DE19539760C2 - Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik - Google Patents

Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik

Info

Publication number
DE19539760C2
DE19539760C2 DE1995139760 DE19539760A DE19539760C2 DE 19539760 C2 DE19539760 C2 DE 19539760C2 DE 1995139760 DE1995139760 DE 1995139760 DE 19539760 A DE19539760 A DE 19539760A DE 19539760 C2 DE19539760 C2 DE 19539760C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
rinsing
water
goods
batch
electroplating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE1995139760
Other languages
English (en)
Other versions
DE19539760A1 (de
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MANZ GALVANOTECHNIK GmbH
Original Assignee
MANZ GALVANOTECHNIK GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MANZ GALVANOTECHNIK GmbH filed Critical MANZ GALVANOTECHNIK GmbH
Priority to DE1995139760 priority Critical patent/DE19539760C2/de
Publication of DE19539760A1 publication Critical patent/DE19539760A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19539760C2 publication Critical patent/DE19539760C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/08Rinsing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

In Anlagen zur chemischen und/oder galvanischen Behandlung von Gütern an Gestellen, in Trommeln oder Körben muß nach jeder Behandlungsstufe, die Chemikalien enthält, gespült werden, um die verschleppten Behandlungslösungen zu verdünnen.
Die zu treffenden Maßnahmen beziehen sich auf drei Aufgabenbereiche:
  • 1. Umweltschutz.
  • 2. Prozeßbeherrschung.
  • 3. Qualitätssicherung.
Nach dem Stand der Technik sind mehrere Methoden für Spülsysteme bekannt, die meistens mit Rückführ-, Recycling- oder Verdampfungssystemen gekoppelt sind.
Schwachpunkt aller bisher bekannten Spülsysteme ist es, die jeweils notwendige Zugabemenge von Frischwasser während der Produktionsabfolgen für den Spül- und Abwasserkreislauf so einzustellen, daß das Gleichgewicht der Spülwasserqualität in jeder Spülstufe gesichert ist, die Frischwasserzufuhr dem technologischen Bedarf entspricht und ein unnötig hoher Wasserverbrauch vermieden wird.
Ein sparsamer Umgang mit Wasser in den Spül- und Abwasserkreisläufen setzt voraus, daß immer nur soviel Wasser in die Arbeitskreisläufe zugeführt wird wie zur Aufrechterhaltung der Prozeßsicherheit und der Abwasseraufbereitung erforderlich ist.
Zur generellen Reduzierung des Wasserverbrauchs bei Anlagen für die Galvano- und Oberflächentechnik kommen Standspülen, Mehrfachspülsysteme und Kaskadenspülsysteme zur Anwendung zur Wasseraufbereitung sind in der Praxis die Spül- und Abwasserkreisläufe mit Rückführ- und/oder Recyclingsytemen verbunden. Bisherigen Veröffentlichungen sind alle diesbezüglichen Zusammenhänge zu entnehmen. Eine Übersicht bietet das "Handbuch der Abwasser- und Recyclingtechnik" von Hartinger, erschienen 1990 im Carl Hanser Verlag, München und die Aufsatzreihe von Winkler, "Spülen, Qualitätssicherung und Umweltschutz" erschienen in den Ausgaben 9/94, 10/94, 11/94, 12/94, 3/95, 4/95, 5/95 und 9/95 in der Fachzeitschrift Galvanotechnik, Eugen G. Leuze Verlag, Saulgau.
In der Praxis der Anwendungstechnik bleibt es wegen fehlender praxisgerechter Automatisierungsmöglichkeiten dem Bedienungspersonal überlassen die Wasserzufuhr für Spülsysteme von Hand einzustellen. Dies führt dazu, daß der "Wasserhahn" fast immer weiter aufgedreht wird als erforderlich um auf der sogenannten sicheren Seite zu liegen. Das Wasser läuft dann kontinuierlich von Schichtbeginn bis zum Ende einer Schicht ohne Rücksicht auf Betriebszustände während der Produktion, bei denen sich der Spülwasserbedarf ändert. Zur Vermeidung solcher Zustände wurde vorgeschlagen den Wasserzufluß in die Spül- und/oder Abwasserkreisläufe in Abhängigkeit von der Änderung der Leitfähigkeit von Flüssigkeiten in den relevanten Prozeßstationen zu steuern. Diese Methode der automatischen Steuerung der Wasserversorgung ist aber nur bedingt brauchbar, weil zum Beispiel nach der Einschleppung von 1 Liter Elektrolyt in ein Spülbad von 1000 Liter Inhalt eine sichere Messung erst dann möglich ist, wenn eine 100%ige Durchmischung zwischen dem einen Liter und den 1000 Litern stattgefunden hat. Eine weitere Voraussetzung für ein brauchbares Meßergebnis ist die laufende Wartung der Meßelektrode. Hinzu kommt noch der Umstand, daß nicht alle Chemikalien und sonstigen Badzusätze mittels Leitwertmessung zu erfassen sind.
Die Mängel, mit denen die Leitfähigkeitsmeßmethoden zur Steuerung der Wasserdosierung zum Zwecke der Wassereinsparung und zur Sicherung der Prozeßfähigkeit für Anlagen der Galvano- und Oberflächentechnik behaftet ist, sind ein Grund dafür, daß in der Betriebspraxis noch immer in sehr großem Umfang auf eine automatische Steuerung der Frischwasserzufuhr verzichtet wird.
Die Folge ist ein unnötig hoher Wasserverbrauch, der erhöhte Betriebs- und Betriebsmittelkosten verursacht. Ein weiterer Nachteil der bisher bekannten Steuerungen für die Wasserdosierung in Spülsystemen ist darin zu sehen, daß aus technischen und kostenmäßigen Gründen nicht alle relevanten Naß-Stationen in ein ganzheitlich wirkendes Meß-, Regel- und Steuersystem einbezogen werden können; Störungen in der Prozeßführung, bei der Spülwasserdosierung und im Bereich der Abwasseraufbereitung sind deshalb nicht immer mit Sicherheit zu vermeiden.
Es ist die Aufgabe, die Nachteile des Standes der Technik zu vermeiden.
Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen die Zudosierung von Frischwasser in die Spülsysteme und das Nachfüllen von chemischen Bädern aus den sogenannten Sparspülen davon abhängig zu machen, welche Menge von Behandlungslösungen während der einzelnen Prozeßschritte im Verlauf der Prozeßabfolgen von Bad zu Bad tatsächlich verschleppt wird. Die Anwendung dieser Technik ist bei allen bekannten Ausführungen von Spülabfolgen, die mit Pumpen, Magnetventilen oder als Kaskade arbeiten, möglich. Besondere Prozeßabfolgen ergeben sich zum Beispiel auch während der Ein- und Auslaufzeiten bei Trommelanlagen, die bis zu 2 Stunden dauern, sowie bei sogenannten Leertakten und beim Transport nicht gefüllter Trommeln durch die Produktionsanlage, was in der Betriebspraxis immer wieder vorkommt. Sehr unterschiedliche Verschleppungsraten bestehen beispielweise auch zwischen Trommel- und Gestellchargen. Arbeitet eine Anlage im Mischbetrieb für Trommel- und Gestellware, ist es erforderlich, im Verlauf der Produktionsabfolgen die Wasserdosierung für die Spülstufen der jeweiligen Verschleppungsrate anzupassen.
Die nachfolgende Beschreibung bezieht sich exemplarisch auf eine Galvano-Trommelanlage.
Zur individuellen Steuerung der Wasserzufuhr in Spül- und/oder Abwasserkreisläufe mittels Pumpen, Magnetventilen oder über Kaskaden ist erfindungsgemäß vorgesehen, die Menge der Wasserdosierung für Spülprozesse und das Aufgüllen von Bädern aus den Standspülen von der jeweiligen aktuellen Verschleppungsmenge beim Warentransport durch eine Anlage abhängig zu machen. Als Bezugsgröße dient dabei die Warenoberfläche, die Warenart und der Verschleppungsfaktor von Leertrommeln, wobei sich aus der Warenoberfläche und der Warenart ein Multiplikator für die jeweils tatsächliche Beladung einer Trommel ergibt.
Beispiel
Verschleppungsmenge einer bestimmten Leertrommel 0,5 Liter.
Verschleppungsmenge einer bestimmten Warensorte von 1 kg mit einer bestimmten Oberfläche 0,04 Liter.
Wird nun eine Trommel mit 65 kg Ware beladen, so ist die Verschleppungsmenge:
Trommelanteil 0,5 Liter
Warenanteil (65 kg × 0,04 Ltr.) 2,6 Liter
Gesamtverschleppung 3,1 Liter
Für jede Charge mit einem bestimmten Warensortiment wird der Verschleppungsfaktor nach betriebsinternen Möglichkeiten ermittelt, wie zum Beispiel:
  • 1. durch analytische Messungen im Bereich der Spülbäder während einer oder mehrerer Produktionsabfolgen,
  • 2. in Anlehnung an den benötigten Galvanisierstrom, der in einem direktem Verhältnis zur Warenoberfläche und damit auch zum Ladegewicht steht, oder
  • 3. aus Erfahrungswerten der Betriebspraxis.
Beim Einlauf einer Charge in die Anlage werden die für diese Charge gültigen Bezugswerte in ein Steuersystem eingegeben, wobei der Bezugswert für die Trommel bereits in der Steuerung abgelegt ist. Die Abfolge der Trommel durch die Anlage wird von der Steuerung verfolgt, der Spülwasserfluß und die Wasserzufuhr wird für jede Spülstation bedarfsspezifisch optimiert.
Der Nachschub an Frischwasser in die Behandlungsstationen erfolgt nach individuellen Erfordernissen der Prozeß- und Abwassersicherheit. Da ohne zusätzlichen Aufwand alle Naß-Stationen über das Steuersystem erfaßt werden können, ist es auch möglich, das Nachfüllen chemischer Bäder aus den Sparspülen zu automatisieren und überschüssiges Wasser der Wiederaufbereitung zuzuführen.
Der "aufgedrehte Wasserhahn" gehört damit der Vergangenheit an, das für die Prozeßabfolgen notwendige Gleichgewicht der Badkonsistenz wird sichergestellt und damit werden die Betriebsbedingungen für Umweltschutz, Prozeßbeherrschung und Qualitätssicherung besser als bisher erfüllt.
Die Erfindung wird an schematisch dargestellten Beispielen beschrieben, sie beschränken sich auf das wesentliche der erfindungsgemäßen Vorrichtungen und Verfahren; dem Fachmann bekannte und geläufige Konstruktionsmerkmale wurden zeichnerisch nicht berücksichtigt.
Ein Beispiel für den prinzipiellen Aufbau einer Galvanoanlage ist in Fig. 1 schematisch dargestellt. Der Transport von Chargen wie Gestellen [19], Trommeln [20] oder Körben [21] erfolgt bei einer solchen Anlage in bekannter Weise durch automatisch gesteuerte Transportsysteme, die zum Stand der Technik gehören; sie sind in die Zeichnung Fig. 1 nicht einbezogen. Beim Transport der Chargen durch eine Badreihe [1] bis [10] ist die jeweils erforderliche Spülwassermenge, die den Spülbädern nach den Prozeßbädern [1], [5] und [9] zuzuführen ist, meistens unterschiedlich.
Die jeweils erforderliche Spülqualität ist abhängig von dem benötigten Verdünnungsfaktor bzw. von der zulässigen Restkonzentration. Dem Fachmann ist bekannt, daß nach einer chemischen Entfettung die Restkonzentration wesentlich höher liegen darf als beispielweise nach einem Nickelbad.
Verdünnungsfaktoren für einige Elektrolyte, die nach dem Stand der Technik einzuhalten sind:
Entfettungen 150-200,
Verzinkung 1000-2000,
Glanzvernicklung 5000-7000 und
Glanzchrom 10 000-15 000.
Um die dafür benötigte Menge an Spülwasser drastisch zu reduzieren, werden in bekannter Weise Mehrfachspülen, in unterschiedlichen Konfigurationen, eingesetzt. Bestehen bleibt aber die Tatsache, daß letztlich die benötigte Frischwassermenge von der Verschleppung an Chemikalien in das Spülwassersystem abhängt, und daß diese Verschleppungsmenge in einem direkten Verhältnis zu
  • 1. Warenoberfläche,
  • 2. der Warenform, wie zum Beispiel schöpfende Teile, und
  • 3. bei Trommelanlagen zu der Eigenverschleppung der Trommel steht.
Erfindungsgemäß wird deshalb vorgeschlagen, aus den drei vorgenannten Einflußgrößen einen Bezugswert zu ermitteln, der chargenspezifisch angewendet werden kann und der den Wasserfluß in einem Spülsystem mittels Datenverarbeitung steuert. Mengenabhängige Bezugswerte bei der Trommelgalvanisierung können beispielweise aus einer Wägevorrichtung automatisch in ein Steuersystem übertragen werden.
Die erste Prozeßgruppe besteht aus dem Prozeßbad [1] und den Spülbädern [2] bis [4], die zweite Prozeßgruppe aus dem Prozeßbad [5] und den Spülbädern [6] bis [8] und die dritte Prozeßstufe aus dem Prozeßbad [9] und dem Spülbad [10] mit Brausevorrichtung [22]. Sie stellen den prinzipiellen Aufbau bekannter Spülsysteme dar, die in mannigfaltiger Weise variierbar, kombinierbar und in der Anzahl der Spülstationen erweiterbar sind.
Die Zuleitung von Frischwasser in die Spülbäder [4], [8] und [10] erfolgt über die Magnetventile [14, 15, 16], die in Abhängigkeit vom tatsächlichen Wasserbedarf gesteuert werden. Das Umsetzen von Spülwasser aus den Spülen [4, 8 und 10] in vorgeschaltete Bäder erfolgt durch Pumpen oder mittels Kaskadentechnik. Entscheidend dabei ist, daß die Magnetventile und Pumpen erst dann in Aktion gesetzt werden, wenn eine Charge die entsprechende Badstation erreicht und die Wasserzufuhr bedarfsspezifisch begrenzt wird.
Wenn man bedenkt, daß in der Praxis beim Betrieb von Trommelanlagen beim Anfahren einer Anlage zu Betriebsbeginn die letzte Prozeßstufe erst nach ca. 2 Stunden erreicht wird und bei Betriebsende die erste Prozeßstufe bis zum Auslauf der Schicht nicht mehr beschickt wird, ist leicht zu erkennen, wie wichtig es ist, die Wasserzufuhr auch für diese Betriebsphasen bedarfsspezifisch zu steuern, um Ressourcen zu sparen und die Betriebskosten zu senken.
In Fig. 2 ist nur eine Prozeßgruppe dargestellt, um das erfindungsgemäße Prinzip der Wasserdosiereinrichtung für Spülsysteme und das Weiterleiten von angereichertem Spülwasser aus der Standspüle [2] in das Prozeßbad [1] in weiteren Einzelheiten zu beschreiben. Bei Betriebsbeginn wird das Ventil [13] geöffnet, es fließt aber noch kein Wasser in das Spülsystem, da das Dreiwegeventil [14a] noch geschlossen ist. Erst wenn eine Trommel [20] die Spülstufen durchläuft, wird in Abhängigkeit von den in der Steuerung abgelegten Bezugsdaten die vorbestimmte Menge an Frischwasser dem Spülbad [4] direkt und/oder über die Brausevorrichtung [22] zugegeben. Der Transport von Spülwasser aus dem Spülbad [4] in das Spülbad [3] und aus [3] in das Spülbad [2] erfolgt bei diesem Beispiel mittels der Pumpen [23] bzw. [24], die ebenfalls bedarfsabhängig von den in dem Datenspeicher [11] abgelegten Daten über das Steuerwerk [12] gesteuert werden. Als Datenspeicher und Steuergerät bieten sich beispielweise SPS-Steuerungen oder PC an.
Aus der Standspüle [2] wird in der Regel das überschüssige Wasser über die Pumpe [25] und das Magnetventil [26] der Wasseraufbereitung zugeführt. Zum Auffüllen des Prozeßbades [1] wird das mit Prozeßlösung angereicherte Spülwasser aus der Standspüle [2] verwendet. Beim Umpumpen der Flüssigkeit aus der Standspüle [2] in das Prozeßbad [1] bleibt das Magnetventil [26] geschlossen und das Magnetventil [27] wird geöffnet. Die Anforderung zum Auffüllen des Prozeßbades [1] kann entweder aus der Bezugs-Datenauswertung der Datenabfolgen kommen oder von der Füllstand-Kontrollvorrichtung [28], die auch als Überlaufsicherung fungiert und in das datentechnische Steuersystem einbezogen ist.
Sinngemäß wird der Spülwasserfluß in jeder Prozeßgruppe gesteuert. Die Anzahl und Art der Spülstufen, die Anordnung der Spülbäder zueinander, oder die Verwendung sogenannter Spülbatterien, die außerhalb der Produktionslinie installiert sind, kann dabei beliebig variiert werden.
Bezugszeichenliste
PB Prozeßbad, chemisch oder elektrolytisch
Sp Spülbäder, können beliebig variiert, kombiniert oder erweitert werden
1
bis
10
Behandlungsstationen als Teilansicht einer Produktionslinie
11
Datenspeicher
12
Steuergerät
13
Ventil
14
Ventil
14
a Dreiwegeventil
15
Ventil
16
Ventil
17
Ventil
18
Ventil
19
Gestell-Charge
20
Trommel-Charge
21
Korb-Charge
22
Brausevorrichtung
23
Pumpe
24
Pumpe
25
Pumpe
26
Ventil
27
Ventil
28
Meß-, Steuer- und Regelvorrichtung für Füllstandkontrolle

Claims (2)

1. Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik, bei dem für jede Charge mit einem bestimmten Warensortiment die Verschleppungsmenge aus der Warenoberfläche, der Warenform und der Eigenverschleppung des Warenträgers vor Einlauf der Charge in die Anlage ermittelt wird und als für diese Charge gültiger Bezugswert in ein Steuersystem eingegeben wird, die Abfolge der Charge durch die Anlage von der Steuerung verfolgt wird und die Frisch- oder Spülwasserzufuhr für jede Spülstation prozeßgruppenspezifisch entsprechend dem Spülkriterium der Prozeßgruppe nach dem gespeicherten Bezugswert gesteuert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Warenoberfläche aus dem Galvanisierstrom abgeleitet wird.
DE1995139760 1995-10-26 1995-10-26 Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik Expired - Fee Related DE19539760C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995139760 DE19539760C2 (de) 1995-10-26 1995-10-26 Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995139760 DE19539760C2 (de) 1995-10-26 1995-10-26 Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19539760A1 DE19539760A1 (de) 1997-04-30
DE19539760C2 true DE19539760C2 (de) 1998-06-04

Family

ID=7775761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1995139760 Expired - Fee Related DE19539760C2 (de) 1995-10-26 1995-10-26 Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19539760C2 (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19727939C2 (de) * 1997-07-01 1999-11-18 Siegfried Kahlich Vorrichtung zur optimalen Dosierung von Spülflüssigkeit
DE10030717B4 (de) * 2000-06-23 2005-10-20 Manz Galvanotechnik Gmbh Verfahren zur Einhaltung und/oder Stabilisierung von Badbetriebsparametern in Anlagen der Galvano- und Oberflächentechnik
DE102018127458A1 (de) 2017-11-14 2019-05-16 Miele & Cie. Kg Verfahren und Steuergerät zum Steuern eines wasserführenden Reinigungsgerätes und Reinigungsgerät

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1046436B (de) * 1956-12-20 1958-12-11 Licentia Gmbh Automatische Dosierung von Zusaetzen zu elektrolytischen Baedern
DE1205357B (de) * 1962-10-13 1965-11-18 W Kampschulte & Cie Dr Einrichtung zum Konstanthalten des Badspiegels in einem galvanischen Bad und diesem nach-geschalteten Spuelbaedern
DE2521282B1 (de) * 1975-05-13 1976-07-15 Siemens Ag Prozessteueranlage zum selbsttaetigen analysieren und auffrischen von galvanischen baedern
DE2656981B2 (de) * 1976-12-16 1980-12-04 Wilhelm Linnhoff Ohg, 5870 Hemer Steuerung für die stromabhängige Dosierung von Badzusätzen
DE2535608C2 (de) * 1975-08-07 1983-12-01 Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen Vorrichtung zur automatischen Dosierung
DE3839626A1 (de) * 1988-11-24 1990-05-31 Hoellmueller Maschbau H Anlage zum aetzen von gegenstaenden
DE4200849A1 (de) * 1992-01-15 1993-07-22 Gewerk Keramchemie Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung des bei der oberflaechenbehandlung von metallen anfallenden spuelwassers
WO1993021359A1 (en) * 1992-04-17 1993-10-28 Nippondenso Co., Ltd. Method of and apparatus for detecting concentration of chemical processing liquid and automatic control apparatus for the same method and apparatus
DE4220401A1 (de) * 1992-06-22 1993-12-23 Eisenmann Kg Maschbau Verfahren zur Wasserkreislaufführung an Anlagen für die Behandlung von Werkstücken o. dgl. in Bäder

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1046436B (de) * 1956-12-20 1958-12-11 Licentia Gmbh Automatische Dosierung von Zusaetzen zu elektrolytischen Baedern
DE1205357B (de) * 1962-10-13 1965-11-18 W Kampschulte & Cie Dr Einrichtung zum Konstanthalten des Badspiegels in einem galvanischen Bad und diesem nach-geschalteten Spuelbaedern
DE2521282B1 (de) * 1975-05-13 1976-07-15 Siemens Ag Prozessteueranlage zum selbsttaetigen analysieren und auffrischen von galvanischen baedern
DE2535608C2 (de) * 1975-08-07 1983-12-01 Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen Vorrichtung zur automatischen Dosierung
DE2656981B2 (de) * 1976-12-16 1980-12-04 Wilhelm Linnhoff Ohg, 5870 Hemer Steuerung für die stromabhängige Dosierung von Badzusätzen
DE3839626A1 (de) * 1988-11-24 1990-05-31 Hoellmueller Maschbau H Anlage zum aetzen von gegenstaenden
DE4200849A1 (de) * 1992-01-15 1993-07-22 Gewerk Keramchemie Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung des bei der oberflaechenbehandlung von metallen anfallenden spuelwassers
WO1993021359A1 (en) * 1992-04-17 1993-10-28 Nippondenso Co., Ltd. Method of and apparatus for detecting concentration of chemical processing liquid and automatic control apparatus for the same method and apparatus
DE4220401A1 (de) * 1992-06-22 1993-12-23 Eisenmann Kg Maschbau Verfahren zur Wasserkreislaufführung an Anlagen für die Behandlung von Werkstücken o. dgl. in Bäder

Non-Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Abwasseranalytik. In: Galvanotechnik 86, 1995, Nr.6, S.1802-1806 *
BAUR,R., TOUSSAINT,D.: Vermeidung von Abfällen durch abfallarme Produktionsverfahren in der Galvanotechnik. In: Galvanotechnik 86, 1995, Nr.6, S.1915-1920 *
Die Abwässer in der Metallindustrie, Eugen G. Leuze Verlag, Saulgau (Württ.), 1965, S.62-74 *
DROTT,H.: Vollautomatische Abwasseranlage mit dem System Simatic S5-115U, S.2734-2737 *
Grundlagen und Praxis der Behandlung von Abwässern der Metallindustrie, Eugen G. Leuze Verlag, Saulgau (Württ.), 1968, S.251-267 *
LPW Taschenbuch für Galvanotechnik, Langbein- Pfanhauser Werke AG, Neuss/Rhein, 12.Ausg., 1970, S.436-439 *
MARQUARDT,Kurt: Automatisierung von *
WINKLER,Lothar: Spülen - Qualitätssicherung und Umweltschutz. In: Galvanotechnik 85, 1994, Nr.9, S.3001-3006 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE19539760A1 (de) 1997-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0946121B1 (de) Dosierverfahren zum zuführen eines reinigers zu einer geschirrspülmaschine
EP2171149A1 (de) Verfahren zum reinigen von dosierleitungen in automatisch gesteuerten wäschebehandlungsmaschinen
DE2361151B2 (de) Verfahren zur Aufbereitung der Abiaufflüssigkeiten bei fotografischen Entwicklungsprozessen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
EP0501996B1 (de) Verfahren zur kontinuierlichen maschinellen reinigung von gebrauchsgeschirr
WO1994023286A1 (de) Verfahren zur messung der schmutzbefrachtung einer waschflotte
EP0873435B1 (de) Verfahren zur aufrechterhaltung konstanter konzentrationen von in einem galvanotechnischen behandlungsbad enthaltenen stoffen
DE19539760C2 (de) Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik
DE102013006200A1 (de) Verfahren zum Nassbehandeln, vorzugsweise Waschen, von Wäschestücken
DE3424711A1 (de) Verfahren zum regeln einer reinigungsanlage und vorrichtung zum durchfuehren des verfahrens
AT408353B (de) Verfahren und anlage zum ansetzen sowie zum ergänzen eines elektrolyts
EP0503248B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Verteilung flüssiger, fester fliesshähiger oder gasförmiger Behandlungsmittel auf eine Anzahl von Textilbehandlungsstationen
EP0231843B1 (de) Verfahren zum automatischen Zugeben von Waschmittel-Wirkstoffen
EP0597286B1 (de) Verfahren zum Betrieb eines Urinals mit dem Ziel der Einsparung von Spülwasser und Urinal zur Ausübung des Verfahrens
DE4015141A1 (de) Verfahren zum betreiben einer galvanotechnischen anlage
EP0302219A2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Nass-in-Nass-Behandlung
EP0746640B1 (de) Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von metallen aus elektrolyten mit prozessorganik
DE19727939C2 (de) Vorrichtung zur optimalen Dosierung von Spülflüssigkeit
EP0255669A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Tauchbeschichtung von Objekten mit flüssigen Beschichtungsmaterialien mit anschliessender Spülung unter Verwendung von Ultrafiltrat
DE3127824A1 (de) Automatisches antioxidations-nachfuell-steuersystem mit zwei zugaberaten
EP3136938B1 (de) Spendergerät und dosiersystem zur dosierten abgabe von in gebinden gelagerten chemischen substanzen an eine geschirrspülmaschine oder waschmaschine
DE1621538A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Entgiftung und Neutralisation von Abwaessern aus metallverarbeitenden Betrieben
EP3896143B1 (de) Verfahren zur nassbehandlung von wäsche
DE1961562C3 (de) Verfahren zur Aufbereitung eines Spülbades, das zwischen ein salzsaures Beizbad und ein Ammoniumchlorid enthaltendes Flußmittelbad geschaltet ist
DE2838677C2 (de) Verfahren zum durchsatz-abhängigen Steuern mehrerer parallel zu einem Speichertank arbeitenden Abfallflüssigkeits-Beseitigungseinheiten
DE3022981A1 (de) Spuelverfahren fuer chemische oder elektrochemisch zu beschichtende bzw. bereits beschichtete teile

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8122 Nonbinding interest in granting licences declared
D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8368 Opposition refused due to inadmissibility
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20110502