist. Ein derarti­ ger Aufbau unterdrückt den Effekt, dass das Muster der transparenten Elektrode auffällig wird, wenn die Hinter­ grundbeleuchtung nicht betrieben wird, und es kann ein gutes Aussehen des Erzeugnisses erzielt werden.

Hinsichtlich des gegenüberstehenden transparenten Substrats 11 wurden auf einem Glassubstrat aufeinanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und eine transparente Elektrode hergestellt, um ein transparentes Elektrodensub­ strat herzustellen. Für das transparente Substrat 12, auf dem die Lichtabschirmungsschicht 21 und die lichtdurchlässi­ gen Schichten 22 hergestellt werden, wird vorzugsweise ein Ausrichtfilm zum Bereitstellen eines Vorkippwinkels von 1°-1,5° verwendet. Im Fall eines TN-Elements ist es bekannt, dass der Blickwinkel dadurch erhöht werden kann, dass der Vorkippwinkel klein gemacht wird. Jedoch konnte eine derar­ tige Technik nicht verwendet werden, da die unter Verwendung des herkömmlichen Druckverfahrens hergestellte Lichtabschir­ mungsschicht dick ist und auch die Oberflächenrauhigkeit hoch ist, wodurch ein kleiner Vorkippwinkel wie ein solcher von 1°-1,5° zu einer Domäne mit umgekehrtem Kippwinkel führen kann. Andererseits erlaubt die durch das erfindungs­ gemäß Verfahren hergestellte Lichtabschirmungsschicht 21 die Anwendung eines Vorkippwinkels von 1,5° oder weniger. Es kann jede Art von Ausrichtfilm verwendet werden, die einen derartigen Vorkippwinkel liefert.

Ein Ausrichtfilm mit einer Filmdicke von ungefähr 60 nm zeigt hervorragende Ausrichtungsfunktion, und er beeinflusst die elektrooptischen Eigenschaften nicht nachteilig. Es ist auch bevorzugt, dass das gegenüberstehende transparente Sub­ strat 11 den Ausrichtfilm bildet, nachdem durch ein Sol-Gel- Verfahren ein anorganischer Isolierfilm mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid hergestellt wurde, wobei an­ schließend eine Reibbehandlung ausgeführt wird. Ein anorga­ nischer Film ist wirkungsvoll, um Kurzschlüsse zwischen den einander zugewandten Flächen zu verhindern.

Bei diesem Ausführungsbeispiel wurden Abstandshalter ver­ streut auf das transparente Substrat 12 aufgebracht, und das am Umfang verlaufende Abdichtelement 14 wurde auf dem gegen­ überstehenden transparenten Substrat 11 in einem dem Um­ fangsabschnitt der Zelle entsprechenden Abschnitt durch ein Siebdruckverfahren hergestellt. Das am Umfang verlaufende Abdichtelement 14 kann ein solches sein, bei dem leitende Kugeln als Übertragungsmaterial eingemischt sind, um zwi­ schen den transparenten Substraten 11, 12 einen leitenden Zustand zu erzielen. Die leitenden Kugeln können nur in ei­ nem begrenzten Abschnitt eingemischt werden, um einen lei­ tenden Zustand zu erzielen, oder sie können mit flammenähn­ licher Form in den gesamten Abschnitt des Abdichtelements 14 eingemischt werden.

Der zentrale Bereich der Zelle wölbt sich leicht auf, und demgemäß ist es bevorzugt, ein Abdichtungsmaterial mit ab­ stützender Säulenform in zumindest einem Teil der Zelle, der der Lichtabschirmungsschicht entspricht, anzubringen, insbe­ sondere bei einer Zelle, in der leicht ein ungleichmäßiger Zellenzwischenraum auftritt (z. B. beträgt der Abstand zwi­ schen dem Abdichtelement und dem Anzeigeabschnitt 10 mm oder mehr, und die Form der Zelle ist im Wesentlichen quadra­ tisch), einer Zelle mit kleinem Zwischenraum (z. B. einem Zellenzwischenraum von 5 µm oder weniger), einer Zelle, die einem Abdichtungsschritt unter Druck unterzogen wird, um eine Ungleichmäßigkeit des Zellenzwischenraums zu beseiti­ gen, oder einer Zelle, bei der die Ausrichtung der Flüssig­ kristallschicht leicht durch externe Belastung, Stöße oder Schwingungen gestört wird (z. B. bei einem ferroelektrischen Flüssigkristall oder einem antiferroelektrischen Flüssig­ kristall). In diesem Fall sollte das verwendete Abdichtungs­ material dasselbe Material wie das des am Umfang verlaufen­ den Abdichtelements sein. Wenn leitende Kugeln in das am Umfang verlaufende Abdichtelement eingemischt werden, sollte das Abdichtungsmaterial mit abstützender Säulenform in einem Abschnitt angeordnet sein, in dem sich die obere und die untere Elektrode nicht gegenüberstehen.

Diese transparenten Substrate 11, 12 wurden einander gegen­ überstehend positioniert. Sie wurden durch ein Thermokom­ pressions-Bondverfahren nachbehandelt; es wurden ein Ein­ spritzloch und Anschlussabschnitte ausgebildet; in die Zelle wurde durch ein Vakuuminjektionsverfahren ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt, und auf das Einspritzloch wur­ de ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudichten. Dann wurden, auf dieselbe Weise wie bei der herkömmlichen Technik, Polarisatoren 161, 162 an den Außenseiten der transparenten Substrate 11, 12 angeordnet. Ferner wurde auf der Rückseite des Polarisators 161, der die Rückseite bildet, eine Hintergrundbeleuchtung 17 angeordnet.

Für den Anzeigevorgang im Flüssigkristalldisplay kann der TN- oder der STN-Anzeigemodus verwendet werden.

Als Anzeigemodus für das Flüssigkristalldisplay ist TN oder STN anwendbar. Obwohl unter Verwendung des TN-Modus in Kom­ bination mit den Polarisatoren eine negative oder eine posi­ tive Anzeige erzielt werden kann, kann jeder Modus kombi­ niert werden. Beim Konzipieren von Δnd kann entweder unge­ fähr 0,48 µm als sogenanntes erstes Minimum oder ungefähr 1,1 µm als sogenanntes zweites Minimum verwendet werden. Ferner kann eine Konzipierung des dritten Minimums (ungefähr 1,7 µm) oder höher vorgenommen werden.

Bei der herkömmlichen Technik unter Verwendung des TN-Modus zum Erzielen eines negativen Modus bestand die Tendenz, dass eine Farbunregelmäßigkeit auftrat, wenn und ungefähr 0,48 µm betrug, und es war schwierig, hervorragende Anzeigefunktion zu erzielen. Bei der Erfindung besteht keine derartige Be­ schränkung, da die Gleichmäßigkeit der Zelle hervorragend ist. Ferner ist es im Fall der Verwendung eines Positivmodus üblich, für und einen Wert von ungefähr 0,48 µm zu verwen­ den. Jedoch ist es in diesem Fall erforderlich, das Absorp­ tionsvermögen der Lichtabschirmungsschicht auf 2,5 oder mehr zu bestimmen, und für die Lichtabschirmungsschicht unter Verwendung der herkömmlichen Drucktechnik war nur eine Film­ dicke von ungefähr 4 µm erforderlich. Demgemäß war es in der Praxis unmöglich, dass der Zellenzwischenraum kleiner als 6 µm war, und demgemäß sollte ein spezieller Flüssigkristall mit einem Wert von Δn von nicht mehr als 0,1 gewählt werden, um einen Wert Δnd von ungefähr 0,48 µm zu erzielen.

Andererseits kann bei der Erfindung eine Lichtabschirmungs­ schicht von nicht mehr als 1 µm verwendet werden, und es kann ein Zellenzwischenraum von mehr als 5 µm, oder, abhän­ gig von den Umständen, nicht mehr als 3 µm realisiert wer­ den. Demgemäß kann der Wert Δn erhöht werden, und die Art des verwendbaren Flüssigkristallmaterials kann erweitert werden, wie auch eine Verbesserung der Eigenschaften erzielt wird.

Im Fall eines Positivmodus wird zwischen einem Polarisator und einem transparenten Substrat ein Nacheilungsfilm ange­ bracht, um die Betrachtungswinkelabhängigkeit zu verringern. Als typischer Nacheilungsfilm, der eine solche Funktion lie­ fert, wird "wide view", hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., vorgeschlagen, bei dem ein dichroitischer Flüssigkris­ tall verwendet wird.

Allgemein wurde ein Verfahren zum Erhalten mehrerer Zellen von einem Muttersubstrat, d. h. ein Mehrfach-Strukturierver­ fahren, ausgeführt. In diesem Fall kann eine Anordnung ver­ wendet werden, bei der ein Paar einander gegenüberstehender Substrate abwechselnd angeordnet wird, nämlich eine F-Platte mit einem Muster, das auf der Betrachterseite mit einer Lichtabschirmungsschicht versehen ist, und eine R-Platte mit einem Muster, das auf der vom Betrachter abgewandten Seite mit einer Lichtabschirmungsschicht versehen ist. In diesem Fall werden transparente Elektroden so hergestellt, dass sie den Mustern F und R der Lichtabschirmungsschichten entspre­ chen. Gemäß diesem Verfahren werden im Abschnitt zwischen den hergestellten Flüssigkristallzellen keine anzubringenden Verbindungsabschnitte hergestellt, um den Wirkungsgrad bei der Herstellung der Substrate zu verbessern. Außerdem können die Herstellschritte verkürzt werden, und die Ausbeute kann verbessert werden, da die Anzahl der Schneidvorgänge verrin­ gert werden kann.

Eine Lichtquelle für die Beleuchtungseinrichtung, die hinter dem Polarisator an der Rückseite bei der Erfindung vorhanden ist, kann eine normale Wolframlampe, ein EL oder dergleichen sein. Jedoch wird aus dem Gesichtspunkt des Erzielens hoher Farbechtheit in der Farbschicht vorzugsweise eine Weißlicht­ quelle wie ein LED oder ein CCT mit Spektren von R, G und B verwendet.

Nun wird die Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele im Einzelnen beschrieben. Jedoch ist zu beachten, dass die Er­ findung in keiner Weise durch derartige spezielle Beispiele beschränkt ist.

BEISPIEL 1

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten wurde, dass eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Silicium­ oxid durch Sputtern mit einer Dicke von ungefähr 20 nm auf einem Glassubstrat hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nip­ pon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuderbe­ schichtungsverfahren auf das Substrat aufgetragen, um eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke herzustellen. Mit Licht von 300 mJ wurde unter Verwendung einer Photomaske, die einen Anzeigeabschnitt vom Segmenttyp und einen Abschnitt bedeck­ te, der sich von der Außenseite des am Umfang erstreckenden Abdichtelement erstreckte, wie am Umfang der Flüssigkris­ tallzelle anzubringen, ein Belichtungsvorgang ausgeführt. Nach der Belichtung wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/. Um ge­ wünschte Farben zu liefern, wurden drei Photomasken herge­ stellt, um lichtdurchlässige Schichten in Segmentabschnitten herzustellen, und es wurden aufeinanderfolgend Farbharze für R, G und Y (V-259R-H, V-259G-H und V-259Y-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) aufgetragen, gefolgt vom Ausführen von Belichtungs-, Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgängen. Der Isolationswiderstand jedes der licht­ durchlässigen Filme betrug 3 × 10¹⁴ Ω/. Diese lichtdurch­ lässigen Schichten wurden so hergestellt, dass sie einen Abschnitt bedeckten, der geringfügig kleiner als die Außen­ kontur der Zelle war, um nicht in Kontakt mit dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement zu gelangen. Der Zwischenraum zwischen den Farben betrug 0,3 mm, so dass keine Überlappung der Farben vorlag.

Auf dem so hergestellten Farbsubstrat (dem ersten Substrat) wurde ein transparenter, leitender ITO-Film von ungefähr 100 nm bei 230°C durch ein Sputterverfahren hergestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug ungefähr 30 Ω/. Auf das Sub­ strat wurde ein Photoresist aufgetragen, und dann wurden Belichtung mit Licht und ein Entwicklungsvorgang unter Ver­ wendung einer Photomaske ausgeführt, die einen Leitungsab­ schnitt bedeckte, um eine Spannung an den Anzeigeabschnitt vom Segmenttyp anzulegen. Ein überflüssiger Teil des ITO- Films wurde durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Re­ sist wurde durch eine wässrige NaOH-Lösung entfernt, wodurch eine transparente Elektrode hergestellt war. Ein anderes, gegenüberstehend anzuordnendes Substrat (das zweite Sub­ strat), eine Alkalimetalle verhindernde Schicht sowie ein transparenter, leitender Film aus ITO wurden aufeinanderfol­ gend auf dieselbe Weise wie oben hergestellt, wodurch eine transparente Elektrode ausgebildet wurde.

Auf dem ersten Substrat, auf dem die Lichtabschirmungs­ schicht und die lichtdurchlässige Schicht ausgebildet waren, wurde ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Ausrichtfilms zum Erzielen eines Vorkippwinkels von 1,3° ausgeführt. Um einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid auf dem zweiten Substrat herzu­ stellen, erfolgte ein Filmdruckvorgang mittels eines Sol- Gel-Verfahrens. Dann wurde ein Ausrichtfilm auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. Am ersten und zwei­ ten Substrat wurde eine Reibbehandlung so ausgeführt, dass zwischen den Substraten ein Verdrillungswinkel von 90° aus­ gebildet wurde.

Auf dem ersten Substrat wurden verstreut Abstandshalter mit einem Durchmesser von 6 µm (hergestellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) aufgebracht. Auf das zweite Substrat wurde Structbond (Handelsname) (hergestellt von Mitsui Che­ micals, Inc.) durch ein Siebdruckverfahren aufgedruckt, um ein am Umfang verlaufendes Abdichtelement in einem dem Um­ fangsabschnitt der Flüssigkristallzelle und dem durch die Lichtabschirmungsschicht bedeckten Anzeigeabschnitt ein am Umfang verlaufendes Abdichtelement herzustellen. Zum Abdich­ telement wurden 3% leitende Kugeln (hergestellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) hinzugefügt, um Leitfähigkeit zwi­ schen dem ersten und zweiten Substrat, die sich einander gegenüberstehen, zu erzielen. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwierig zu erken­ nen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet, und es wurde ein ThermokomPressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Es wurden ein Einspritz­ loch und Anschlussabschnitte hergestellt. Durch ein Vakuum­ einspritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudich­ ten. Dann wurde die Streuung von Zwischenräumen in den Seg­ mentabschnitten gemessen, wobei die Abweichung bis zu maxi­ mal ungefähr 0,3 µm betrug, und es war eine Zelle mit her­ vorragender Gleichmäßigkeit hergestellt.

Dann wurde ein Paar Polarisatoren unter vorbestimmten Win­ keln in solcher Weise an der Zelle angebracht, dass die Po­ larisationsachsen zu den beiden Seiten der Substrate paral­ lel zueinander verliefen, wodurch eine Farb-Flüssigkristall­ displayzelle hergestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastverhältnis von 1/8 betrieben. Als Lichtquelle wurde auf der Rückseite der Zelle eine Hintergrundbeleuchtung mit einem CCT mit Spektren der drei Farben R, G und B angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite her betrachtet wurde, auf der die Lichtabschir­ mungsschicht hergestellt war, war der Betrachtungswinkel groß, und es konnte hervorragende Erkennbarkeit erzielt wer­ den.

VERGLEICHSBEISPIEL 1

Auf einem Glassubstrat wurde ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO hergestellt und dann strukturiert. Auf ein ers­ tes Substrat wurde durch Offsetdruck eine Dispersionsfarbe mit Rußbeschichtung aufgebracht, um eine Schicht von 2 µm Dicke herzustellen, so dass eine Lichtabschirmungsschicht auf einem segmentierten Anzeigeabschnitt und einem Abschnitt innerhalb eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements aus­ gebildet war. Der OD-Wert des Films betrug 1,7, und der Iso­ lationswiderstand betrug 3 × 10¹³ Ω/. Auf einem zweiten Substrat wurden lichtdurchlässige Schichten an vorbestimmten Positionen unter Verwendung farbiger Tinten und eines Sieb­ druckverfahrens hergestellt. Auf diesen Substraten wurden Ausrichtfilme hergestellt, um für einen Vorkippwinkel von 1,3° zu sorgen. Reiben wurde so ausgeführt, dass sich ein Verdrillungswinkel von 90° ergab, und es wurden Abstands­ halter von 6 µm verstreut angebracht. Dann wurde eine Zelle auf dieselbe Weise wie beim Beispiel 1 hergestellt. Dann wurde ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt, und das Einspritzloch wurde abgedichtet.

An der Zelle wurden Polarisatoren angebracht, und an der Rückseite der Zelle wurde eine Wolframlampe als Hintergrund­ beleuchtung angeordnet. Wenn die Zelle mit einem Tastver­ hältnis von 1/8 betrieben wurde und sie von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her, auf der der Druckvorgang aus­ geführt worden war, betrachtet wurde, war der Betrachtungs­ winkel etwas eingeengt. Bei sorgfältiger Betrachtung der Randabschnitte des segmentierten Anzeigeabschnitts zeigte sich eine Domäne, und es konnten die erwarteten Eigenschaf­ ten der Zelle nicht erreicht werden. Die Messung des Ausma­ ßes der Streuung der Zellenzwischenräume zeigte ein Ausmaß der Streuung von höchstens 2,2 µm an der Anzeigefläche, wo­ durch sich der geringe Betrachtungswinkel ergab. Bei einer Messung unter direktem Sonnenlicht ergab sich eine Licht­ streuung, die von auf die Zellenoberfläche aufgedruckten Pigmentteilchen herrühren kann, und eine Verringerung des Kontrastverhältnisses.

BEISPIEL 2

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten wurde, dass auf einem Glassubstrat durch Sputtern eine Alkalimetal­ le verhindernde Schicht aus Siliciumoxid mit einer Dicke von ungefähr 20 nm hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nip­ pon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuderbe­ schichtungsverfahren so auf das Substrat aufgetragen, dass eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke gebildet war. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzei­ geabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich ausgehend von der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Abdichtele­ ments erstreckte, das am Umfang der Flüssigkristallzelle anzubringen war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ aus­ geführt. Nach der Belichtung wurden Entwicklungs-, Trock­ nungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht auf solche Weise ausgebildet war, wurde' ein transparenter, leit­ fähiger Film aus ITO durch ein Sputterverfahren bei 230°C von ungefähr 200 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug ungefähr 10 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photore­ sist aufgetragen. Dann wurden Belichtungs- und Entwicklungs­ vorgänge unter Verwendung einer Photomaske ausgeführt, die einen Leiterbahnteil bedeckte, so dass an den Segmentanzei­ geabschnitt eine Spannung angelegt wurde. Überflüssige Teile des ITO-Films wurden durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und dann wurde der Resist durch eine wässrige NaOH-Lösung ent­ fernt, wodurch eine transparente Elektrode ausgebildet war.

Auf einem anderen Substrat, das gegenüberstehend anzuordnen war, wurden eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO aufeinanderfolgend auf dieselbe Weise wie oben angegeben hergestellt, wodurch eine transparente Elektrode ausgebildet war.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht her­ gestellt war, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwen­ dung eines Ausrichtfilms zum Sorgen für einen Vorkippwinkel von ungefähr 2° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Um einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid auf dem gegen­ überstehend anzuordnenden Substrat herzustellen, erfolgte eine Filmdruckbearbeitung mittels eines Sol-Gel-Verfahrens. Dann wurde ein Ausrichtfilm auf dieselbe Weise wie oben her­ gestellt und gebrannt. Eine Reibbehandlung wurde so ausge­ führt, dass zwischen den Substraten ein Verdrillungswinkel von 90° gebildet war.

Auf dem ersten Substrat wurden verstreut Abstandshalter mit einem Durchmesser von 5 µm (hergestellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) angebracht. Auf das zweite Substrat wur­ de Structbond (Handelsname) (hergestellt von Mitsui Chemi­ cals, Inc.) als durch Wärme härtbares Epoxidharz aufge­ druckt, um das am Umfang verlaufende Abdichtelement durch Siebdruck in einem Abschnitt herzustellen, der dem Umfang der Flüssigkristallzelle entspricht. Als Übertragungsmate­ rial wurden dem Abdichtelement 3% leitende Kugeln (herge­ stellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) zugemischt, um Leitfähigkeit zwischen den einander gegenüberstehend an zu­ ordnenden Substraten zu erzielen. Ferner wurden 5% Glasfa­ sern zugesetzt, um den Abdichtungszwischenraum aufrechtzuer­ halten. Da das am Umfang verlaufende Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt wurde, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwer zu erkennen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet, und es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Es wurden ein Einspritz­ loch und Anschlussabschnitte hergestellt. Durch ein Vakuum­ einspritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall mit einem Wert Δn von 0,077 eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetra­ gen, um es abzudichten. Eine Messung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnitte ergab ungefähr 6 µm, was der Summe aus der Dicke der Abstandshalter und der Dicke der Lichtabschir­ mungsschicht entspricht. Daher wurde klargestellt, dass die Abstandshalter nicht in die Lichtabschirmungsschicht einsin­ ken. Der Messwert von Δnd für die Zelle betrug 0,46. Die Abweichung des Zwischenraums über die Anzeigeoberfläche be­ trug höchstens bis zu ungefähr 0,3 µm, und es wurde eine Zelle mit hervorragender Gleichmäßigkeit erzielt.

