DE1817397C3 - Verfahren zur Herstellung cyclischer Silylamide - Google Patents
Verfahren zur Herstellung cyclischer SilylamideInfo
- Publication number
- DE1817397C3 DE1817397C3 DE1817397A DE1817397A DE1817397C3 DE 1817397 C3 DE1817397 C3 DE 1817397C3 DE 1817397 A DE1817397 A DE 1817397A DE 1817397 A DE1817397 A DE 1817397A DE 1817397 C3 DE1817397 C3 DE 1817397C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cyclic
- formula
- radical
- mixture
- silylamides
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 cyclic silylamides Chemical class 0.000 title claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 4
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 9
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 150000003858 primary carboxamides Chemical class 0.000 description 4
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMVDCTBEKMKBIC-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,6-dimethylpiperidine Chemical compound CCN1C(C)CCCC1C HMVDCTBEKMKBIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQTOYEUYHXUEDB-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanamide Chemical compound NC(=O)C(F)(F)C(F)(F)F KQTOYEUYHXUEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJFFIBSUORPWGL-UHFFFAOYSA-N N-(phenylsilylmethyl)acetamide Chemical compound C(C)(=O)NC[SiH2]C1=CC=CC=C1 ZJFFIBSUORPWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKJPYSCBVHEWIU-UHFFFAOYSA-N N-[4-cyano-3-(trifluoromethyl)phenyl]-3-[(4-fluorophenyl)sulfonyl]-2-hydroxy-2-methylpropanamide Chemical compound C=1C=C(C#N)C(C(F)(F)F)=CC=1NC(=O)C(O)(C)CS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LKJPYSCBVHEWIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKABARFLWHLLJW-UHFFFAOYSA-N O(C1=CC=CC=C1)[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 OKABARFLWHLLJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010716 Vigna mungo Nutrition 0.000 description 1
- 244000042295 Vigna mungo Species 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical compound CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- TUTWLYPCGCUWQI-UHFFFAOYSA-N decanamide Chemical compound CCCCCCCCCC(N)=O TUTWLYPCGCUWQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- QEHKWLKYFXJVLL-UHFFFAOYSA-N dichloro(dimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](Cl)(Cl)OC QEHKWLKYFXJVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)Cl QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N hexanamide Chemical compound CCCCCC(N)=O ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- LIGIARLVFBHRJF-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(diethylamino)ethyl]-n,n,n'-triethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN(CC)CCN(CC)CC LIGIARLVFBHRJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULWNEVNVFMDDGY-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2-(6-methylpyridin-2-yl)ethanamine Chemical compound CN(C)CCC1=CC=CC(C)=N1 ULWNEVNVFMDDGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNWQFWYAAPODB-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2-phenylpropan-1-amine Chemical compound CN(C)CC(C)C1=CC=CC=C1 JFNWQFWYAAPODB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUHZZVMEUAUWHY-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpropan-1-amine Chemical compound CCCN(C)C ZUHZZVMEUAUWHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOHOHPONCSKXSQ-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-phenylethanamine Chemical compound CCNCCC1=CC=CC=C1 WOHOHPONCSKXSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S528/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S528/901—Room temperature curable silicon-containing polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
Si-R
\
R'
R'
(I)
dadurch gekennzeichnet, daß eine Mischung
aus einem Dihalogensilan
RR1SiX2
und einem primären Carbonsäureamid
und einem primären Carbonsäureamid
Il
R"—C-NH2
worin R urid R' je Wasserstoff, einen Kohlenwasserstoffrest,
Oxykohlenwasserstoffrest, Cyanalkylrest, halogenierten Kohlenwasserstoffrest oder einen
halogenierlen Oxykohlenwasserstoffrest darstellen und R' zusätzlich eine RΓ" SiO-Gruppe sein kann, in
der R'" eine Alkylgruppt mit bis zu IO Kohlenstoffatomen ist, R" ein Kohlenwasserstoff- oder halogenierter
Kohlenwasserstoffrest und X ein Halogenrest ist, auf unter etwa 100C abgekühlt, ein
aliphatisches tertiäres Amin zugegeben und die erhaltene Mischung auf einer Temperatur unter
etwa 100C gehalten wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 zur Herstellung von Verbindungen der Formel
R R'
Si O
/ \ Il
N N—C-R"
Il I
R"—C Si-R
worin R und R' je eine Alkylgruppe darstellen, dadurch gekennzeichnet, daß aus einem primären
Carbonsäureamid
R" C(O)NH2
worin R" die im Anspruch t angegebene Bedeutung hat und einem aliphatischen tertiären Amin eine
Mischung hergestellt, zu dieser Mischung ein Dialkyldihalogensilan gegeben und die erhaltene
Mischung auf einer Temperatur von IOO"C oder mehr gehalten wird.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der Formel
R R'
\ /
Si O
Si O
/ \ Il
N N—C—R" (I)
R"—C Si-R
ι > Die Erfindung betrifft weiter eine Abwandlung dieses Verfahrens.
Die Verbindungen der Formel I sind cyclische Silylamide, die als Sicherungsmittel sowie bei der
Herstellung von Organopolysiloxanen, die als Öle,
.'ο Schmiermittel und Elastomere brauchbar sind. Verwendung
finden.
Es ist bekannt, lineare Silylamide durch Reaktion von Dihalogensilanen mit sekundären Aminen in Gegenwart
einer tertiären Aminbase zu erzeugen.
-'Ί Nun wurde unerwarteterweise gefunden, daß die
neuen cyclischen Silylamide der Formel I hergestellt werden können, indem man eine Mischung aus einem
Dihalogensilan
RR'SiX>
und einem primären Carbonsäureamid
O
O
Il
!i R"-C-NH2
worin R und R' je Wasserstoff, einen Kohlenwasserstoffrest, Oxykohlenwasserstoffrest, Cyanoalkylrcst, ha-
■!0 logenierten Kohlenwasserstoffrest oder einen halogenierten
Oxykohlenwasserstoffrest darstellen und R' zusätzlich eine Ri'" SiO-Gruppe sein kann, in der R'"
eine Alkylgruppe mit bis zu 10 Kohlenstoffatomen ist, R" ein Kohlenwasserstoff- oder halogenierter Kohlen-
■Γ) wasserstoffrest und X ein Halogenrest ist, auf unter
etwa 100C abkühlt, ein aliphatisches tertiäres Amin zugibt und die erhaltene Mischung auf einer Temperatur
unter etwa 100C hält.
Weiter wurde eine Abwandlung des erfindungsgemä-
)(i ßen Verfahrens zum Herstellen solcher Verbindungen
der Formel I gefunden, in denen R und R' je für eine Alkylgruppe stehen. Zur Herstellung dieser speziellen
Gruppe von Verbindungen der Formel 1 hat es sich nämlich als möglich erwiesen, aus einem primären
Yi Carbonsäureamid
R" C(O)NH2
worin R" die oben angegebene Bedeutung hat, und einem aliphatischen tertiären Amin eine Mischung
bo herzustellen, zu dieser Mischung ein Dialkyldihalogensilan
hinzuzugeben und die erhaltene Mischung auf einer Temperatur von !000C oder mehr zu halten,
wobei trotz der im Vergleich zu dem erfindungsgemäßen Verfahren hohen Umsetzungstemperatur keine
hr> unerwünschten Nebenprodukte auftreten.
Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt die Zugabe des Trialkylamins langsam
unter Rühren. Dabei fällt das Hydrohalogenid des
Trialkylainins praktisch augenblicklich aus. Der Niederschlag
wird in üblicher Weise entfernt und der flüssige Rückstand wird im Vakuum konzentriert Das cyclische
Silylamid kristallisiert aus der konzentrierten Lösung aus und kann durch Umkristallisationsverfahren weiter
gereinigt werden.
Obgleich für die Durchführung des erfindungsgemä-Qen
Verfahrens ein Lösungsmittel nicht notwendig ist, wird die Verwendung eines Lösungsmittels bevorzugt.
Das Lösungsmittel kann den Reaktionsbestandteilen vor dem Zusammenmischen zugesetzt werden, oder
aber es kann zugesetzt werden, nachdem die Reaktion bereits eingetreten ist. Die für das erfindungsgemäße
Verfahren brauchbaren Lösungsmittel sind inerte bzw. aprotische Lösungsmittel und umfassen aromatische
Kohlenwasserstoffe wie Benzol, Toluol und Xylol; die chlorierten Kohlenwasserstoffe, wie Chloroform, Kohlenstofftetrachlorid,
Methylenchlorid, Chlorbenzol, Chlortoluol und Brombenzol, und die Alkyläther, sowohl die linearen als auch die cyclischen, wie
Diäthyläther, Diisopropylather, Dioxan, Tetrahydrofuran, Dimethyläther des Älhylenglykols und die Diälhyläther
des Diäthylenglykols; sowie die Alkylnitrile, wie Acetonitril und Propionitril.
Die Menge des verwendeten Lösungsmittels ist nicht kritisch und kann von 10 bis 200 oder mehr
Gewichtsteilen Lösungsmittel pro hundert Gewichtsteile der Reaklionsbestandteile betragen.
Die Mengen der im erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Dihalogensilane und Carbonsäureamid
sind nicht kritisch. Im Hinblick auf eine leichte Gewinnung der Reaktionsprodukte ist es bevorzugt, das
Dihalogensilan und das Carbonsäureamid in äquimolaren Mengen zu verwenden.
Die Menge des im erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten aliphatischen tertiären Amins beträgt
vorzugsweise wenigstens 2 Mol Amin auf jedes Mol des verwendeten Dihalogensilans. Geringere Mengen können
verwendet werden, sie führen jedoch entweder zu einer unvollständigen Reaktion oder nu unerwünschten
Nebenprodukten. Größere Mengen Amin können ebenfalls verwendet werden und wirken als Lösungsmittel
für die Reaktion.
Wenn die Temperatur, bei der das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird, unter etwa 100C gehalten
wird, kann man ein beliebiges Halogensilan der obigen Formel benutzen, unabhängig von den verwendeten
besonderen R- und R'-Gruppen im Rahmen der vorstehend gegebenen Bedeutung. Es wurde indessen
eine Abwandlung des erfindungsgemäßen Verfahrens gefunden, wonach dann, wenn R und R' je einen
Alkylrest darstellen, Temperaturen von 1000C oder mehr angewendet werden können, ohne daß wesentliche
Nebenreaktionen eintreten.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann bei Unterdruck, Atmosphärendruck oder Überdruck durchgeführt
werden. Aus wirtschaftlichen Gründen wird es bevorzugt, das Verfahren bei Atmosphärendruck
durchzuführen.
Die monovalenten Kohlenwasserstoffreste, die R und R' darstellen, sind Alkylreste, einschließlich der
Cycloalkylreste, z. B.:
Methyl, Äthyl, Propyl, Isopropyl, Butyl, Hexyl,
Cyclohexyl; Arylrestc z. B.: Phenyl, Nupthyl,
Biphenyl; Aralkylresle z. B. Benzyl, Phenyläthyl;
Alkarylreste z. B.: ToIyI, XyIyI, Äthylphenyl,
Trimelhylphenyl; Alkenylreste z. B. Vinyl, Allyl,
Butenyl, Methallyl; R und R' stellen gleichfalls
Cyclohexyl; Arylrestc z. B.: Phenyl, Nupthyl,
Biphenyl; Aralkylresle z. B. Benzyl, Phenyläthyl;
Alkarylreste z. B.: ToIyI, XyIyI, Äthylphenyl,
Trimelhylphenyl; Alkenylreste z. B. Vinyl, Allyl,
Butenyl, Methallyl; R und R' stellen gleichfalls
Cyanoalkylgruppen, z. B. Cyanomethyl,
Cyanoäthyl, Cyanopropyl, Cyanobutyl; dar, und die halogenierten Kohlenwasserstoffreste sind z. B.
Trifluormethyl, Pentafluoräthyl, Chlorphenyl,
Bromphenyl, Trifluorpropy 1, Trifluormethylphenyl, Bromnaphthyl, Chlorpropyh
Cyanoäthyl, Cyanopropyl, Cyanobutyl; dar, und die halogenierten Kohlenwasserstoffreste sind z. B.
Trifluormethyl, Pentafluoräthyl, Chlorphenyl,
Bromphenyl, Trifluorpropy 1, Trifluormethylphenyl, Bromnaphthyl, Chlorpropyh
Die von R und R' dargestellten Oxykohlenwasser-
stoffreste umfassen z. B. Methoxy, Äthoxy, Propoxy, Dodecyloxy, Naphthoxy; vorzugsweise sind die Oxykohlenwasserstoffgruppen
jedoch die niederen Alkoxygruppen.
Die monovalenten Kohlenwasserstoffreste und die halogenierten monovalenten Kohlenwasserstoffreste,
die R" darstellt, sind diejenigen, die vorstehend für R und R' aufgeführt sind.
Die Alkylgruppen, die R'" darstellt, sind diejenigen, die vorstehend für R und R' aufgeführt sind.
Von den Dihalogensilanen der obigen Formel, die bei der Durchführung der Erfindung verwendet werden
können, werden beispielsweise Dihydrogendichlorsilan, Methylhydrogendibromsilan, Diinethyldichlorsilan,
Phenylmethyidichlorsilan, Diphenyldichlorsilan (Triniethy!siloxy)-methyldichlorsilan,
Diäthyldibromsilan, Chlorrnethyldichlorsilan, Dimethoxydichlorsilan, Meth-2r>
oxymethyldicrilorsilan, Phenoxyphenyldibromsilan umfaßt.
Von den im erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten primären Carbonsäureamiden der obigen Formel
werden beispielsweise Acetamid, Benzamid, Trifluor-M)
acetamid, Propanamid, Decanamid, Butyramid, Hexanamid, Perfluorpropanamid umfaßt.
Die aliphatischen tertiären Amine, die in dem erfindungsgemäßen Verfahren als Halogenwasserstoffakzeptoren
verwendet werden, umfassen aliphatischc v> lineare tertiäre Amine, tertiäre Polyamine und cyclische
aliphatische tertiäre Amine. Die aliphatischen tertiären Amine, einschließlich der cycloaliphatischen tertiären
Amine, sind beispielsweise Trimethylaniin, Triäthylamin, Tripropylamin, Tributylamin, Dimelhylpropylamin, Dimethyl(phenyläthyl)amin,
Benzylmethyläthylamin, 1 -Dinielhylamino-2-phenylpropan,
1 -Dimethylamino-4-pentan. Die tertiären Amine umfassen gleichfalls tertiär-aliphatisch-tertiär-aromatische
Amine, ζ. 3. Piperidinoalkylpyridine, Dialkylaminoalkylpyridine, Morpholinalky-
Vi lenpyridine.
Die tertiären Polyamine sind z. B.
Ν,Ν,Ν',Ν'-Tetramethyläthylendiamin,
N-Äthyl-N.N'.N'-Trimethyläthylendiamin.,
Ν,Ν,Ν',Ν'-Tetraäthyläthylendiamin,
ίο Ν,Ν,Ν',Ν'-Tetra-n-amyläthylendiamin,
l,2-Bis(2,6-dimethylpiperidino)äthan,
N,N,N',N",N"-Pentaäthyldiäthylentriamin,
2-(beta-Dimethylaminoäthyl)-6-methylpyridin.
Beispiele der cyclischen Amine sind N-Alkylpyridine, ν-, N-Alkylpiperidine.
Ν,Ν,Ν',Ν'-Tetramethyläthylendiamin,
N-Äthyl-N.N'.N'-Trimethyläthylendiamin.,
Ν,Ν,Ν',Ν'-Tetraäthyläthylendiamin,
ίο Ν,Ν,Ν',Ν'-Tetra-n-amyläthylendiamin,
l,2-Bis(2,6-dimethylpiperidino)äthan,
N,N,N',N",N"-Pentaäthyldiäthylentriamin,
2-(beta-Dimethylaminoäthyl)-6-methylpyridin.
Beispiele der cyclischen Amine sind N-Alkylpyridine, ν-, N-Alkylpiperidine.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten cyclischen Silylamide sind brauchbar als
Kondensalionsmittel für Diorganopolysiloxane mit endständigen Hydroxygruppen, um hochmolekulare
W) Diorganopolysiloxangummi, die mit Füllstoffen, Peroxydhärtungsmitteln
und dergleichen zusammengemischt und zu Silikonelastomeren gehärtet werden können, zu ergeben.
h- Beispiel!
Zu einer gerührten Suspension von b g Acetamid und
25 g Triethylamin in 150 cm1 trockenem Benzol wurden
langsam unter wasserfreien Bedingungen 13 g Diine-
thyldichlorsilan gegeben. Die Temperatur stieg dabei
auf etwa 35° C, Triäthylaminhydrochlorid fiel augenblicklich aus. Nachdem die Zugabe beendet war, wurde
das Rühren noch etwa 2 Stunden fortgesetzt. Das Triäthylaminhydrochlorid wurde -üann unter einer
Schutzgasatmosphäre von trockenem Stickstoff abfiltriert und das Filtrat im Vakuum konzentriert Der
Rückstand kristallisierte beim Stehen. Die kernmagnetischen Resonanzspektren dieses Produktes zeigten an,
daß es im wesentlichen frei von Nebenprodukten war. Das kristalline Material wurde durch Sublimation bei
400C und einem Druck von 1 mm Hg gereinigt, und es zeigte dann einen Schmelzpunkt von 44 bis 46° C. Das
Produkt wurde als Cyclo-bisfacetamidodimethyl-silan)
[^-bis-idimethylsila^-acetyl-e-methyl-1,3,5-oxadiazin]
mit der Formel
CH3 CH3
Si O
Si O
zeigte folgende Anaiysendatf n:
2Ü
N-C-CH3
Il
CH3-C Si-CH3
O CH3
identifiziert. Die Analysedaten waren:
Gefunden
Berechnet
C 42,0%
H 7,6%
N 12,5%
Si 25,1 %
C 41,7%
H 7,9 %
N 12,2%
Si 24,4%
Das Molekulargewicht dieses Stoffes wurde durch Molekulai ionenmassenspektrometrie bestimmt und betrug
230. Dieser Wert stimmte sehr gut mit dem berechneten Molekulargewicht überein.
Zu einer eisgekühlten, gerührten Mischung von 25 g Diphenyldichlorsilan und 6 g Acetamid in 150Cm1
trockenem Acetonitril wurden langsam innerhalb von 30 Minuten unter wasserfreien Bedingungen 25 g
Triäthylamin gegeben. Das Rühren wurde dann noch 2 Stunden fortgesetzt, ohne daß dabei von außen gekühlt
wurde. Das ausgefallene Triäthylaminhydrochlorid wurde unter trockenem Stickstoff abfiltriert und das
Filtrat im Vakuum konzentriert. Der feste Rückstand wurde aus Acetonitril umkristallisiert und gab eine
Ausbeute von 60% der Theorie an cyclischem Silylamid der Formel
QH5 C6H5
Si
N
CH3-C
CH3-C
Ν—C-CH,
C6H5
60
Die Verbindung schmolz bei 140 bis 145°C unter Zersetzung. Das Cyclo-bis-iacetamidodiphenylsilan)
Gefunden
Berechnet
C 70,4%
H 5,3 %
N 6,0 %
Si 12,2%
C 70,3%
H 5,5 %
N 5,9 %
Si 11,7%
Zu einer gerührten eiskalten Mischung aus 12,1 g Benzamid und 25 g Triäthylamin in 100 cm1 Benzol
wurden unter wasserfreien Bedingungen langsam 19.1 g Methylphenyldichlorsilan gegeben. Es bildete sich
augenblicklich ein weißer Niederschlag von Triäthylaminhydrochlorid. Nachdem die Zugabe beendet war,
wurde das Rühren 15 Stunden bei Raumtemperalur fortgesetzt. Die Mischung wurde filtriert und das Filtrat
im Vakuum bei Raumtemperatur konzentriert. Der Rückstand bildete ein rötliches Öl, aus dem sich farblose
Kristalle abschieden, nachdem er in einer Mischung aus Benzol und Hexan gelöst worden war. Nach der
Umkristallisation aus Hexan, wurden diese Kristalle als Verbindung der Formel
CH3
C6H,
Si O
/ \ Il
N N-C-C6H5
C6H5-C Si-CH3
CV1H.
identifiziert. Sie wurde in einer Ausbeute von 41% erhalten und hatte einen Schmelzpunkt von 116 bis
122°C. Sie zeigte die folgenden Analysedaten:
Gefunden
Berechnet
C 70,0%
H 5,7 %
N 5,7 %
Si 12,2%
C 70,3%
H 5,5%
N 5,9 %
Si 11,7%
55
Die in Beispiel 3 beschriebenen Verfahrensmaßnahmen wurden wiederholt, wobei eine äquivalente Menge
Acetamid anstelle von Benzamid verwendet wurde. Das rohe, flüssige Produkt wurde in Hexan gelöst, und aus
der Lösung schieden sich im Eisschrank farblose Kristalle ab. Nach dem Umkristallisieren aus Hexan
zeigten diese Kristalle einen Schmelzpunkt von 108 bis
113°C. Sie wurden in einer Ausbeute von etwa 60% der
Theorie isoliert.
Die Verbindung wurde als das cyclische Acetamidomethylphenylsilan
[2,4-Bis-(methylphenylsila)-3-acetyl-
6-methyl-l,3,5-oxa-diazin]der | Formel | Berechne! |
^ / | C6H5 | C 60,7% |
\ / Si / \ |
O Il |
H 6,2 % |
/ \ N H |
N-C-CH3 | N 7,9 % |
Il CH3-C \ / |
Si-C6H5 | Si 15,8% |
\ / O |
CH3 | |
identifiziert. Sie zeigte folgende Analysedaten: | ||
Gefunden | ||
C 61,0% | ||
H 16,3 % | ||
N 8,0 % | ||
Si 16,5% |
Die Reaktion des Methylphenyldichlorsilans mit Acetamid wurde unter Verwendung des in Beispiel 2
angegebenen Verfahrens wiederholt und es wurde eine Ausbeute an cyclischem Silylamid von 70% der Theorie
erhalten.
Das in Beispiel 3 beschriebene Verfahren wurde unter Verwendung von Benzamid und Dimethyldichlorsilan in
äquivalenten Mengen wiederholt, und es wurde die Verbindung [^-Bis-fdimethylsilaJ-S-benzoyl-ö-phenyl-1,3,5-oxydiazin]
in einer Ausbeute von 55% erhalten. Diese Verbindung entsprach der Formel
CH3 CH3
Si O
Si O
/ \ Il
N N-C-C6H5
C5H5 C Si CH3
O CH3
und hatte einen Schmelzpunkt von 127 bis 128°C.
Die Verbindung zeigte die folgenden Analysedaten:
Gefunden
Berechnet
C 61,1 %
H 6,1 %
N 7,9 %
Si 16,2%
C 61,0%
H 6,2 %
N 7,9 %
Si 15,8%
Die Bestimmungen des Molekulargewichts durch Molekularionenpeakmassenspektrometrie ergab einen
Wert von 354, der nahe bei dem theoretischen Wert liegt.
Das Verfahren von Beispiel 3 wurde wiederholt unter Verwendung äquivalenter Mengen Acetamid und
Methylmethoxydichlorsilan. Es wurde dabei [2,4-Bis-(methoxymethy!sila)-3-acetyl-6-methyl-1,3,5-oxydiazin]
der Formel
CH3 OCH3 Si O
/ \ Il
N N-C-CH3
Il I
CH3-C Si-CH3
OCH,
in einer Ausbeute von 65% erhalten. Sie zeigte einen Schmelzpunkt von 45 bis 48°C. Das Molekulargewicht
der Verbindung wurde durch Molekularionenpeakmassenspektrometrie bestimmt und betrug 262. Dieser
Wert stimmt genau mit dem theoretisch berechneten Wert überein.
Die Verbindung zeigte die folgenden Analysendaten:
Gefunden
Berechnet
C | 37,0 % | C | 36,6 |
H | 6,7 % | H | 6,9 |
N | 10,7 % | N | 10,7 |
Si | 22,3 % | Si | 21,4 |
Claims (1)
1. Verfahren zur Herstellung cyclischer Silylamide der Formel
Il
R"—C
Si
i
\
\
R'
O
O
Il
Ν—C-R"
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US69482068A | 1968-01-02 | 1968-01-02 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1817397A1 DE1817397A1 (de) | 1969-07-31 |
DE1817397B2 DE1817397B2 (de) | 1978-01-12 |
DE1817397C3 true DE1817397C3 (de) | 1978-09-14 |
Family
ID=24790402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1817397A Expired DE1817397C3 (de) | 1968-01-02 | 1968-12-30 | Verfahren zur Herstellung cyclischer Silylamide |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3479383A (de) |
JP (1) | JPS529677B1 (de) |
DE (1) | DE1817397C3 (de) |
FR (1) | FR1600091A (de) |
GB (1) | GB1256251A (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2032186A1 (de) * | 1970-06-30 | 1972-01-13 | Bayer | Verfahren zur Herstellung von Urethangruppen enthaltenden Schaumstoffen mit Hilfe von modifizierten Silamorpholinen |
US4175091A (en) * | 1978-02-27 | 1979-11-20 | Sandoz, Inc. | Substituted 3,1-benzazasilines |
US5446180A (en) * | 1993-12-28 | 1995-08-29 | Dow Corning Asia Ltd. | Compounds containing 1-aza-3-oxa-4-silacyclohex-1-enyl groups, and tautomers of said compounds |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3373137A (en) * | 1962-05-18 | 1968-03-12 | Dow Corning | Nitrogen-containing organosilicon compounds and their preparation |
GB1073311A (en) * | 1963-03-25 | 1967-06-21 | Ici Ltd | Non-ionic organopolysiloxanes |
US3249586A (en) * | 1964-06-01 | 1966-05-03 | Dow Corning | Organosilicon compounds |
-
1968
- 1968-01-02 US US694820A patent/US3479383A/en not_active Expired - Lifetime
- 1968-12-24 JP JP43095291A patent/JPS529677B1/ja active Pending
- 1968-12-30 DE DE1817397A patent/DE1817397C3/de not_active Expired
- 1968-12-30 FR FR1600091D patent/FR1600091A/fr not_active Expired
-
1969
- 1969-01-02 GB GB265/69A patent/GB1256251A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1256251A (en) | 1971-12-08 |
DE1817397B2 (de) | 1978-01-12 |
DE1817397A1 (de) | 1969-07-31 |
JPS529677B1 (de) | 1977-03-17 |
US3479383A (en) | 1969-11-18 |
FR1600091A (de) | 1970-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0212058B1 (de) | N-Silylpropyl-N'Acyl-Harnstoffe und Verfahren zur Herstellung | |
DE2722117C2 (de) | ||
DE3855737T2 (de) | Polykondensiertes Polysilazan und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1817397C3 (de) | Verfahren zur Herstellung cyclischer Silylamide | |
DE3134931A1 (de) | Aminoorganoaminosilane, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung | |
DE3703484C1 (de) | ||
DE3524235A1 (de) | Verfahren zum herstellen von siloxannorbornan-dianhydrid | |
CH696542A5 (de) | Verfahren zur Herstellung von substituierten 2,6-Dioxopiperidin-3-yl-Verbindungen. | |
DE2053384A1 (de) | Silacyclobutane | |
DD253997A1 (de) | Verfahren zur herstellung von substituierten 2-arylureidophenolen | |
DE69200963T2 (de) | Polymerisierbare Silikone mit acetylenischen Gruppen. | |
DE2045440B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von trisubstituierten Chlorsulfenylharnstoffen | |
DE2250134A1 (de) | Verfahren zur herstellung von substituierten harnstoffen | |
CH396870A (de) | Verfahren zur Herstellung von N-substituierten Carbaminsäurederivaten | |
DE102009001758A1 (de) | Verfahren zur Synthese von 1,3-Bis(aminoalkyl)disiloxanen | |
DE2162917C3 (de) | ||
DE2748845C2 (de) | Methylsilacyclopentenylderivate und deren Verwendung | |
DE1200318B (de) | Verfahren zur Herstellung von N-(omega-Aminoalkyl)-aminoalkansulfonsaeuren | |
DE1216302B (de) | Verfahren zur Herstellung von Polyorganocyclosiloxanen | |
DE19848482C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumdisulfanen | |
DE69838717T2 (de) | Verfahren zur herstellung von imidazolonen | |
EP0000573B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Diaminen mit einer Thioäthergruppe | |
DE69517040T2 (de) | Ring-öffnendes amidierungs verfahren | |
DE1247318B (de) | Verfahren zur Herstellung von N-[5-Chlormethyloxazolinyl-(2)]-thioharnstoffderivaten | |
DE1161255B (de) | Verbessertes Verfahren zur Herstellung von N-substituierten Thiocarbaminsaeure-S-estern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |