DE1920221A1 - Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer ferromagnetischen Schicht - Google Patents
Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer ferromagnetischen SchichtInfo
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Description
BURROUGHS CORPORATION, eine Gesellschaft nach den Gesetzen
des Staates Michigan, Detroit, Staat Michigan (V.St.A.)
Verfahren zur galranischen Abscheidung einer ferromagnetisehen
Schicht
Die Erfindung betrifft di© Herstellung ferromagnetische^
Schichten, und zwar ein Verfahren zu elektrolytisches? Abscheidung ferromagnetische^ Schichten so^ie deren
Zusammensetzung. Insbesondere befallt sieh die Erfindung Mit einer Weiterbildung des Verfahrens nach dem DHP , ..,
c. (Patentanmeldung P 1? ?1 511.6, Anwaltsseichen B 5S),
Auf dünne Film® aufgebrachte ferromagnetische Schichten
werden als Speichemedium für Informationen verwendet.
Bsi der Bezratgusg dieser Schichten in der
tusgstachnik werden die Informationen iß iliaen in
"binärer Bits gespeichert. Für die Baurtsiltxag der Wirt
seliaftlichkeit dieser ferroaagastlsehen Schicht©» in
speziellen" Inwsaduiigegebiet ist Qa wichtig, wie viele
2
Bits pro ca la &®r Schicht gsspeioläort w©r-&©n wl® gr©S di© höchst zulässige Signaldielite ist,
Bits pro ca la &®r Schicht gsspeioläort w©r-&©n wl® gr©S di© höchst zulässige Signaldielite ist,
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Neben anderen Größen hängt diese Signaldichte von einer optimalen Kombination von Koerzitivkraft, Quadratverhältnis,
Remanenz und der Dicke der ferromagnetischen Schicht ab.
Zur Lösung der Aufgabe, durch, galvanische Abscheidung
auf einen elektrisch leitenden träger eine ferromagnetische Schicht zu erzeugen, deren Koerzitivkraft vorher
in einem weiten Bereich festlegbare Werte annimmt und die relativ große Werte des Quadratverhältnisses sowie
der.Remanenz aufweist, wird in dem Hauptpatent DBP . ... (Patentanmeldung P 1? 7^ 5ΤΌ6, Anwaltszeichen
B 56) ein mit einem Kobalt- und Eypophosphit-Jonen,
enthaltenden Elektrolyten arbeitendes Verfahren unter Schutz gestellt, bei dem der Träger als Kathode in einen
wäßrigen Elektrolyten eingetaucht wird3 der Kobalt-Ion©&
im Bareich von über 10 g/l sowie bis zu 6 g/l Ionen enthält und auf einem pH-Wert im Bsr-eich von 392
- 5»0 gehalten wird, und 'bei dem die Kathode eine Stroa
dichte von etwa 10 - 120 A/Qiiadratfuß (10„8 2
129 mA/cm4") gelegt wird, derart, daß die ©l©kts?olytisch©
Wirkung eingeleitet und sowohl Phosphor als auch KoBaIt
auf dem leitenden Träger ausschließlich auf schem Wege abgeschieden werden»
Dieses Verfahren wird in der YTeise epfisi&img
tergebild©ts daß die ia clem Elekfcrolytoa enthalt ©ados
Hypopliospill*G-Ioaeii in θΙμθμ aus ee-hrerGS Pßösgtoi-ves'bis=
düngen zus&SiJasngese-tsr&en Hiosphorspendgr- ©nttoltea sia&9
der den absiisehGidGiidGa EhöEpiior lieforü. uq"öq1
zentral;!όσα von KQwplQ^^cs^bina-oiiß&Ti d©s llc
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■A
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eine chemische Abscheidung nicht ausreicht.
An dieses Grundkonzept schließen sich eine Reihe bevorzugter
Ausführungsformen des Verfahrens an. So können zur Erzielung einer vorgegebenen Koerzitivkraft in der
Schicht im Elektrolyten Kobalt-Ionen von einer Konzentration von 20 - 80 g/l, Hypophosphit-Ionen von einer
Konzentration von 0-4· g/l und Phosphit-Ionen von einer Konzentration von 0 - 12 g/l enthalten sein, wobei
die Phosphit-Ionen die Konzentration an Hypophosphit- f Ionen für die Erzielung der vorgegebenen Koerzivität
reduzieren. Im Elektrolyten, kann aber auch eine Kobalt-Ionen-Konzentration
von 20 - 80 g/l, eine Hypophosphit-Ionen-Konzentration von 0-12 p/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration
von 7»5 - I2g/1 eingestellt werden,, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen
Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit-Ionen-Konzentration
reduzieren. Das Verhältnis von Hypophosphit-Ionen zu Phosphit-Ionen kann kleiner als 2 : 7 sein.
Schließlich kann der Elektrolyt eine Kobalt-Ionen-Konzentration
von 10-50 g/l, eine Nickel-Ionen-Konzentration von 10 - 50 g/l» eine Hypophosphit-Ionen-Konzentration
von 0-2 g/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration von ~
0-12 g/l enthalten. Andererseits wird im Elektrolyten auch eine Kobalt-Ionen-Konzentration von 10-50 g/l,
eine Nickel-Ionen-Konzentration von 10 - 50 g/l, eine
Hypophosphit-Ionen-Konzentration von Ό - 1,10 g/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration von 7,5 - 12 g/l
bevorzugt. Das Verhältnis von Hypophosphit'-Ionen zu Phosphit-Ionen ist dann zweckmäßig geringer als 1:7·
Die Hypophosphite werden bevorzugt aus der hypophosphorigen Säure bzw. ihrem Natrium-^Ealium-jKalzium- oder
Ammonium-Salz gewonnen. Entsprechend werden die Phosphit-Ionen vorzugsweise aus der phosphorigen Säure bzw. ihrem
Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammonium-Salz gewonnen.
