-
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Magnetplatte mit einem
Glassubstrat, einer metallischen Inselstruktur auf einer Oberfläche des
Glassubstrats und einem Magnetfilm oberhalb der metallischen Inselstruktur.
Beschreibung des Standes der Technik
-
Glas wird im allgemeinen als ein Substrat für Magnetplatten mit hoher
Speicherkapazität verwendet, da Glas eine hervorragende Oberflächenglätte hat, sehr hart
ist, sehr schwer verformbar ist, wenig Oberflächendefekte hat, etc. (siehe auch
Offenlegung des japanischen Patents Sho 49-122707 und Sho 52-18002).
-
Es ist üblich, die Oberfläche eines Glassubstrats physisch und/oder chemisch zu
ätzen, um Unregelmäßigkeiten (oder Vertiefungen) herzustellen, damit die
Kontaktmerkmale zwischen einer Magnetplatte und einem Magnetkopf (wie
CSS-Eigenschaften und statische Kopfeigenschaften) verbessert werden (z.B.
offengelegtes japanisches Patent Sho 63-160010).
-
Es ist auch üblich, Vertiefungen auf der Oberfläche eines Glassubstrats
herzustellen, indem winzige Tropfen einer Lösung einer organischen Metallverbindung
aufgesprüht werden. Dies geschieht wieder dazu, die Kontaktmerkmale zu
verbessern (z.B. offengelegtes japanisches Patent Sho 63-160014).
-
Weiterhin ist es üblich, eine Vertiefungen aufweisende Al-Schicht auf einem
Glassubstrat herzustellen, um die Kontaktmerkmale zu verbessern (offengelegtes
japanisches Patent Sho 62-256215; siehe auch Patent Abstracts of Japan, Band
012-136 (P649), veröffentlicht am 26.4.88).
-
Wird eine Magnetplatte hergestellt, die ein Glassubstrat aufweist, das mit
Oberflächenvertiefungen, wie sie oben beschrieben wurden, versehen ist, so können
die erwarteteten magnetischen Eigenschaften nicht erreicht werden, obwohl
bessere Kontakteigenschaften erhalten werden.
-
Dazu kommt, daß die bekannten Methoden, die Vertiefungen auf der Oberfläche
herzustellen, kompliziert sind, oder daß die Methoden, die auf Ätzung beruhen,
die Festigkeit des Glassubstrats verringern oder die Glattheit reduzieren.
-
Die Verwendung einer organischen Metallverbindung hat den Vorteil, nicht die
Festigkeit oder die Glattheit des Substrates zu reduzieren, da nicht geätzt wird.
Eine magnetische Schicht, die auf dem Substrat gebildet wird, weist aber oft einen
Abschnitt auf, in welchem ihre Wirkung reduziert ist und deshalb wird nur eine
Magnetplatte mit schlechten magnetischen Eigenschaften erhalten.
-
Vertiefungen in einer Al-Schicht werden deswegen gebildet, weil das abgelagerte
Metall eine große Kohäsionskraft an der Oberfläche des Substrats bei hohen
Temperaturen hat. Da die Kohäsionskraft zwischen den Atomen des abgelagerten
Metalls größer ist als die Wechselwirkung zwischen dem Substrat und dem
abgelagerten Metall ist die Adhäsion zwischen dem abgelagerten Metall und dem
Substrat im allgemeinen nicht sehr stark. Deshalb tritt bei Glassubstraten mit
einer aufgebrachten durchgehenen Al-Schicht ein Problem an der Al-Glas-Grenze
durch die große Reibungskraft beim CSS-Test auf. Dieses muß gelöst werden
bevor das übliche Problem hinsichtlich des Reibungskoeffizienten der Reibung
zwischen dem Kopf und der Platte beim CSS-Test betrachtet werden kann, und es
ist ein ernsthaftes Problem, da es die Verläßlichkeit der Magnetplatte betrifft.
