DE1275844B - Chemisch reduktives Tauchbad zur stromlosen Abscheidung von magnetisierbaren Nickel-Kobalt-Schichten - Google Patents
Chemisch reduktives Tauchbad zur stromlosen Abscheidung von magnetisierbaren Nickel-Kobalt-SchichtenInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
C23c
Deutsche KL: 48 b -3/02
Nummer: 1275 844
Aktenzeichen: P 12 75 844.0-45 (J 29035)
Anmeldetag: 22. September 1965
Auslegetag: 22. August 1968
Die Erfindung bezieht sich auf ein chemisch reduktives Tauchbad zur stromlosen Abscheidung von
magnetisierbaren Nickel-Kobalt-Schichten auf autokatalytisch wirksamen Unterlagen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, magnetisierbare
Schichten aus Nickel-Kobalt-Legierungen herzustellen, die derart zusammengesetzt und aufgebaut
sind, daß sie ein höheres Rechteckverhältnis haben, magnetisch isotrop sind und eine niedrige
Koerzitivkraft aufweisen. Solche Schichten eignen sich insbesondere zum magnetischen Rückschluß bei
magnetischen Datenspeichern.
Aus der deutschen Auslegeschrift 1127 682 ist bereits ein Bad zum chemischen Vernickeln bekannt,
das neben einem Nickelsalz ein Hypophosphit, ein Kobaltsalz und als Puffersubstanz Natriumeitrat enthält.
Weiter kann das Bad noch Natriumtetraborat enthalten. Dieses Bad wird bei einer Temperatur zwischen
80 und 1000C angewendet und auf einem pH-Wert
zwischen 4,5 und 6,8 gehalten. Dieses Bad dient vor- ao zugsweise zur Herstellung von kobalthaltigen Nickelschichten
mit einem sehr geringen Kobaltgehalt. Es handelt sich also im wesentlichen um Nickelschichten.
Infolge der Zusammensetzung der Schicht eignen sich solche Schichten nicht zur Verwendung bei magnetischen
Speichern.
Aus der deutschen Auslegeschrift 1160 263 ist weiter eine Badlösung zur Herstellung von magnetisierbaren
Nickel-Kobalt-Schichten bekannt, durch die Schichten solcher Zusammensetzung erhalten
werden, daß sie sich für magnetische Speicher eignen. Dieses Bad ist jedoch zur Herstellung der Speicherschicht
selbst bestimmt, d. h., es soll eine Schicht erzeugt werden, die eine hohe Koerzitivkraft hat. Mit
dem bekannten Bad, das aus einem Nickelsalz, einem Kobaltsalz, einem Hypophosphit, einem Citrat und
Ammoniumhydroxid besteht, werden Nickel-Kobalt-Schichten erhalten mit einer Koerzitivkraft von 200 bis
300 Oersted und einem Rechteckkoeffizienten der Hysteresisschleife von etwa 0,85. Dies beruht darauf,
daß das Verhältnis zwischen Nickel- und Kobaltsalz 1: 6 beträgt. Dieses Bad arbeitet ebenfalls bei einer
Temperatur von 80 bis 90° C, jedoch bei einem pH-Wert im Bereich von 7,6 bis 8,2, d. h. im alkalischen
Gebiet. Schichten, die nach diesem bekannten Verfahren erhalten werden, eignen sich jedoch nicht als
magnetischer Rückschluß bei magnetischen Speischern, da solche Schichten eine möglichst niedrige Koerzitivkraft
haben müssen und außerdem ein möglichst hoher Rechteckkoeffizient erwünscht ist.
Gemäß der Erfindung werden solche Schichten mit einem Bad erhalten, das bei einem Gehalt von 11,5
Chemisch reduktives Tauchbad zur stromlosen
Abscheidung von magnetisierbaren
Nickel-Kobalt-Schichten
Abscheidung von magnetisierbaren
Nickel-Kobalt-Schichten
Anmelder:
International Standard Electric Corporation,
New York, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. H. Ciaessen, Patentanwalt,
7000 Stuttgart 1, Rotebühlstr. 70
Als Erfinder benannt:
John Duckies Underwood, London
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 2. Oktober 1964 (40 199)
bis 22,5 g/l NiCl3 · 6H2O und 12,5 bis 19 g/l CoCl8 ■
6H2O so zusammengesetzt ist, daß die abgeschiedene Legierungsschicht aus 65 bis 83 und besonders
68°/0 Nickel, 15 bis 33 und besonders 30% Kobalt und 2% Phosphor besteht. Die mit diesem Bad
erhaltenen Schichten haben eine Koerzitivkraft von nicht mehr als 3 Oersted, sind magnetisch isotrop und
haben einen Rechteckkoeffizienten, der mindestens 0,95 beträgt.