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Dabei wird ferner die phosphorige Säure vor ihrer Zufügung zu dem Elektrolyten auf den pH-Wert des Restes
des Elektrolyten neutralisiert. Die Kobalt-!fonen werden
mit Vorteil aus Kobaltsulfat und die Nickel-Ionen aus Nickelsulfat gewonnen. Die Nickel-Ionen-Konzentration
kann auch auf 40 - 80 g/l eingestellt werden. Weiter können in dem Elektrolyten Kobalt-Ionen aus Kobalt-Sulfat
mit der Konzentration 20 - 80 g/l, zusätzliche Sulfationen als Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder
Ämmoniumsalz der Schwefelsäure mit einer Konzentration von 0-12 g/l, Formiationen aus dem Natrium-, Kalium-,
Kalzium- oder Ammonium-Salz der Ameisensäure von 0-20 g/l sowie Borsäure mit einer Konzentration von
0-40 g/l enthalten sein. Die Temperatur des Bades wird zweckmäßig auf 32° C bis 60° C eingestellt, wobei
der Bereich von 38° G bis 43° C besonders bevorzugt wird.
Der Elektrolyt kann aber auch Kobalt-Ionen aus Kobaltsulfat mit einer Konzentration von 40 - 80 g/l, zusätzliche
Sulfat-Ionen als Natrium-Sulfat von 0-12 g/l, Formiat-Ionen aus Natriumfonniat mit einer Konzentration
von 0-20 g/l sowie Borsäure mit einer Konzentration von 0-40 g/l aufweisen. Eine Kobalt-Ionen-Konzentration
von 50 g/l, eine Hypophosphit-Ionen-Konzentration von
1,7 g/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration von 12 g/l
wird dabei bevorzugt und der pH-Wert des Elektrolyten wird zweckmäßig auf 3,8 eingestellt. Andererseits kann
man natürlich auch mit einem Elektrolyten arbeiten, der Kobalt-Ionen aus Kobalt-sulfat mit einer Konzentration
von 10 - 50 g/l, Nickel-Ionen aus Nickelsulfat mit einer
Konzentration von 10 - 50 g/l, zusätzliche Sulfat-Ionen aus dem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammonium-Salz
der Schwefelsäure mit einer Konzentration von 0-12 g/l, Formiat-Ionen aus dem Natrium-, Kalium-, Kalzium-,
Ammonium-, oder Nickel-Salz der Ameisensäure mit einer
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ORlGMAL INSPECTED
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Konzentration von 0-20 g/l sowie Borsäure mit einer Konzentration von 0-4-0 g/l enthält. Datei werden
an Konzentrationen "bevorzugt: Kobalt-Ionen 25 g/l» Nickel-Ionen 28 g/l, Hypophosphit-Ionen 1,05 g/l "und
Phosphit-Ionen 12 g/l.
Das "Verfahren zum Plattieren magnetischer Aufzeichnungsfilme für hohe Signaldichten erfordert die Einhaltung
kritischer Ionen-Konzentrationen und anderer Nebenbedingungen. Bis jetzt gibt es noch keine geordnete und ab- %
geschlossene Kenntnis, aus der Herstellungsverfahren für Aufzeichnungsmedien für hohe Signaldichten abgeleitet
werden könnten, so daß die Verfahren auf diesem Gebiet sehr stark von der Empirie bestimmt werden. Man ist
sich ziemlich sicher, daß die Legierungsfilme für die
genannten Anwendungen weit mehr sind als einfache elektrolytische Abscheidungen von bekannter Beschaffenheit.
Es hat sich ergeben, daß Legierungen von sehr ähnlichem Aufbau und selbst sehr ähnlicher 60 Hz Hysterese-Charakteristik
wie bei der vorliegenden Erfindung in ihren Eigenschaften als Aufzeichnungsmedium für hohe Signaldichten
recht unterschiedlich sind. Man vermutet daher, daß die Unterschiede in den erfindungsgemäß hergestellten
Legierungen, die ihre Brauchbarkeit für hohe Aufzeichnungsdichten beeinflussen, den metallurgischen und magnetischen
Strukturen der Abscheidungen zuzuschreiben sind.