An der Zelle wurde unter vorbestimmten Winkeln ein Paar Po­ larisatoren so befestigt, dass die Polarisationsachsen zu den beiden Seiten der Substrate parallel zueinander verlie­ fen, und es war eine Flüssigkristalldisplayzelle herge­ stellt. Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastver­ hältnis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolframlampe als Hintergrundbeleuchtung angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite des Substrats her, auf der die Lichtabschirmungsschicht ausgebildet war, betrachtet wurde, konnte bei Ansicht von vorne ein Kontrastverhältnis von 300 : 1 erzielt werden, und es wurde klargestellt, dass die Zelle über hervorragende Erkennbarkeit verfügte.

VERGLEICHSBEISPIEL 2

Auf einem Glassubstrat (erstes Substrat) wurde ein transpa­ renter, leitfähiger Film aus ITO hergestellt und struktu­ riert. Eine Lichtabschirmungsschicht wurde auf dem ersten Substrat durch das Offsetdruckverfahren mit einer Dicke von 4 µm so hergestellt, dass diese Lichtabschirmungsschicht in einem segmentierten Anzeigeabschnitt und einem Abschnitt innerhalb eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements aus­ gebildet war. Der OD-Wert des Films betrug 2,5. Ausrichtfil­ me wurden auf dem ersten Substrat und einem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat (zweites Substrat) so hergestellt, dass zwischen diesen Substraten ein Vorkippwinkel von 2° gebildet war. Ein Reibvorgang wurde so ausgeführt, dass sich ein Verdrillungswinkel von 90° ergab. Eine Zelle wurde durch Zwischenfügen von Abstandshaltern von 6 µm hergestellt. Dann wurde derselbe nematische Flüssigkristall wie beim Beispiel 2 eingespritzt und dicht eingeschlossen. Die Einspritzzeit war das Vierfache derjenigen, die beim Beispiel 2 erforder­ lich war. Wenn die Zwischenraumsweite und die Gleichmäßig­ keit nach dem Abdichtvorgang untersucht wurden, zeigte es sich, dass die Zwischenraumsweite 6,2 µm betrug und die Ab­ standshalter stark in die aufgedruckte Lichtabschirmungs­ schicht eingesunken waren. Ferner zeigte es sich auch, dass die Streuung des Zwischenraums in der Anzeigefläche höchs­ tens 2,2 µm betrug.

Nach dem Anbringen von Polarisatoren wurde die Zelle mit einem Tastverhältnis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolframlampe als Hintergrundbeleuchtung angeordnet. Bei der Betrachtung von der Seite her, auf die die Lichtabschirmungsschicht aufgedruckt war, betrug der Kontrast bei Ansicht von vorne im Mittel 1 50 : 1, jedoch zeig­ ten sich durch ungleichmäßige Zwischenraumsweite teilweise 200 : 1 und teilweise 100 : 1. Ferner zeigt es sich bei Betrach­ tung in direktem Sonnenlicht, dass an der Oberfläche der Zelle Streuung auftrat und dass das Kontrastverhältnis ge­ ringfügig verringert war.

BEISPIEL 3

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten wurde, dass eine Alkalimetalle verhindernde Schicht von Silicium­ oxid durch Sputtern mit einer Dicke von ungefähr 20 nm auf einem Glassubstrat hergestellt wurde. Durch die folgenden Schritte wurde ein Muttersubstrat hergestellt, bei dem meh­ rere Zellen von 80 mm × 80 mm angeordnet waren. Das Material für die Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch das Schleu­ derbeschichtungsverfahren so aufgetragen, dass auf dem Sub­ strat eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke gebildet war. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich aus­ gehend von der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Ab­ dichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssigkristall­ zelle auszubilden war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Auf dem Substrat mit der so hergestellten Lichtabschirmungs­ schicht wurde durch ein Sputterverfahren bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO mit ungefähr 200 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug ungefähr 10 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photoresist aufgetragen, und unter Verwendung einer Photomaske, die einen Leiterbahn­ abschnitt bedeckte, so dass an den segmentierten Anzeigeab­ schnitt eine Spannung angelegt wurde, wurden Belichtungs-und Entwicklungsvorgänge ausgeführt. Der überflüssige Teil des ITO-Films wurde durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und dann wurde der Resist durch wässrige NaOH-Lösung entfernt, wo­ durch eine transparente Elektrode hergestellt war. Auf einem anderen Substrat, das gegenüberstehend anzuordnen war, wur­ den aufeinanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein ITO-Film hergestellt, und eine transparente Elektrode wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht her­ gestellt war, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwen­ dung eines Ausrichtfilms zum Erhalten eines Vorkippwinkels von ungefähr 2° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Um auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Sub­ strat einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einem Ge­ misch von Titanoxid und Siliciumoxid herzustellen, wurde mittels eines Sol-Gel-Verfahrens eine Filmdruckbearbeitung ausgeführt. Dann wurde ein Ausrichtfilm auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substrate erfolgte ein Reibvorgang, um einen Verdrillungswinkel von 90° zu erhalten.

Auf dem ersten Substrat wurden verstreut Abstandshalter mit einem Durchmesser von 4 µm (hergestellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) aufgebracht. Auf das zweite Substrat wurde Structbond (Handelsname) (hergestellt von Mitsui Che­ micals, Inc.) als durch Wärme härtbares Epoxidharz durch ein Siebdruckverfahren zum Herstellen eines Abdichtelements in einem Teil aufgedruckt, dem dem Umfang der Flüssigkristall­ zelle entsprach, und einem Teil, in dem eine Lichtabschir­ mungsschicht, aber nicht obere und untere Elektroden einan­ der gegenüberstanden. Zum Abdichtelement wurden 3% leitende Kugeln (Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) als Übertragungsma­ terial zugesetzt, um zwischen den Substraten elektrische Leitfähigkeit zu erzielen, und 5% Glasfasern wurden zuge­ setzt, um den Abdichtungszwischenraum aufrechtzuerhalten. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht herge­ stellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungs­ schicht her schwer zu erkennen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet, und es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Es wurden ein Einspritz­ loch und Anschlussabschnitte hergestellt. Durch ein Vakuum­ einspritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudich­ ten. Wenn die Streuung der Zwischenraumsweite in den Seg­ mentabschnitten gemessen wurde, betrug die Abweichung der Zwischenraumsweite ungefähr 5 µm, was grob der Summe aus der Dicke der Abstandshalter und der Dicke der Lichtabschir­ mungsschicht entsprach. So wurde klargestellt, dass die Ab­ standshalter nicht in die Lichtabschirmungsschicht eingesun­ ken waren.

Die Zwischenraumsabweichung im Anzeigeabschnitt lag höchs­ tens innerhalb von ungefähr 0,2 µm, und es war eine Zelle mit hervorragender Gleichmäßigkeit des Zwischenraums zwi­ schen dem zentralen Teil und dem Umfangsteil erzielt. An der Zelle wurden unter vorbestimmten Winkeln ein Paar Polarisa­ toren so befestigt, dass die Polarisationsachsen an den bei­ den Seiten der Substrate parallel zueinander verliefen. An der Rückseite der Zelle, die einer Hintergrundbeleuchtung zugewandt war, wurde eine Kunststofffolie mit unterteilten Farbabschnitten, entsprechend den Segmentabschnitten des Displays, durch ein Farbdruckverfahren angebracht, wodurch eine Flüssigkristallzelle fertiggestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastverhältnis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolf­ ramlampe als Hintergrundbeleuchtung angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite, auf der die Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, betrachtet wurde, ergab sich, dass im zen­ tralen Teil und dem Umfangsteil der Zelle ein Kontrastver­ hältnis von ungefähr 300 : 1 erzielt werden konnte, und die Zelle hatte hervorragend gleichmäßige Eigenschaften.

BEISPIEL 4

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten war, dass eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Silicium­ oxid durch Sputtern auf einem Glassubstrat mit einer Dicke von ungefähr 20 nm hergestellt wurde. Durch die folgenden Schritte wurde ein Muttersubstrat hergestellt, auf dem meh­ rere Zellen von 80 mm × 80 mm angeordnet waren. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleu­ derbeschichtungsverfahren so auf das Substrat aufgetragen, dass eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke hergestellt war. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich aus­ gehend von der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Ab­ dichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssigkristall­ zelle anzubringen war, wurde eine Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs-und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Auf dem Substrat mit der so hergestellten Lichtabschirmungs­ schicht wurde durch ein Sputterverfahren bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO von ungefähr 200 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug ungefähr 10 Ω/.

Auf das so hergestellte Substrat wurde ein Photoresist auf­ getragen, und unter Verwendung einer Photomaske, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Spannung an den segmentierten Anzeigeabschnitt angelegt wurde, wurden Be­ lichtungs- und Entwicklungsvorgänge ausgeführt. Dann wurde der überflüssige Teil des ITO-Films durch eine Ätzflüssig­ keit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lö­ sung entfernt, wodurch eine transparente Elektrode herge­ stellt war. Auf einem gegenüberstehend anzuordnenden Sub­ strat wurden aufeinanderfolgend eine Alkalimetalle verhin­ dernde Schicht und ein ITO-Film hergestellt, und eine trans­ parente Elektrode wurde auf dieselbe Weise wie oben herge­ stellt.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht her­ gestellt war, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwen­ dung eines Ausrichtfilms zum Erzielen eines Vorkippwinkels von ungefähr 2° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Um einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid auf dem gegen­ überstehend anzuordnenden Substrat herzustellen, wurde mit­ tels eines Sol-Gel-Verfahrens eine Filmdruckbearbeitung aus­ geführt. Dann wurde eine Ausrichtschicht auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substraten wurde ein Reibvorgang so ausgeführt, dass für einen Verdril­ lungswinkel von 90° gesorgt war.

Auf dem ersten Substrat wurden verstreut Abstandshalter mit einem Durchmesser von 4 µm (hergestellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) angebracht. Auf das zweite, gegenüber­ stehend anzuordnende Substrat wurde Structbond (Handelsname) (hergestellt von Mitsui Chemicals, Inc.) als durch Wärme härtbares Epoxidharz aufgedruckt, um das am Umfang verlau­ fende Abdichtelement durch ein Siebdruckverfahren in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Teil her­ zustellen. Als Übertragungsmaterial wurden 3% leitende Ku­ geln (von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) hinzugefügt, um zwischen den Substraten Leitfähigkeit zu erzielen, und es wurden 5% Glasfasern hinzugefügt, um den Abdichtungszwi­ schenraum aufrechtzuerhalten. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwer erkennbar.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet, und es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Es wurden ein Einspritz­ loch und Anschlussabschnitte hergestellt. Dann wurde durch ein Vakuumeinspritzverfahren ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudich­ ten. Die Messung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnit­ te ergab ungefähr 5 µm, was grob der Summe der Dicken der Abstandshalter und der Lichtabschirmungsschicht entspricht. So wurde klargestellt, dass die Abstandshalter nicht in die Lichtabschirmungsschicht eingesunken waren.

Die Zwischenraumsabweichung im Anzeigeabschnitt lag höchs­ tens innerhalb von ungefähr 0,5 µm, und es war eine Zelle erhalten, bei der sich zwischen dem zentralen Teil und dem Umfangsteil der Zelle eine etwas größere Abweichung ergab.

Dann wurde ein Paar Polarisatoren unter vorbestimmten Win­ keln so an der Zelle befestigt, dass die Achsen zu den bei­ den Seiten der Substrate parallel zueinander verliefen, wo­ durch eine Flüssigkristallzelle hergestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastverhältnis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolf­ ramlampe als Hintergrundbeleuchtung angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite her betrachtet wurde, auf der die Licht­ abschirmungsschicht hergestellt war, wurde bei Ansicht von vorne ein Kontrastverhältnis von 250 : 1 erzielt, und es wurde Erkennbarkeit ohne jede Schwierigkeit beim praktischen Ge­ brauch klargestellt.

VERGLEICHSBEISPIEL 3

Auf einem Glassubstrat wurde ein transparenter leitfähiger Film aus ITO hergestellt und strukturiert. Durch Offsetdruck wurde eine Dispersionsfarbe mit Rußbeschichtung aufgedruckt, um auf einem ersten Substrat eine Lichtabschirmungsschicht von 4 µm Dicke herzustellen, wobei diese Lichtabschirmungs­ schicht in einem segmentierten Anzeigeabschnitt und einem Abschnitt innerhalb eines am Umfang verlaufenden Abdichtele­ ments hergestellt war. Der OD-Wert des Films betrug 3,4, und der Isolationswiderstand betrug 1,5 × 10¹³ Ω/. Auf dem ersten Substrat wie auch auf einem gegenüberstehend anzuord­ nenden Substrat (zweites Substrat) wurden Ausrichtfilme her­ gestellt, um für einen Vorkippwinkel von 2° zu sorgen. Es wurde ein Reibvorgang ausgeführt, um einen Verdrillungswin­ kel von 90° für den Flüssigkristall zu erzielen. Abstands­ halter von 4 µm wurden verstreut angebracht. So wurde eine Zelle hergestellt.

Dann wurde derselbe nematische -Flüssigkristall wie beim Bei­ spiel 3 eingespritzt. Nach dem Einspritzen wurden die Zwi­ schenraumsweite und die Gleichmäßigkeit untersucht. Im Er­ gebnis zeigte es sich, dass die Zwischenraumsweite 6 µm be­ trug, und durch Ungleichmäßigkeit des Zwischenraums im zen­ tralen Teil und dem Umfangsteil der Zelle ergab sich eine Verfärbung. Es zeigte sich auch eine Zwischenraumsabweichung von maximal 2,6 µm im Anzeigeabschnitt. Die Zelle wurde nach dem Einspritzvorgang unter einem Druck von 0,2 kg/ abge­ dichtet. Dann wurde die Zwischenraumsweite erneut gemessen. Die Zwischenraumsweite war auf 5,5 µm verringert, und die Zwischenraumsabweichung im Anzeigeabschnitt betrug 1,0 µm.

An der Zelle wurden Polarisatoren befestigt, und die Zelle wurde mit einem Tastverhältnis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolframlampe als Hintergrund­ beleuchtung angeordnet. Beim Betrachten der Zelle von der Seite her, auf der die Lichtabschirmungsschicht aufgedruckt war, betrug das Kontrastverhältnis bei Ansicht von vorne 200 : 1. Ferner zeigten sich verfärbte Abschnitte aufgrund einer Ungleichmäßigkeit des Zwischenraums.

BEISPIEL 5

Auf einem Glassubstrat wurde durch ein Sputterverfahren eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid mit ei­ ner Dicke von ungefähr 20 nm hergestellt. Dann wurde durch ein Sputterverfahren bei 300°C ein transparenter, leitfähig­ er Film aus ITO mit ungefähr 200 nm hergestellt. Der Ober­ flächenwiderstand betrug ungefähr 10 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photoresist aufgetragen, und unter Verwendung ei­ ner Photomaske, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Spannung an den segmentierten Anzeigeabschnitt angelegt wurde, wurden Belichtungs- und Entwicklungsvorgänge ausgeführt. Dann wurde der überflüssige Teil des ITO-Films durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Resist wurde durch eine wässrige NaOH-Lösung entfernt, wodurch ein Elek­ trodensubtrat hergestellt war.

Auf das Substrat wurde das Material für eine Lichtabschir­ mungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Che­ mical Co., Ltd.) durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen, um eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke herzu­ stellen. Unter Verwendung einer Photomaske, die den segmen­ tierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt innerhalb eines Abdichtelements bedeckte, das am Umfang der Flüssigkristall­ zelle anzubringen war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/. Auf einem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden aufeinander­ folgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO hergestellt, um auf dieselbe Weise wie oben ein Elektrodensubstrat herzustellen.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht her­ gestellt war, wurde ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Aus­ richtfilms zum Erzielen eines Vorkippwinkels von ungefähr 2° hergestellt. Um einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid auf dem gegen­ überstehend anzuordnenden Substrat herzustellen, wurde mit­ tels eines Sol-Gel-Verfahrens eine Filmdruckbearbeitung aus­ geführt. Ein Ausrichtfilm wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substraten wurde ein Reibvorgang ausgeführt, um einen Verdrillungswinkel von 90° auszubilden.

Auf dem ersten Substrat wurden verstreut Abstandshalter mit einem Durchmesser von 5 µm (hergestellt von Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) angebracht. Auf das zweite Substrat wur­ de Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) als durch Wärme härtbares Epoxidharz durch ein Siebdruckverfah­ ren in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entspre­ chenden Abschnitt aufgedruckt, um das am Umfang verlaufende Abdichtelement herzustellen. Als Übertragungsmaterial wurden dem Abdichtelement 3% leitende Kugeln (Sekisui Fine Chemi­ cal Co., Ltd.) zugesetzt, um Leitfähigkeit zwischen den Sub­ straten zu erzielen. Ferner wurden Abstandshalter mit einem Durchmesser von ungefähr 6 µm, was der Dicke der Lichtab­ schirmungsschicht entspricht, zugesetzt, um den Abdichtungs­ zwischenraum aufrechtzuerhalten. Da das Abdichtelement au­ ßerhalb der Lichtabschirmungsschicht ausgebildet ist, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her erkennbar.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet, und es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Es wurden ein Einspritz­ loch und Anschlussabschnitte hergestellt. Durch ein Vakuum­ einspritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudich­ ten. Die Messung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnit­ te ergab ungefähr 6 µm, was grob der Summe aus der Dicke der Abstandshalter und der Dicke der Lichtabschirmungsschicht entspricht. So wurde klargestellt, dass die Abstandshalter nicht in die Lichtabschirmungsschicht eingesunken waren. Die Zwischenraumsabweichung im Anzeigeabschnitt betrug höchstens ungefähr 0,3 µm, und es war eine Zelle mit hervorragender Gleichmäßigkeit erhalten.

Dann wurde ein Paar Polarisatoren unter vorbestimmten Win­ keln so an der Zelle befestigt, dass die Polarisationsachsen an den beiden Seiten der Substrate parallel zueinander ver­ liefen, wodurch eine Flüssigkristalldisplayzelle hergestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastverhältnis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolf­ ramlampe als Hintergrundbeleuchtung angebracht. Bei der Be­ trachtung der Zelle von der Oberflächenseite her, die von derjenigen Seite abgewandt war, auf der die Lichtabschirmungs­ schicht hergestellt war, wurde bei Ansicht von vorne ein Kontrastverhältnis von 300 : 1 erzielt. Obwohl die wirksa­ me Anzeigeoberfläche etwas eingeengt war, da das Abdichtele­ ment am Umfang der Zelle erkennbar war, zeigte sich hervor­ ragende Erkennbarkeit.

BEISPIEL 6

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass auf einem Glassubstrat durch ein Sputterverfahren eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid mit ungefähr 20 nm hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nip­ pon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuderbe­ schichtungsverfahren so aufgetragen, dass auf dem Substrat eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke hergestellt war. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzei­ geabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich an der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements er­ streckte, das am Umfang der Flüssigkristallzelle herzustel­ len war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isola­ tionswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Um für die gewünschten Farben zu sorgen, wurden drei Photo­ masken hergestellt, um in den Segmentabschnitten lichtdurch­ lässige Schichten herzustellen, und Farbharze für R, G und Y (V-259R-H, V-259G-H und V-259Y-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurden aufeinanderfolgend aufge­ tragen, gefolgt vom Ausführen von Belichtungs-, Entwick­ lungs-, Trocknungs- und Brennvorgängen. Der Isolationswider­ stand der hergestellten transparenten Filme betrug 3 × 10¹⁴ Ω/. Diese lichtdurchlässigen Schichten wurden so herge­ stellt, dass ein Abschnitt bedeckt war, der etwas kleiner als der Außenverlauf der Zelle war, um nicht in Kontakt mit dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement zu stehen. Die Zwischenräume zwischen den Farben wurden zu 0,3 mm bestimmt, so dass keine Überlappung der Farben vorlag.

Auf dem so hergestellten Farbsubstrat wurde durch ein Sput­ terverfahren bei 230°C ein transparenter, leitender Film aus ITO von ungefähr 100 nm hergestellt. Der Oberflächenwider­ stand betrug ungefähr 30 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photoresist aufgetragen, und unter Verwendung einer Photo­ maske, die einen Leiterbahnteil bedeckte, so dass an den segmentierten Anzeigeabschnitt eine Spannung angelegt wurde, wurden Belichtungs- und Entwicklungsvorgänge ausgeführt. Dann wurde der überflüssige Teile des ITO-Films durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lösung entfernt, wodurch ein Elektrodensubstrat herge­ stellt war. Auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden aufeinanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leitender Film aus ITO herge­ stellt, um auf dieselbe Weise wie oben ein Elektrodensub­ strat herzustellen.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht und die lichtdurchlässigen Schichten hergestellt waren, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Ausricht­ films zum Erzielen eines Vorkippwinkels von 2° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Auf dem gegen­ überstehend anzuordnenden Substrat wurde mittels eines Sol- Gel-Verfahrens eine Filmdruckbearbeitung ausgeführt, um ei­ nen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid herzustellen. Ein Ausrichtfilm wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substraten wurde ein Reibvorgang ausgeführt, um einen Verdrillungswinkel von 70° zu erzielen.

Auf dem ersten Substrat wurden Abstandshalter von 5 µm Durchmesser (Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) verstreut an­ gebracht, und auf das zweite gegenüberstehend anzuordnende Substrat wurde Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) als durch Wärme härtbares Epoxidharz durch ein Sieb­ druckverfahren in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Teil aufgedruckt, um das am Umfang verlaufen­ de Abdichtelement herzustellen. Dem Abdichtelement wurden 3% leitende Kugeln (Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) als Übertragungsmaterial zugesetzt, um Leitfähigkeit zwischen den Substraten zu erzielen. Ferner wurden 5% Glasfasern zugesetzt, um den Abdichtungszwischenraum aufrechtzuerhal­ ten. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungs­ schicht her schwer zu erkennen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet. Ein Thermokompressions-Bondschritt wurde ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Ein Einspritzloch und Anschluss­ abschnitte wurden hergestellt. Durch ein Vakuumeinspritzver­ fahren wurde ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudichten. Die Messung der Zwischenraumsweite der segmentierten Abschnitte ergab unge­ fähr 6 µm, was grob der Summe aus der Dicke der Abstands­ halter und der Dicke der Lichtabschirmungsschicht entsprach. So wurde klargestellt, dass die Abstandshalter nicht in die Lichtabschirmungsschicht einsunken waren. Die Zwischenraums­ abweichung im Anzeigeabschnitt lag höchstens innerhalb von ungefähr 0,3 µm. Es war eine Zelle mit hervorragender Gleichmäßigkeit hergestellt.

Dann wurde ein Paar Polarisatoren unter vorbestimmten Win­ keln so an der Zelle befestigt, dass der Schnittwinkel der Polarisationsachsen zwischen den beiden Seiten der Substrate 70° betrug, wodurch eine Flüssigkristallzelle hergestellt war. Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastverhält­ nis von 1/2 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Hintergrundbeleuchtung mit einer weißen LED mit Spektren von R, G und B angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite her betrachtet wurde, auf der die Lichtabschirmungsschicht aus­ gebildet war, konnte in einer Richtung, die um 30° zum Hauptbetrachtungswinkel geneigt war, hinsichtlich Ansicht von vorne, ein Kontrastverhältnis von 300 : 1 erzielt werden, so dass eine Zelle mit hervorragender Erkennbarkeit bestä­ tigt werden konnte. Ferner konnten, da die lichtdurchlässi­ gen Schichten auf der Innenseite ausgebildet waren, hervor­ ragende Anzeigeeigenschaften ohne jede Farbverschiebung selbst bei Betrachtung aus der entgegengesetzten Richtung erzielt werden.

BEISPIEL 7

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Sili­ ciumoxid durch Sputtern mit einer Dicke von ungefähr 20 nm auf einem Glassubstrat hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuder­ beschichtungsverfahren aufgetragen, um eine Schicht von un­ gefähr 1 µm Dicke herzustellen. Unter Verwendung einer Pho­ tomaske, die einen segmentierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich ausgehend von der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssigkristallzelle anzubringen war, wurde ein Belichten mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Auf dem Substrat, das mit der so hergestellten Lichtabschir­ mungsschicht versehen war, wurde durch ein Sputterverfahren bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film von ungefähr 200 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug unge­ fähr 10 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photoresist aufge­ tragen, und Belichtungs- und Entwicklungsvorgänge wurden unter Verwendung einer Photomaske ausgeführt, die einen Lei­ terbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Spannung an einen segmentierten Anzeigeabschnitt angelegt wurde. Dann wurde der überflüssige Teil des ITO-Films durch eine Ätzflüssig­ keit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lö­ sung entfernt, wodurch eine transparente Elektrode herge­ stellt war. Auf einem gegenüberstehend anzuordnenden Sub­ strat wurden eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO aufeinanderfolgend hergestellt, wodurch eine transparente Elektrode auf diesel­ be Weise wie oben hergestellt war.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht her­ gestellt war, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwen­ dung eines Ausrichtfilms zum Erzielen eines Vorkippwinkels von ungefähr 2° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurde mittels eines Sol-Gel-Verfahrens eine Filmdruckbear­ beitung ausgeführt, um einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid herzu­ stellen. Dann wurde ein Ausrichtfilm auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substraten wur­ de ein Reibvorgang ausgeführt, um einen Verdrillungswinkel von 90° zu erhalten.

Auf dem anderen Substrat wurden Abstandshalter mit einem Durchmesser von 5 µm (Sekisui Fine Chemicals Co., Ltd.) ver­ streut angebracht, und auf das gegenüberstehend anzuordnende Substrat wurde Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) als durch Wärme härtbares Epoxidharz durch ein Sieb­ druckverfahren in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Abschnitt aufgedruckt, um das am Umfang ver­ laufende Abdichtelement herzustellen. Zum Abdichtelement wurden 3% leitende Kugeln (Sekisui Fine Chemicals Co., Ltd.) als Übertragungsmaterial zugesetzt, um Leitfähigkeit zwischen den Substraten zu erzielen, und es wurden 5% Glas­ fasern zugesetzt, um den Abdichtungszwischenraum aufrechtzu­ erhalten. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungs­ schicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtab­ schirmungsschicht her schwer zu erkennen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet. Es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Ein Einspritzloch und An­ schlussabschnitte wurden hergestellt. Durch ein Vakuumein­ spritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall einge­ spritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudichten. Die Messung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnitte ergab ungefähr 6 µm, was grob der Summe aus der Dicke der Ab­ standshalter und der Dicke der Lichtabschirmungsschicht ent­ sprach. So wurde klargestellt, dass die Abstandshalter nicht in die Lichtabschirmungsschicht eingesunken waren. Ferner lag die Zwischenraumsabweichung im Anzeigeabschnitt inner­ halb von höchstens ungefähr 0,3 µm. Es konnte eine Zelle mit hervorragender Gleichmäßigkeit erhalten werden.

Dann wurde als den Betrachtungswinkel erweiternder Film "WIDE VIEW" (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) an je­ der Seite der Zelle angebracht, und an der Zelle wurden un­ ter vorbestimmten Winkeln eine Paar Polarisatoren so befes­ tigt, dass die Polarisationsachsen parallel zueinander ver­ liefen, wodurch eine Flüssigkristallzelle hergestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde durch ein statisches An­ steuerungsverfahren betrieben. Wenn die Zelle von der Seite des Substrats her betrachtet wurde, auf der die Lichtab­ schirmungsschicht hergestellt war, wurde klargestellt, dass die Zelle bei Betrachtung von vorne hervorragende Erkennbar­ keit mit einem Kontrastverhältnis von 300 : 1 und in einem Bereich von 0°-30° in Bezug auf die Betrachtung unter dem Normalenwinkel ein Kontrastverhältnis von nicht unter 200 : 1 aufwies.

BEISPIEL 8

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Sili­ ciumoxid durch Sputtern mit einer Dicke von ungefähr 20 nm auf einem Glassubstrat hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuder­ beschichtungsverfahren auf das Substrat aufgetragen, um eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke herzustellen. Unter Verwen­ dung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzeigeab­ schnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich von der Au­ ßenseite eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements er­ streckte, das am Umfang der Flüssigkristallzelle anzubringen war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausge­ führt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolations­ widerstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Um für gewünschte Farben zu sorgen, wurden drei Photomasken bereitgestellt, um in Segmentabschnitten lichtdurchlässige Schichten herzustellen, und durch Schleuderbeschichten wur­ den aufeinanderfolgend Farbharze für R, G und Y (V-259R-H, V-259G-H und V-259Y-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) aufgetragen, gefolgt von Belichtungs-, Entwick­ lungs-, Trocknungs- und Brennvorgängen. Der Isolationswider­ stand jedes lichtdurchlässigen Films betrug 3 × 10¹⁴ Ω/. Diese lichtdurchlässigen Schichten wurd 31658 00070 552 001000280000000200012000285913154700040 0002019915740 00004 31539en so hergestellt, dass sie einen Anzeigeabschnitt bedeckten, der geringfügig kleiner als der Außenverlauf der Zelle war, um nicht mit dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement in Kontakt zu stehen. Ferner wurden die Zwischenräume zu 0,3 mm bestimmt, so dass keine Überlappung der Farben vorlag.

Auf dem so hergestellten Farbsubstrat wurde durch ein Sput­ terverfahren bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO von ungefähr 100 nm hergestellt. Der Oberflächenwi­ derstand betrug etwa 30 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photoresist aufgetragen, und dann wurden Belichtungs- und Entwicklungsvorgänge unter Verwendung einer Photomaske aus­ geführt, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Spannung an Segmentabschnitte angelegt wurde. Der über­ flüssige Teil des ITO-Films wurde durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lösung entfernt, wodurch eine transparente Elektrode hergestellt war. Auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden aufeinanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO hergestellt, wodurch eine transparente Elektrode auf dieselbe Weise wie oben hergestellt war.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht und die lichtdurchlässigen Schichten hergestellt waren, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Ausricht­ films zum Erzielen eines Vorkippwinkels von 5° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Um auf dem ge­ genüberstehend anzuordnenden Substrat einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit Titanoxid und Siliciumoxid herzustel­ len, wurde durch ein Sol-Gel-Verfahren eine Filmdruckbear­ beitung ausgeführt. Ein Ausrichtfilm wurde auf dieselbe Wei­ se wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substra­ ten wurde ein Reibvorgang ausgeführt, um einen Verdrillungs­ winkel von 240° zu erzielen.

Auf dem ersten Substrat wurden Abstandshalter mit einem Durchmesser von 6 µm (Sekisui Fine Chemicals Co., Ltd.) ver­ streut angebracht, und auf das zweite, gegenüberstehend an­ zuordnende Substrat wurde Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) durch ein Siebdruckverfahren in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Teil aufge­ druckt, um das am Umfang verlaufende Abdichtelement herzu­ stellen. Zum Abdichtelement wurden 3% leitende Kugeln (Se­ kisui Fine Chemicals Co., Ltd.) als Übertragungsmaterial zugesetzt, um Leitfähigkeit zwischen den Substraten zu er­ zielen. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungs­ schicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtab­ schirmungsschicht her schwer zu erkennen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet, und es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Es wurden ein Einspritz­ loch und Anschlussabschnitte hergestellt. Durch ein Vakuum­ einspritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudich­ ten. Bei der Messung der Streuung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnitte ergab sich eine Streuung von höchstens innerhalb ungefähr 0,3 µm. Es war eine Zelle mit hervorra­ gender Gleichmäßigkeit hergestellt.

Dann wurde ein biaxial gereckter Nacheilungsfilm mit einem vorbestimmten Phasendifferenzwert an jeder Seite der Zelle angeordnet, und ferner wurde an der Außenseite der Nachei­ lungsfilme ein Paar Polarisatoren so befestigt, dass die Polarisationsachsen einander rechtwinklig schnitten, wodurch eine Farbflüssigkristallzelle fertiggestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde durch mit einem Tastverhält­ nis von 1/32 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Wolframlampe als Hintergrundbeleuchtung angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite her betrachtet wurde, auf der die Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, zeigte es sich, dass der Betrachtungswinkel größer als bei der Zelle im TN-System, die mit einem Tastverhältnis von 1/8 betrieben wurde, war, und es war hervorragende Erkennbarkeit erzielt.

BEISPIEL 9

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass auf einem Glassubstrat durch Sputtern eine Alkali­ metalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch Schleuderbeschichten auf das Substrat aufgetra­ gen, um eine Schicht von ungefähr 1 µm Dicke herzustellen. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich von der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssigkristallzelle anzuord­ nen war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isola­ tionswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Um gewünschte Farben zu liefern, wurden drei Photomasken bereitgestellt, um in den Segmentabschnitten lichtdurchläs­ sige Schichten herzustellen, und durch Schleuderbeschichten wurden aufeinanderfolgend Farbharze für R, G und Y (V-259R-H, V-259G-H und V-259Y-H, hergestellt von Nippon Steel Che­ mical Co., Ltd.) aufgetragen, gefolgt von Belichtungs-, Ent­ wicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgängen. Der Isolations­ widerstand der erhaltenen lichtdurchlässigen Filme betrug 3 × 10¹⁴ Ω/. Diese lichtdurchlässigen Schichten waren so hergestellt, dass sie einen Anzeigeabschnitt bedeckten, der geringfügig kleiner als der Außenverlauf der Zelle war, um nicht in Kontakt mit dem am Umfang verlaufenden Abdichtele­ ment zu stehen. Die Zwischenräume zwischen den Farben wurden zu 0,3 mm bestimmt, so dass keine Überlappung von Farben vorlag.

Auf dem so hergestellten Farbsubstrat wurde durch Sputtern bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO von ungefähr 100 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand be­ trug ungefähr 30 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photore­ sist aufgetragen, und dann wurden Belichtungs- und Entwick­ lungsvorgänge unter Verwendung einer Photomaske ausgeführt, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass an den seg­ mentierten Anzeigeabschnitt eine Spannung angelegt wurde. Der überflüssige Teil des ITO-Films wurde durch eine Ätz­ flüssigkeit entfernt, und dann wurde der Resist durch wäss­ rige NaOH-Lösung entfernt, wodurch eine transparente Elek­ trode hergestellt war. Auf dem anderen, gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden aufeinanderfolgend eine Alka­ limetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leit­ fähiger Film aus ITO hergestellt, und eine transparente Elektrode wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht und die lichtdurchlässigen Schichten hergestellt waren, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Ausricht­ films zum Erzielen eines Vorkippwinkels von 5° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Um auf dem ge­ genüberstehend anzuordnenden Substrat einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einem Gemisch von Titanoxid und Sili­ ciumoxid herzustellen, wurde durch ein Sol-Gel-Verfahren eine Filmdruckbearbeitung ausgeführt. Dann wurde ein Aus­ richtfilm auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und ge­ brannt. An den beiden Substraten wurde ein Reibvorgang so ausgeführt, dass zwischen den Substraten ein Verdrillungs­ winkel von 240° erzeugt war.

Auf dem ersten Substrat wurden Abstandshalter mit einem Durchmesser von 6 µm (Sekisui Fine Chemicals Co., Ltd.) ver­ streut angebracht, und auf das zweite Substrat wurde Struct­ bond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) durch ein Sieb­ druckverfahren in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Abschnitt aufgedruckt, um das am Umfang ver­ laufende Abdichtelement herzustellen. Zum Abdichtelement wurden 3% leitende Kugeln (Sekisui Fine Chemicals Co., Ltd.) als Übertragungsmaterial zugesetzt, um Leitfähigkeit zwischen den Substraten zu erzielen. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwer zu erken­ nen.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet. Es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Ein Einspritzloch und An­ schlussabschnitte wurden hergestellt. Dann wurde durch ein Vakuumeinspritzverfahren ein nematischer Flüssigkristall eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudich­ ten. Die Messung der Streuung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnitte ergab eine Streuung von höchstens ungefähr 0,3 µm, und es war eine Zelle mit hervorragender Gleichmä­ ßigkeit erhalten.

Dann wurde ein uniaxial gereckter Nacheilungsfilm auf jeder Seite der Zelle unter einem vorbestimmten Winkel angeordnet, und ein Paar Polarisatoren wurde an den Außenseiten der Nacheilungsfilme unter vorbestimmten Winkeln befestigt, wo­ durch eine Farbflüssigkristallzelle fertiggestellt war.

Die so hergestellte Zelle wurde mit einem Tastverhältnis von 1/32 betrieben. An der Rückseite der Zelle wurde eine Hin­ tergrundbeleuchtung mit einem weißen CCT mit Spektren von R, G und B angeordnet. Wenn die Zelle von der Seite her betr­ achtet wurde, auf der die Lichtabschirmungsschicht herge­ stellt war, ergab sich, dass der Betrachtungswinkel weiter als bei einer Zelle im TN-System war, die mit einem Tastver­ hältnis von 1/8 betrieben wurde, und die Erkennbarkeit war hervorragend.

BEISPIEL 10

Es wurde ein Substrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass durch Sputtern eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid auf einem Glassubstrat hergestellt wurde. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKTS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen, um auf dem Substrat eine Schicht von 1 µm Dicke herzustel­ len. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen segmen­ tierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich ausgehend von der Außenseite eines am Umfang verlaufen­ den Abdichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssig­ kristallzelle herzustellen war, wurde Belichten mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trock­ nungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 3,0, und der Isolationswiderstand betrug 1 × 10¹⁴ Ω/.

Das verwendete Muster war dergestalt, dass eine sogenannte F-Platte, bei der die Lichtabschirmungsschicht auf der Be­ trachterseite angeordnet war, und eine sogenannte R-Platte, bei der die Lichtabschirmungsschicht auf der vom Betrachter abgewandten Seite angeordnet war, abwechselnd positioniert waren. Um für gewünschte Farben zu sorgen, wurden Photomas­ ken bereitgestellt, um in den Segmentabschnitten lichtdurch­ lässige Schichten herzustellen, und durch ein Schleuderver­ fahren wurden aufeinanderfolgend Farbharze für R, G und Y (V-259R-H, V-259G-H und V-259Y-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) aufgetragen, gefolgt von Belich­ tungs-, Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgängen. Der Isolationswiderstand der erhaltenen lichtdurchlässigen Filme betrug 3 × 10¹⁴ Ω/. Diese lichtdurchlässigen Schichten wurden in einem Anzeigeabschnitt hergestellt, der geringfü­ gig kleiner als der Außenverlauf der Zelle war, so dass kein Kontakt mit dem am Umfang verlaufenden Abdichtelement be­ stand. Die Zwischenräume wurden zu 0,3 mm bestimmt, so dass keine Überlappung der Farben vorlag.

Auf dem so hergestellten Farbsubstrat wurde durch Sputtern bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO von ungefähr 100 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand be­ trug ungefähr 30 Ω/. Auf das Substrat wurde ein Photore­ sist aufgetragen, und dann wurden Belichtungs- und Entwick­ lungsvorgänge unter Verwendung einer Photomaske ausgeführt, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Span­ nung an den segmentierten Anzeigeabschnitt angelegt wurde, der so konzipiert war, dass Entsprechung zu den Mustern F und R der Lichtabschirmungsschicht bestand. Dann wurde der überflüssige Teil des ITO-Films durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lösung entfernt, wodurch eine transparente Elektrode hergestellt war. Das Design war dergestalt, dass die Zwischenräume zwi­ schen den Leiterbahnen im ITO-Film mindestens ungefähr 70 µm betrugen und der Bedeckungsanteil des im Anzeigebereich her­ gestellten ITO-Film 90% oder mehr betrug.

Auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden auf­ einanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein transparenter, leitfähiger Film aus ITO hergestellt, und unter Verwendung einer Photomaske, in der die Muster für F und R abwechselnd angeordnet waren, wurde eine transparente Elektrode hergestellt. Der Leiterbahnabstand war so schmal gemacht, dass die Dicke der Leiterbahnen ausreichte, den erforderlichen Leitungswiderstand aufrechtzuerhalten.

Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht und die lichtdurchlässigen Schichten hergestellt waren, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Ausricht­ films zum Erzielen eines Vorkippwinkels von 1,3° ein Film mit einer Dicke von ungefähr 60 nm hergestellt. Um einen Isolierfilm vom organischen Typ mit einem Gemisch von Titan­ oxid und Siliciumoxid auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat herzustellen, wurde durch ein Sol-Gel-Verfahren eine Filmdruckbearbeitung ausgeführt. Ein Ausrichtfilm wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. Auf den beiden Substraten wurde ein Reibvorgang so ausgeführt, dass ein Verdrillungswinkel von 90° gebildet war.

Auf dem ersten Substrat wurden Abstandshalter mit einem Durchmesser von 6 µm (Sekisui Fine Chemicals Co., Ltd.) ver­ streut angebracht, und auf das zweite, gegenüberstehend an­ zuordnende Substrat wurde Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) durch Siebdrucken in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Teil aufgedruckt, um ein am Umfang verlaufendes Abdichtelement herzustellen. Zum Ab­ dichtelement wurden 3% leitende Kugeln (Sekisui Fine Chemi­ cals Co., Ltd.) als Übertragungsmaterial zugesetzt, um Leit­ fähigkeit zwischen den Substraten zu erzielen. Da das Ab­ dichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwer erkennbar.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet. Es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten. Ein Einspritzloch und An­ schlussabschnitte wurden hergestellt. Durch ein Vakuumein­ spritzverfahren wurde ein nematischer Flüssigkristall einge­ spritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudichten. Wenn die Streuung der Zwischenraumsweite der Segmentabschnitte gemessen wurde, lag die Streuung bei einer Abweichung von höchstens ungefähr 0,3 µm, und es war eine Zelle mit hervor­ ragender Gleichmäßigkeit hergestellt.

An den Zellen wurde ein paar Polarisatoren unter vorbestimm­ ten Winkeln so befestigt, dass die Polarisationsachsen auf den beiden Seiten der Zelle parallel zueinander verliefen, wodurch eine Farb-Flüssigkristalldisplayzelle fertiggestellt war.

An der Rückseite der so hergestellten Zelle wurde eine Hin­ tergrundbeleuchtung angeordnet, und die Zelle wurde mit ei­ nem Tastverhältnis von 1/8 betrieben. Wenn die Zelle von der Seite her betrachtet wurde, auf der die Lichtabschirmungs­ schicht hergestellt war, zeigte sich ein großer Betrach­ tungswinkel und hervorragende Erkennbarkeit im Wesentlichen auf dieselbe Weise wie beim Beispiel 1. Ferner konnte bei einer Betrachtung von der Gegenseite hinsichtlich der Licht­ abschirmungsschicht eine Erkennbarkeit erzielt werden, vor­ ausgesetzt, dass sich die Zelle in einem Raum befand, die vergleichbar mit der Erkennbarkeit von der Seite der Licht­ abschirmungsschicht war. Unter der Bedingung direkten Son­ nenlichts war das Leiterbahnmuster nicht erkennbar, obwohl die Lichtreflexion an der Oberseite etwas stark war. Außer­ dem konnte eine Zelle erhalten werden, die in der Praxis verwendbar war.

BEISPIEL 11

Es wurde ein Muttersubstrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass durch Sputtern auf einem Glassubstrat eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid mit ei­ ner Dicke von ungefähr 20 nm hergestellt wurde.

Gemäß den folgenden Schritten wurde ein Modell vorbereitet, bei dem mehrere Flüssigkristalltafeln von 80 mm × 80 mm an­ geordnet waren. Das Material für eine Lichtabschirmungs­ schicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) wurde durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen, um eine Schicht von ungefähr 0,5 µm Dicke her­ zustellen. Unter Verwendung einer Photomaske, die einen seg­ mentierten Anzeigeabschnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich von der Außenseite eines am Umfang verlaufenden Abdichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssigkris­ tallzelle anzubringen war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 1,5, und der Isolationswiderstand betrug 2 × 10¹⁴ Ω/.

Auf dem Substrat wurde durch ein Sputterverfahren bei 230°C ein transparenter, leitfähiger Film von ungefähr 100 nm her­ gestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug ungefähr 30 Ω/. Dann wurde darauf ein Photoresist aufgetragen, und unter Verwendung einer Photomaske, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Spannung an einen segmentierten An­ zeigeabschnitt angelegt wurde, wurden Belichtungs- und Ent­ wicklungsvorgänge ausgeführt. Dann wurde der überflüssige Teil des ITO-Films durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lösung entfernt, wo­ durch ein Elektrodensubstrat hergestellt war.

Auf einem anderen, gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden aufeinanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein ITO-Film hergestellt, und ein Elektrodensub­ strat wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt war.

Auf dem Substrat mit der Lichtabschirmungsschicht versehenen Substrat wurde durch Umdruck unter Verwendung eines Aus­ richtfilms vom Polyimidtyp ein Film von ungefähr 60 nm her­ gestellt.

Um auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid herzustellen, wurde durch ein Sol-Gel-Verfahren eine Filmdruckbearbeitung ausgeführt. Dann wurde ein Ausrichtfilm auf dieselbe Weise wie oben herge­ stellt und gebrannt. An den beiden Substraten wurden Reib­ vorgänge ausgeführt, um den Flüssigkristall parallel in der­ selben Richtung auszurichten.

Auf dem ersten Substrat wurden Siliciumoxidkugeln mit einem Durchmesser von 1,5 µm (hergestellt von Shokubai Kasei Kogyo K. K.) verstreut angebracht, und auf das zweite, gegenüber­ stehend anzuordnende Substrat wurde durch ein Siebdruckver­ fahren Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) aufgedruckt, um in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Abschnitt und einem mit der Lichtabschir­ mungsschicht bedeckten Anzeigeabschnitt eine stützsäulenför­ mige Anordnung zu erzeugen. Auf das gegenüberstehend anzu­ ordnende Substrat wurde ein leitfähige Kugeln enthaltendes Abdichtelement an einer Position aufgedruckt, an der die Elektrode ausgebildet war, so dass Leitfähigkeit zwischen den Substraten erzielt wurde. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht ausgebildet war, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwer erkennbar.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet. Es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Abdichtelement auszuhärten, um dadurch eine leere Flüs­ sigkristallzelle herzustellen. Es wurden ein Einspritzloch und Anschlussabschnitte hergestellt. Die leere Flüssigkris­ tallzelle und das Einspritzloch wurden erwärmt, und durch ein Vakuumeinspritzverfahren wurde ein antiferroelektrischer Flüssigkristall in isotropem Zustand eingespritzt. Dann wur­ de ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz auf das Ein­ spritzloch aufgetragen, um es abzudichten. Wenn die Streuung des Zwischenraums in den Segmentabschnitten gemessen wurde, lag sie innerhalb einer Abweichung von höchstens ungefähr 0,1 µm. So war eine Zelle mit hervorragender Gleichmäßigkeit hergestellt. In diesem Fall war der verwendete antiferro­ elektrische Flüssigkristall eine Mischung mit einer Phasen­ reihe "isotroper Zustand - SmA - SmCA* - Kristall", und er zeigte in einem Temperaturbereich von ungefähr -10°C - unge­ fähr +60°C antiferroelektrische Eigenschaften (SmCA*).

An den beiden Seiten der Zelle wurde unter vorbestimmten Winkeln ein Paar Polarisatoren so befestigt, dass die Pola­ risationsachsen einander rechtwinklig schnitten, und unter der Bedingung, dass keine Spannung angelegt war, wurde ein Lichtsperrzustand erzielt, wodurch eine antiferroelektrische Flüssigkristalldisplaytafel fertiggestellt war.

An der Rückseite der Zelle wurde eine Hintergrundbeleuchtung mit einem CCT angeordnet. Wenn entsprechend einem zeilense­ quenziellen Adressierverfahren unter Verwendung von Spei­ chern eine 16-Zeilen-Ansteuerung ausgeführt wurde, konnten ein weiter Betrachtungswinkel und hervorragende Erkennbar­ keit erzielt werden.

BEISPIEL 12

Es wurde ein Muttersubstrat verwendet, das dadurch erhalten worden war, dass durch Sputtern auf dem Glassubstrat eine Alkalimetalle verhindernde Schicht aus Siliciumoxid mit ei­ ner Dicke von ungefähr 20 nm hergestellt wurde. Gemäß den folgenden Schritten wurde ein Modell bereitgestellt, bei dem mehrere Flüssigkristalltafeln von 80 mm × 80 mm angeordnet waren. Das Material für eine Lichtabschirmungsschicht (V-259BKIS-H, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd,) wurde durch Schleuderbeschichten aufgetragen, um eine Schicht von ungefähr 0,5 µm Dicke herzustellen. Unter Ver­ wendung einer Photomaske, die einen segmentierten Anzeigeab­ schnitt und einen Abschnitt bedeckte, der sich ausgehend von der Außenseite des am Umfang verlaufenden Abdichtelements erstreckte, das am Umfang der Flüssigkristallzelle anzubrin­ gen war, wurde Belichtung mit Licht von 300 mJ ausgeführt. Dann wurden Entwicklungs-, Trocknungs- und Brennvorgänge ausgeführt. Der OD-Wert des Films betrug 1,5, und der Isola­ tionswiderstand betrug 2 × 10¹⁴ Ω/.

Auf dem Substrat wurde durch Sputtern bei 230°C ein transpa­ renter, leitender Film von ungefähr 100 nm hergestellt. Der Oberflächenwiderstand betrug ungefähr 30 Ω/. Es wurde ein Photoresist aufgetragen, und dann wurden unter Verwendung einer Photomaske, unter Verwendung einer Photomaske, die einen Leiterbahnabschnitt bedeckte, so dass eine Spannung an einen segmentierten Anzeigeabschnitt angelegt wurde, Belich­ tungs- und Entwicklungsvorgänge ausgeführt. Der überflüssige Teil des ITO-Films wurde durch eine Ätzflüssigkeit entfernt, und der Resist wurde durch wässrige NaOH-Lösung entfernt, wodurch ein Elektrodensubstrat hergestellt war. Auf einem anderen, gegenüberstehend anzuordnenden Substrat wurden auf­ einanderfolgend eine Alkalimetalle verhindernde Schicht und ein ITO-Film hergestellt, um aufs dieselbe Weise wie oben ein Elektrodensubstrat herzustellen. Auf dem Substrat, auf dem die Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, wurde durch ein Umdruckverfahren unter Verwendung eines Ausrichtfilms vom Polyimidtyp ein Film von ungefähr 60 nm Dicke herge­ stellt. Um auf dem gegenüberstehend anzuordnenden Substrat einen Isolierfilm vom anorganischen Typ mit einer Mischung von Titanoxid und Siliciumoxid herzustellen, wurde durch ein Sol-Gel-Verfahren eine Filmdruckbearbeitung ausgeführt. Ein Ausrichtfilm wurde auf dieselbe Weise wie oben hergestellt und gebrannt. An den beiden Substraten wurde ein Reibvorgang ausgeführt, um den Flüssigkristall parallel in derselben Richtung auszurichten.

Auf dem ersten Substrat wurden Siliciumoxidkugeln mit einem Durchmesser von 1,5 µm (Shokubai Kasei Kogyo K.K.) verstreut angeordnet. Auf das zweite, gegenüberstehend anzuordnende Substrat wurde Structbond (Handelsname) (Mitsui Chemicals, Inc.) durch Siebdruck aufgedruckt, um in einem dem Umfang der Flüssigkristallzelle entsprechenden Abschnitt und einem mit der Lichtabschirmungsschicht bedeckten Anzeigeabschnitt eine stützsäulenähnliche Anordnung zu schaffen. Auf das zweite Substrat wurde im Abschnitt, in dem die Elektrode hergestellt war, ein Abdichtelement aufgedruckt, das leitfä­ hige Kugeln enthielt, um Leitfähigkeit zu erzielen. Da das Abdichtelement auf der Lichtabschirmungsschicht hergestellt war, war es von der Seite der Lichtabschirmungsschicht her schwer erkennbar.

Diese Substrate wurden einander gegenüberstehend angeordnet. Es wurde ein Thermokompressions-Bondschritt ausgeführt, um das Material auszuhärten, um eine leere Flüssigkristallzelle herzustellen. Es wurden ein Einspritzloch und Anschlussab­ schnitte hergestellt. Dann wurde die leere Flüssigkristall­ zelle und das Einspritzloch erwärmt, und durch ein Vakuum­ einspritzverfahren wurde ein antiferroelektrischer Flüssig­ kristall im nematischen oder isotropen Zustand eingespritzt. Auf das Einspritzloch wurde ein durch UV-Strahlung härtbares Epoxidharz aufgetragen, um es abzudichten. Beim Messen der Zwischenräume der Segmentabschnitte ergab sich eine Abwei­ chung von höchstens ungefähr 0,1 µm, und es konnte eine Zel­ le mit hervorragender Gleichmäßigkeit erhalten werden. In diesem Fall war der verwendete ferroelektrische Flüssigkris­ tall eine Mischung mit einer Phasenreihe von "isotroper Zu­ stand - N - SmA - SmC* - Kristall", und er zeigte im Tempe­ raturbereich von ungefähr -10°C - ungefähr +60°C ferroelek­ trische Eigenschaften (SmC*).

Dann wurden an der Zelle unter vorbestimmten Winkeln in Be­ zug auf die Ausrichtung der Flüssigkristallmoleküle ein Paar Polarisatoren so befestigt, dass sich die Polarisationsach­ sen rechtwinklig schnitten, und Lichtabschirmung und Licht­ transmission wurden durch Anlegen einer Spannung geschaltet, wodurch eine ferroelektrische Flüssigkristalldisplaytafel fertiggestellt war.

An der Rückseite der so hergestellten Zelle wurde eine Hin­ tergrundbeleuchtung mit einem CCT angeordnet. Wenn gemäß einem zeilensequenziellen Adressierverfahren unter Verwen­ dung von Speichern eine 16-Zeilen-Ansteuerung ausgeführt wurde, konnte eine Zelle mit großem Betrachtungswinkel und hervorragender Erkennbarkeit erzielt werden.

INDUSTRIELLE ANWENDBARKEIT

Wie oben beschrieben, sind beim erfindungsgemäßen Flüssig­ kristalldisplay die Zwischenraumsweiten in der Zelle gleich­ mäßig und kleiner. Daher sind die folgenden Vorteile erziel­ bar: die Verfärbung im Anzeigeabschnitt kann minimiert wer­ den; der Bereich der Auswahl des Anzeigemodus, des optischen Designs der Zelle, des Flüssigkristallmaterials usw. kann vergrößert werden; es ist ein Display mit hohem Konstrast­ verhältnis, weiterem Betrachtungswinkelbereich und höherer Ansprechgeschwindigkeit erzielbar, und das Enderzeugnis ver­ fügt über hervorragendes Aussehen.

Ferner kann, da die Isoliereigenschaften der Lichtabschir­ mungsschicht hoch sind, die transparente Elektrode unmittel­ bar auf dieser hergestellt werden, wodurch die Herstell­ schritte vereinfacht werden können und die Zuverlässigkeit hinsichtlich der transparenten Elektrode an den Anschlussab­ schnitten erhöht ist.

Ferner kann, wenn sich die Lichtabschirmungsschicht bis un­ ter das am Umfang verlaufende Abdichtelement oder bis zu dessen Innenrand erstreckt, das Auslecken von Licht wir­ kungsvoll ohne weitere Lichtabschirmungsschicht verhindert werden, und es kann die wirksame Anzeigefläche erhöht wer­ den.

Ferner besteht, da das stützsäulenförmige Element aus dem­ selben Material wie dem des am Umfang verlaufenden Abdichte­ lements in mindestens einem Teil der Lichtabschirmungs­ schicht im Anzeigebereich angeordnet ist, keine Gefahr eines Aufweitens des zentralen Teils der Zelle, wenn kein Abdicht­ verfahren unter Druck ausgeführt wird, und zwar selbst bei einer Flüssigkristallzelle, bei der es herkömmlich schwierig war, gleichmäßige Zwischenräume herzustellen. Demgemäß kann eine Zelle mit Gleichmäßigkeit der Eigenschaften hergestellt werden. Insbesondere benötigte bei der herkömmlichen Technik eine STN verwendende Zelle ein Abdichtverfahren unter Druck. Beim oben genannten Aufbau kann jedoch eine Zelle mit gleichmäßigen Zwischenräumen erhalten werden, ohne ein Ab­ dichtverfahren unter Druck auszuführen. In diesem Fall ist es nicht erforderlich, ein Abdichtelement für die Stützsäule bereitzustellen, da das Abdichtelement und die Stützsäule aus demselben Material wie dem des am Umfang verlaufenden Abdichtelements besteht.

Im Fall eines Flüssigkristalldisplays unter Verwendung eines ferroelektrischen Flüssigkristalls oder eines antiferroelek­ trischen Flüssigkristalls, der keine Selbstreparatureigen­ schaften zeigt, wenn die Ausrichtung gestört wird, kann das Anbringen der Stützsäule die Gleichmäßigkeit der Zwischen­ räume verbessern und Ausrichtungsstörungen durch externe Belastungen, Stöße oder Schwingungen vermeiden. Eine derar­ tige Struktur ist dann besonders wirkungsvoll, wenn das Flüssigkristalldisplay in einem Fahrzeug anzubringen ist oder es ein tragbares Flüssigkristalldisplay ist.

Anzeigetafeln mit Lichtabschirmungsschicht wurden für Pro­ jektionsanzeigen wie Überkopfanzeigen verwendet. Da jedoch durch das herkömmliche Druckverfahren in der Lichtabschir­ mungsschicht kein feines Muster erzeugt werden konnte, be­ trug die Vergrößerung bei einer Projektionsanzeige höchstens zwei. Jedoch ist gemäß der Erfindung eine Feinbearbeitung möglich, da ein Photolithographieverfahren verwendet werden kann, und es kann eine Qualität bereitgestellt werden, die eine Vergrößerung von drei oder mehr bei der Projektion er­ möglicht.

Ferner wurde als Hintergrundbeleuchtung, bei der keine be­ sondere Farbklarheit erforderlich ist, eine Wolframlampe, eine Xenonlampe oder ein EL verwendet. Jedoch kann gemäß der Erfindung eine Zelle mit hoher Farbechtheit in Kombination mit einer Hintergrundbeleuchtung wie einer weißen LED erhal­ ten werden.

Offensichtlich sind angesichts der obigen Lehren zahlreiche Modifizierungen und Variationen der Erfindung möglich. Daher ist zu beachten, dass die Erfindung innerhalb des Schutzum­ fangs der beigefügten Ansprüche auf andere Weise realisiert werden kann, als dies hier speziell beschrieben ist.

Claims (17)

1. Transmissives Flüssigkristalldisplay mit einer Flüssig­ kristallschicht, einem Paar transparenter Substrate, die einander gegenüberstehend angeordnet sind und mit einem am Umfang verlaufenden Abdichtelement verbunden sind, um die Flüssigkristallschicht einzubetten, einem Polarisator, der an der Außenseite jedes der transparenten Substrate ange­ bracht ist, einer Beleuchtungseinrichtung, die an der Rück­ seite eines Polarisators an der Rückseite in Bezug auf eine Anzeigeseite vorhanden ist, einer Lichtabschirmungsschicht, die an der Innenseite eines der transparenten Substrate an Positionen vorhanden ist, die einem Nichtanzeigebereich und einem Nichtanzeigeabschnitt ausschließlich eines Abschnitts, der einem Anzeigemuster in einem Anzeigebereich entspricht, entsprechen, und einer im Anzeigebereich ausgebildeten transparenten Elektrode, wobei an einen gewünschten Ab­ schnitt der transparenten Elektrode im Anzeigemuster eine ausreichende Spannung zum Aktivieren der Flüssigkristall­ schicht angelegt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Nichtanzeigeabschnitt im Anzeigebereich mehrere Teilab­ schnitte von nicht weniger als 1 mm × 1 mm aufweist; die Lichtabschirmungsschicht aus einem photoempfindlichen Licht­ abschirmungsharz besteht, in dem eine Strukturierung ausge­ führt wurde und das elektrische Isolationseigenschaften nicht unter 10¹² Ω/ hinsichtlich des Isolationswiderstands und eine optische Dichte (OD-Wert) nicht unter 2,0 pro Film­ dicke von 1 µm aufweist.

2. Flüssigkristalldisplay nach Anspruch 1, bei dem die transparente Elektrode unmittelbar auf der Lichtabschir­ mungsschicht auf einem der transparenten Substrate ausgebil­ det ist, ohne dass eine isolierende Glättungsschicht einge­ fügt ist.

3. Flüssigkristalldisplay nach Anspruch 1 oder 2, bei dem in mindestens einem Teil der Lichtabschirmungsschicht im Anzeigebereich eine Stützsäule aus demselben Material wie dem des am Umfang verlaufenden Abdichtelements vorhanden ist.

4. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem eine lichtdurchlässige Schicht mit vorbestimmter Transmissionsfarbe so hergestellt ist, dass sie einen dem Anzeigemuster entsprechenden Abschnitt bedeckt, und der lichtdurchlässige Film aus einem photoempfindlichen Harzma­ terial mit einem Isolationswiderstandswert nicht unter 10¹² Ω/, in dem Strukturierung ausgeführt wurde, besteht.

5. Flüssigkristalldisplay nach Anspruch 4, bei dem die transparente Elektrode unmittelbar auf der Lichtabschir­ mungsschicht und der lichtdurchlässigen Schicht auf dem ei­ nen der transparenten Substrate ohne Einfügung einer isolie­ renden Glättungsschicht hergestellt ist.

6. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüs­ sigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von ungefähr 90° zwischen den transparenten Substraten ist; das Paar Po­ larisatoren so angeordnet ist, dass ihre Polarisationsachsen parallel verlaufen; und der zwischen der Flüssigkristall­ schicht und den transparenten Substraten erzeugte Vorkipp­ winkel 1,5° oder weniger beträgt.

7. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüs­ sigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von ungefähr 90° zwischen den transparenten Substraten ist; das Paar Po­ larisatoren so angeordnet ist, dass ihre Polarisationsachsen einander rechtwinklig schneiden; und das Produkt Δnd aus der Brechungsindexanisotropie Δn des nematischen Flüssigkris­ talls und dem Abstand d zwischen den transparenten, leitfä­ higen Filmen, die das Anzeigemuster bilden, im Bereich von 4-6 µm liegt.

8. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüs­ sigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von 70-80° zwischen den transparenten Substraten ist; das Paar Polari­ satoren so angeordnet ist, dass der durch ihre Polarisati­ onsachsen gebildete Schnittwinkel 70-80° beträgt; und das Produkt und aus der Brechungsindexanisotropie Δn des nemati­ schen Flüssigkristalls und dem Abstand zwischen den transpa­ renten leitenden Filmen, die das Anzeigemuster bilden, im Bereich von 4-6 µm liegt.

9. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüs­ sigkristallschicht mit einem Verdrillungswinkel von 180-270° zwischen den transparenten Substraten ist; zwischen mindestens einem der Polarisatoren und dem im gegenüberste­ henden transparenten Substrat ein Nacheilungsfilm angeordnet ist; und das Paar Polarisatoren so angeordnet ist, dass Lichtabschirmung und Lichttransmission durch Anlegen einer Spannung geschaltet werden.

10. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Flüssigkristallschicht ein ferroelektrischer Flüssigkristall oder ein antiferroelektrischer Flüssigkris­ tall ist; das Paar Polarisatoren so angeordnet ist, dass ihre Polarisationsachsen einander im Wesentlichen rechtwink­ lig schneiden; und Lichtabschirmung und Lichttransmission durch Anlegen einer Spannung geschaltet werden.

11. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüs­ sigkristallschicht ist und das Tastverhältnis zum Ansteuern der nematischen Flüssigkristallschicht 1/1-1/33 beträgt.

12. Flüssigkristalldisplay nach Anspruch 7 oder Anspruch 8, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nematische Flüssig­ kristallschicht ist und das Tastverhältnis zum Ansteuern der nematischen Flüssigkristallschicht 1/1-1/4 beträgt.

13. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 8, 11 und 12, bei dem die Flüssigkristallschicht eine nema­ tische Flüssigkristallschicht ist, die einen dichroitischen Farbstoff enthält.

14. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 13, bei dem die Beleuchtungseinrichtung eine Weißlichtquelle mit Spektren der drei Farben R, G und B enthält.

15. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 14, bei dem das Licht abschirmende Harzmaterial ein Harzma­ terial ist, das dadurch erhalten wurde, dass eine Harzzusam­ mensetzung polymerisiert wurde, die ein Säureaddukt eines alkalisch löslichen Epoxidacrylats, einschließlich eines isolierenden Kohlenstoffs, enthält.

16. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 4 bis 15, bei dem das Harzmaterial für die lichtdurchlässige Schicht ein Harzmaterial ist, das dadurch erhalten wurde, dass eine Harzzusammensetzung polymerisiert wurde, die ein Säureaddukt eines alkalisch löslichen Epoxidacrylats, ein­ schließlich eines isolierenden Kohlenstoffs, enthält.

17. Flüssigkristalldisplay nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die Lichtabschirmungsschicht im unteren Teil des am Umfang verlaufenden Abdichtelements vorhanden ist und der Randabschnitt der Lichtabschirmungsschicht über den gesamten Umfang innerhalb der Breite des am Umfang verlaufenden Ab­ dichtelements liegt.