Da das Bad gemäß der Erfindung im sauren Gebiet arbeitet, muß nicht durch dauernden Zusatz von
Ammonmmhydroxid der pH-Wert konstant gehalten werden.
Der zu überziehende Gegenstand wird für eine bestimmte Zeit in die Lösung eingetaucht und nach
Herstellung des Überzuges wieder aus der Lösung herausgenommen. Während des Eintauchens wird die
Lösung auf einer Temperatur im Bereich von etwa 85 bis 95°C gehalten. Der pH-Wert wird durch Zusatz
von Ammoniumhydroxid auf 5,8 bis 6,4 (bei 20°C gemessen) eingestellt.
Gemäß der Erfindung ist die Zusammensetzung der Lösung so gewählt, daß eine Schicht mit 65 bis 83 °/o
Nickel, 15 bis 33 °/0 Kobalt und 2% Phosphor erhalten wird, die eine im wesentlichen rechteckige Hysteresisschleife
und eine Koerzitivkraft von nicht mehr als 3 Oersted hat und magnetisch isotrop ist.
Ein bevorzugtes Beispiel für die Anwendung des Bades gemäß der Erfindung wird nunmehr im einzelnen
809 597B77
Claims (1)
- 3 4beschrieben. Die verwendete Plattierungslösung hat werden. Man erhält jedoch stets eine Schicht mitfolgende Zusammensetzung: einem hohen Rechteckkoeffizienten, d. h. mit einemT.T- ι ι 11 -j v,.„, ^XX ~ -„ - solchen über 0,95 und mit einem niedrigen Wert fürNickelchlond NiCl2OH2O 13,5 g die Koerzitivkraftj d. h. von nicht mehr aIs 3 Oersted.Kobaltchlond CoCl2OH2O 17,5 g 5 Schichten mit diesen Eigenschaften können erhaltenNatriumhypophosphit NaH2PO2 14,9 g werden aus einer Lösung mit einer Nickelkonzen-Natriumcitrat Na3C6H5O75H2O 50,0 g tration von 11,5 bis 22,5 g pro Liter NiCl2OH2O zu-Ammoniumchlorid NH4Cl 40,0 g sammen mit einer Kobaltkonzentration von 12,5 bis4 s 10 g pro Liter CoCl2OH2O.Eine Unterlage aus Kupferblech wird 15 Minuten io Die Menge der anderen Bestandteile des Bades lang in die Lösung getaucht und dabei die Temperatur wird in Abhängigkeit von dem Verhältnis zwischen auf 900C und der pH-Wert auf 6,0 (gemessen bei Nickelsalz und Kobaltsalz gewählt. Die Zusammen-2O0C) gehalten. Um den Prozeß in Gang zu bringen, Setzung der Schichten, die aus solchen Lösungenwird die Kupferoberfläche sensibilisiert, d. h. kataly- erhalten werden, liegt bei 65 bis 83 % Nickel, 15 bistisch aktiviert durch Berühren mit einem Aluminium- 15 33 % Kobalt und 2 % Phosphor,draht. Durch diesen Verfahrensschritt wird ein Über- In dem oben beschriebenen Ausführungsbeispielzug mit einer Stärke von etwa 13 000 Ä erhalten, der wird als Unterlage ein Kupferblech verwendet, dasaus 68% Nickel, 30% Kobalt und 2% Phosphor sensibilisiert, d.h. katalytisch aktiviert wird durchbesteht. Die Schicht ist magnetisch isotrop und hat Berühren mit einem Aluminiumdraht. Es können abereine rechteckige Hysteresisschleife, einen Rechteck- 20 auch andere Unterlagen, und zwar metallische oderkoeffizienten von 0,95 und eine Koerzitivkraft von nichtmetallische verwendet werden, die in geeigneter1,0 Oersted. Weise aktiviert werden, wie dies dem FachmannEs wurde gefunden, daß sich die Koerzitivkraft der bekannt ist. Schicht mit der Temperatur der Überzugslösungändert. Beispielsweise wird bei dem oben beschriebenen 25 Patentansprüche: Prozeß eine Schicht mit einer Koerzitivkraft von etwa2,5 Oersted erhalten, wenn die Temperatur der 1. Chemisch reduktives, bei 85 bis 950C und beiLösung 85 oder 950C beträgt. Die Koerzitivkraft sinkt einem pH von 5,8 bis 6,4 (gemessen bei 200C)bei Temperaturen zwischen diesen beiden Werten bis arbeitendes Tauchbad zur stromlosen Abscheidungauf ein Minimum bei 9O0C. 30 von magnetisierbaren Nickel-Kobalt-Schichten aufEs wurde weiter gefunden, daß in dem Falle, wo autokatalytisch wirksamen Unterlagen, bestehendder pH-Wert zwischen 5,8 und 6,4 liegt, d. h. die aus einer wäßrigen Lösung von Nickelchlorid,Lösung sauer ist, die Schicht isotrope Eigenschaften Kobaltchlorid, Alkalihypophosphit, Natriumeitrathat, mit einer Koerzitivkraft kleiner als 2,5 Oersted. und Ammoniumchlorid, dadurch gekenn-Wenn der pH-Wert über 6,4 liegt, steigt die Koerzitiv- 35 zeichnet, daß es bei einem Gehalt von 11,5kraft stark an, und bei einem pH-Wert unter 5,8 ist bis 22,5 g/l NiCl2- 6H2O und 12,5 bis 19 g/ldie Schicht unmagnetisch. Bei einem pH-Wert zwischen CoCl2-OH2O so zusammengesetzt ist, daß die5,9 und 6,1 hat die Schicht eine Koerzitivkraft von abgeschiedene Legierungsschicht aus 65 bis 83 undetwa 1,0 Oersted. Der Vorteil des Arbeitern mit einer besonders 68 % Nickel, 15 bis 33 und besonderssaueren Lösung liegt darin, daß Ammoniak (in Form 40 30 % Kobalt und 2 % Phosphor besteht,von Ammoniumhydroxid) nur während des eigent- 2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekenn-lichen Abscheidungsvorganges zugesetzt werden muß, zeichnet, daß der pH-Wert durch Zusatz vonum den pH-Wert konstant zu halten, im Gegensatz Ammoniumhydroxid auf einen Wert von 5,9 biszu einer alkalischen Lösung, die fortwährend Ammo- 6,1 eingestellt ist. niak verliert, wenn sie erhitzt wird. 45Das Verhältnis von Nickel zu Kobalt in der Lösung In Betracht gezogene Druckschriften:und damit in der erhaltenen Schicht kann verändert Deutsche Auslegeschriften Nr. 1127 682, 1160 263.809 597/377 8.68 © Bundesdruckerei Berlin
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1127682B (de) * | 1956-06-21 | 1962-04-12 | Pittsburgh Plate Glass Co | Bad und Verfahren zum chemischen Vernickeln |
DE1160263B (de) * | 1960-05-19 | 1963-12-27 | Ncr Co | Waesserige Badloesung fuer die Ablagerung einer magnetisierbaren Nickel-Kobalt-Beschichtung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2644787A (en) * | 1950-01-05 | 1953-07-07 | Eckert Mauchly Comp Corp | Electrodeposition of a magnetic coating |
US2643221A (en) * | 1950-11-30 | 1953-06-23 | Us Army | Electrodeposition of phosphorusnickel and phosphorus-cobalt alloys |
GB1052649A (de) * | 1964-06-05 |
-
1964
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-
1965
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- 1965-09-30 NL NL6512652A patent/NL6512652A/xx unknown
- 1965-10-01 BE BE670388D patent/BE670388A/xx unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1127682B (de) * | 1956-06-21 | 1962-04-12 | Pittsburgh Plate Glass Co | Bad und Verfahren zum chemischen Vernickeln |
DE1160263B (de) * | 1960-05-19 | 1963-12-27 | Ncr Co | Waesserige Badloesung fuer die Ablagerung einer magnetisierbaren Nickel-Kobalt-Beschichtung |
Also Published As
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