-
Die GB-A-2096647 beschreibt eine Magnetplatte der eingangs genannten Art, bei
der die Inselstruktur mittels eines Metalls aus der Gruppe Wismut, Antimon und
Thallium gebildet wird, und bei der der Magnetfilm direkt auf der Inselstruktur zu
liegen kommt. Wird Wismut benutzt, so wird es bei einer Substrattemperatur von
130 ºC bis zum Schmelzpunkt des Wismuts aufgedampft. Das Wismut wird mit
einem durchschnittlichem Betrag von 1 ug/cm² bis 100 ug/cm² aufgebracht, was
einer durchschnittlichen Dicke im Bereich von 1 nm bis 100 nm entspricht. Als
Magnetfilmmaterial wird Kobalt benutzt und der Magnetfilm hat eine Dicke von 10
nm bis 100 nm. Es ist bekannt, daß die Wismut-/Kobaltkombination eine
Koerzitivkraft im Bereich von 39790 A/m bis 79580 A/m und ein Rechteckverhältnis im
Bereich von 0,60 bis 0,65 hervorbringen kann.
-
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die zuvor beschriebenen Probleme zu
überwinden, und eine Magnetplatte mit exzellenten magnetischen Merkmalen
und hoher Produktivität zur Verfügung zu stellen.
-
Nach der vorliegenden Erfindung zeichnet sich eine Magnetplatte der eingangs
genannten Art dadurch aus, daß eine Sauerstoff-Einfangschicht aus Titan so auf
der metallischen Inselstruktur aufgebracht ist, daß sie in Verbindung steht mit
freiliegenden Bereichen der Oberfläche des Glassubstrats zwischen den Inseln
der Inselstruktur, eine Magnetfilm-Unterlagenschicht zwischen der Sauerstoff-
Einfangschicht und dem Magnetfilm vorhanden ist, und eine Schutzschicht auf
dem Magentfilm liegt, und daß die Inselstruktur eine Bedeckungsrate auf der
Oberfläche von 10 bis 85 % aufweist, aus solchem Metall besteht, daß aus der Ag,
Al, Cu und Au enthaltenden Gruppe oder aus einer Legierung von 2 oder mehreren
der Metalle dieser Gruppe ausgewählt ist, die Tiefe der Inselstruktur im Bereich
von 5 nm bis 150 nm und die mittlere Rauhigkeit der Inselstruktur auf der
Oberfläche im Bereich von 2 nm bis 8 nm liegen, so daß Vertiefungen auf der
freiliegenden Oberfläche der Schutzschicht gebildet werden.
-
Vorzugsweise wird als nichtmagnetisches Substrat im Hinblick auf die Glattheit
der Oberfläche eine Glasplatte benutzt. Vor allem werden Glasplatten, die eine
Natronkalkzusammensetzung haben und durch ein Schwimmverfahren
hergestellt werden, bevorzugt, da sie am preiswertesten angeboten werden.
-
Ein Metall, daß aus der Ag, Al, Cu und Au enthaltenden Gruppe oder aus einer
Legierung von zwei oder mehreren von ihnen ausgewählt wird hat einen
Schmelzpunkt, der kleiner ist als 1100 ºC. Es bildet leicht eine Inselstruktur mit großer
Kohäsionskraft zwischen den Metallatomen, wenn sie abgelagert werden.
-
Metall mit niedrigem Schmelzpunkt kann in Form einer Inselstruktur mit
unregelmäßigen Vertiefungen z.B. durch einen Aufdampfungsprozeß, etwa durch
Vakuumaufdampfung oder Vakuumsputtern, aufgebracht werden, wenn die
Anfangsphase des Metallaufdampfungsprozesses so ist, daß sich das
aufgebrachte Metall auf einem nichtmagnetischen Träger aneinanderlagert, während
die Temperatur des nichtmagnetischen Trägers auf eine relativ hohe Temperatur
gebracht wird.
-
Die Form der Vertiefungen kann durch Kontrolle der Temperatur des Substrats
und der Menge der Aufdampfung variiert werden. Normalerweise wird das
Substrat auf eine Temperatur von 100 bis 400 ºC aufgeheizt, um einen
Vertiefungsfilm, der die Inselstruktur aufweist, zu erhalten. Wenn die Temperatur des
Substrats erhöht wird, werden die Vertiefungen tiefer. Der regelmäßige Abstand
der Vertiefungen wird kleiner, wenn die aufgedampfte Menge größer wird.
-
Die Bedeckungsrate der Inselstruktur auf dem Substrat liegt zwischen 10 und 85
%, da die Adhäsion zwischen dem Substrat und dem Magnetfilm reduziert wird,
wenn sie größer als 85 % wäre, während die erwünschten Vertiefungen schwer zu
erhalten sind, wenn sie kleiner als 10 % wäre. Weiterhin liegt die mittlere
Rauhigkeit der Vertiefungen der Inselstruktur auf dem Substrat im Bereich von 2 bis 8
nm und vorzugsweise, um Bitverschiebungen zu unterdrücken, im Bereich von 2
bis 6 nm. Darüber hinaus liegt die Tiefe der Inselstruktur (Tiefe der Vertiefung)
normalerweise im Bereich von 5 bis 150 nm und vorzugsweise im Bereich von 10
bis 50 nm, so daß die maximale Rauhigkeit 150 nm nicht überschreitet. Die Tiefe
ist ferner so gewählt, daß Vertiefungen in der Schutzschicht, die die oberste
Schicht ist, erzeugt werden. Weiterhin liegt der regelmäßige Abstand der
Vertiefungen normalerweise im Bereich von 0,05 bis 1 um und vorzugsweise im Bereich
von 0,1 bis 0,5 um, um die Oberflächenvertiefungen in der obersten Schicht zu
gewährleisten und so eine glatte Bewegung des Kopfes zu ermöglichen.
-
Die Magnetfilm-Unterlagenschicht wird aufgebracht, um die Kristallinität des
Magnetfilms zu verbessern. Wird ein Material aus der CoNi-Serie als Magnetfilm
benutzt, so wird normalerweise Cr oder eine Legierung, die hauptsächlich aus Cr
besteht, als darunterliegende Magnetfilm-Unterlagenschicht benutzt.
-
Die Unterlagenschicht kann die magnetischen Eigenschaften merklich
verbessern. Die Sauerstoff-Einfangschicht, die unter der Unterlagenschicht
aufgebracht ist, kann die magnetischen Eigenschaften weiter verbessern.
-
Als Sauerstoff-Einfangschicht bietet Ti eine gute Adhäsion mit dem Glassubstrat
und ein effektives Sauerstoffeinfangvermögen.
-
Die Sauerstoff-Einfangschicht verhindert ein Aufsteigen von Sauerstoff vom
Glassubstrat und verbessert somit die Kristallinität der
Magnetfilm-Unterlagenschicht, wodurch sich auch bessere magnetische Eigenschaften ergeben.
-
Störungen der magnetischen Eigenschaften einer Magnetplatte, die ein
Magnetplattensubstrat enthält, das durch die organische Metallverbindung, die oben
beschrieben worden ist, hergestellt wurde, werden durch Sauerstoff oder
sauerstoffhaltiges Gas verursacht, das aus der organischen Metallverbindung stammt.
-
Dadurch wird teilweise die Kristallinität der Unerlagenschicht reduziert,
wodurch die Störungen der magnetischen Eigenschaften hervorgerufen werden.
-
Weiterhin gibt es kein Risiko einer Reduzierung der Festigkeit oder der Glattheit,
da das Substrat nicht geätzt wird. Es kann, da die Inselstruktur durch einen
Aufdampfungsprozeß (speziell durch Sputtern) erzeugt wird, eine gute Produktivität
erhalten werden, indem der Aufdampfungsprozeß als eine Vorstufe zu einer
Aufeinanderfolge von Aufdampfungsschritten, die die Magnetfilm-Unterlagenschicht
und den Magnetfilm erzeugen, hinzugefügt wird. Da die Behandlung durch eine
Reihe von Aufdampfungsschritten erfolgt, können verschiedene Probleme, die mit
einer Überführung, Reinigung, etc. zwischen den Schritten verbunden sind,
überwunden werden und Produktionsschritte und Produktionsertrag können
hervorstehend verbessert werden.
-
Weiterhin ist die Oberfläche des Substrats nicht ganz bedeckt sondern teilweise
offengelassen, da die Inselstruktur nicht kontinuierlich auf die Oberfläche des
Substrats aufgebracht wird. Die Schicht, die über der Inselstruktur aufgebracht
wird (Sauerstoff-Einfangschicht), wird aus einem Metall (Titan) hergestellt, das
eine starke Adhäsion mit dem Substrat hat und die offenliegenden Teile des
Substrats sind in direktem Kontakt mit dem stark adhäsiven Metall.
Dementsprechend wird, auch wenn die Inselstruktur aus einem Metall hergestellt wird,
das nur eine schwache Adhäsion mit dem Substrat hat, die
Sauerstoff-Einfangschicht fest mit dem Substrat verbunden, so daß es diesbezüglich keine Probleme
gibt.
