DE3616006C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3616006C2
DE3616006C2 DE3616006A DE3616006A DE3616006C2 DE 3616006 C2 DE3616006 C2 DE 3616006C2 DE 3616006 A DE3616006 A DE 3616006A DE 3616006 A DE3616006 A DE 3616006A DE 3616006 C2 DE3616006 C2 DE 3616006C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alloy
magnetic
nickel
phosphorus
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3616006A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3616006A1 (de
Inventor
Hiroaki Okudaira
Hitoshi Oka
Masako Yokohama Kanagawa Jp Fujisawa
Yoshio Hatano Kanagawa Jp Gohara
Nobuo Yokohama Kanagawa Jp Nakagawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of DE3616006A1 publication Critical patent/DE3616006A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3616006C2 publication Critical patent/DE3616006C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/7368Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
    • G11B5/7371Non-magnetic single underlayer comprising nickel
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/7368Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
    • G11B5/7369Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911Inorganic substrates
    • G11B5/73917Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
    • G11B5/73919Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/90Magnetic feature
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein magnetisches Aufzeichnungsmedium gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Ein derartiges magnetisches Aufzeichnungsmedium ist beispielsweise aus der "IEEE Trans. Magnetics, Vol. MAG-18 (1982), S. 1215-1220" bekannt.
Um neuere Anforderungen bezüglich einer hohen Aufnahmedichte in einem magnetischen Aufzeichnungsmedium, besonders einer Magnetplatte, zu erfüllen, wurden Magnetplatten mit einem dünnen Film eines magnetischen Mediums entwickelt. Der übliche Aufbau der Magnetplatte ist wie in Fig. 1 dargestellt. Eine aus einem nichtmagnetischen Material aufgebaute Unterlage 2 wird auf einem aus einem nicht magnetischen Material, wie z. B. Aluminium, aufgebauten Substrat 1 gebildet, und auf der Unterlage 2 werden ein magnetisches Medium 3 und ein Schutzfilm 4 gebildet. Im allgemeinen ist die Unterlage eine amorphe Nickel/Phosphor-Legierung, die durch stromloses Plattieren gebildet wird. Als magnetisches Medium verwendet man eine durch Sputtern gebildete Eisenoxid- (γ-Fe₂O₃)-Schicht oder eine durch Plattieren gebildete Kobalt/Phosphor-Legierungsschicht.
Es wird gefordert, daß die Unterlage nichtmagnetisch und von einer mechanischen Widerstandsfähigkeit sein sollte, die ausreicht, um der Schlagbewegung zwischen dem Magnetkopf und der Magnetplatte zu widerstehen und daß sie eine ausreichende Korrosionsbeständigkeit in der Umgebung haben sollte, in der die Platte eingesetzt wird. In Verbindung mit den nichtmagnetischen Kennwerten ist es wichtig, daß die Unterlage durch die Wärme, die beim Pressen der Platte entsteht, nicht magnetisiert werden sollte. Wenn die Magnetisierungstemperatur - d. h. die Temperatur, bei der eine amorphe Legierung unter Ausbildung ferromagnetischer Eigenschaften kristallisiert - der Unterlage erhöht wird, wird es möglich, die Temperatur, bei der das magnetische Medium und die Schutzschicht gebildet werden, zu erhöhen, und es kann damit ein magnetisches Medium mit weiter verbesserten magnetischen Kennwerten und eine Schutzschicht mit weiter erhöhter Korrosionsbeständigkeit und Abriebfestigkeit erhalten werden.
Die gewöhnlicherweise für die Unterlage verwendete Nickel/ Phosphor-Legierung ist amorph und nichtmagnetisch als ob sie plattiert wäre, jedoch kristallisiert die Legierung beim Erhitzen bei etwa 250°C und trennt sich in Nickel und eine Nickel/Phosphor-Verbindung (Ni₃P), mit dem Ergebnis, daß die Unterlage durch Nickel (einem ferromagnetischen Material) magnetisiert wird. Entsprechend sollte, im Falle einer aus einer amorphen Nickel/Phosphor-Legierung aufgebauten Unterlage, die Temperatur zur Bildung des magnetischen Mediums und der Schutzschicht unterhalb von 250°C liegen, und es ist schwierig, dem magnetischen Medium und der Schutzschicht ausgezeichnete Kennwerte mitzugeben. Außerdem ist die amorphe Nickel/Phosphor-Legierungsschicht unzureichend in den mechanischen Kennwerten und der Korrosionsbeständigkeit. Genauer gesagt, wird mit einer Zunahme der Aufzeichnungsdichte die Flughöhe (flying height, Arbeitshöhe, Arbeitsabstand) des Magnetkopfes verringert und somit die Frequenz der Schlagbewegung zwischen dem Magnetkopf und der Platte erhöht. Weil im Falle der Nickel/Phophor- Legierung die Zugfestigkeit und die Härte niedrig sind, wird die Magnetplatte durch die Schlagbewegung leicht beschädigt. Weil weiterhin die Bitlänge als die Aufzeichnungseinheit mit Zunahme der Aufzeichnungsdichte verkürzt wird, verursacht bereits eine sehr kleine, auf Korrosion zurückgehende Beschädigung einen Fehler. Weil die Korrosionsbeständigkeit der Nickel/Phosphor-Legierung unzureichend ist, schreitet die Korrosion fort bis zum magnetischen Medium und die Fehler werden vergrößert, was eine Verringerung der Zuverlässigkeit der Platte ergibt.