Bereits die einfachste Form der vorliegenden Erfindung liefert ein Verfahren zur Abscheidung ferromagnetischer
Schichten, die weit bessere Eigenschaften zur Aufzeichnung hoher Signaldichten aufweisen, als das von anderen
Schichten bisher bekannt war. Das Verfahren umfaßt eine
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ORIGINAL INSPECTED
Abscheidung, die rein elektrolytischer Natur ist, und durch die die Koerzitivkraft der sich ergebenden
Schicht durch Steuerung der Zusammensetzung des Elektrolyten vorherbestimmt werden kann. Das erfindungsgemäße
Verfahren vermeidet unnötigen Aufwand, ist wirtschaftlich und liefert in kurzer Zeit die ferromagnetisehen
Schichten. Eine Schicht, die für die Anwendungen in der Aufzeichnung hoher binärer Signaldichten geeignet
ist, wird in der Größenordnung von einer Minute abge-
" schieden. Das erfindungsgemäße Verfahren macht es insbesondere
möglich, die Koerzitivkraft eines ferromagnetisehen
Trägers zu steuern und vorherzubestimmen, indem die Menge an Hypophosphit-Ionen, die in dem Elektrolyten
enthalten sind, gesteuert wird; mit den Hypophosphit-Ionen im Elektrolyten wird eine Schicht erzeugt,
die hohe Aufzeichnungsdichten erlaubt, und zwar in der Größenordnung von 2000 Binärbits pro inch (etwa 800 Binärbits
pro cm), die leicht reproduzierbar sind. Der pH-Wert des Plattierungsbades wird im Bereich von 3t2
bis 5*0 gehalten und die Stromdichte an der Kathode
beträgt zwischen 10 und 120 A/f2 (10,8 mA/cm2 bis 129 mA/
cm').
Diese Grundform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist
von beträchtlicher Wichtigkeit für die Aufzeichnungstechnik von hohen Signaldichten und bedeutet einen bemerkenswerten Schritt vorwärts in der Technik des Plattierens
magnetischer Aufzeichnungsfilme für hohe Signaldichten.
Jedoch ist es notwendig, auch Filme durch Plattieren herzustellen, die für Aufzeichnungsdichten der
Größenordnung von 3000 Bits pro inch (etwa 1 200 Bits pro cm) und mehr geeignet sind. Auch diese Aufgab© kann
ausgehend von der vorstehend ausgeführten Grundton! des
erfindungsgemäßen Verfahrens gelöst werden, indas di©
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Konzentration von Hypophosphit-Ionen in dem Bad vergrößert wird.
In den kommerziellen Produktionseinrichtungen für die
Herstellung von Aufzeichnungsfilmen ergab sich jedoch noch ein anderes Problem. Die Oberflächen der metallischen
Anoden, die bei der elektrolytischen Abscheidung ferromagnetischer Aufzeichnungsfilme aus Kobalt-Phosphor
und Kobalt-Nickel-Phosphor-Legierungen benutzbar sind, wirken als Katalysatoren für die Oxydation der Hypophosphit-Ionen
im Elektrolyten zu Phosphit-Ionen. Daher ist eine häufige Analyse und Einstellung der Hypophosph.it-Ionen-Konzentration
im Elektrolyten notwendig, um die Hypophosphit-Ionen- und Phosphit-Ionen-Konzentration
so weit aufrechtzuerhalten, daß während eines Durchgangs abgeschiedene Aufzeichnungsfilme eine konstante Koerzi-,
tivkraft aufweisen. Man sieht also, daß ein nur mit Hypophosphit-Ionen zubereiteter Elektrolyt bald Phosphit-Ionen
enthält, die durch Oxydation der Hypophosphit-Ionen entstanden sind. Hypophosphit-Ionen sind eine
20- bis 30 mal wirkungsvollere Phosphorquelle als Phosphit-Ionen, so daß der Phosphorgehalt des Filmes
und damit seine Koerzitivkraft sich merkbar ändern,
wenn sich die Hypophosphit-Ionen zu Phosphit-Ionen oxydieren.
Man hat sich nun entschlossen, mindestens in Gegenwart von Hypophosphit-Ionen auch die Phosphit-Ionen als Teil
einer Phosphorquelle für die elektrolytische Abscheidung
von Kobalt-Phosphor und Kobalt-Nickel-Phosphor-Legierungen aus diesen Bädern zu verwenden. Daher können Aufzeichnungsfilme
mit hoher Koerzitivkraft durch elektrolytische Abscheidung aus einem Elektrolyten gewonnen werden, der
eine kleinere Hypophosphit-Ionen-Konzentration enthält
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als sie nötig wäre, wenn Hypophosphit-Ionen allein als Phosphorquelle verwendet würden. Man hat weiter gefunden,
daß Aufzeichnungsfilme, die aus Bädern mit Hypophosphit- und Phosphit-Ionen als Phosphorquellen abgeschieden
wurden, tatsächlich genau so als magnetisches Aufzeichnungsmedium für hohe Signaldichten geeignet sind, wie
jene, die aus Bädern mit Hypophosphit-Ionen als einziger Phosphorquelle abgeschieden wurden. Da die Oxydationsgeschwindigkeit von Hypophosphit-Ionen in Phosphit-Ionen
an den katalytisch wirkenden Oberflächen proportional zur Konzentration der Hypophosphit-Ionen in dem Bad ist
und da weiter die Phosphit-Ionen an den katalytisch wirkenden Oberflächen nicht oxydiert werden, liefert
die Verwendung sowohl der Hypophosphit- als auch der Phosphit-Ionen als Phosphorquellen (und damit die Reduzierung
der notwendigen Hypophosphit-Ionen-Konzentration)
für eine gegebene Koerzitivkraft ein Bad mit einer größeren chemischen Stabilität bei Anwesenheit
der katalytisch wirkenden Oberflächen der Anoden.
Die sich ergebende chemische Stabilität ist deshalb wichtig, da die Eigenschaften des plattierten Filmes
sich sehr genau nach den Eigenschaften der magnetischen Aufzeichnungsköpfe anpassen müssen, die für die Aufzeichnung
auf die Filme verwendet werden. Folglich muß die Koerzitivkraft von einem Plattierungsdurchgang zum nächsten
genau reproduzierbar sein. Es wurde eine Steuerung der Konzentration an Hypophosphit-Ionen im Elektrolyten
entsprechend der Grundform des erfindungsgemäßen Verfahrens erreicht. Eine Steuerung der Hypophosphit-Ionen
allein Jedoch wird bei Aufzeichnungsfilmen für höhere
Signaldichten der Größenordnung von 3000 Bits pro inch und mehr Jedoch recht schwierig.
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Daher sieht ein verbessertes Verfahren in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung vor, daß außer den Hypophosphit-Ionen
auch Phosphit-Ionen in dem Plattierungsbad
verwendet werden und daß die Konzentration an Phosphit-Ionen (wie auch die Hypophosphit-Ionen-Konzentration)
gesteuert wird. Die Hypophosphit-Ionen werden
auf einen Konzentrationsbereich von 0 bis 4- g/l für einen Kobalt-Phosphor-Film und auf einen Konzentrationsbereich von 0-2,0 g/l für einen Kobalt-Nickel-Phosphor-Film
eingestellt. Die Phosphit-Ionen werden auf einen Konzentrationsbereich von 0-12 g/l eingestellt. Vorzugsweise
ist das Verhältnis von Hypophosphit-Ionen zu
Phosphit-Ionen in dem Bad geringer als 1 : 7 bei Kobalt-Nickel-Phosphor-Filmen und kleiner als 2 : 7 für Kobalt-Phosphor-Filme.
Auf diese Weise ergibt sich ein Verfahren,nach dem Filme
mit gleichmäßiger Koerzitivkraft auch bei verschiedenen Durchgängen sehr viel leichter hergestellt werden können.
Damit ergibt sich eine bemerkenswerte Verbesserung gegenüber der mit dem Hauptpatent geschützten Erfindung.
Es wird noch bemerkt, daß die Aufzeichnungsdichten von
2000 und 3000 Binärbits pro inch bei nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Filmen erreicht wurden,
wenn die Aufzeichnungsköpfe bis zu 100 Mikroinchs (etwa
2,5/u) von dem Aufzeichnungsfilm entfernt waren. Das
ist deshalb wichtig, weil es viel schwerer ist, höhere Aufzeichnungsdichten zu erreichen, wenn der Aufzeichnungskopf
von dem AufzeichnunKsfilm absteht, als wenn er mit
ihm in Berührung ist.
Die erfindungsgemäß hergestellten ferromagnetisehen
Schichten bestehen aus Kobalt und' kleinen Mengen Phosphor,
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- ίο -
wenn sie aus einem Elektrolyten, der im wesentlichen Kobalt enthält, abgeschieden wurden, oder die aus einer
Kobalt-Nickel-Legierung bestehten, die kleine Mengen an Phosphor enthält, wenn sie aus einem Elektrolyten
mit Kobalt und Nickel als hauptsächliche Bestandteile abgeschieden wurden. Die Kobalt-Nicke!-Legierungen können
15 bis 25 % Nickel enthalten.
Der Träger kann aus nichtleitendem Material bestehen, ^ der mit einem leitfähigen, nicht ferromagnetischen
Material überzogen bzw. laminiert ist. Bei der Abscheidung in der Kobalt-Nickel-Legierung werden Hypophosphit-Ionen,
H2PO2", als NaH3PO2 der Konzentration 0 bis 2,75
g/l und 0,0 bis 0,049 η verwendet. Bei der Abscheidung
einer Kobaltschicht werden Hypophosphit-Ionen, HpPOo""»
als NaH2PO2 mit der Konzentration 0 bis 6 g/l und 0,0 bis
0,092 η verwendet. Bei Schichten mit größeren Aufzeichnungsdichten werden Dicken von fünf Millionstel inch
(etwa 1,3 nm) bevorzugt.
Die ferromagnetischen Schichten, die erfindungsgemäß hergestellt werden, können also im wesentlichen Kobalt
™ oder Kobalt-Nickel-Legierungen je nach den im Elektrolyten
vorhandenen Elementen und kleine Mengen an Phosphor enthalten.
Dem Fachmann ist unmittelbar klar, daß eine rein elektrolytische
Plattierung entsprechend der Erfindung nur dann stattfindet, wenn die Stabilitätskonstante der Metall-Ionen
hinreichend groß ist, so daß chemische Abscheidung vermieden wird. Wenn daher eine Komplexverbindimg, wie
etwa Ammonium, in das Bad eingeführt wird, muß besonders
sorgfältig geprüft werden, daß eine so niedrige Stabil!-
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tätskonstante verhindert wird, aufgrund deren chemische Abscheidung' stattfinden und damit eine rein elektrolytische
Abscheidung verhindert wird.
Hypophosphit-Ionen als Phosphorquelle im erfindungsgemäßen Verfahren werden für sehr wichtig für die Erzeugung
von magnetischen Aufzeichnungsfilmen für hohe Signaldichten gehalten.