-
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Beispielen unter Bezugnahme auf die
Zeichnung näher beschrieben, es zeigen:
-
Fig. 1 eine Elektronenmikroskopaufnahme von Vertiefungen auf der
Oberfläche eines Metallfilms mit Orangenschalenstruktur als
Beispiel 1;
-
Fig. 2 einen Querschnitt durch eine nach diesem Beispiel hergestellte
Magnetplatte;
-
Fig. 3 eine Elektronenmikroskopaufnahme von Vertiefungen auf der
Oberfläche eines Metallfilms mit Orangenschalenstruktur als
Beispiel 2;
-
Fig. 4 ein Diagramm, das die Ergebnisse des CSS-Tests für die nach
Beispiel 2 hergestellte Platte zeigt; und
-
Fig. 5 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen der
Oberflächenrauhigkeit einer Scheibe und der Bitverschiebung in der Scheibe
nach Beispiel 3 darstellt.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG VON BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGEN
Beispiel 1
-
Ein Natronkalk-Glassubstrat, das genügend gereinigt worden ist (das in eine
Plattenform gebracht und chemisch verstärkt wurde), wurde im Vakuum auf 200
ºC aufgeheizt. Durch Gleichstrommagnetron-Sputtern wurde unter Verwendung
von Ar-Gas ein Ag-Film aufgebracht. Die Bedingungen wurden so eingestellt, daß
er eine Dicke von etwa 25 nm erhielt. Solche Bedingungen werden normalerweise
auch für die Bildung eines Ag-Film von 100 bis 200 nm Dicke verwendet.
-
Der so aufgebrachte Ag-Film ließ unter einem Elektronenmikroskop eine
Inselstruktur gemäß Fig. 1 erkennen, in welcher Rippen, die jeweils eine Höhe von
etwa 25 nm und eine laterale Breite von etwa 100 nm haben, unregelmäßig verteilt
sind. Die Bedeckungsrate mit dem Ag-Film betrug 84 %. In Fig. 1 sind die Ag-
Inseln weiß.
-
Nachdem das gemäß obigem Verfahren hergestellte Magnetplattensubstrat 1 mit
einem Ti-Film 3 von ewa 40 nm Dicke durch Gleichstrommagnetron-Sputtern
unter Verwendung von Ar-Gas überzogen wurde und das Substrat auf 200 ºC
aufgeheizt wurde, wurden ein Cr-Film 4, ein Co0.70Ni0.30-Film 5 und ein Schutzfilm
6 aus Carbon nacheinander aufgebracht, und zwar jeweils mit einer Dicke von 150
nm, 60 nm und 30 nm.
-
Die Schritte vom Überzug mit dem Ti-Film 3 bis zum Überzug mit dem Schutzfilm 6
aus Carbon sind in einer Inline-Sputter-Maschine, ohne das Vakuum
aufzuheben,
durchgeführt worden.
-
Die gemessene Koerzitivkraft der so hergestellten Magnetplatte betrug etwa 1500
Oe. Zusätzlich war der Reibungskoeffizient sogar noch nach 30.000 CSS -Zyklen
kleiner als 0,2, wie der CSS-Test (Contract-Start-Stop Test) zeigte, nachdem die
Magnetplatte mit einem Schmiermittel versehen wurde.
-
In dieser Ausführung wurde der Ti-Film 3 als metallische
Sauerstoff-Einfangschicht unter dem Cr-Unterlagenfilm 4 vorgesehen, um ein Entweichen von Gasen
aus dem Substrat zu verhindern, um die Kristallinität des Cr-Films zu verbessern
und um die magnetischen Eigenschaften zu verbessern. Tatsächlich betrug die
Koerzitivkraft der Magnetplatte, die nach demselben Verfahren wie in Beispiel 1
hergestellt wurde, aber den Ti-Film nicht enthielt, nur 1300 Oe und der Halbwert
für die Beugungsintensität bei einer (110) Phase des Cr-Films, der durch
Röntgenbeugungsmessung ermittelt wurde, war größer als der des auf den Ti-Film 3
aufgetragenen Cr-Films.
-
In diesem Beispiel wurde das Aufbringen des Ag-Films separat vom Aufbringen
des Magnetfilms durchgeführt, um den Bedeckungsgrad des Ag-Films
nachzuweisen. Der Ag-Film kann aber auch als Vorstufe der späteren
Magnetfilmbedeckung aufgebracht werden.
-
Obwohl in diesem Beispiel ein Gleichstrommagnetron-Sputtern zum Aufbringen
des Metalls mit tiefen Schmelzpunkt diente, ist der Aufdampfungsprozeß nicht
darauf beschränkt. Es können auch ein RF-Sputtern oder ein
Vakuumaufdampfungsprozeß etc. zum Einsatz kommen.
Beispiel 2
-
Nachdem ein Natronkalk-Glassubstrat gereinigt wurde (das in eine Plattenform
gebracht und chemisch verstärkt wurde), ist es im Vakuum auf 260 ºC aufgeheizt
worden. Danach wurde durch Gleichstrommagnetron-Sputtern unter
Verwendung von Ar-Gas eine Al-Schicht aufgebracht. Die Messung der
Oberflächenrauhigkeit des Al's mit einer Kontaktsonde (Modell AY-31, hergestellt von Kosaka
Kenkyusho) ergab eine mittlere Rauhigkeit Ra von 6 nm und eine maximale
Rauhigkeit von 60 nm. Fig. 3(a) zeigt die Form der Vertiefungen. In Fig. 3(a) sind
die Al-Inseln weiß.
-
Da das Al eine Inselstruktur aufwies, war die Oberfläche des Substrats teilweise
unbedeckt. Die Al-Bedeckungsrate betrug etwa 57 %. Sie wurde dadurch
ermittelt, daß orthogonale Linien auf eine Photographie, die von einem
Elektronenmikroskop gemacht wurde, gezeichnet wurden und danach alle Werte der Längen
von Al-Partikeln, die jeweils die orthogonalen Linien schneiden, aufaddiert
wurden, wobei dann ein Durchschnittswert errechnet wurde, indem der
Additionswert durch die Länge der jeweiligen orthogonalen Linie dividiert wurde.
-
Nachdem das gemäß obigem Verfahren hergestellte Magnetplattensubstrat 1 mit
einem Ti-Film 3 von etwa 40 nm Dicke durch Gleichstrommagnetron-Sputtern
unter Verwendung von Ar-Gas beschichtet und das Substrat auf 200 ºC aufgeheizt
wurde, wurden ein Cr-Film 4, ein Co0.70Ni0.30-Film 5 und ein dünner C-Film 6
nacheinander aufgebracht, wobei die Dicke jeweils 150 nm, 60 nm und 30 nm
betrug.
-
In diesem Fall wurden die Schritte vom Überzug mit dem Ti-Film 3 bis zum
Überzug mit dem Schutzfilm 6 aus Carbon kontinuierlich durchgeführt, ohne das
Vakuum in der In-Line-Sputter-Maschine aufzuheben.
-
Zusätzlich wurden Substrate, die für Magnetplatten verwendet werden, mit
verschiedenen Al-Bedeckungsraten von jeweils 70 bzw. 80 oder 93% hergestellt.
Die Fig. 3(b) - (d) zeigen die Inselstruktur (weiß in Fig. 3(b) und 3(c), schwarz in
Fig. 3(d)) der jeweiligen Substrate. Die mittlere Rauhigkeit Ra betrug jeweils 5,4
nm, 5,2 und 4,9 nm.
-
Der Ti-Film, der Cr-Unterlagenfilm, der Co-Ni-Cr-Legierungsfilm und der Carbon-
Schutzfilm wurden auf jedem Substrat unter denselben Bedigungen aufgebracht.
-
Nachdem ein Perfluoralkylpolyether (Handelsname: Fomblim Am 2001,
Schmiermittel) auf die so vorbereiteten Magnetplatten mit verschiedenen
Al-Bedeckungsraten aufbracht wurde, wurde ein CSS-Test durchgeführt. Die Ergebnisse sind
zusammen mit den Ergebnissen aus Beispiel 1 in Fig. 4 gezeigt.
-
In diesem Diagramm verursachte eine Platte, die eine Al-Bedeckungsrate von 93%
hatte, die also eine Filmstruktur hatte, die fast gleich zu einem durchgehenden
Film war, eine Folienablösung bei dem 2000-Zyklus der CSS-Messung, und so
war eine weitere Messung des Reibungskoeffizienten u nicht länger möglich.
-
Weiterhin war eine Platte mit einer Al-Bedeckungsrate von weniger als 84 % sogar
noch nach 16000 CSS-Test-Zyklen mit dem Reibungskoeffizienten von weniger
als 0,5 zufriedenstellend. Nachdem die Al-Bedeckungsrate auf weniger als 10 %
reduziert wurde, trat Adsorption zwischen dem Kopf und der Platte auf, da die
Durchschnittsrauhigkeit der Vertiefungen, die von den Al-Partikeln gebildet
wurden, geringer als 2 nm war.
Beispiel 3
-
Ein Al-Film wurde nach dem selben Verfahren wie in Beispiel 2 auf einem
Glasstubstrat gebildet. In diesem Fall wurden 9 Substratplatten, die eine
durchschnittliche Rauhigkeit (Ra) von 1 bis 7 nm hatten, vorbereitet, während die
Substrattemperatur zur Veränderung der Vertiefungen, die mit dem Al-Film
gebildet wurden, variiert wurde.
-
Auf den Substraten wurden der Ti-Film, der Cr-Film und der
Co-Ni-Cr-Legierungsfilm sowie der Schutzfilm aus Carbon unter denselben
Bedeckungsbedingungen wie in Beispiel 2 hergestellt. Die Koerzitivkraft für jede der Scheiben
lag innerhalb eines Bereichs von 1470 ± 50 (Oe).
-
Nachdem ein Perfluoralkylether auf die Platten aufgebracht wurde, wurde von
einem Dünnfilmkopf (Modell 3370, Taper Flat Slider) mit einer
Plattenbewertungsmaschine (Guziki RWA, 201 B) die Bitverschiebung gemessen. Der
Betrag der Bitverschiebung wurde durch Schreiben von ABCD- und FFFF-
Mustern in Hexadezimalform gemessen. Fig. 5 zeigt einen Zusammenhang
zwischen der mittleren Rauhheit Ra und dem Betrag der Bitverschiebung für jede
der Platten. Aus dem Diagramm kann entnommen werden, daß der Betrag der
Bitverschiebung plötzlich ansteigt, wenn die Oberflächenrauhigkeit der Platte
über die mittlere Rauhigkeit von Ra = 8 nm hinausgeht. Da Lesefehler der
aufgezeichneten Signale verursacht werden wenn der Betrag der Bitverschiebung
größer wird, ergibt sich hierdurch ein Problem im Hinblick auf die Qualität der
Magnetplatte.
-
Dementsprechend liegt in einem Fall, in dem die Flughöhe des Kopfes etwa 75 nm
beträgt, die mittlere Rauhigkeit Ra der Oberflächenvertiefungen auf der Platte
vorzugsweise zwischen 2 und 5 nm.
Vergleichsbeispiel
-
Eine Magnetplatte wurde nach demselben Verfahren wie in Beispiel 2 vorbereitet,
mit Ausnahme der Reduzierung der Bedeckungsgeschwindigkeit bei der Al-
Beschichtung zur Erzeugung einer vertiefungsformenden Schicht, die jetzt eine
kontinuierliche Schicht mit einer mittleren Rauhikeit von 5,3 nm und 70 nm Dicke
auf einem Glassubstrat ist. Die Bedeckungsrate des vertiefungsformenden
Materials auf der Magnetplatte betrug also 100 %. Als ein CSS-Test durchgeführt
wurde, trat an der Schnittstelle zwischen dem Al und dem Glassubstrat bei 1000
Umdrehungen eine Verschlechterung auf.
-
Wie oben ausdrücklich beschrieben wurde, wird das Substrat, das für eine
Magnetplatte nach der vorliegenden Erfindung benutzt wird, nicht geätzt. Die
Oberfläche des Substrats bleibt also ungeätzt, so daß es kein Risiko bezüglich
einer Festigkeitseinbuße oder hinsichtlich der Reduzierung der Glattheit des
Substrats gibt.
-
Da in der vorliegenden Erfindung als magnetisches Aufzeichnungsmedium ein
Material benutzt wird, das kein Gas entwickelt, hat es zufriedenstellende
magnetische Eigenschaften. Da ferner das vertiefungsformende Material eine
Inselstruktur aufweist, ist eine hohe und gleichbleibend gute Verläßlichkeit
gewährleistet.