Zum Stand der Technik hinsichtlich der Unterlage einer Magnetplatte kann die japanische Offenlegungsschrift 33900/76 herangezogen werden. Darin wird gelehrt, daß die Zugabe von Zink oder Mangan zu einer Nickel/Phosphor-Legierung eine Verbesserung in der Koerzitivkraft und der magnetischen Remanenz eines auf der Unterlage gebildeten magnetischen Mediums ergibt. Jedoch wird mit dieser herkömmlichen Technik keine Verbesserung der Magnetisierungstemperatur, der mechanischen Kennwerte oder der Korrosionsbeständigkeit erreicht.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, das oben erwähnte Problem der herkömmlichen Technik zu lösen und ein magnetisches Aufzeichnungsmedium mit einer Unterlage zur Verfügung zu stellen, die eine hohe Magnetisierungstemperatur und ausgezeichnete mechanische Kennwerte und eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit hat.
Die Aufgabe wird durch ein magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1 gelöst.
Dabei ist die nichtmagnetische Unterlage unterhalb des magnetischen Mediums aus einer Nickel/Wolfram/ Phosphor-Legierung aufgebaut.
Es wurden Untersuchungen zur Erhöhung der Magnetisierungstemperatur und zur Verbesserung der mechanischen Kennwerte, wie z. B. Härte, Zugfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit, durch Zugabe eines dritten Elementes zu einer Nickel/Phophor- Legierung angestellt. Als Ergebnis wurde gefunden, daß durch die Zugabe von Wolfram zu einer Nickel/Phosphor-Legierung die oben erwähnten Kennwerte mit der Zunahme der zugegebenen Wolframmenge verbessert wurden. Genauer gesagt, ergibt sich die in Fig. 2 gezeigte Beziehung zwischen der Magnetisierungstemperatur und dem Wolframgehalt der Nickel/ Wolfram/Phosphor-Legierung (im folgenden NWP-Legierung genannt), aus der der durch die Wolframzugabe herbeigeführte Effekt ablesbar ist. Es kann angenommen werden, daß dieser Effekt darauf zurückzuführen ist, daß Elektronen des Phosphors zum Wolfram wandern und dabei die chemische Bindung zwischen Phosphor und Wolfram verstärken.
Wenn der Wolframgehalt kleiner ist als 0,05 Atom-%, wird durch die Wolframzugabe kein wesentlicher Effekt erreicht, während bei einem höheren Gehalt als 10 Atom-% die gebildete Schicht leicht gesprengt wird. Entsprechend wird ein Wolframgehalt von 0,05 bis 10 Atom-% bevorzugt, insbesondere ein Gehalt von 0,1 bis 5 Atom-%.
Um die NWP-Legierung amorph zu machen, ist es unverzichtbar, daß der Phosphorgehalt mindestens 14 Atom-% sein sollte. Jedoch ist eine Legierung mit einem 30 Atom-% übersteigenden Phosphorgehalt schwierig herzustellen. Entsprechend wird ein Phosphorgehalt von 14 bis 30 Atom-% bevorzugt.
Es ist ausreichend, wenn die Unterlage der NWP-Legierung eine Dicke hat, wie sie erforderlich ist, um das magnetische Medium zu tragen und einem Stoß standzuhalten, der durch die Schlagbewegung gegen den Magnetkopf erzeugt wird.
Hierzu wird eine Dicke der Legierungsschicht von 5-200 µm, insbesondere 10-100 µm bevorzugt.
Das Verfahren zur Bildung der Unterlage der NWP-Legierung ist, solange die oben erwähnte Zusammensetzung und Dicke erhalten werden, nicht besonders kritisch. Es können dafür beispielsweise Plattierungsverfahren, wie das chemische Plattieren und das Elektroplattieren, und physikalische und chemische Bedampfungsverfahren, wie das Sputtern, das Vakuumverdampfen und das Ionenplattieren, eingesetzt werden. Hinsichtlich der Geschwindigkeit der Schichtbildung, der Leichtigkeit, mit der ein dicker Film gebildet wird und der Massenproduktivität und unter wirtschaftlichen Gesichtspunkten ist der Einsatz von Plattierungsverfahren vorzuziehen.
Selbst wenn ein viertes Element wie Kupfer, Zink, Silber, Gold, Palladium, Rhodium, Mangan, Molybdän, Rhenium, Chrom, Vanadium, Titan oder Bor in einer Menge von 0,001 bis 25 Atom-% in die NWP-Legierung eingebaut wird, werden die oben erwähnten Kennwerte nicht beeinflußt, und die entstehende Legierung ist der herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierung in diesen Kennwerten wesentlich überlegen. Ein auf der Unterlage aus NWP-Legierung gebildetes magnetisches Medium wirkt als Schicht zur Ausbildung eines magnetischen Zustandes, der dem Eingangssignal entspricht und das Signal aufzeichnet, und es können ohne jegliche Einschränkung alle üblicherweise für bekannte Aufzeichnungsmedien verwendete Materialien verwendet werden, wie z. B. Eisenoxid, eine Kobalt/Nickel-Legierung, eine Kobalt/Phosphor-Legierung, eine Kobalt/Platin-Legierung und eine Kobalt/Nickel/Phosphor- Legierung. Zur Bildung dieser Schicht des magnetischen Mediums kann ein beliebiges physikalisches und chemisches Bedampfungsverfahren, wie z. B. Sputtern und das Vakuumdampfverfahren, und Plattierungsverfahren wie z. B. das chemische Plattieren und das Elektroplattieren eingesetzt werden.
Selbst wenn zwischen der Unterlage aus NWP-Legierung und dem magnetischen Medium und/oder zwischen der Unterlage und dem Substrat eine aus Chrom, Titan, Siliciumoxid, Kupfer, Zink, Gold, Platin o. ä. aufgebaute Schicht gebildet wird, werden die oben erwähnten Kennwerte der Unterlage aus NWP- Legierung in keiner Weise beeinflußt.
Wie aus der vorangehenden Beschreibung ersichtlich ist, umfaßt das magnetische Aufzeichnungsmedium im Prinzip ein z. B. aus einer Aluminiumlegierung aufgebautes nichtmagnetisches Substrat, eine auf dem nichtmagnetischen Substrat gebildete Unterlage aus der oben erwähnten NWP-Legierung, eine auf der Unterlage gebildete Schicht eines magnetischen Mediums und einen auf der Schicht des magnetischen Mediums gebildeten Schutzfilm, und es kann eine Schicht aus anderem Material zwischen dem Substrat und der Unterlage und/oder zwischen der Unterlage und der Schicht aus magnetischem Medium eingefügt sein.
Für das nichtmagnetische Substrat und den Schutzfilm können Materialien eingesetzt werden, die üblicherweise in gewöhnlichen magnetischen Aufzeichnungsmedien verwendet werden. Hinsichtlich des für den Schutzfilm verwendeten Materials kann beispielhaft Siliciumoxid, Kohlenstoff, Chrom, Rhodium, Kobaltoxid, Siliciumnitrid, Siliciumcarbid und Bornitrid angeführt werden.
Fig. 1 ist eine Schnittzeichnung eines allgemeinen Aufbaus einer Magnetplatte.
Fig. 2 ist eine Kurve, die den Zusammenhang zwischen dem Wolframgehalt und der Magnetisierungstemperatur in einer NWP-Legierung verdeutlicht.
Fig. 3 ist eine Schnittzeichnung eines Beispiels der erfindungsgemäßen Magnetaufzeichnungsplatte.
Die vorliegende Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele im Detail beschrieben.
Beispiel 1
Der Aufbau eines typischen Beispiels der Magnetplatte wird in Fig. 3 erläutert. Diese Magnetplatte wurde auf folgende Weise hergestellt.
Eine Aluminiumlegierung wurde in eine ringartige Gestalt gestanzt und beide Oberflächen zur Bildung eines Substrates 11 aus Aluminiumlegierung geebnet und geglättet. Dann wurde das Substrat 11 der Entfettung und einer Zinktauchung unterzogen und durch stromloses Plattieren auf dem Substrat 11 eine Unterlage einer erfindungsgemäßen NWP-Legierung gebildet. Die Hauptkomponenten der Plattierungslösung und die Plattierungsbedingungen waren wie unter (a) in Tabelle 1 gezeigt. Die Oberfläche der Unterlage 15 wurde durch mechanisches Polieren geebnet und geglättet, so daß die Oberflächenrauhigkeit etwa 0,01 µm betrug. Dann wurde durch stromloses Plattieren eine Schicht 13 eines magnetischen Mediums aus Kobalt/Phosphor-Legierung mit einer Dicke von 0,07 µm gebildet, wobei eine Plattierungslösung verwendet wurde, die als Hauptkomponenten Kobaltsulfat und Natriumhypophosphorit enthielt. Anschließend wurde unter Schleuderbeschichtung eine Lösung eines organischen Komplexes, wie z. B. eines Siliciumalkoholats, auf die Schicht 13 des magnetischen Mediums aufgetragen, eine Hitzebehandlung bei 310°C über 1 h durchgeführt und ein aus Siliciumoxid aufgebauter Schutzfilm 14 mit einer Dicke von etwa 0,08 µm zur Herstellung einer Magnetplatte gebildet.
Die durch das oben erwähnte stromlose Plattieren gebildete Unterlage aus NWP-Legierung war amorph und nichtmagnetisch und - wie in Tabelle 2 gezeigt - der Wolframgehalt betrug 0,1 Atom-% und der Phosphorgehalt 16,2 Atom-%. Selbst nach einer Erhitzung der Unterlage auf 320°C über 1 h behielt die Unterlage amorphe und nichtmagnetische Kennwerte. Entsprechend war die Unterlage nach der oben erwähnten Hitzebehandlung selbstverständlich amorph und nichtmagnetisch.
Weil die Hitzebehandlung bei 310°C über 1 h zur Bildung des Schutzfilmes ermöglicht wurde, konnte die Abriebfestigkeit dieses Filmes verbessert werden. Im einzelnen war in einem Abriebtest, bei dem eine Saphirkugel mit einer Belastung von 30 g auf die Platte gedrückt und die Platte mit einer Umfangsgeschwindigkeit von 10 m/s gedreht wurde, eine Zeit von 30 min erforderlich, um das magnetische Medium durch Verschleißen des Schutzfilmes zu beschädigen.
Die in dem vorliegenden Beispiel erhaltene NWP-Legierung war ausgezeichnet in bezug auf Korrosionsbeständigkeit und beim Eintauchen der Legierung in eine 1N wäßrige Lösung von Chlorwasserstoffsäure betrug die Korrosionsgeschwindigkeit lediglich 1,0 mm/Jahr. Weiterhin hatte die Legierung ausgezeichnete mechanische Kennwerte, die Zugfestigkeit betrug 270 kg/mm² und die Vickers-Härte 580. In einem Schlagzähigkeitstest, bei dem eine Saphirkugel mit einem Durchmesser von 5 mm aus einer Höhe von 3 mm auf die Platte fallengelassen wurde, ergab sich eine Tiefe des gebildeten Eindrucks von 0,8 µm. Entsprechend war auch die Schlagzähigkeit der NWP-Legierung dieses Beispiels gegenüber der Schlagbewegung des Magnetkopfes der Schlagzähigkeit der herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierung weit überlegen.
Weiterhin wurde bei der Unterwerfung der Legierung unter Heizen und Kühlen weder Blasen- noch Rißbildung beobachtet.
Durch die Anhebung der Magnetisierungstemperatur konnte nicht nur die oben erwähnte Verbesserung in den Eigenschaften des Schutzfilmes, sondern auch eine Verbesserung in den magnetischen Kennwerten des magnetischen Mediums erreicht werden. Genauer gesagt, wurde es möglich, ein durch Sputtern gebildetes magnetisches Medium aus Eisenoxid o. ä. einer Hitzebehandlung bei 300°C über 3 h zu unterwerfen, wobei so hervorragende magnetische Kennwerte wie eine magnetische Remanenz 0,26 T (2600 G), eine Koerzitivkraft von 48 kA/m (600 Oe) und ein Rechteckigkeitsverhältnis von 0,80 erhalten wurden.
Beispiele 2 bis 8
Eine Unterlage aus NWP-Legierung wurde durch stromloses Plattieren auf einem Substrat aus Aluminiumlegierung gebildet, welches in derselben Weise wie in Beispiel 1 bearbeitet wurde. Die Hauptkomponenten der Plattierungslösung und die Plattierungsbedingungen der Beispiele 2 bis 8 sind unter (b) bis (h) in Tabelle 1 angegeben. Die Bildung der Schicht aus magnetischen Medium und des Schutzfilms auf der Unterlage erfolgte in derselben Weise wie in Beispiel 1. Für jede der erhaltenen NWP-Legierungen wurden der Wolfram- und Phosphorgehalt, die Magnetisierungstemperatur und die Korrosionsbeständigkeit bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse sind unter (2) bis (8) in Tabelle 2 gezeigt.
Tabelle 1
Tabelle 2
In allen der Beispiele 2 bis 8 waren der Wolframgehalt höher als in Beispiel 1, die Magnetisierungstemperatur erhöht und die Korrosionsbeständigkeit und die Zugfestigkeit weiter verbessert. Daneben wurde die Vickers-Härte auf 550-600 erhöht. Weiterhin betrug die Tiefe des Eindrucks bei dem oben erwähnten Schlagzähigkeitstest 0,5-1,4 µm, und die erhaltenen Ergebnisse waren den mit der Nickel/Phosphor- Legierung erhaltenen weit überlegen. Aufgrund der Verbesserungen in diesen Kennwerten konnten die magnetischen Kennwerte des magnetischen Mediums, die Abriebfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit des Schutzfilmes verbessert und die Schlagzähigkeit gegenüber der Schlagbewegung auf den Magnetkopf erhöht werden.
In einer Legierungsschicht mit einem Wolframgehalt von mehr als 11 Atom-% wurden eine Reihe von feinen Rissen gebildet, und die Schicht konnte nicht als Unterlage verwendet werden.
Zusätzlich zu den in Tabelle 2 angegebenen Dicke-Werten wurden Dicken von 1, 2, 3, 5, 8, 200, 300 und 400 µm unter den Bedingungen des Beispiels 4 gebildet und untersucht. Es wurde gefunden, daß mit Dicken von 5, 8 und 200 µm eine ausgezeichnete Schlagzähigkeit wie in Beispiel 1 erreicht wurde, jedoch mit Dicken von 1, 2 und 3 µm war die Schlagzähigkeit geringer als die in Beispiel 1 erreichte, obwohl die Schlagzähigkeit derjenigen der Nickel/Phosphor-Legierung überlegen war. Mit Dicken von 300 und 400 µm ergab sich, trotz der langen zur Bildung der Unterlage erforderlichen Zeit, eine Schlagzähigkeit, die ähnlich derjenigen war, die mit einer Dicke von 200 µm erreicht wurde.
Beispiel 9
Eine Unterlage aus NWP-Legierung mit einer Dicke von 30 µm wurde durch Elektroplattieren auf einem Substrat aus Aluminiumlegierung gebildet, welches in derselben Weise wie in Beispiel 1 bearbeitet wurde. Die verwendete Plattierungslösung enthielt 100 g/l Nickelsulfat, 5 g/l Natriumwolframat, 50 g/l Phosphorsäure und 40 g/l phosphorige Säure, die Temperatur der Plattierungslösung betrug 80°C, der pH-Wert der Plattierungslösung 1,0 und die Stromdichte 10 A/dm². Die Oberfläche der Unterlage wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 poliert und es wurde eine Schicht eines magnetischen Mediums aus einer Kobalt/Nickel/Phosphor- Legierung durch Elektroplattieren gebildet. Dann wurde ein Schutzfilm aus Siliciumoxid in derselben Weise wie in Beispiel 1 gebildet. Die Dicke der Schicht des magnetischen Mediums betrug 0,04 µm und eine Dicke der Schutzschicht 0,05 µm.
Die so gebildete Unterlage aus NWP-Legierung war amorph und nichtmagnetisch, der Wolframgehalt betrug 0,1 Atom-% und der Phosphorgehalt 24 Atom-%. Selbst nach Erhitzen der Unterlage auf 340°C für 1 h war die Unterlage amorph und nichtmagnetisch und deshalb bewahrte die Unterlage selbst nach der Wärmebehandlung zur Bildung des Schutzfilmes amorphe und nichtmagnetische Kennwerte. Für die Korrosionsbeständigkeit wurde eine Korrosionsgeschwindigkeit von 0,7 mm/Jahr in 1N Chlorwasserstoffsäure gefunden. Die mechanischen Kennwerte der Unterlage waren so hervorragend, daß die Zugfestigkeit 280 kg/mm² und die Vickers-Härte 610 betrug. Bei der Unterwerfung der Unterlage unter Heizen und Kühlen wurde weder Blasen- noch Rißbildung beobachtet.
Beispiel 10 bis 18
Eine Unterlage aus einer NWP-Legierung, die außerdem Molybdän, Chrom, Bor oder Kupfer enthielt, wurde durch stromloses Plattieren auf einem Substrat aus Aluminiumlegierung gebildet, welches in derselben Weise wie in Beispiel 1 bearbeitet wurde. Die Herstellung der verwendeten Plattierungslösung erfolgte durch Zugabe von 0,1 oder 1,5 g/l Natriummolybdat, 40 g/l Chromkaliumsulfat, 1 oder 4 g/l Dimethylamin/Boran oder 28 g/l Kupfersulfat zu der Plattierungslösung (d) nach Tabelle 1. Die Temperatur der Plattierungslösung betrug 60-90°C und der pH-Wert der Plattierungslösung war 7-10. In gleicher Weise wie in Beispiel 1 wurden eine Schicht eines magnetischen Mediums mit einer Dicke von 0,03-0,12 µm und ein Schutzfilm mit einer Dicke von 0,05-0,2 µm gebildet. Die Zusammensetzung der gebildeten Legierung, die Magnetisierungstemperatur sowie die Korrosionsbeständigkeit und andere Kennwerte waren wie unter (10) bis (18) in Tabelle 3 aufgeführt.
Beispiel 3
In der NWP-Legierung wurde durch Einbau von Molybdän die Magnetisierungstemperatur im Vergleich zu der der herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierung beachtlich erhöht und durch Einbau von Chrom die Korrosionsbeständigkeit verbessert. Weiterhin wurde durch die Zugabe von Bor die Zugfestigkeit verbessert und die Vickers-Härte auf 610-680 erhöht. Durch den Einbau von Kupfer wurde die Zugfestigkeit verbessert. Diese Legierungen waren in anderen Kennwerten den herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierungen weit überlegen. Weiterhin betrug die Tiefe des Eindrucks beim Schlagzähigkeitstest 0,6-1,8 µm und die erhaltenen Ergebnisse waren besser als bei der herkömmlichen Nickel/Phosphor- Legierung. Aufgrund der Verbesserungen in diesen Kennwerten konnten die magnetischen Kennwerte des magnetischen Mediums, die Korrosionsbeständigkeit und die Korrosionsbeständigkeit des Schutzfilmes und die Schlagzähigkeit gegenüber der Schlagbewegung des Magnetkopfes erhöht werden.
Vergleichsbeispiel 1
Eine Unterlage aus einer Nickel/Phosphor-Legierung mit einer Dicke von 40 µm wurde durch stromloses Plattieren auf einem Substrat aus Aluminiumlegierung gebildet, welches in derselben Weise wie in Beispiel 1 bearbeitet wurde. Eine im Handel erhältliche Nickel/Phosphorlösung zum stromlosen Plattieren wurde als Plattierungslösung verwendet. Die Temperatur der Plattierungslösung war 90°C und der pH-Wert der Plattierungslösung betrug 6,3. Die Oberfläche wurde in gleicher Weise wie in Beispiel 1 poliert und eine Schicht eines magnetischen Mediums aus Kobalt/Phosphor-Legierung durch stromloses Plattieren und dann ein aus Siliciumoxid aufgebauter Schutzfilm gebildet. Die Wärmebehandlung wurde bei 230°C über 1 h durchgeführt.
Die so erhaltene Nickel/Phosphor-Legierung war amorph und nichtmagnetisch und hatte einen Phosphorgehalt von 21,3 Atom-%. Beim Erhitzen der Legierungsschicht auf 250°C für 1 h wurde die Schicht kristallisiert und magnetisiert und zeigte eine Sättigungsmagnetflußdichte von 830 G. Entsprechend mußte zur Bildung des Schutzfilmes die Wärmebehandlung bei 230°C über 1 h durchgeführt werden. Bei der Erprobung der Abriebfestigkeit in derselben Weise wie in Beispiel 1 betrug die zum Beschädigen des magnetischen Mediums durch Verschleiß des magnetischen Films benötigte Zeit 10 min und die Abriebfestigkeit war schlechter als bei der NWP-Legierung. Weiterhin war die Korrosionsbeständigkeit mangelhaft. Im einzelnen betrug die Korrosionsgeschwindigkeit beim Eintauchen des Schutzfilmes in 1N Chlorwasserstoffsäure immerhin 3,1 mm/Jahr. Die mechanischen Eigenschaften waren denen der NWP-Legierung unterlegen, wobei die Zugfestigkeit 230 kg/mm² und die Vickers- Härte 510 betrug. Beim oben erwähnten Schlagtest betrug die Tiefe des Eindrucks immerhin 3,2 µm, und die Schlagzähigkeit war schlechter als im Falle der NWP-Legierung.
Im Falle der Nickel/Phosphor-Legierung mußte aufgrund der oben angegebenen niedrigen Magnetisierungstemperatur die Wärmebehandlung zur Bildung des magnetischen Mediums aus Eisenoxid bei 220°C über 3 h durchgeführt werden und die magnetischen Kennwerte waren so unzureichend, daß die magnetische Remanenz 0,19 T (1900 G), die Koerzitivkraft 36 kA/m (450 Oe) und das Rechteckigkeitsverhältnis 0,67 betrugen.
Wie aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich ist, kann - da für die Unterlage eine NWP-Legierung verwendet wird - die Magnetisierungstemperatur von etwa 250°C im Falle der herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierung auf 320°C oder weiter erhöht werden. Demgemäß kann die Temperatur der Wärmebehandlung zur Bildung des magnetischen Mediums angehoben werden und es kann ein stabiles magnetisches Medium gebildet werden, das in bezug auf magnetische Remanenz, Koerzitivkraft und Rechteckigkeitsverhältnis hervorragend ist. Weiterhin wird aufgrund der Erhöhung der Temperatur der Hitzebehandlung zur Bildung des Schutzfilmes die Abriebfestigkeit des Schutzfilmes auf einen Wert von dem Zweifachen bis Vierfachen des Wertes erhöht, der mit einer herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierung erreicht wird und die Zuverlässigkeit der Magnetplatte kann erhöht werden.
Weiterhin können die mechanischen Kennwerte, wie z. B. Zug­ festigkeit und Härte der Unterlage um etwa 20% oder mehr verglichen mit den Werten der Nickel/Phosphor-Legierung verbessert werden, womit die Widerstandsfähigkeit gegenüber der Schlagbewegung auf den Magnetkopf und auch die Korrosionsbeständigkeit gegenüber einer herkömmlichen Nickel/Phosphor-Legierung stark verbessert wird, mit dem Ergebnis, daß die Zuverlässigkeit der Magnetplatte wesentlich verbessert werden kann.

Claims (6)

1. Magnetisches Aufzeichnungsmedium mit einem nichtmagnetischen Substrat, einer auf dem Substrat gebildeten Unterlage aus einer Nickel und Phosphor enthaltenden Legierung und einer auf der Unterlage gebildeten Schicht eines magnetischen Mediums, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage aus einer 0,05-10 Atom-% Wolfram und 14-30 Atom-% Phosphor enthaltenden Legierung aufgebaut ist, wobei der Rest von Nickel gebildet wird.
2. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Schicht des magnetischen Mediums ein Schutzfilm ausgebildet ist.
3. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung, aus der die Unterlage aufgebaut ist, weiterhin mindestens ein aus Kupfer, Zink, Silber, Gold, Palladium, Rhodium, Mangan, Molybdän, Rhenium, Chrom, Vanadium, Titan und Bor ausgewähltes Element enthält.
4. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage aus einer 0,1-5 Atom-% Wolfram und 14-30 Atom-% Phosphor enthaltenden Legierung aufgebaut ist, wobei der Rest von Nickel gebildet wird.
5. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Unterlage 5-200 µm beträgt.
6. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Unterlage 10-100 µm beträgt.
DE19863616006 1985-05-15 1986-05-13 Magnetisches aufzeichnungsmedium Granted DE3616006A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60101291A JPS61260420A (ja) 1985-05-15 1985-05-15 磁気記録体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3616006A1 DE3616006A1 (de) 1986-11-20
DE3616006C2 true DE3616006C2 (de) 1989-11-02

Family

ID=14296739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19863616006 Granted DE3616006A1 (de) 1985-05-15 1986-05-13 Magnetisches aufzeichnungsmedium

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4735853A (de)
JP (1) JPS61260420A (de)
KR (1) KR900002971B1 (de)
DE (1) DE3616006A1 (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4786564A (en) * 1987-02-25 1988-11-22 Komag, Inc. Method for manufacturing a magnetic disk having reduced bit shift, minimized noise, increased resolution and uniform magnetic characteristics, and the resulting disk
US5153044A (en) * 1987-02-25 1992-10-06 Komag, Inc. Magnetic disk for longitudinal recording comprising an amorphous intermediate layer
JP2834392B2 (ja) * 1993-06-23 1998-12-09 ストアメディア インコーポレーテッド 金属薄膜型磁気記録媒体とその製造方法
EP0769572A1 (de) * 1995-06-06 1997-04-23 ENTHONE-OMI, Inc. Verfahren und Bad zur stromlosen Plattierung mit einer Nickel-Kobalt-Phosphorlegierung
US5789090A (en) * 1996-02-05 1998-08-04 Stormedia, Inc. Metallic thin-film magnetic recording media
JP2000239827A (ja) * 1998-12-22 2000-09-05 Bridgestone Corp 積層構造体及びその製造方法
US6833173B1 (en) * 1999-09-27 2004-12-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Floppy disk including a seed layer and a primer layer with specified relative properties
US7037421B2 (en) * 2000-05-19 2006-05-02 Alps Electric Co., Ltd. Thin-film magnetic head having magnetic gap formed of NiP
US20130065069A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 Yun Li Liu Electrodeposition of Hard Magnetic Coatings

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4224381A (en) * 1978-10-19 1980-09-23 Poly Disc Systems, Inc. Abrasion resistant magnetic record members
JPS5758226A (en) * 1980-09-22 1982-04-07 Toshiba Corp Magnetic recording medium
JPS5771524A (en) * 1980-10-22 1982-05-04 Dainippon Printing Co Ltd Magnetic recording medium
JPS5842741A (ja) * 1981-09-07 1983-03-12 Res Inst Electric Magnetic Alloys 磁気記録再生ヘツド用耐摩耗性高透磁率合金およびその製造法ならびに磁気記録再生ヘツド
US4621030A (en) * 1982-07-19 1986-11-04 Hitachi, Ltd. Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method thereof
JPS60101710A (ja) * 1983-11-05 1985-06-05 Alps Electric Co Ltd 垂直磁気記録媒体
JPS61168122A (ja) * 1985-01-18 1986-07-29 Yokogawa Electric Corp 磁気デイスク

Also Published As

Publication number Publication date
DE3616006A1 (de) 1986-11-20
KR900002971B1 (en) 1990-05-03
US4735853A (en) 1988-04-05
KR860009385A (ko) 1986-12-22
JPS61260420A (ja) 1986-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2659820C2 (de) Verfahren zur Herstellung der Laminatplättchen des Kerns eines Magnetkopfes
DE2855858C2 (de) Glasartige Legierung mit hoher magnetischer Permeabilität
DE3882832T2 (de) Weicheisenmagnet-Dünnfilme.
DE3750863T2 (de) Magnetischer Mehrschichtenaufbau.
DE2555826C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer im wesentlichen geordneten Legierung
DE69031453T2 (de) Magnetischer Lese-/Schreibkopf und Herstellungsverfahren eines solchen Kopfes
DE3443601C2 (de)
DE3616006C2 (de)
DE69123487T2 (de) Dünnfilmmagnetkopf
DE3877350T2 (de) Laminierter metal-in-gap-magnetkopf fuer videorecorder.
DE2729486C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Dünnschicht
DE3789980T2 (de) Magnetisches Speichermedium mit senkrechter Anisotropie.
DE4007243A1 (de) Schicht aus weichmagnetischer legierung
DE3787401T2 (de) Magnetischer Film und denselben verwendender Magnetkopf.
DE3607501A1 (de) Quermagnetisierungsaufzeichnungs- und wiedergabeanordnung
DE1931003C3 (de) Magnetkopf für ein Magnetspeichergerät
DE3607500A1 (de) Quermagnetisierungsaufzeichnungsmedium und verfahren zur herstellung eines quermagnetisierungsaufzeichnungsmediums
DE3788579T2 (de) Ferromagnetischer dünner Film und ihn verwendender Magnetkopf.
DE3228044A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmaterial
DE68907681T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines dünnen Legierungsfilms mit hoher Sättigung der magnetischen Flussdichte.
EP0143433B1 (de) Magnetischer Aufzeichnungsträger
DE69101726T2 (de) Weichmagnetische Dünnschichten aus Legierung und Magnetköpfe daraus.
DE2223932B2 (de) Verfahren zum galvanischen niederschlagen magnetisierbarer schichten
DE69020959T2 (de) Substrat für eine Magnetplatte und ein magnetischer Aufzeichnungsträger, der dieses Substrat verwendet.
DE3788069T2 (de) Optomagnetisches speichermedium und verfahren zur herstellung.

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee