DE1216647B - Bad zum galvanischen Abscheiden eines ferromagnetischen UEberzugs - Google Patents
Bad zum galvanischen Abscheiden eines ferromagnetischen UEberzugsInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
Int. α.:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a - 5/32
Nummer: 1216 647
Aktenzeichen: N17319 VI b/48 a
Anmeldetag: 30. September 1959
Auslegetag: 12. Mai 1966
Die Erfindung betrifft ein galvanisches Bad zum Abscheiden eines ferromagnetischen Überzugs für die
Herstellung von Speicherelementen, wie überzogener Drähte, spulen- und toroidförmiger Kerne u. dgl., die
in elektronischen Rechenanlagen und Datenverarbeitungsgeräten zur Verwendung gelangen und erheblich
verbesserte magnetische Eigenschaften besitzen.
Bei elektronischen Rechen- und Datenverarbeitungsanlagen werden möglichst kleine, einfach einzubauende
magnetische Speicherelemente benötigt, die eine entsprechende Stabilität aufweisen, in großen
Mengen wirtschaftlich herzustellen sind, eine verhältnismäßig hohe Remanenz und eine verhältnismäßig
niedrige magnetische Koerzitivkraft besitzen, deren Schaltzeiten in Mikrosekunden oder noch kleineren
Zeiteinheiten gemessen werden und die außerdem zur Erzielung eines günstigen Signal-Störungs-Verhältnisses
eine im wesentlichen rechteckige Hysteresisschleife aufweisen.
Es wurden bereits verschiedene Versuche unternommen, derartige magnetische Informationsspeicherelemente
dadurch herzustellen, daß ein elektrisch leitender Träger mit einem verhältnismäßig dünnen
Überzug einer magnetische Eigenschaften aufweisenden Nickel-Eisen- oder Nickel-Eisen-Molybdän-Legienmg
versehen wurde. Obwohl die modernen Galvanisierverfahren praktisch unbegrenzte Möglichkeiten für
die Herstellung solcher Elemente bieten, konnten bisher noch keine magnetischen Speicherelemente
hergestellt werden, die sämtliche der vorgenannten Eigenschaften besitzen.
Die Erfindung geht somit aus von einem Bad zum galvanischen Abscheiden eines ferromagnetischen
Überzuges mit einem Gehalt an Eisenionen, Nickelionen und gegebenenfalls Molybdän neben einem
Komplexbildner, und ist dadurch gekennzeichnet, daß es 0,4 bis 16 g/l Ferro- und/oder Ferriionen und
3 bis 10 g/l Nickelionen enthält und einen pH-Wert zwischen 3,5 und 9,5 aufweist.
Die Erfindung wird nunmehr an Hand von drei Ausführungsbeispielen beschrieben:
Das galvanische Bad enthält vorzugsweise einfache Eisen- und Nickelsalze in komplexer Form, wobei
Eisen entweder als Ferrosalz und/oder als Ferrisalz zuerst zugesetzt wird. Nickel wird dem galvanischen
Bad vorzugsweise als einfaches Nickelchlorid zugegeben. Nach dem Zusetzen der Salze können verschiedene
Eisen- und Nickelkombinationen, z. B. hydrierte Ionen, auftreten.
Bad zum galvanischen Abscheiden eines
ferromagnetischen Überzugs
ferromagnetischen Überzugs
Anmelder:
The National Cash Register Company,
Dayton, Ohio (V. St. A.)
Vertreter:
Dr. A. Stappert, Rechtsanwalt,
Düsseldorf, Feldstr. 80
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 1. Oktober 1958 (764 522),
vom 7. November 1958
(827412),
vom 14. November 1958
(773 843),
vom 2. April 1959 (803 585) - -
Da sich die hydrierten Oxyde des Eisens sogar in sauren Lösungen niederzuschlagen vermögen, ist es
erforderlich, einen Komplexbildner zu verwenden, der
das galvanische Bad in Lösung hält. Als Komplexbildner wird Ammoniumzitrat oder Natriumzitrat
bzw. Kaliumzitrat verwendet. Es können auch verschiedene Säuren, wie Zitronensäure, Glykolsäure,
Asparaginsäure und das Natriumsalz der Äthylendiamintetraessigsäure, verwendet werden, vorausgesetzt,
daß keine Zerstörung des Komplexes erfolgt. Bei den bevorzugten galvanischen Bädern ist es
zweckmäßig, ein Mindestmolverhältnis von 1:1 der entsprechenden Zitrat- und Eisenionenkonzentrationen
aufrechtzuerhalten.
Um den pH-Wert des galvanischen Bades zu regulieren,
wird diesem vorzugsweise Ammoniak in Form von Ammoniumhydroxyd zugesetzt. Obwohl es möglich
ist, die bevorzugten galvanischen Bäder zur Bildung von magnetischen Abscheidungen auf der Kathode
ohne den Zusatz von Ammoniak zu verwenden, ist es doch zweckmäßig, daß der pH-Wert der Bäder
sich zwischen 7,5 und 9,5 bewegt. Er sollte vorzugsweise 8,5 betragen. Außer der Regulierung des
pH-Wertes dient Ammoniak zur Änderung des Bades
609 568/467
durch die Bildung von Komplexen und stellt einen Teil der »Vorrats«-Komplexe dar, aus denen die Abscheidung
erfolgt. Es hat sich gezeigt, daß sich Amine zur Regulierung des pH-Wertes des Bades weniger
eignen als Ammoniak, jedoch können nichtkomplexbildende Basen, wie Natriumhydroxyd und Kaliumhydroxyd,
mit gleichem Erfolg Verwendung finden, vorausgesetzt, daß sie in so kleinen Mengen den Zitratbädern
zugesetzt werden, daß sie keine Niederschlagsbildung verursachen. Da das galvanische Bad
vorzugsweise mit einer Temperatur von etwa 90° C zur Anwendung gelangt, wird die Ammoniakkonzentration
durch Verdampfung aufgebracht, und es ist infolgedessen erforderlich, dem Bad laufend Ammoniumhydroxyd
zuzusetzen, um seinen pH-Wert auf dem bevorzugten Wert von 8,5 zu halten.
Ammoniumionen werden dem galvanischen Bad vorzugsweise in Form von Ammoniumchlorid zugesetzt.
Andere Ammoniumsalze, d. h. Ammoniumsulfat, können mit gleichem Erfolg verwendet werden,
vorausgesetzt, daß sie kein Niederschlagen innerhalb des Bades zu Folge haben.
Wenn sehr kleine Mengen gewisser Zusatzstoffe dem soeben beschriebenen, Komplexe enthaltenden
galvanischen Bad zugesetzt werden, treten beträchtliehe Veränderungen in der Kristallanordnung der
Abscheidung auf, was wiederum eine entsprechende Änderung der magnetischen Eigenschaften des galvanisch
abgeschiedenen Überzugs verursacht. So zeigt sich beispielsweise, daß das Zusetzen von Thioharnstoff
zum Bad die magnetische Koerzitivkraft des galvanischen Überzugs verringert. Wie sich unter
dem Elektronenmikroskop gezeigt hat, bewirkt das Zusetzen von Thioharnstoff eine (lll)-Kristallanordnung
in dem galvanischen Überzug. Wird dem Bad kein Thioharnstoff zugesetzt, erfolgt die Abscheidung
der Kristalle willkürlich. Das Zusetzen von Thioharnstoff ändert außerdem auch das Mengenverhältnis
Eisen zu Nickel in dem Überzug.
Das gleichzeitige Abscheiden von Eisen und Nickel in Gegenwart des Zusatzstoffes erfolgt langsamer als in
Abwesenheit desselben. Der Komplex zwischen dem Zusatzstoff und den ursprünglich sich abscheidenden
Kombinationen kann durch eine Verschiebung des polarographischen Halbwellenpotentials kenntlich gemacht
werden, wogegen die Adsorption des Zusatzstoffes durch ein Sinken des polarographischen
Maximums bestimmbar ist. Daraus ergibt sich, daß sich jeder Zusatzstoff, der mit den ursprünglich sich
abscheidenden Kombinationen Komplexe bildet, die an der Kathode leicht adsorbiert werden, oder der an
der Kathode adsorbiert wird und mit den ursprünglich sich abscheidenden Kombinationen Komplexe bildet,
zur Verwendung in dem Komplexe enthaltenden galvanischen Bad eignet.
Weitere Verbindungen, die mit gleichem Erfolg als Zusatzstoffe verwendet werden können, sind lösliche
substituierte Thioharnstoffe, wie l,l-Diphenyl-2-thioharnstoff, __ !,S-Diphenyl^-thioharnstoff, Allylthioharnstoff,
Äthylthioharnstoff, lösliche Thioamide, wie Thioacetamid, lösliche Thiocaynate, wie Kaliumthiocyanat,
sowie lösliche Thiosulfate, wie Natriumthiosulfat, usw.
Die erforderliche Menge des Zusatzstoffes hängt von der Konzentration der anderen Badkomponenten,
den Abscheidungsbedingungen und den gewünschten magnetischen Eigenschaften ab. So ist es beispielsweise
in einem Bad bei größeren Stromdichten normalerweise notwendig, größere Mengen von Zusatzstoffen
zu benutzen, wenn die gleiche Zusammenstellung magnetischer Eigenschaften erhalten werden
soll. Die Konzentration des Zusatzstoffes im Bad ist. demnach für feststehende Badbedingungen kritisch.
In den nachstehenden Tabellen I bis VI werden wäßrige galvanische Bäder aufgeführt, die die bevorzugten
Zusammensetzungen nach der vorliegenden Erfindung aufweisen. Es ist zu beachten, daß in der
oberen Hälfte jeder Tabelle die Konzentration jeder Verbindung und in der unteren Hälfte die Konzentration
jeder in der Lösung vorhandenen, durch die Verbindungen gebildeten Komponente in dem Bad in
Gramm pro Liter der wäßrigen Lösung angegeben ist. In jedem Falle wird die Minimal-, Optimal- und
Maximalkonzentration für jede Verbindung und jede Komponente angegeben.
Max.
Verbindungen
Ferrochlorid
Ferrochlorid
(FeCl2 -4H4O).... 45 50
Nickelchlorid
6H2O).... 10 20
Ammoniumzitrat
135 100
9,5
16
10
113
34
2H2O]
Ammoniumchlorid (NH4Cl)
pH-Wert (Ammoniumhydroxyd zugabe)
Komponenten
Ferroionen
Nickelionen
Zitrationen
Ammoniumionen .
Min. | Opt. |
45 | 50 |
10 | 20 |
105 | 125 |
35 | 50 |
7,5 | 8,5 |
12 3 88 12 |
14 5 104 17 |
Verbindungen
Ferrochlorid
Ferrochlorid
(FeCl2-4H2O)... Nickelchlorid
(NiCl2-OH2O)...
Ammoniumnitrat
2H2O]
Ammoniumchlorid (NH4Cl)
Thioharnstoff (CN2H4S)
pH-Wert (Ammoniumhydroxyd zugabe)
Komponenten
Ferroionen
Nickelionen
Zitrationen
Ammoniumionen . Thioharnstoff
Min. | Opt. |
45 | 50 |
10 | 20 |
105 | 125 |
35 | 50 |
0,002 | 0,02 |
7,5 | 8,5 |
12 3 88 12 0,002 |
14 5 104 17 0,02 |
Max.
55 40
135
100
16
10
113
34
5 Tabelle III
Verbindungen
Ferrichlorid (FeCl3-OH2O)...
Nickelchlorid (NiCIa-OH2O)...
Ammoniumzitrat [(NAJ2HC6H5O7
2H2O]
Ammoniumchlorid (NH4Cl)
pH-Wert (Ammoniumhydroxyd zugabe)
Komponenten
Ferriionen
Nickelionen
Zitrationen
Ammoniumionen
Min.
4 10
40
25
7,5
0,7 3 33
Opt.
6 20
50 50
8,5
42 17
Verbindungen
Ferrichlorid (FeCl3-OH2O)...
Nickelchlorid (NiCl2-OH2O)...
Ammoniumzitrat [(NHJ2HC6H5O7
2H2O]
Ammoniumchlorid (NH4Cl)
Thioharnstoff (CN2H4S)
pH-Wert (Ammoniumhydroxyd zugabe)
Komponenten
Ferriionen
Nickelionen
Zitrationen
Ammoniumionen Thioharnstoff ...
125 75
104
Min. | Opt. |
4 | 6 |
10 | 20 |
40 | 50 |
25 | 50 |
0,002 | 0,02 |
7,5 | 8,5 |
0,7 3 33 8 0,002 |
1 5 42 17 0,02 |
125
Tabelle | V | (Fortsetzung) | Opt. | Max. |
Min. | 4 | 5 | ||
5 Komponenten Ferriionen |
3 | 10 | 11 | |
Ferroionen | 9 | 5 | 10 | |
Nickelionen | 3 | 104 | 113 | |
Zitrationen | 88 | 17 | 34 | |
ίο Ammoniumionen .. | 12 |
Verbindungen
Ferrichlorid
Ferrichlorid
(FeCl3-OH2O)...
Ferrochlorid
Ferrochlorid
(FeCl2-4H2O)...
Nickelchlorid
Nickelchlorid
(NiCl2-OH2O)...
Ammoniumzitrat
[(NHJ2HC6H5O7
Ammoniumzitrat
[(NHJ2HC6H5O7
2H2O]
Ammoniumchlorid
(NH4Cl)
Thioharnstoff
(CN2H4S)
pH-Wert (Ammoniumhydroxyd
zugabe)
zugabe)
Komponenten
Ferriionen
Ferriionen
Ferroionen
Nickelionen
Zitrationen
Ammoniumionen ..
Thioharnstoff
Thioharnstoff
Min. | Opt. |
13 | 15 |
32 | 35 |
10 | 20 |
105 | 125 |
35 | 50 |
0,002 | 0,02 |
7,5 | 8,5 |
3 9 3 88 12 0,002 |
4 10 5 104 17 0,02 |
Max.
17 38 40
135
100
11
10
113
34
Min. | Opt. | Max. | |
Verbindungen | |||
Ferrichlorid | |||
(FeCl3-OH2O).... | 13 | 15 | 17 |
Ferrochlorid | |||
(FeCl2-4H2O).... | 32 | 35 | 38 |
Nickelchlorid | |||
(NiCl2-OH2O).... | 10 | 20 | 40 |
Ammoniumzitrat | |||
[(NHJ2HC6H5O7 · | |||
2H9O] | 105 | 125 | 135 |
Ammoniumchlorid | |||
(NH4Cl) | 35 | 50 | 100 |
pH-Wert (Ammo | |||
niumhydroxyd | |||
zugabe) | 9,5 | 8,5 | 0,7 |
Es kann nicht jedes beliebige Anodenmaterial verwendet werden. Anoden aus Eisen, Nickel und Wolfram
oder aus Legierungen dieser Metalle sind geeignet, wenn der an der Anode sich bildende Schlamm nicht
in die Badlösung gelangen kann. Einer der bei der Auswahl des Anodenmaterials zu beachtenden Faktoren
ist die Oxydation innerhalb des Systems. Demzufolge können träge Anoden, wie Platin od. dgl., Verwendung
rinden, vorausgesetzt, daß sie keine übermäßige Systemoxydation zur Folge haben. In den Bädern
nach Tabelle V und VI wird eine Eisen-Nickel-Anode benutzt, da diese ein Wiederauffüllen des Bades mit
Eisen- und Nickelionen bewirkt. Es ist jedoch im allgemeinen
erforderlich, dem galvanischen Bad fortlaufend Eisen- und Nickellösungen zuzusetzen, um
seine Konzentration während des Galvanisierungsprozesses ständig auf den entsprechenden Werten zu
halten. In den Bädern nach Tabelle I, III und IV findet eine Platinanode, in dem Bad nach Tabellen eine
Wolfranianode Verwendung.
In Bädern, in denen Thioharnstoff als Zusatzstoff benutzt wird, kann eine Wolframanode verwendet
werden, da der Zusatzstoff die Abscheidung von WoIfram an der Kathode verhindert.
Die in dem Verfahren zur Anwendung kommende Stromdichte ist unkritisch und kann beispielsweise bei
den Bädern nach Tabelle V und VI zwischen 0,05 und
0,5 A/cm2 liegen. Eine Stromdichte von 0,38 A/cm2
wird jedoch bevorzugt. In den Bädern nach der Tabelle I bis IV kann die Stromdichte zwischen 0,25 und
1 A/cma variieren, jedoch wird hier eine Stromdichte von 0,5 A/cma bevorzugt.
Nach Herausnahme aus dem galvanischen Bad wird das ferromagnetische Element abgespült und getrocknet
und kann dann in die elektrischen Schaltungen moderner elektronischer Ziffernrechen- und Datenverarbeitungsanlagen
eingebaut und als Koinzidenzstrom-Speicherelement-zur
Verwendung gelangen.
Das galvanische Bad nach dem zweiten Ausführungsbeispiel enthält, wie das Bad nach Beispiel 1, vorzugsweise
einfache Salze von Eisen und Nickel sowie Molybdän in komplexer Form,
Molybdän VI hat den stärksten Einfluß im galvanischen Bad. Es wird dem Bad vorzugsweise in Form
von Natriummolybdat zugesetzt. Das Molybdän kann jedoch auch in Form anderer Verbindungen zugegeben
werden, vorausgesetzt, daß diese keinen Niederschlag innerhalb des Systems verursachen. So kann es beispielsweise
in Form von Molybdänsäure, Phosphormolybdänsäure, Kaliummolybdat, Ammoniummolybdat,
Ammoniumheptamolybdat, Molybdäntrioxyd usw. zur Verwendung gelangen. Die Konzentration von
Molybdän (VT) ist jedoch kritisch und die optimale Konzentration hängt von dem Gesamtzustand des
Systems ab. Tatsächlich entsteht in dem Bad nach dem vorliegenden Ausführungsbeispiel nur eine ganz geringe
oder gar keine Abscheidung, wenn die Molybdatkonzentration zu hoch ist, z. B. wenn seine Ionenkonzentration
etwa 2 g pro Liter übersteigt. Es zeigte sich, daß Molybdat in einer solchen Konzentration
das galvanische Bad ähnlich wie sonstige Zusatzstoffe beeinflußt, indem es beispielsweise das Entladungspotential des Galvanisierungsprozesses senkt.
In den nachfolgenden Tabellen "VTI und VIII werden zwei Arten von elektrolytischen Bädern angeführt, die
bevorzugte Komponentenzusammensetzungen aufweisen. Diese Tabellen haben die gleiche Anordnung
wie die Tabellen I bis VI des ersten Ausführungsbeispiels.
TabeUe VIII
Min. | Opt. | Max. | |
Verbindungen | |||
Ferrochlorid | |||
(FeCl2-4H2O).... | 45 | 50 | 55 |
Nickelchlorid | |||
(NiCl2-OH2O).... | 10 | 20 | . 40 |
Natriummolybdat | |||
(Na2MoO4-2H2O) | 0,5 | 1 | 3 |
Ammoniumzitrat | |||
[(NH^2HC6H5O7 · | |||
2HoOl | 105 | 125 | 135 |
Ammoniumchlorid | |||
(NH4Cl) | 35 | 50 | 100 |
Komponenten | |||
Ferroionen | 12 | 14 | 16 |
Nickelionen | 3 | 5 | 10 |
Molybdän(VT)-ionen | 0,1 | 0,4 | 1 |
Zitrationen | 88 | 104 | 113 |
Ammoniumionen . .·. | 12 | 17 | 34 |
50
55
60
Min. | Opt. | Max. | |
Verbindungen | |||
Ferrichlorid | |||
(FeCl3 -6H2O).... | 4 | 6 | 15 |
Nickelchlorid | |||
(NiCl2-OH2O).... | 10 | 20 | 40 |
Natriummolybdat | |||
(Na2MoO4-2H2O) | 0,5 | 1 | 3 |
Ammoniumzitrat | |||
[(NH4)OHC6H5O7 · | |||
2H2Ol | 40 | 50 | 125 |
Ammoniumchlorid | |||
(NH4Cl) | 25 | 50 | 75 |
Komponenten | |||
Ferriionen | 0,7 | 1 | 3 |
Nickelionen | 3 | 5 | 10 |
Molybdän(VT)-ionen | 0,1 | 0,4 | 1 |
Zitrationen | 33 | 42 | 104 |
Ammoniumionen ... | 8 | 17 | 25 |
Bei Verwendung dieser Bäder können jedoch Anoden aus Eisen—Nickel und Eisen—Nickel—Molybdän erfolgreich
benutzt werden, vorausgesetzt, daß der an der Anode sich bildende Schlamm nicht in die Badlösung
gelangen kann. Es wurde gefunden, daß in jedem der Bäder nach den Tabellen VII und VIII sich Molybdänänoden
am besten eignen. Jedoch ist es auch trotz Verwendung einer Molybdänanode erforderlich, dem
Bad laufend Molybdatlösung zuzusetzen, um die Molybdatkonzentration ständig auf dem gewünschten
Wert zu halten. Außerdem müssen dem Bad laufend auch Nickel und Eisenlösungen zugesetzt werden, um
die Konzentration dieser Stoffe während des Galvanisierungsprozesses ständig auf dem gewünschten Wert
zu halten.
Auch die für den Abscheidungsprozeß erforderliche-Stromdichte
ist nicht auf einen bestimmten Wert beschränkt, sondern kann in Übereinstimmung mit
dem Bad gewählt werden.
Bei den galvanischen Bädern der im vorhergehenden beschriebenen Ausführungsbeispiele sind die verschiedenen
Konzentrationen der Badkomponenten verhältnismäßig schwer zu kontrollieren. Demzufolge
ist die Lebensdauer eines Bades begrenzt, und es ist schwierig, eine Einheitlichkeit in der strukturellen Zusammensetzung
der elektrolytischen Abscheidung zu erhalten. Einer der Hauptgründe für diese Schwierigkeiten
besteht darin, daß das Ammoniak durch die bei der Betriebstemperatur des Bades auftretende Verdampfung
aufgebraucht wird und somit ein ständiges Auffüllen des Bades mit Ammoniumhydroxyd erforderlich
ist, um dessen pH-Wert auf dem bevorzugten Basizitätsgrad zu halten. Das Problem der
Stabilhaltung des Bades läßt sich dadurch lösen, daß dessen pH-Wert im sauren Bereich zwischen 3,5 und 7
eingestellt wird. Die Verwendung von Natriumhydroxyd, das im dritten Ausführungsbeispiel an
Stelle des im ersten und zweiten Ausführungsbeispiel verwendeten Ammoniumhydroxyds benutzt wird,
schaltet das Problem der Konstanthaltung des pH-Wertes durch Benutzung einer leichtflüchtigen Base
ϊ 216
ίο
aus und vereinfacht dadurch die Regulierung des Bades.
Durch ein Senken des pH-Wertes des Bades aus dem Basizitäts- in den zwischen 3,5 und 7 liegenden Säurebereich
ergibt sich nicht nur ein stabileres Bad in bezug auf die Konzentration der Hauptkomponenten, sondern
es kann davon auch ein ganz neues galvanisches System abgeleitet werden. Da die verschiedenen Ionisationsgrade
von Zitrat eine Funktion des pH-Wertes des Bades sind, variieren auch die Ferrikomplexkationen
mit dem pH-Wert des Bades. So beträgt z. B. bei einem pH-Wert des Bades bei 5,0 der Prozentsatz
von Eisen und Nickel in der Ablagerung etwa 38 bzw. 62%· Liegt der pH-Wert des Bades jedoch bei 6,0,
dann beträgt der Prozentsatz von Eisen und Nickel in der Ablagerung 18 bzw. 82%· In den galvanischen
Bädern der Ausführungsbeispiele 1 und 2 wurde Nickel aus dem Aminkomplex und auch aus dem Zitratkomplex
abgeschieden, wobei das Verhältnis dieser die Kathode erreichenden Komplexe zueinander die
Zusammensetzung und Struktur der magnetischen Abscheidung bestimmt. In dem Bad nach dem vorhegenden
Ausführungsbeispiel erfolgt die Abscheidung in erster Linie aus dem Zitratkomplex, da die Ammoniakkonzentration
selbst dann noch sehr niedrig ist, wenn Ammoniumhydroxyd als Base verwendet wird.
Es ist außerdem zweckmäßig, ein Benetzungsmittel, wie Natriumlaurylsulfat, dem galvanischen Bad zuzusetzen,
um die Oberflächenspannung des Elektrolyten zu verringern und das Benetzen der Kathode zu erleichtern,
so daß eine Freigabe des eingeschlossenen Gases aus der Abscheidung und eine Verbesserung
der magnetischen Eigenschaften der letzteren erfolgt.
In der nachfolgenden Tabelle IX wird ein solches verbessertes elektrolytisches Bad gezeigt. In dieser
Tabelle werden die Ionenkonzentrationen der verschiedenen Verbindungen und Komponenten in gleicher
Weise wie in den entsprechenden Tabellen zu den ersten beiden Ausführungsbeispielen angegeben.
Min. | Opt. | Max. | |
Verbindungen | |||
Ferrichlorid | |||
(FeCl3-OH2O).... | 2 | 4 | 8 |
Nickelchlorid | |||
(NiCl2-OH2O).... | 15 | 20 | 40 |
Ammoniumzitrat | |||
[(NH^2HC6H8O7] | 40 | 70 | 120 |
Ammoniumchlorid | |||
(NH4Cl) | 30 | 50 | 70 |
Natriumlaurylsulfat | |||
(NaC12H25SO4) ... | 0,04 | 0,05 | 0,01 |
pH-Wert (Natrium | |||
hydroxydzugabe) | 3,5 | 6 | 7 |
Komponenten | |||
Ferriionen | 0,4 | 0,8 | 2 |
Nickelionen | 3 | 4,9 | 10 |
Zitrationen | 34 | 58 | 100 |
Amminoumionen ... | 10 | 17 | 24 |
Sulfationen | 0,01 | 0,015 | 0,04 |
40
45
55
60
Nach Bereitung des soeben beschriebenen elektrolytischen Bades, das die bevorzugte Komponentenkonzentration
nach Tabelle IX hat, wird dessen pH-Wert durch Zusetzen einer entsprechenden Menge
Natriumhydroxyd auf einen Wert zwischen 3,5 und 7, vorzugsweise auf 6, eingestellt. Das Bad kann zwar
ohne weiteres bei Raumtemperatur verwendet werden, jedoch wird ihm vorzugsweise eine Temperatur von
900C gegeben. Danach wird es in einen herkömmlichen,
mit Gummi ausgeschlagenen Behälter aus Stahl oder geeignetem, sich neutral verhaltendem Material eingefüllt.
Der Träger, auf dem sich die galvanische Abscheidung bilden soll, kann, wie in den vorangehenden
Ausführungsbeispielen, wahlweise aus den verschiedensten elektrisch leitenden Stoffen, wie Legierungen
von Kupfer, Silber, Aluminium, Messing usw., hergestellt sein. Die Form oder das Aussehen des Trägers
ist unmaßgeblich, so daß er ohne weiteres die Form einer Röhre, eines Ringes, einer Platte, eines Stabes
oder eines Bandes haben kann. Er kann sogar ein sehr dünner, elektrisch leitender Film sein, der durch ein
isolierendes Material, wie Glas, Plastik, Keramik od. dgl., mechanisch gesteift sein kann. Vorzugsweise
hat der Träger jedoch die Form einer hohlen Röhre aus Phosphorbronze mit einem Außendurchmesser
von etwa 0,38 mm und einem Innendurchmesser von etwa 0,2 mm.
Dieser röhrenförmige Träger wird zunächst mit einer Anzahl im wesentlichen V-förmiger und gleichmäßig
beabstandeter Rillen versehen, die spiralenförmig auf dem Umfang des Trägers verlaufen und
eine Tiefe von etwa 0,6 μ, einen Abstand von etwa
0,03 μ und eine Neigung von etwa 60° haben.
Es kann auch hier nicht jedes beliebige Anodenmaterial verwendet werden. Anoden aus Platin und
Eisen—Nickel eignen sich sehr gut, wenn der an der
Anode sich bildende Schlamm nicht in die Badlösung gelangen kann. Auf Grund der Tatsache, daß die
übrigen Verbindungskomponenten im Bad sich bei Gebrauch von Platinanoden während des Galvanisierungsprozesses
erschöpfen, ist es zweckmäßig, dem galvanischen Bad laufend Lösungen der in dem Bad
enthaltenen Verbindungen zuzusetzen, um dadurch den durch jede dieser Verbindungen gebildeten Ionengehalt
wieder aufzufüllen. Zur Ergänzung der aufgebrauchten Salze kann eine geeignete Eisen-Nickel-Anode
verwendet werden.
Es wurde beobachtet, daß der in dem vorliegenden Bad entstandene ferromagnetische Überzug an sich
keine bevorzugte Magnetisierungsrichtung aufweist, wenn die Abscheidung auf einem Träger mit glatter
Oberfläche stattgefunden hat. Ist der Träger jedoch mit vielen feinsten spiralenförmig auf der Oberfläche aufgebrachten
Rillen versehen, wie dies bei dem Speicherelement des vorliegenden Ausführungsbeispiels der
Fall ist, so besitzt dieses weit stärkere magnetische Eigenschaften.
Claims (5)
1. Bad zum galvanischen Abscheiden eines ferromagnetischen Überzugs mit einem Gehalt an
Eisenionen, Nickelionen und gegebenenfalls Molybdän neben einem Komplexbildner, dadurch
gekennzeichnet, daß es 0,4 bis 16 g/l Ferro- und/oder Ferriionen und 3 bis 10 g/l
Nickelionen enthält und einen pH-Wert zwischen 3,5 und 9,5 aufweist.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,1 bis 1 g/l Molybdän enthält.
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11 12
3. Bad mit einem Gehalt an Ferro- oder Ferro- 5. Bad nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekenn-
und Ferriionen nach Anspruch 1 und 2, dadurch zeichnet, daß es zusätzlich Thioharnstoff und
gekennzeichnet, daß es als Komplexbildner 88 bis Natriumlaurylsulfat enthält.
113 g/l Zitrationen enthält.
4. Bad mit einem Gehalt an Ferriionen nach
5 In Betracht gezogene Druckschriften:
Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß USA.-Patentschriften Nr. 1 837 355, 2 840 517;
es als Komplexbildner 33 bis 104 g/l Zitrationen Graz — Dettner, »Neuzeitliche galvanische
enthält. Metallabscheidung«, 1957, S. 75 und 95.
609 568/467 5.66 © Bundesdruckerei Berlin
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DE1216647B true DE1216647B (de) | 1966-05-12 |
Family
ID=31982601
Family Applications (1)
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DEN17319A Pending DE1216647B (de) | 1958-10-01 | 1959-09-30 | Bad zum galvanischen Abscheiden eines ferromagnetischen UEberzugs |
Country Status (6)
Country | Link |
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US (4) | US3032485A (de) |
CH (1) | CH393026A (de) |
DE (1) | DE1216647B (de) |
FR (1) | FR1241315A (de) |
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