Die Zusammensetzung eines Elektrolyten, bei dem erfindungsgemäß eine Kombination aus Hypophosphit-Ionen und
Phosphit-Ionen benutzt wird, sieht etwa folgendermaßen aus:
Konzentrationen Kobalt-Ionen, Co++, als Kobaltsulfat
4
Nickel-Ionen, Ni++, als Nickelsulfat
Nickel-Ionen, Ni++, als Nickelsulfat
10-50 g/l
4 10-50 g/l
Verhältnis der Nickel zu Kobalt-Ionen
im Bad 0,95 - 1,15
zusätzliche Sulfat-Ionen, SO4 , als
Na-,K-, Ca- oder NH4-SaIz 0-12 g/l
Formiat-Ionen, COOH", als HCOÖH oder
als Na-, K-, Ca-, NH4- oder Ni-SaIz 0-20 g/l
Borsäure, H5BO5 0-40 g/l
Phosphit-Ionen, H2PO ~ als Na-, K-,
Cs-, NH4-SaIz oder als H5PO5 0-12 g/l
Hypophosphit-Ionen, H^PO^", als Na-,
K-, Ca-, NH4-SaIz oder als H5PO0 0 - 2,0 g/l
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Kobalt-Ionen, Co++, als Kobaltsulfat
CoSO4 20 - 80 g/l
zusätzliche Sulfationen, SO4""*, als
Na-, K-, Ca-, oder NH4-SaIz 0-12 g/l
Formiat-Ionen, COOH", als HCOOH oder
als Na-, K-, Ca-, NH4- oder Ni-SaIz 0-20 g/l
Borsäure, H5BO5 0-40 g/l
Phosphit-Ionen, HpPO5", als Na-, K-,
Ca-, NH4-SaIz oder als H5PO5 0-12 g/l
Hypophosphit-Ionen, HoPO2", oder als
Na-, K-, Ca-, NH4-SaIz oder als H5PO0 0 - 4,0 g/l
Während aus den Elektrolyten mit den vorstehend genannten Zusammensetzungen
Schichten mit befriedigenden Eigenschaften gewonnen werden können, werden mit Elektrolyten
der folgenden Zusammensetzungen besonders gute Ergebnisse erzielt:
Kobalt-Ionen, Co+ , als Kobaltsulfat
CoSO4 20-50 g/l
Nickel-Ionen, Ni++, als Nickelsulfat
NiSO4 20 - 50 g/l
Verhältnis von Nickel- zu Kobalt-Ionen im Bad ' 0,95-1,15
zusätzliche SuIfntionen, SO4 als Na-,
K-, Ca- oder NH4-SaIz 0-12 g/l
Formiat-Ionen, COOH", als HCOOH oder als Na-, K-, Ca-, NH4- oder Ni-SaIz 0-20 g/l
Borsäure, H5BO7. 0-40 g/l
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Phosphit-Ionen, ^PO5", als Na-, K-,
Ca-, NH4-SaIz oder als H5PO5 7,5 - 12 g/1
Hypophosphit-Ionen, HnPOp", als Na-,
K-, Ca-, NH4-SaIz oder als H3PO2 0 - 1,10 g/1
Kobalt-Ionen, Co++, Kobaltsulfat CoSO4 40 - 80 g/1
zusätzliche Sulfat-Ionen, SO4 , als
Na-, K-, Ca- oder NH4-SaIz 0-12 g/1
Formiat-Ionen, COOH", als HCOOH oder als
Na-, K-, Ca-, NH4- oder Ni-SaIz 0-20 g/1
Borsäure, H5BO5 0-40 g/1
Phosphit-Ionen, HpPO5", als Na-, K-, Ca-,
NH4-SaIz oder als H5PO5 7,5 - 12 g/1
Hypophosphit-Ionen, H0POp", als Na-, K-,
Ca-, NH4-SaIz oder als H5POp 0-2,0 g/1
Die vorerwähnten Elektrolyten müssen einen pH-Wert von 3,? - 5,0 aufweisen, ein pH-tfert von 3,8 wird bevorzugt
aufrechterhalten, indem Nickel-, Kalium- oder Natriumkarbonat oder auch Schwefelsäure in der benötigten Menge
hinzugefügt wird. Die Kathodenotromdichte liegt zwischen
10 und 120 A/f2 (10,8 bin 129 mA/cm6) und die Temperatur
Liogt im Bereich zwischen 90° F und 140° F (33° C - 60° C).
Dan bevorzugte Temperaturintervall liegt zwischen 100 und '
110° V (entsprechend 3« bis 43° C).
Dar: Bad wird in der Nähe der zu plattierenden Flächen
zur Erzeugung eines Aufzeichnungsfilme:5 hoher Signaldichte
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vorzugsweise in Bewegung gehalten.
Man entnimmt den vorstehenden Tabellen, daß das bevorzugte Verhältnis von Hypophosphit-Ionen zu Phosphit-Ionen
kleiner als 1 : 7 für Kobalt-Nickel-Phosphor-Filme
und kleiner als 2 : 7 für Kobalt-Phosphor-Filme
ist. Bei diesen bevorzugten Konzentrationen beeinträchtigt die Veränderung der Hypophosphit-Ionen aufgrund ihrer
Oxydation den Phosphor und damit die Koerzitivkraft in dem sich ergebenden Film nicht wesentlich. Das ist
auf den viel größeren Beitrag von Phosphor durch die Hypophosphit-Ionen zurückzuführen.
Auf die Eigenschaften einer gegebenen Aufzeichnungsanlage
eingestellte Aufzeichnungsmedien für hohe digitale
Speicherdichten wurden aus Elektrolyten der folgenden Zusammensetzungen gewonnen:
Kobalt-Ionen, Co , als Kobaltsulfat
Nickel-Ionen, Ni++, als Nickelsulfat
NiSO4
Verhältnis von Nickel- zu Kobalt-Ionen im Bad
zusätzliche Sulfat-Ionen, SO4 , als
Na0SO,,
Forraiat-Ionen, COOH", als NaCOOII
Borsäure, H,BOz
thosphit-Ionen, H0PO^", als NaHpPO,
Hypophosphit-Ionen, H0POo", ^Is NaH0PO0
25 g/l 28 g/l 1.2
8,0 | g/l |
20,0 | S/l |
30,0 | g/i |
'12,0 | g/l |
1,05 | g/i |
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BÄD ORiGtNAL
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Konzentrationen Kobalt-Ionen, Co , als Kobaltsulfat
4 50 g/l
zusätzliche Sulfat-Ionen, SO^ , als
8 | ,0 | e/1 |
20 | 6/1 | |
30 | g/i | |
12 | g/l | |
1 | ,7 | g/l |
Formiat-Ionen, COOH", als NaCOOH
Borsäure, Η-,ΒΟ-,
5 3
Phosphit-Ionen, H2PO5", als NaH5PO5
Hypophosphit-Ionen, HpPO2", als NaH2PO2
Aufzeichnungsfilme wurden aus den beiden vorerwähnten
Elektrolyten mit einem pH-Wert von 3,8, einer Temperatur von 110° F (43,2° C) und einer Stromdichte von 4-5 A/f2
(48,2 mA/cm2).
Die bereits erwähnte Steuerung wird durch Analyse des Elektrolyten mit konventionellen Verfahren durchgeführt,
wobei die Konzentrationen von Hypophosphit-Ionen und Phosphit-Ionen bestimmt werden. Die Steuerung umfaßt
auch die Einstellung der Konzentrationen von Hypophosphit- und von Phosphit-Ionen, so daß eine vorbestimmte, erwünschte
Koerzitivkraft erzielt wird. Es wird noch bemerkt, daß die vorbestimmte Koerzitivkraft vorzugsweise ein
einzelner Wert ist, sie kann jedoch auch in einem relativ engen Bereich von Koerzitivkraften liegen, innerhalb der
Toleranzen der magnetischen Aufzeichnungs- und Leseköpfe
sowie der zugehörigen elektronischen Schaltung. Dieser Bereich zulässiger Koerzitivkräfte ist bei höheren
Aufzeichnungndichten kleiner als bei geringeren Aufzeichnungsdichten.
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BAD ORIGINAL
BAD ORIGINAL
Die Einstellung der Hypophosphit-Ionen kann durch Zugeben von Hypophosphit-Ionen zum Elektrolyten von Zeit
zu Zeit je nach Bedarf geschehen, in dem Maße, wie sich die Hypophosphit-Ionen oxydieren. Die Einstellung
der Phosphit-Ionen kann durch Verdünnen des Elektrolyten von Zeit zu Zeit je nach Bedarf geschehen, um
die Konzentration der Phosphit-Ionen in ihrem Verhältnis zu den Hypophosphit-Ionen bei einem Pegel aufrechtzuerhalten,
bei dem die vorbestimmte Koerzitivkraft erhalten wird. Alternativ können natürlich die Hypophosphit-Ionen
auch entfernt werden, um ihre Konzentration zu verkleinern.
Da der Einfluß der Phosphit-Ionen auf den Phosphor bzw. die Koerzitivkraft der Filme viel geringer ist als derjenige
der Hypophosphit-Ionen, kann die Einstellung auch das Zugeben von Hypophosphit-Ionen zum Elektrolyten von'
Zeit zu Zeit umfassen, um eine vorher festgelegte Konzentration an Hypophosphit-Ionen aufrechtzuerhalten
und um die Phosphit-Ionen von einem Anfangswert bis auf einen Maximalwert zunehmen zu lassen, bei dem der
Elektrolyt- ersetzt wird.
Obgleich die Konzentrationsbereiche der Hypophosphit-Ionen und Phosphit-Ionen in einigen Beispielen mit von
0 beginnend angegeben wurden, so wird der Fachmann in dieser Angabe stets einen Grenzwert sehen, da Phosphit-
bzw. Hypophosphit-Ionen je nach Fall überhaupt vorhanden sein müssen.
00 9838/1850
Claims (1)
- PatentansprücheVerfahren zur galvanischen Abscheidung einer ferromagnetischen Schicht auf einem elektrisch leitenden Träger unter Verwendung eines Kobalt- und Hypophosphit-Ionen enthaltenden Elektrolyten, bei dem nach Patent (Patentanmeldung P 17 71 511.6) der Träger als Kathode in einen wäßrigen Elektrolyten eingetaucht wird, der Kobalt-Ionen im Bereich von über 10 g/l enthält und auf einem pH-Wert im Bereich von 3,2 bis 5,0 gehalten wird und bei dem an die Kathode eine Stromdichte2 2von etwa 1(j,8 mJL/cm bis 129 mA/cm" gelegt wird, derart, daß die elektrolyt!sehe Wirkung eingeleitet und sowohl Phosphor als auch Kobalt auf dem leitenden Träger ausschließlich auf elektrolytischem Wege abgeschieden werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Hypophosphit-Ionen in einem aus mehreren Phosphor-Verbindungen zusaaimengesetzten Phosphorspendef enthalten sind, der den abzuscheidenden Phosphor liefert, wobei die Konzentration von Komplexverbindungen des Elektrolyten für eine chemische Abscheidung nicht ausreichte?. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daf; der Elektrolyt Kobalt-Ionen von einer Konzentration von 20 - BO g/l, Hypophosphit-Ionen von einer Konzentration von 0 - 4- g/l und Phosphib-Ionen von einer Konzentration von 0 - 12 g/l enthält, wobei die Phosphitlonen die Konzentration an Hypophosphit-Ionen für die Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft reduzieren.009838/ 1350BAD ORIGINAL1920223· Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Hypophosphit-Ionen zu Phosphit-Ionen geringer als 2 : 7 ist.4·. Verfahren nach Anspruch 2 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Hypophosphite aus hypophosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalζ abgeleitet werden.5· Verfahren nach einem der Ansprüche 2- 4-, dadurch gekennzeichnet, daß die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz abgeleitet werden.6. Verfahren nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß die phosphorige Säure vor ihrer Zugabe zum Elektrolyten auf den pH-Wert des restlichen Elektrolyten neutralisiert wird.7. Verfahren nach einem der Ansprüche 2- 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Kobalt-Ionen aus Kobalt-Sulfat abgeleitet werden.8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt eine Kobalt-Ionen-Konzentration von 10-50 g/l, eine Nickel-Ionen-Konzentration von 10-50 g/l, eine Hypophosphit-Ionen-Konzentration von 0-2 g/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration von 0-12 g/l enthält, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit·= Ionen-Konzentration reduzieren»9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Hypophosphit-Ionen su Phosphit-Ionen kleiner als 1 : 7 ist.009838/185010. Verfahren nach. Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Hypophosphite aus der hypophosphorigen Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz.abgeleitet werden.11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8-10, dadurch gekennzeichnet, daß die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz gewonnen werden.12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die phosphorige Säure vor ihrer Zugabe zum Elektrolyten auf den pH-Wert des restlichen Elektrolyten neutralisiert wird.13. Verfahren nach einem der Ansprüche 8-12, dadurch gekennzeichnet, daß die Kobalt-Ionen aus Kobaltsulfat und die Nickel-Ionen aus Nickelsulfat gewonnen werden.14. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt eine Kobalt-Ionen-Konzentration von 20 - 80 g/l, eine Hypophosphit-Ionen-Konzentration von 0-12 g/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration von 7,5 - 12 g/l· enthält, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit-Ionen-Konzentration reduzieren.15· Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Hypophosphite aus hypophosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz gewonnen werden.16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15» dadurch gekenn-00983 3/1850zeichnet, daß die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder dem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz gewonnen werden.17· Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die phosphorige Säure vor ihrer Zugabe zu dem Elektrolyten auf den pH-Wert des restlichen Elektrolyten neutralisiert wird.fe 18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 - 17» dadurch gekennzeichnet, daß die Kobalt-Ionen-Konzentration zwischen 4-0 und 80 g/l beträgt.19. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt eine Kobalt-Ionen-Konzentration von 10-50 g/l, eine Nickel-Ionen-Konzentration von 10 g/l, eine Hypophosphit-Ionen-Konzentration von 0 - 1,10 g/l und eine Phosphit-Ionen-Konzentration von 7*5 his 12 g/l enthält, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit-Ionen-Konzentration reduzieren.20. Verfahren nach Anspruch 19* dadurch gekennzeichnet, daß die Hypophosphit-Ionen aus hypophosphor-iger Säure oder dem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz abgeleitet werden.21. Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz gewonnen werden.22» Verfahren nach einem der Ansprüche 19 - 21, dadurch009838/1850192022gekennzeichnet, daß die Kobalt-Ionen-Konzentration 20 - 50 g/l und die Nickel-Ionen-Konzentration 20 - 50 g/l beträgt.23· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt im wesentlichen besteht aus Kobalt-Ionen, aus Kobaltsulfat 20 - 80 g/l zusätzliche Sulfat-Ionen alsNatrium-, Kalium-, Kalzium- oderAmmoniumsalζ der Schwefelsäure 0-12 g/l Formiat-Ionen aus Natrium-, Kalium-,Kalzium- oder Ammoniumsalz derAmeisensäure 0-20 g/lBorsäure 0-40 g/lwobei die Hypophosphit-Ionen aus der hypophosphorigen Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz, die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz abgeleitet werden und die Hypophosph.it-Ionen-Konzentrat i oh 0-4 g/l und die Phosphit-Ionen-Konzentration 0- 12 g/l beträgt, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit-Ionen-Konzentration reduzieren.24. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Temper;
gehalten wird.daß die Temperatur in dem Bereich von 32° C bis 60° C25. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt im wesentlichen besteht ausKobalt-Ionen ηIs Kobaltsulfat 40 - 80 g/l zusätzliche Sulfationen ausNatriumsulfat 0-12 g/lFormiat-Ionen aus Natriumformiat 0-20 g/l Borsäure 0-40 g/l .009838/18 5 0BAD ORIGINALwobei die Hypophosphit-Ionen aus hypophosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz, und die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz gewonnen werden, die Hyp'ophosphit-Ionen-Konzentration 0-2,0 g/l und die Phosphit-Ionen-Konzentration 7,5 .- 12 g/l "beträgt, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit-Ionen-Konzentration reduzieren.26. "Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Bades in dem Bereich von 38° C bis 4-3° C aufrechterhalten wird.27. Verfahren nach Anspruch 25 , gekennzeichnet durch die Konzentration anKobalt-Ionen 50 g/lHypophosphit-Ionen 1,7 g/lPhosphit-Ionen 12 g/l.28. Verfahren nach einem der Ansprüche 25 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß der pH-Wert des Elektrolyten 3,8 beträgt.29. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt im wesentlichen besteht ausKobalt-Ionen aus Kobaltsulfat 10-50 g/l Nickel-Ionen aus Nickelsulfat 10 - 50 g/l zusätzliche Sulfat-Ionen aus
dem Natrium-, Kalium-, Kalziumoder Ammoniumsalz der Schwefelsäure 0-12 g/l Formiat-Ionen aus dem Natrium-, Kalium-, Kalzium-, Ammonium- oderNickelsalz der Ameisensäure 0-20 g/lBorsäure 0-40 g/l»009838/1850daß die Hypophosphit-Ionen aus der hypophosphorigen Säure oder ihrem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz, die Phosphit-Ionen aus phosphoriger Säure oder dem Natrium-, Kalium-, Kalzium- oder Ammoniumsalz gewonnen werden, daß die Hypophosphit-Ionen-Konzentration O - 2,0 g/l und die Phosphit-Ionen-Konzentration 0-12 g/l betragen, wobei die Phosphit-Ionen die zur Erzielung der vorgegebenen Koerzitivkraft benötigte Hypophosphit-Ionen-Konzentration reduzieren.30. Verfahren nach Anspruch 29, gekennzeichnet durch ei^ie Badtemperatur von 33 G bis 60° C.31. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt im wesentlichen ausKobalt-Ionen aus Kobaltsulfat 20 - 50 g/l Nickel-Ionen aus Nickelsulfat 20 - 50 g/lbesteht und die Hypophosphit-Ionen-Konzentration 0 - 1,10 g/l beträgt.32. Verfahren nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Bades von 38° C bis 7+3° C beträgt.33· Verfahren nach Anspruch 31, ι gekennzeichnet 6/1 durch die Konzentrationen g/l Kobalt-Ionen 25 s/i Nickel-Ionen 28 g/l Hypophosphit-Ionen 1,05 Phosphit-Ionen 12 Jl009838/1850
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US79505469A | 1969-01-29 | 1969-01-29 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1920221A1 true DE1920221A1 (de) | 1970-09-17 |
DE1920221B2 DE1920221B2 (de) | 1973-04-26 |
DE1920221C3 DE1920221C3 (de) | 1973-12-06 |
Family
ID=25164534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1920221A Expired DE1920221C3 (de) | 1969-01-29 | 1969-04-22 | Verfahren zur galvanischen Abschei dung dunner ferromagnetischer Schichten |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3637471A (de) |
BE (1) | BE729665A (de) |
DE (1) | DE1920221C3 (de) |
FR (1) | FR2029599A6 (de) |
GB (1) | GB1244681A (de) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3950234A (en) * | 1974-10-29 | 1976-04-13 | Burroughs Corporation | Method for electrodeposition of ferromagnetic alloys and article made thereby |
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DE3001080C2 (de) * | 1980-01-14 | 1984-10-25 | Metallgesellschaft Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Laugung von Uran aus Armerzen |
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EP0422760A1 (de) * | 1989-10-12 | 1991-04-17 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd | Amorphe legierung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
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US6982030B2 (en) * | 2002-11-27 | 2006-01-03 | Technic, Inc. | Reduction of surface oxidation during electroplating |
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KR20110033212A (ko) * | 2008-06-18 | 2011-03-30 | 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 물의 전기분해를 위한 촉매 물질, 전극 및 시스템, 및 다른 전기화학 기술 |
US20130065069A1 (en) * | 2011-09-09 | 2013-03-14 | Yun Li Liu | Electrodeposition of Hard Magnetic Coatings |
CN111926356A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-11-13 | 深圳市生利科技有限公司 | 一种钴合金电镀液及其使用方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2026718A (en) * | 1935-03-30 | 1936-01-07 | Weisberg & Greenwald Inc | Electrodeposition of metals |
US2644787A (en) * | 1950-01-05 | 1953-07-07 | Eckert Mauchly Comp Corp | Electrodeposition of a magnetic coating |
US2643221A (en) * | 1950-11-30 | 1953-06-23 | Us Army | Electrodeposition of phosphorusnickel and phosphorus-cobalt alloys |
US2921888A (en) * | 1956-10-26 | 1960-01-19 | Vertol Aircraft Corp | Electroplating titanium ano titanium alloys |
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NL283192A (de) * | 1961-09-14 | |||
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NL287699A (de) * | 1962-01-12 | |||
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US3362893A (en) * | 1964-04-27 | 1968-01-09 | Ibm | Method and apparatus for the high speed production of magnetic films |
-
1969
- 1969-01-29 US US795054*A patent/US3637471A/en not_active Expired - Lifetime
- 1969-03-10 BE BE729665D patent/BE729665A/xx unknown
- 1969-03-27 GB GB06230/69A patent/GB1244681A/en not_active Expired
- 1969-04-22 DE DE1920221A patent/DE1920221C3/de not_active Expired
- 1969-05-21 FR FR6916510A patent/FR2029599A6/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3637471A (en) | 1972-01-25 |
GB1244681A (en) | 1971-09-02 |
FR2029599A6 (de) | 1970-10-23 |
DE1920221B2 (de) | 1973-04-26 |
BE729665A (de) | 1969-08-18 |
DE1920221C3 (de) | 1973-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |