DE1771076B2 - Verfahren zur herstellung eines mosaikschirmes fuer eine farbfernsehroehre - Google Patents
Verfahren zur herstellung eines mosaikschirmes fuer eine farbfernsehroehreInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 10
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- -1 0 ^ Starch Chemical class 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-pyrimidin-4-ylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC1=CC=NC=N1 JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 241001098666 Pterois volitans Species 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002494 Zein Polymers 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 229910052946 acanthite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000014633 carbohydrates Nutrition 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003251 chemically resistant material Substances 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 210000002837 heart atrium Anatomy 0.000 description 1
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical class Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229940056910 silver sulfide Drugs 0.000 description 1
- XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N silver sulfide Chemical compound [S-2].[Ag+].[Ag+] XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFUVRDFDKPNGAV-UHFFFAOYSA-N sodium peroxide Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][O-] PFUVRDFDKPNGAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011850 water-based material Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000005019 zein Substances 0.000 description 1
- 229940093612 zein Drugs 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
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- H—ELECTRICITY
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- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
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- H01J29/24—Supports for luminescent material
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- H01J9/22—Applying luminescent coatings
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Description
I 771 073
3 4
Wasserbasis arbeiten und nur negativwirkende licht- gebildet werden. Wenn also die Schablone durch
empfindliche Stoffe benutzen. chemische Einwirkung entfernt wird, liegt die Unter-
Es wurde bereits früher beobachtet, daß bei Mi- lageflache in diesen Flächenbereichen frei, und die
schung von lichtundurchlässigen Farben mit einem Leuchtstoffelemente können unmittelbar auf die
üchtempfindlichen Material die Mischung praktisch 5 Unterlagefläche aufgebracht werden,
unempfindlich gegenüber Licht wird. Min kann an- Die Erfindung ermöglicht es, Überzüge auf Wassernehmen, daß der Farbstoff praktisch das ganze auf- basis zu benutzen, die sich zusammen mit auf Wasfallende Licht absorbiert, so daß das lichtempfind- serbasis aufgebauten neg»*ivwirkenden lichtempfindliche Matfciial durch das auffallende Licht praktisch liehen Materialien eignen. Man besitzt somit ein vollunbeeinflußt bleibt Es besteht daher ein Bedürfnis io ständig auf Wasserbasis aufgebautes Heistellungsnach einem fotografischen Prozeß zur Herstellung verfahren zur Herstellung eines grafischen Bildes,
eines Leuchtschirmes der vorliegenden Art, bei wel- Ein wichtiger Vorteil der Erfindung besteht darin, ehern das gewünschte Mosaik genauer herstellbar ist daß das Material, welches das endgültige grafische als bishsr und das Material der lichtabsorbierenden Bild darstellt, nicht während des fotografischen ProSchicht nicht mit dem lichtempfindlichen Material 15 zesses zur Herstellung der Schablone vorhanden ist gemischt wird, dessen Lichtempfii.JI'chke'. also nicht Die Eigenschaften des das grafische Bild darstellcnbf einträchtigt wird. den Farbstoffs oder Pigmc. .rarbstoffes und die
unempfindlich gegenüber Licht wird. Min kann an- Die Erfindung ermöglicht es, Überzüge auf Wassernehmen, daß der Farbstoff praktisch das ganze auf- basis zu benutzen, die sich zusammen mit auf Wasfallende Licht absorbiert, so daß das lichtempfind- serbasis aufgebauten neg»*ivwirkenden lichtempfindliche Matfciial durch das auffallende Licht praktisch liehen Materialien eignen. Man besitzt somit ein vollunbeeinflußt bleibt Es besteht daher ein Bedürfnis io ständig auf Wasserbasis aufgebautes Heistellungsnach einem fotografischen Prozeß zur Herstellung verfahren zur Herstellung eines grafischen Bildes,
eines Leuchtschirmes der vorliegenden Art, bei wel- Ein wichtiger Vorteil der Erfindung besteht darin, ehern das gewünschte Mosaik genauer herstellbar ist daß das Material, welches das endgültige grafische als bishsr und das Material der lichtabsorbierenden Bild darstellt, nicht während des fotografischen ProSchicht nicht mit dem lichtempfindlichen Material 15 zesses zur Herstellung der Schablone vorhanden ist gemischt wird, dessen Lichtempfii.JI'chke'. also nicht Die Eigenschaften des das grafische Bild darstellcnbf einträchtigt wird. den Farbstoffs oder Pigmc. .rarbstoffes und die
Die Erfindung besteht darin, daß bei *inem Ver- Eigenschaften des lichtempfindlich'-η Materials stören
fahren der eingangs genannten Art zunächst auf sich also nicht gegenseitig und jedes Material kann
fotografischem Wege auf dem Schirm der Fernseh- 20 unabhängig von den anderen Materialien gewählt
röhre eine mit öffnungen versehene Schablone, deren werden. Es ist daher auch nicht notwendig, einen
erhabene Teile den gewünschten Leuchtstoff-Mosaik- Kompromiß bezüglich der fotografischen Verteilung
elementen entsprechen, erzeugt wird, daß sodann die des lichtempfindlichen Materials zu treffen oder auf
Oberfläche diesel Schablone und die von der Scha- die Auflösung oder Schärfe des grafischen Büdes
blone freien Flächenteile des Schirmes mit einer 35 zu verzichten, wie es bei Verfahren notwendig ist.
Schicht aus lichtabsorbierendem Material bedeckt bei denen das lichtempfindliche Material mit dem
werden, daß anschließend vom Schirm nur die Scha- Material des grafischen Bildes gemischt wird,
blone und der auf dieser Schablone abgelagerte licht- Das grafische Bild haftet unmittelbar an der Unterabsorbierende Überzug entfernt wird, so daß nur lageflache und nicht etwa vermöge einer durch BeFlächen und eine aus lichtabsorbierendem Material 3° lichtung des lichtempfindlichen Materials hervorbestehende Matrix, die ein Negativ der gewünschten gerufenen Änderung desselben. Die Haftung des BiI-Leuchtstoff-Mosaikelemente darstellt verbleiben, und des auf der Unterlagefläche kann also so gut wie sodann im wesentlichen die freien Flächenteile des möglich gemacht werden. Das grafische Bild berühit Schirmes in an sich bekannter Weise mit den ver- die Unterlagefläche aud nicht an denjenigen Stellen, schiedenfa big emittierenden Leuchtstoffen bedeckt 35 an denen die Fläche durch die Schablone abgedeckt werden. ist, so daß diese Stellen saubergehalten werden
blone und der auf dieser Schablone abgelagerte licht- Das grafische Bild haftet unmittelbar an der Unterabsorbierende Überzug entfernt wird, so daß nur lageflache und nicht etwa vermöge einer durch BeFlächen und eine aus lichtabsorbierendem Material 3° lichtung des lichtempfindlichen Materials hervorbestehende Matrix, die ein Negativ der gewünschten gerufenen Änderung desselben. Die Haftung des BiI-Leuchtstoff-Mosaikelemente darstellt verbleiben, und des auf der Unterlagefläche kann also so gut wie sodann im wesentlichen die freien Flächenteile des möglich gemacht werden. Das grafische Bild berühit Schirmes in an sich bekannter Weise mit den ver- die Unterlagefläche aud nicht an denjenigen Stellen, schiedenfa big emittierenden Leuchtstoffen bedeckt 35 an denen die Fläche durch die Schablone abgedeckt werden. ist, so daß diese Stellen saubergehalten werden
Unter »Schablone« wird in diesem Zusammenhang können.
eine als Hilfsmittel dienende, bestimmte Bereiche des Das beschriebene Verfahren eignet sich für fabrika-Bildschirmes
vorübergehend abdeckende Schicht ver- torische Herstellung mit Anlieferung der betreffenstanden.
40 den Stoffe durch ein Förderband und eignet sich für
Für die Schablone wird ein Material verwendet in eine laufende Produktion, da nämlich durchaus üb-
dem sich keine lichtabsorbierenden Teilchen befin- liehe Behandlungsverfahren angewendet werden und
den und das gut auf der Unterlagefläche haftet, so man nur die üblichen auf Wasserbasis aufgebauten
daß es sich bei der weiteren Behandlung nicht ver- Chemikalien verwendet.
schiebt. Die als Überzugsmaterial dienende licht- 45 In der Anwendung auf die Herstellung von Kaabsorbierende
Zusammensetzung wird durch Auf- thodenstrahlröhren ist von Bedeutung, daß das Versprühen
auf die Schablone aufgebracht, also nicht auf fahren nur sehr kleine Restbestände von organischen
fotografischem Wege. Materialien erzeugt und diese nachträglich durch
Ein kommerrielles Verfahren zur Herstellung eines einen Erhitzungsvorgang entfernt werden können.
Mosaikschirmes für eine Farbfernsehröhre macht von 50 Die Erfindung wird im folgenden an Hand der
einer fotografischen Technik Gebrauch, bei welcher F i g. 1 bis 5 beschrieben, welche sicn auf eine Her-
die Leuchtstoffpunkte mit Hilfe von mehreren Be- stellung der Stirnplatte einer Farbbildröhre beziehen.
Achtungen durch eine Viellochmaske hindurch ange- Die Fig. 1 bis 5 stellen eine Reihe von Arbeite-
bracht werden. Gemäß der Erfindung kann eine licht- vorgängen zur Herstellung einer lichtabsorbierenden
absorbierende Matrix als Teil eines Mosaikschirmes 55 Matrix auf der Innenseite der Stirnplatte einer Farb-
so hergestellt werden, daß die Matrix die einzelnen bildröhre dar, und
Leuchtstoffelemente umgibt. Hierdurch gewinnt man F i g. 6 zeigt eine Aufsicht auf eine Stirnplatte einer
einen dunklen lichtabsorbierenden Hintergrund für Farbbildröhre,
das Lumineszenzbild auf dem Schirm. Da die Erfin- Beispiel 1
dung aus einem fotografischen Prozeß der Ablage- 60
rung besteht, kann n;an unter Benutzung der gleichen F i g. 1 zeigt verschiedene vorbereitende Arbeits-Hilfsmittel
sowohl das grafische Bild wie das Leucht- gänge für die fotografische Herstellung einer Schastoffmosaik
herstellen. blone aus einem Polymer, und zwar durch eine öff-
Der aus einem Polymer bestehende Überzug, der nung der Maske einer Farbbildröhre hindurch,
die Schablone darstellt, wird durch Bestrahlung durch 65 Es wird zunächst die Innenfläche 21 der Stirn-
die öffnungen einer Viellochelektrode zur Bildung scheibe 23 einer Kathodenstrahlröhre gesäubert und
der Schablone auf der gleichen Unterlagefläche her- sodann mit einem Film 25 aus einem klaren lichteestellt,
auf welcher später die Leuchtstoffelemente empfindlichen Stoff überzogen. Dieser lichtempfind-
liehe Stoff ist in dem hier behandelten Beispiel ein
Polymer, und zwar insbesondere ein Polyvinylalkohol, welcher lösliche Dichromate enthält. Der lichtempfindliche
Film wird dadurch hergestellt, daß man auf die Innenfläche 21 eine gewisse Menge einer wässerigen
Lösung aufbringt, die aus etwa 2 Gewichtsprozent Polyvinylalkohol und etwa 0,2 Gewichtsprozent
Ammoniumdichromat in Wasser besteht. Die Stirnscheibe 23 wird gedreht und geneigt, so daß die
Lösung sich gleichmäßig über die Oberfläche 21 verteilt. Während der letzten Drehungen wird die Stirnscheibe
mit infrarotem Licht geheizt, so daß das Wasser verdampft und der Film 25 getrocknet wird.
Mit dem Ausdruck »Film« wird im folgenden eine Schicht bezeichnet, welche keine sich über die ganze
Filmdicke erstreckenden Risse besitzt.
Sodann wird eine Maske 27 oberhalb des Filmes angebracht und die aus dieser Maske und der Stirnplatte
23 bestehende Anordnung in ein sogenanntes Lichtgehäuse eingebracht. Unter einem Lichtgehäuse
wird dabei ein Apparat verstanden, innerhalb dessen der lichtempfindliche Überzug auf der Stirnplatte mit
ultraviolettem Licht solcher Verteilung bestrahlt wird, wie es zur Herstellung von Farbbildröhren bekannt
ist. Ein hierfür geeignetes Lichtgehäuse ist in der USA.-Patentschrift 2 885 935 beschrieben. Im
vorliegenden Beispiel besitzt die Maske 27 kreisrunde öffnungen 35 mit einem Durchmesser von etwa
0,25 mm und einem gegenseitigen Mittelabstand von etwa 0,5 mm in der Maskenmitte. Gegen den Rand
der Maske hin nehmen die Löcher in ihrer Größe etwas ab und der gegenseitige Abstand der Löcher
nimmt etwas zu. Die F i g. 1 zeigt eine Lichtquelle 29 von geringem Durchmesser, von welcher das Licht
zur Belichtung des Filmes 25 ausgestrahlt wird. Die Lichtquelle 29 ist eine Projektionslampe von 100 Watt
in einem Abstand von etwa 25 cm oberhalb der Maske 27. Das Licht der Lichtquelle durchsetzt ein
Ultraviolettfilter mit einer Durchlässigkeit von etwa 3650 Angström. Die Dauer der Belichtung beträgt
etwa 45 Sekunden.
Während der Belichtung fällt das Licht in Richtung der Pfeile 31 auf die Maske 27, so daß jede der
Maskenöffnungen von einem Lichtbündel 33 durchsetzt wird. Das Lichtbündel 33 trifft auf eine Fläche
36 auf dem Film 25 auf und wandelt das Filmmaterial in ein in Wasser nicht lösliches Material um.
Wegen des lichthof es in der Umgebung des Strahles
33 vergrößert sich der Durcsser dieses Strahles durch Diffusion, wie es durch linien33a to Pig. I
dargestellt ist Hierdurch wird die belichtete Fläche 36 vergrößert und eine abgestufte Härtung des Filmes 25 an den Rändern der belichteten Fläche 36
erzeugt
Für die hier beschriebene Farbbildröhre wird die Belichtung durch eine Maske 27 hindurch dreimal
wiederholt, wobei jedesmal die Lichtquelle in einem
anderen Eckpunkt eines kleinen Dreiecks angebracht wird, dessen Fläche parallel zu der Innenfläche 21
Hegt Das licht durchsetzt also jedesmal die Maskenöffnung 35 unter einem etwas anderen Winkel und
härtet den Oberzug 25 in drei voneinander getrennten Flächenbezirken. Mit 34 ist die zweite Stellung
des Strahles bezeichnet und mit 34a der zugehörige Lichthof des Strahles. Die neue Lichtrichtung ist dabei durch den Pfeil 3Γ angedeutet Nachdem der
F3m 25 in des drei Stellungen der Lichtquelle belichtet worden ist, sind drei gehärtete Gebiete oder
Flächenelemente 36 vorhanden, von denen jedes etwa 0,33 mm Durchmesser für jede Öffnung 35 besitzt.
Jedes dieser Elemente 36 hat einen Rand mit abgestufter Härtung von etwa 0,05 mm Breite.
Nach dieser Belichtung wird die aus der Maske 27 und der Stirnscheibe 23 bestehende Anordnung aus
dem sogenannten Lichtgehäuse entfernt und die Maske 27 von der Stirnscheibe 23 abgenommen. Der
belichtete Film 25 wird dann mit einem starken Wasserstrahl für etwa 30 Sekunden abgespült und sodann
in Wasser gewaschen und anschließend getrocknet. Hierdurch werden die am wenigsten belichteten
löslichen Reste des Films 25 zwischen den Elementen 36 entfernt. Wie in F i g. 2 veranschaulicht, trägt
is die Innenfläche 21 nun eine Schablone, die aus frei
liegenden Flächen 37 und den Elementen 36 des gehärteten Films 25 besteht. Die Elemente 36 haben
etwa 0.25 mm Durchmesser. Diese geringe Verkleinerung gegenüber dem Durchmesser von 0,33 mm rührt
ao von der Auflösung der Randzone der kreisförmigen Elemente her, die während der Belichtung nur unvollkommen
gehärtet worden waren.
Die Schablone wird nun mit einem Stoff 39 überzogen,
der aus lichtabsorbierenden Pigmentteilchen besteht, wie in F i g. 3 dargestellt. Im vorliegenden
Beispiel ist dieser Stoff 39 eine Aufschwemmung von etwa 4,0 Gewichtsprozent kolloidalen Graphit in
Wasser. Diese Aufschwemmung wird sodann getrocknet Es ist zweckmäßig der Aufschwemmung
ein Benetzungsmittel beizumischen, um die Verteilung der Aufschwemmung über die Schablone zu
fördern. Der Überzug 39 wird sodann für die Dauer von etwa 1,5 Minuten mittels Infrarotlicht getrocknet.
Nach der Abkühlung haftet der Überzug 39 gut
an den Flächenelementen 36 und den Zwischenflächen 37.
Sodann wird der Überzug 39 mit Wasser angefeuchtet und getrocknet Vor der Trocknung wird
ein die Flächenelemente 36 beeinflussender chemischer Stoff auf dem Überzug 39 angebracht. Im vorliegenden
Beispiel besteht dieser Stoff aus einer wässerigen Lösung mit etwa 35 Gewichtsprozent Wasserstoffsuperoxyd.
Gewünschtenfalls kann diese Lösung unter Druck auf die Schicht 39 aufgesprüht werden.
Die Wasserstoffsuperoxydlösung durchdringt den Überzug 39 und gelangt auf die Flächet lemente 36,
so daß der gehärtete Polyvinylalkohol erweicht und schwillt Durch anschließendes Abspülen mit Wasser
werden die erweichten Elemente 36 zusammen mit
So den darüberliegenden Teilen des Oberzugs 39 entfernt, jedoch bleibt derjenige Teil des Oberzugs 39
erhalten, welcher unmittelbar auf der Oberfläche 31 in den Flächenbezirken 37 vorhanden ist Wie in
Fig. 4 und 6 dargestellt, fuhrt dies zn enter Heht absorbierenden (schwarzen) Matrix 41, welche viele
kreisrunde öffnungen 43 enthält, deren jede etw?
0,25 imn Durchmesser besitzt
Die lkhtabsorde (schwatze) Matrix 41 wird mm mh Wasser abgespült und etwa vier Minuten
So
lang durch Infrarotbestrahlung gocet Sodann
wird die Stimscheibe 23 not Rot emittierenden
Leuchtstoffelementen /?, mit Grün enden
Leuchtstoffelementen G und mit Blau ttenden Leuefatstoffeli B von etwa 0,33 mm Durch
messer über den Löchern 41 versehen, und zwar mit
Höfe der gewöhnlichen gren Technik unter Benutzung der gleichen Maske 27. Man sieht, daß die
Leuchtstoffelemente etwas größer sind als die Iö-
dta wiise das Fotopolymer im Prinzip aus Polyytayl-Le„chl. £ho, * «^ ^H.
nun eine
hitzt und zusammen mit der Maske Z7 i
m dem überaug betragen.
Ele]aronen nicht gdöst wer.
werden·
positiv wirkend bezeichnet.
Stelle von
Natriumdichromat, von y^^f
silber und außerdem °W für lichtempfindliches Matenal auf
spielsweise Diazoverbindungen, ^1
Neben Polyvinylalkohol 1J polymere benutzt werden.
phile Materialien welche werden können sind Prote^
Albumine, Kohlehydrate, wie 0^
Stärke, und synthetische Matenaben
pyroUidon und gewisse A*JÄ™
gemeinen können auchlösüche Polymere welche
spielsweise -OH, /^^
zein oder in Kombination gen dieser Stoffe können
den. Gewisse geeignete auf Lösungsbasis sind ^ΓΦ
nierte Polystyrene und Hydroxyest lato. Hydrophile Matenahen werden
und zwar deshalb, weil ™*,^
esdsöert, die in
der
kamι man lösliche
Satee . sssfsass
zugs ο ^ef zur Projektion oder
^^^Λ ^ηη^η, Zur HersteUung von
^ SlÄmen für Kathodenstrahlröhren kann man
bei- 30 auch eine Bestrahlung mit Elektronen benutzen, wooei 30 a^ E1ektronensttahl in bekannter Weise abge-, kt wird und das Muster ohne Benutzung einer
- o"ogrlchen Vorlage aufzeichnet. Man kann aber
η auch eine Maske zwischen dem Elektrodenstrahl-S erzeuger und dem Schirm verwenden. Bei der Hereize^ Fen,sehbUdröhren der Schattenmasken-
^6 ^^ man vorteilhafterweise die Aperturmaske
^κο1ΐίε ^ fotografische Vorlage zur Belichtung
r- des fotoempfindlichen Überzugs. Wie beschrieben, . ^ die Lichtquelle an drei verschiedenen Stellen an-
_ ^acht, umTrei getrennte Belichtungen des überiugs zu erzeugen. Es werden also drei öffnungen«
in dem grafischen BUd für jede Maskenöfinung erzeugt wSlich können die Maskenöfinungen auch
& efStellung von nur einem oder nur zwei oder
*5 ^ Serstellunl von mehr als drei Belichtungen für
™ H^ ^ veTWend* werden. Die Form
öffnungen in der Maske sind nicht
wc» iBildet be- s»
nutzt werden können. auf I^tm^asis smd
nicht so
Das fotoeffipfindBche Material wild mit einem
^ Mos|er ^n Strahleo beBchte^ dem.
gegenüber das fotoempfindfiche Material empfindlich
dieEntwicid^.desgr^^MesvOT^^ gfwem das foSpfmdliche Material aus DifmdKchen Materialien auf Losungsbasis smd Sauren SS ^^,.ρ,,!,,^^^, begb^ ^ ^3n „^ohl
oder Basen. «^««nnfitidiidiei mit Sektronen wie auch mit licht im blauen und
Bs ist zweckmäßig,J^ZiLÜSSuSSSi tütraviolettem Spetealbemch befichten. Wenn ein
MateriaHeneineglätte'SdndttetaeBrodeonJ owe ^^jfcj^ctye^o fc3OUfet witiL J5211n ,^n eine
ddfctarfe^d^ ch^ verwenden. Wenn die Belichtung
durch F^on ,4nes Bfldes geschehen soll, so wird
MDb^ugt
oder
3SJfJSSfiSAU
während eines EAhzungsvorganges nach der Auf-
ESSSS
TO*n
das gra-
te,™*,.
enthält. Der Verfahrensschritt wird bei dem in Bei- Belichtung widerstandsfähigen Materials ändert, wird
spiel 1 beschriebenen Verfahren übersprungen, kann die Intensität des Lichtes in der Mitte der überzojedoch
gewünschtenfalls eingeschaltet werden. Einer genen Flächenelemente der Schablone etwa gleichder
Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens be- mäßig mit der Abnahme der Lichtintensität gegen
steht darin, d.'ß die Größe des grafischen Bildes be- 5 den Rand des Bildes gewählt. Bei dieser Art der
quem geändei t werden kann. Belichtung nimmt die Schablonenverkleinerung verWenn
eine Schablonenverkleinerung gewünscht hältnismäßig schnell ab, da das gegen Belichtung
wird, wird die Schablone 36, 37 mit einem chemisch widerstandsfähige Material eine minimale Belichtung
abtragenden Stoff behandelt. Die Wirkung dieses an den Kanten erfährt und daher weniger unlöslich
chemischen Stoffes besteht darin, die Kanten des io ist und sodann in seiner Geschwindigkeit abnimmt,
Überzugs, welche die Schablone bildet in kontrol- wenn die Verkleinerung infolge stärkerer Belichtung
lierbarer Weise zu erodieren. Die Stärke der Erosion gegen die Mitte des Überzugs hin zunimmt,
und daher die Größe der gedruckten Flächenbezirke _ _ . lt_lihe_im
in dem endgültigen grafischen Bild ist eine Funktion uer «-nunuoerzug
der Konzentration des abtragenden Agens, ferner der 15 Der Schutzüberzug 39 kann aus einem beliebigen
Behandlungsdauer mit diesem Agens und der Dauer Material bestehen, welches auf der Unterlagefläche
der Belichtung, die zur Herstellung der Schablone haftet. Der Schutzüberzug kann eine Farbe oder
verwendet wird. Da die Verkleinerung sorgfältig be- einen Pigmentfarbstoff enthalten. Wenn man eine
einflußt werden muß, ist es empfehlenswert, solche lichtabsorbierende Matrix für eine Kathodenstrahl-Lösungen
zu verwenden, daß die Reaktionsgeschwin- ao röhre herzustellen wünscht, wird dem Schutzüberzug
digkeit, welche die Verkleinerung bewirkt, sorgfältig zweckmäßig ein verhältnismäßig hoher Anteil eines
kontrolliert werden kann und daß die Verkleinerung dunklen Pigmentfarbstoffes beigegeben. Der Pigmentnur
an den Kanten des Schablonenüberzugs statt- farbstoff ist vorzugsweise elementarer Kohlenstoff in
findet. Bei Schablonen aus gehärtetem Polyvinyl- Form von Kohleruß, von Azetylenruß oder von Graalkohol
oder anderen gehärteten wasserlöslichen »5 phit. Andere schwarze Pigmentfarbstoffe, die auch
Materialien können verdünnte Lösungen aus Wasser- verwendet werden können, sind Silbersulfid, Eisenstoffsuperoxyd,
aus Alkalihypochloriten und aus oxyd, Bleisulfid, ferner Ferrite und Mangandioxyd.
Alkaliperboraten benutzt werden. Allgemein läßt sich sagen, daß das erfindungsgemäße
Der zur Schablonenverkleinerung benutzte Stoff Verfahren zur Ablagerung von schwarzen, weißen
wird so gewählt, daß er die Haftung der Schablone 30 oder gefärbten Pigmentfarbstoffen, von Harzen und
auf der Unterlage nicht beeinträchtigt. Wenn es sich von Farbstoffen allgemeiner Art benutzt werden
also um eine Unterlage aus Glas handelt, wird kann, wenn solche in dem grafischen Bild wün-
zweckmäßigerweise eine Säure oder ein neutraler sehenswert sind.
Stoff benutzt, da alkalische Materialien die Haftung Der Schutzüberzug muß eine gute Haftfähigkeit
der Schablone an dem Glas beeinträchtigen können. 35 auf der tragenden Unterlagefläche besitzen, so daß
Extreme Stoffe hinsichtlich des pH-Wertes sollten im die nachfolgenden Verfahrensschritte, nämlich die
allgemeinen vermieden werden. Unter einer Ver- Entfernung der Bildschablone und &z Aufbringung
dünnung ist zu verstehen, daß die Lösung eine ver- der Leuchtstoff-Flächen oder anderen Materialien
hältnismäßig kleine Reaktionsgeschwindigkeit hat gut durchgeführt werden können. Mit gewissen im
und die Reaktion beeinflußbar ist. Der genaue Pro- 40 Handel erhältlichen Dispersionen von Graphit in
zentsatz des chemisch abtragbaren Stoffes ist von Wasser haftet das Graphit nach dem Trocknungs-Stoff
zu Stoff verschieden. Bei Wasserstoffsuperoxyd vorgaog in ausreichendem Maße auf der Glasobersind
unter verdünnten Lösungen solche Lösungen fläche. Bei anderen Stoffen kann es notwendig sein,
zu verstehen, welche zwischen 0,1 und 16 Gewichts- eine kleine Menge eines Bindemittels in dem Schutzprozent
Wasserstoffsuperoxyd enthalten. Die Ge- 45 überzug vorzusehen, um eine ausreichende Haftung
schwindigkeit der Schablonenverkleinerung ändert auf der Unterlagefläche hervorzurufen. Von verschiesich
umgekehrt mit der Zeit der Belichtung, die zur denen ausprobierten anorganischen Bindemitteln hat
Herstellung der Schablone benutzt wird. Eine Über- sich kolloidales Silizium als das beste Bindemittel
belichtung der Elemente kann zur Folge haben, daß für Lampenruß and für Azetylenruß erwiesen. Bddie
Verkleinerung nicht in regelmäßiger and gut kon- so spielsweise erzengen etwa 10·/. von koloidalem SiIitrollierbarer
Weise abläuft, weil sich durch eine zrarn, bezogen auf den Prozentsatz des Pigmentfarb-Überbeüchtung
eine harte inerte Kappe auf der Ober- stoffes, ebenfalls eine starke Haftung an der Glasfläche des Überzugs bilden kann. Eine übermäßig oberfläche, insbesondere, wenn eine kleine Menge von
lange Behandlung mit dem abtragenden Stoff hat nur Ammoannndichromat vorhanden ist Ferner kann
einen geringen Einfluß auf diese inerte Kappe. Auch SS kolloidales Silizium oder können Alkalisilikate ebeneine
übermäßig starke Trocknung des fotoempfmd- falls als Bindemittel benutzt werden. Unter gewissen
liehen Überzugs (entweder durch zn lange Trocken- Umständen ist es jedoch nicht wünschenswert, einen
zeit oder wegen zn hoher Trockentemperaturen) vor Pigmentfarbstoff in dem Schtzg zu verwenden,
der Belichtung kann eine ähnliche inerte Kappe zur Statt dessen kann der Schutzüberzug ans einem Ha-Folge
haben. Eine ähnliche inerte Kappe kann durch «λ fen oder gefärbten Materia) bestehen, der gleichzeitig
eine zn starke Trocknung der Schabion? - das Bindemittel darstellt
rufen werden. Vorzugsweise wird bei der Herstellung Wenn ein Pigmentfarbstoff zur Herstellung einer
des fotoempfindlichen Überzugs und der Schablone lichtabsorbierenden Matrix für die Bildröhre der
bei der Trocknung nur ein Minimum an Hitze auge- Schattenmaskentype verwendet wird, muß der Pig-
wendet 65 mentfarbstoff in ausreichender Dichte angebracht
Da die Geschwindigkeit der Schablonenvetkleine- werden, mn die erforderliche Ii chlässigkeit
rung mit tn oxydierenden Stoffen sich im- zn erzeugen. Bei Verwendung von A und
gefahr umgekehrt mit der bei der Härtung des gegen Lamperruß sou der Pigmentfarbstoff in einer Menge
11 12
von 0,2 bis 2,0 mg/cm2 auf der Unterlagefläche und Entwickler für das grafische Bild wird so gewählt,
vorzugsweise in einer Menge von 1,0 mg/cm2 oder daß er die Haftung des Schutzüberzuges der Matrix
mehr benutzt werden, um eine ausreichende Dicke auf der Unterlage nicht beeinti achtigt.
zu gewährleisten. Wenn Graphit oder andere Pig- Die Dauer und die Temperatur bei der Entwick-
mentfarbstoffe benutzt werden, sind geringere Men- 5 lung des grafischen Bildes sind nicht kritisch, und
gen ausreichend, um die gleiche Opazität des end- zwar insbesondere mit Rücksicht darauf, ä?.B>
es sich
gültigen grafischen Bildes sicherzustellen. um die Entfernung des polymeren Materials der
Der Schulzüberzug soll für den Entwickler des Schablone handelt. Jedoch kann eine zu schnelle
grafischen Bildes ferner durchlässig sein und von ihm Entwicklung zu Rissen in dem Schutzüberzug führen
nicht angegriffen werden. Unter dem Entwickler sind io und eine zu langsame Entwicklung kann die Haftung
hier diejenigen Stoffe zu verstehen, die dazu dienen. zwischen dem Schutzüberzug und der Unterlagewenigstens
einen Teil der Bildschablone zu erodieren fläche beeinträchtigen. Daher wird in jedem vorkom-
oder zu lösen oder zum Schwellen zu bringen. Wenn menden Falle die optimale Dauer und die optimale
der Schutzüberzug ganz aus einzelnen Teilchen be- Temperatur der Entwicklung empirisch ermittelt,
steht, ist er ohne weiteres bereits durchlässig. Wenn 15 Zur Entwicklung des Bildes kann man auch nichtder Schutzüberzug zum Teil oder ganz aus einem wässerige Reagenzien und Mischungen von Lösungen Bindemittel besteht, ist er ohnehin durchlässig oder und auf Wasserbasis beruhenden Reagenzien verkann durch Anbringung von Haarrissen durchlässig wenden.
steht, ist er ohne weiteres bereits durchlässig. Wenn 15 Zur Entwicklung des Bildes kann man auch nichtder Schutzüberzug zum Teil oder ganz aus einem wässerige Reagenzien und Mischungen von Lösungen Bindemittel besteht, ist er ohnehin durchlässig oder und auf Wasserbasis beruhenden Reagenzien verkann durch Anbringung von Haarrissen durchlässig wenden.
gemacht werden. Die Haftung zwischen der Unter- Beispiel 2
lagefläche und dem Schutzüberzug ist vorzugsweise ao v
eine mechanische Haftung und wird durch den Ent- Die einzelnen Arbeitsgänge dieses Beispiels stim-
wickler des grafischen Bildes nicht nennenswert ainge- men mit denjenigen im Beispiel 1 tiberein, mit der
griffen. Wenn die Haftung des Schutzüberzugs auf der Ausnahme, daß für den Schutzübergang eine wässe-
Unterlagefläche gegenüber dem Entwickler des gra- rige Suspension mit 10% Azetylenruß, 1% kol-
fischen Bildes inert isf, kann man das grafische Bild 95 loidales Silizium, 0,6 % Ammoniumdichromat ver-
nach seinem Aufweichen mit einem kräftigen Waisser- wendet wird, und daß zur Entwicklung des grafischen
strahl entwickeln, ohne das Muster infolge örtlicher Bildes eine Lösung von 35 % Wasserstoffsuperoxyd
Überentwicklung anzugreifen. Gewünschtenfalls kön- in Wasser benutzt wird. Man läßt die Wasserstoff-
nen erhebliche Mengen von organischen Materialien superoxydlösung einige Minuten lang auf dem Schutz-
dem Schutzüberzug beigegeben werden, vorausge- 30 überzug stehen, gießt sie sodann ab und spült den
setzt, daß der Schutzüberzug nicht so weit durch den Schutzüberzug etwa 30 Sekunden lang mit Wasser ab.
Entwickler des grafischen Bildes angegriffen wird, n„;Cr.5,.i ■*
daß em merklicher Verlust an Haftung resultiert. υ eis ρ 1 ei 0
, - . „... Man reinigt die Innenfläche der Stirnscheibe einer
Entwicklung des grafischen Bildes 35 Kathodenstrah''öhre in der üblichen Weise und über-
Jede Substanz, welche das polymere Material der zieht sie dann mit einer dünnen Schicht aus 0,2 %
Schablone 36, 37 löst oder in eine lösliche oder teil- Polyvinylalkohol, der in Wasser gelöst ist. Sodann
weise lösliche Substanz umwandelt oder gewisse Be- wird die Innenfläche mit einer Mischung von 1 %
standteile verflüchtigt, aber den Schutzüberzug im Polyvinylalkohol, 1 % Methymvthacrylatharzemulwesentlichen
nicht angreift, kann als Entwickler des 40 sion und von 0,1 °/o Ammoniumcuohromat in Wasser
grafischen Bildes verwendet werden. Man kann so- überzogen. Anschließend wird die Innenfläche gemit
bei einer Ausführungsform das grafische Bild trocknet. Die Schicht wird als Aufschwemmung aufdadurch
entwickeln, daß man den Schutzüberzug in gebracht wie im Beispiel 1 beschrieben und ebenfalls
einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre erhitzt, so daß wie im Beispiel 1 getrocknet. Sodann wird die sensidas
Polymer der Schablone abdampft. Dann wird der 45 bilisierte Schicht durch eine Maske hindurch' lichtet
Schutzüberzug in Wasser gewaschen. Dabei werden und anschließend entwickelt wie im Beispiel 1 bediejenigen
Teile des Schutzüberzugs fortgespült, schrieben, um eine Schablone herzustellen. Sodann
welche sich auf des Flächenbezirken befinden, die wird eine wässerige Lösung, welche 4 % kolloidalen
vor der Auaheizung gehärtet worden waren, jedoch Graphit enthält auf die Schablone aufgebracht und
bleiben diejenigen TeQe des Schutzüberzugs erhalten, se für die Dauer von 1,5 Minuten getrocknet, um den
welche nicht durch die gehärteten Flächenbezirke Schutzüberzug zu bilden. Der Schutzüberzug wird ander
Schablone bedeckt worden waren. schließend mit Wasser befeuchtet und nach dem Ab-
Oas bevorzugte Verfahren für die Entwicklung des kufen des Wassers sofort mit einer wässerigen Lögrafischen
Bildes besteht darin, daß man auf den sung, welche 35 Gewichtsprozent Wasserstoffsuper-Schutzuberzug
eine wässerige Lösung eines oxydie- 55 oxyd enthält und auf einen pH-Wert von 6,5 mit
renden Mittels in einer solchen Konzentration an- Natriumhydroxyd eingestellt ist Diese wässerige Lobringt,
daß der Schutzüberzug schnell durchdrungen sung verbleibt auf dem Schutzüberzug für etwa 2Miwird
und die Schablone erweicht Bei Schablonen nuten. Dann läßt man die Wasserstoffsuperoxydaus
gehärtetem Polyvinylalkohol erweicht die Scha- lösung ablaufen und entwickelt das grafische Bild
blone schnell bei wässerigen Lösungen von Wasser- 60 durch Bespülen nut Wasser für etwa 30 Sekunden,
stoffsuperoxyd mit einer Konzentration von 35 % Das entwickelte grafische Bud wird sodann getrock-
und darüber. Statt Lösungen von Wasserstoffsuper- net und kann dann einer gewöhnlichen Behandlung
oxyd zu verwenden, kann man auch wässerige Lo- zur Herstellung eines Leuchtschirms unterworfen
sungen von Salpetersäure, Natrhisnhyperoxyd oder werden.
andere Alkalisuperoxyde Oberchlorsäure oder 65 Beispiel 4
Alkaliperchlorate, Flußsäure, Untercblorsänre, Fer-
Alkaliperchlorate, Flußsäure, Untercblorsänre, Fer-
essigsäure, Alkaliborate, Alkaliperborate, Natrium- Die Innenscheibe der Stirnscheibe einer Kathoden-
hydroxyd und bestimmte Enzyme verwenden. Der strahlröhre wird zunächst in der gewöhnlichen Weise
gereinigt und sodann mit einer Akrylsäureschicht
überzogen. Sodann wird diese Schicht für 20 Minuten auf eine Temperatur von 175° C gebracht Auf der
Schicht wird anschließend ein Überzug angebracht, der aus 3 % Knochengelatine und 0,9 % Ammoniumdichromat
in Wasser besteht und als Aufschwemmung aufgetragen und wie im Beispiel 1 getrocknet wird. Sodann wird der sensibilisierte
Überzug durch eine Maske hindurch belichtet und mit warmem Wasser entwickelt wie im Beispiel 1,
um eine Schablone herzustellen. Anschließend wird eine wässerge Aufschwemmung mit 2 % kolloidalem
Graphit in einem Teil Wasser und einem Teü Alkohol auf die Schablone aufgesprüht. Sodann wird der
Schutzüberzug getrocknet. Der Schutzüberzug wird sodann mit Wasser befeuchtet, das man wieder ablaufen
läßt, worauf sofort eine wässerige Lösung von 35 Gewichtsprozent Wasserstoffsuperoxyd, d:s auf
einen pH-Wert von 6,5 % eingestellt ist, aufgebracht
ist. Diese Lösung verbleibt dann für etwa zwei Minuten auf dem Schutzüberzug. Anschließend läßt man die
Lösung ablaufen und entwickelt das grafische Bild dur'h Bespülung mit Wasser für etwa 30 Sekunden.
Dann trocknet man das entwickelte grafische Bild, woran sich die gewöhnliche Leuchtstoffbeschichtung
anschließt.
Die Erfindung eignet sich insbesondere für die Herstellung von Farbfernsehschinnen mit einer
schwarzen oder dunklen Matrix, welche die Leuchtstoffelemente auf dem Schirm umschließt. Da bei
der Herstellung von Farbfemsehröhren der Mosaikschirm normalerweise auf der Innenfläche der Stimplatte
mittels fotografischer Prozesse hergestellt wird, kann man die dunkle Matrix auf dem Schirm nach
denselben Methoden und unter Benutzung derselben Hilfsmittel herstellen. Da die Matrix an denjenigen
Stellen der Stirnplatteninnenfläche aufliegen muß, die nicht von den Leuchtstoffelementen bedeckt sind,
hat die Schablone die gleiche Struktur wie die nachträglich aufgebrachten LeuchtstofEelemente. Dadurch
wird es möglich zur Bildung der Schablone die gleiche Maskenelektrode und die gleichen Stellungen der Beleuchtungslichtquelle
zu benutzen wie für die Anbringung der Leuchtstoffelemente. Die Viellochmaske hat die gleiche kritische Lage gegenüber der Stirnscheibe,
während der Schablonenfilm und die Leuchtstoffelemente von einer kritisch angeordneten Lichtquelle
belichtet werden. Da das grafische Bild ein Teil des Mosaikschirms ist, und die Stirnscheibe die
Leuchtstoffelemente trägt, wird die Löslichkeit des polymeren Films dadurch geändert, daß man den
polymeren Film einer Bestrahlungsenergie aussetzt,
und zwar durch die Öffnungen der Viellochelektrode hindurch. Auf diese Weise werden in der Schablone
Öffnungen in fester räumlicher Lage zu den öffnungen der Viellochelektrode erzeugt.
Da die Viellochelektrode bei ihren verschiedenen Verwendungen sich stets in der gleichen Lage zu der
Stirnplatte der Röhre befindet, entsteht das Muster der Schablone genau in einer für die nachträgliche
Anbringung der Leuchtstoffelemente geeigneten Lage.
Wenn man ein Leuchtstoffmosaik von verschiedenen Leuchtstoffen in verschiedenen Lagen auf der
Stirnseite herzustellen wünscht, wird ein fotografisches Verfahren benutzt, bei welchem die verschiedenen
Leuchtstoffe als Elemente durch Belichtung mittels verschieden gelagerter Lichtquellen erzeugt
werden. Ein identisches Schablonenmuster läßt sich auch auf fotografischem Wege herstellen, und zwar
durch eine Folge von Belichtungen, bei denen die Lichtquellen sich in denselben Stellungen befinden,
von denen aus später die Leuchtstoffelemente bestrahlt werden. Wenn die Schablone dann chemisch
entfernt, werden die Punkte jeweils durch Leuchtstoffelemente des Mosaikschirms ersetzt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung eines Mosaik- den Mittels zur Einwirkung gebracht wird, das
schirmes für eine Farbfernsehröhre durch foto- die Bereiche sich ändernder Löslichkeit selektiv
grafische Belichtung und Fixierung eines Leucht- 5 so löst, daß eine gewünschte Größe der unlösstoffes
auf dem Schirm der Fernsehröhre ent- liehen Bereiche der Schicht während der Entsprechend
dem herzustellenden Mosaik, bei wel- wicklung des fotoempfindlichen Films und damit
chem Verfahren die vom Leuchtstoffmosaik freien ein gewünschter Betrag von Leuchtstoffbeschich-Schirmteile
mit einer lichtabsorbierenden Schicht rung auf der nicht von der Matrix bedeckten
bedeckt werden, dadurchgekennzeich- io Fläche der Frontplatte erreichbar ist
net, daß zunächst auf fotografischem Wege auf 6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem die
dem Schirm (23) der Fernsehröhre eine mit öff- unlöslichen Bereiche des belichteten fotoempfindnungen
versehene Schablone, deren erhabene liehen Films die Form von punktartigen Flecken
Teile den gewünschten Leuchtstoff-Mosaikele- haben, die im Abstand voneinander angeordnet
menten entsprechen, erzeugt wird, daß sodann die 15 und von Umfangsbereichen sich ändernder Lös-Oberfiäche
^ieser Schablone (36) und die von der lichkeit umgeben sind, dadurch gekennzeichnet,
Schablone h eien Flächenteile (37) des Schirmes daß die Bereiche sich ändernder Löslichkeit selek-(23)
mit einer Schicht aus lichtabsorbierendem tiv derart aufgelöst werden, daß sich punktartige
Material bedeckt werden, daß anschließend vom Flecke der gewünschten Größe ergeben und der
Schirm nur die Schablone und der auf dieser 20 Leuchtstoffüberzug auf der nicht von der Matrix
Schablone abgelagerte lichtabsorbierende Über- bedeckten Oberfläche der Frontplatte die Form
zug entfernt wird, so daß nur Flächen (43) und von punktartigen Flecken derselben Größe aneine
aus lichtabsorbierendem Material bestehende nimmt.
Matrix (41), die ein Negativ der gewünschten
Leuchtstoff-Mosaikelemente darstellt, verbleiben, 25
und sodann im wesentlichen die freien Flächenteile (43) des !.chirmes in an sich bekannter Weise
und sodann im wesentlichen die freien Flächenteile (43) des !.chirmes in an sich bekannter Weise
mit den verschiedenfarbig emittierenden Leucht- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstelstoffen
bedeckt werden. lung eines Mosaikschirmes für eine Farbfernsehröhre
2. Verfahren zur Herstelli ig eines Mosaik- 30 durch fotografische Belichtung und Fixierung eines
leuchtschirmes nach Anspruch 1, bei welchem der Leuchtstoffes auf dem Schirm der Fernsehröhre ent-Leuchtstoff
durch eine Maske (27) mit öffnungen sprechend dem herzustellenden Mosaik, bei welchem
an den Stellen der gewünschten Mosaikelemente Verfahren die vom Leuchtstoffmosaik freien Schirmbelichtet
wird, dadurch gekennzeichnet, daß auf teile mit einer lichtabsorbierenden Schicht bedeckt
fotografischem Wege die Schablone durch Über- 35 werden.
ziehen der Schirmfläche der Röhre mit einem Farbbildröhren, welche emc lichtabsorbierende
lichtempfindlichen Film (25) hergestellt wird und Matrix in ihrem Leuchtschirm enthalten, sind bekannt
daß dieser Film durch die gleiche Maske (27) (USA.-Patentschrift 3 146 368). Sie wurden dadurch
hindurch belichtet wird, um die mit öffnungen hergestellt, daß man die Stirnplatte mit Leuchtstoff
versehene Schablone entsprechend den gewünsch- 40 und mit einer lichtabsorbierenden Matrix überzog
ten Leuchtstoffelementen herzustellen. und die Überzüge durch eine Maske hindurch be-
3. Verfahren zur Herstellung emes Mosaik- lichtete. Ein Umkehrbild wurde dabei dadurch erleuchtschirmes
nach Anspruch 2, bei welchem die zeugt, da man Stoffe verwendete, welche durch BeMaske
in der fertigen Röhre zur selektiven Be- lichtung unlöslich gemacht werden. Solche lichtempstrahlung
des Mosaikschirmes mit Elektronen be- 45 findlichen Stoffe werden im folgenden als negativnutzt
wird, dadurch gekennzeichnet, daß die wirkende Stoffe bezeichnet, weil sie ein negatives
Schablone mit Hilfe der Maske auf fotografi- grafisches Bild liefern. Man kann auch ein positives
schein Wege in der gleichen räumlichen Lage der Bild erzeugen, wenn man fotopolymere Stoffe oder
Maske zu dem Schirm wie in der fertigen Röhre sogenannte Fotolacke benutzt, welche bei Belichtung
gebildet wird. 50 löslich gemacht werden. Die letztere Art von licht-
4. Verfahren zur Herstellung eines Mosaik- empfindlichen Stoffen wird im folgenden als positivleuchtschirmes
nach Anspruch 2, bei welchem der wirkende Stoffe bezeichnet, da sie bei Belichtung
Phosphor mehrmals durch die Maske hindurch normalerweise ein positives grafisches Bild erzeugen,
mittels einer jeweils in einer anderen Lage be- Die gegenwärtig verfügbaren positiv wirkenden
findlichen Lichtquelle belichte', wird, dadurch ge- 55 lichtempfindlichen Stoffe eignen sich verhältnismäßig
kennzeichnet, daß der lichtempfindliche Film (25) schlecht für die praktische Verwendung, da sie undurch
die Maske hindurch gleich oft mittels einer verhältnismäßig lange Belichtungszeiten erfordern.
Lichtquelle belichtet wird, die sich jeweils in einer Ferner sind diese Stoffe teuer, haften außerdem an
von drei verschiedenen Stellen befindet. Glas verhältnismäßig schlecht und liefern Bilder von
5. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem der 60 unerwünscht hohen Kontrasteigenschaften und erfotoempfindliche
Film durch die Maske mit Licht fordern schließlich die Benutzung von brennbaren unterschiedlicher Intensitätsverteilung über die nicht-wäßrigen Lösungsmitteln. Es existieren jedoch
Schirmfläche belichtet und im fotoempfindlichen negativwirkende lichtempfindliche Stoffe auf Wasser-Film
ein Muster aus löslichen und unlöslichen basis, welche nur kurze Belichtungszeiten erfordern
Bereichen, die durch Bereiche sich ändernder 65 und welche auch anderweitig sich für die praktische
Löslichkeil getrennt sind, gebildet wird, und daß Verwendung eignen. Mit Rücksicht auf derartige
der Film unter Entfernung der löslichen Bereiche Überlegungen soll ein Verfahren zur Herstellung
/ur Bildung der Schablone entwickelt wird, da- eines grafischen Bildes vollständig mit Stoffen auf
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US62675267A | 1967-03-29 | 1967-03-29 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1771076A1 DE1771076A1 (de) | 1971-04-01 |
DE1771076B2 true DE1771076B2 (de) | 1972-09-28 |
DE1771076C3 DE1771076C3 (de) | 1980-08-28 |
Family
ID=24511701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1771076A Expired DE1771076C3 (de) | 1967-03-29 | 1968-03-29 | Verfahren zur Herstellung eines Mosaikschirmes für eine Farbfernsehröhre |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3558310A (de) |
AT (1) | AT301635B (de) |
BE (1) | BE713007A (de) |
DE (1) | DE1771076C3 (de) |
ES (1) | ES352038A1 (de) |
FR (1) | FR1563268A (de) |
GB (1) | GB1180195A (de) |
NL (1) | NL6804370A (de) |
SE (1) | SE330661B (de) |
Families Citing this family (70)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4840654B1 (de) * | 1969-07-31 | 1973-12-01 | ||
US3658530A (en) * | 1970-05-28 | 1972-04-25 | Sylvania Electric Prod | Process for forming an opaque interstitial web in a color crt screen structure |
JPS5029308B1 (de) * | 1970-07-11 | 1975-09-22 | ||
GB1350667A (en) * | 1970-07-11 | 1974-04-18 | Sony Corp | Method of making colour screens |
US3837885A (en) * | 1970-08-14 | 1974-09-24 | Philco Ford Corp | Cathode ray tube manufacture |
JPS5030991B1 (de) * | 1970-10-13 | 1975-10-06 | ||
JPS5543225B2 (de) * | 1971-10-05 | 1980-11-05 | ||
JPS5137138B2 (de) * | 1972-01-26 | 1976-10-14 | ||
US3837944A (en) * | 1972-09-01 | 1974-09-24 | Nat Starch Chem Corp | Selective etching of metal oxides of tin or indium |
US4086090A (en) * | 1973-07-25 | 1978-04-25 | Hitachi, Ltd. | Formation of pattern using acrylamide-diacetoneacrylamide copolymer |
NL7403205A (nl) * | 1974-03-11 | 1975-09-15 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kathode- straalbuis voor het weergeven van gekleurde beelden en kathodestraalbuis vervaardigd volgens deze werkwijze. |
DE2411869C3 (de) * | 1974-03-12 | 1982-07-08 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Photochemisches System zur Beschichtung des Leuchtschirmes von Farbfernsehröhren |
DE2454520A1 (de) * | 1974-05-22 | 1975-12-04 | Gen Electric | Bildschirm fuer geschlitzte lochmasken von farbfernseh-bildroehren und verfahren zur herstellung |
US4049452A (en) * | 1975-04-23 | 1977-09-20 | Rca Corporation | Reverse-printing method for producing cathode-ray-tube-screen structure |
US3998638A (en) * | 1975-05-22 | 1976-12-21 | Westinghouse Electric Corporation | Method of developing opaquely coated sensitized matrix with a solution containing sodium meta-silicate |
US4248947A (en) * | 1976-12-01 | 1981-02-03 | Hitachi, Ltd. | Method for master pattern production |
CA1111698A (en) * | 1977-05-25 | 1981-11-03 | Samuel Pearlman | Crt screen structure produced by photographic method |
US4165396A (en) * | 1978-06-19 | 1979-08-21 | Rca Corporation | Method for salvaging the light-absorbing matrix and support of a luminescent screen |
US4217520A (en) * | 1978-08-30 | 1980-08-12 | Zenith Radio Corporation | Image display faceplate having a chromatic matrix |
JPS5546410A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-01 | Hitachi Ltd | Constructing method of fluorescent screen for color picture tube |
JPS5557233A (en) * | 1978-10-25 | 1980-04-26 | Hitachi Ltd | Method for manufacturing fluorescent screen |
US4498779A (en) * | 1979-01-10 | 1985-02-12 | Rca Corporation | Automatic stripe width reader |
US4234669A (en) * | 1979-03-27 | 1980-11-18 | Rca Corporation | CRT Screen structure produced by photographic method |
US4255504A (en) * | 1979-07-23 | 1981-03-10 | Rca Corporation | Method for producing CRT screen structure |
US4251610A (en) * | 1979-11-02 | 1981-02-17 | Tektronix, Inc. | Method of making multicolor CRT display screen with minimal phosphor contamination |
US4355095A (en) * | 1980-11-26 | 1982-10-19 | Cousins William Walter | Method for producing a photomechanical color image using a strippable photostencil and water-permeable, water-insoluble color media |
JPS57158922A (en) * | 1981-03-27 | 1982-09-30 | Hitachi Ltd | Method for forming fluorescent screen of color picture tube |
JPS57174826A (en) * | 1981-04-20 | 1982-10-27 | Hitachi Ltd | Phosphor face forming method of color picture tube |
US4408851A (en) * | 1982-05-19 | 1983-10-11 | Rca Corporation | Photographic method for printing a viewing-screen structure using a light-transmission filter |
US4501806A (en) * | 1982-09-01 | 1985-02-26 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Method for forming pattern and photoresist used therein |
US4517224A (en) * | 1983-08-18 | 1985-05-14 | Rca Corporation | Method for removing a phosphor layer from a support surface |
US4647519A (en) * | 1983-08-24 | 1987-03-03 | North American Philips Consumer Electronics Corp. | Negative-working photoresist method of making rear-projection television screen viewing surface |
US4556626A (en) * | 1983-08-24 | 1985-12-03 | North American Philips Consumer Electronics Corporation | Negative-working dichromate photoresist composition, process for applying it to a polymethyl methacrylate surface, and article produced |
JPH0618103B2 (ja) * | 1983-10-31 | 1994-03-09 | ソニー株式会社 | 陰極線管の螢光面の作製方法 |
US4556820A (en) * | 1983-12-27 | 1985-12-03 | Rca Corporation | Image display including a light-absorbing matrix of zinc-iron sulfide |
US4556620A (en) * | 1983-12-27 | 1985-12-03 | Rca Corporation | Image display including a light-absorbing matrix of zinc-iron sulfide and method of preparation |
JPS6145530A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-05 | Hitachi Ltd | カラ−ブラウン管螢光面の製造方法 |
JPS61239299A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | ヤマハ株式会社 | 電子打楽器 |
DE3539572A1 (de) * | 1985-11-08 | 1987-05-14 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrix |
US4746588A (en) * | 1985-11-25 | 1988-05-24 | Rca Corporation | Method for preparing a photosensitive film on a glass surface |
US4682075A (en) * | 1985-12-19 | 1987-07-21 | Rca Corporation | Image display including improved light-absorbing matrix |
US4778738A (en) * | 1986-08-14 | 1988-10-18 | RCA Licensing | Method for producing a luminescent viewing screen in a focus mask cathode-ray tube |
US5028501A (en) * | 1989-06-14 | 1991-07-02 | Rca Licensing Corp. | Method of manufacturing a luminescent screen assembly using a dry-powdered filming material |
US5477285A (en) * | 1993-10-06 | 1995-12-19 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | CRT developing apparatus |
US5405722A (en) * | 1993-12-22 | 1995-04-11 | Rca Thomson Licensing Corp. | Method for combined baking-out and sealing of an electrophotographically processed screen assembly for a cathode-ray tube |
US5370952A (en) * | 1993-12-22 | 1994-12-06 | Rca Thomson Licensing Corp. | Organic conductor for an electrophotographic screening process for a CRT |
US5413885A (en) * | 1993-12-22 | 1995-05-09 | Rca Thompson Licensing Corp. | Organic photoconductor for an electrophotographic screening process for a CRT |
US5455132A (en) * | 1994-05-27 | 1995-10-03 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | method of electrophotographic phosphor deposition |
TW358215B (en) * | 1994-08-08 | 1999-05-11 | Thomson Consumer Electronics | Coded marking on an interior surface of a CRT faceplate panel and method of marking same |
US5455133A (en) * | 1994-08-30 | 1995-10-03 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of manufacturing a screen assembly having a planarizing layer |
US5474866A (en) * | 1994-08-30 | 1995-12-12 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of manufacturing a luminescent screen for a CRT |
US5474867A (en) * | 1994-09-16 | 1995-12-12 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of manufacturing a luminescent screen for a CRT under ambient controls |
US5554468A (en) * | 1995-04-27 | 1996-09-10 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | CRT electrophotographic screening method using an organic photoconductive layer |
US5928821A (en) * | 1995-12-22 | 1999-07-27 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of manufacturing a phosphor screen for a CRT |
US5807435A (en) * | 1997-03-13 | 1998-09-15 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Spray module having shielding means and collecting means |
US5902708A (en) * | 1997-05-23 | 1999-05-11 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of electrophotographic phosphor deposition |
US5994829A (en) * | 1997-05-23 | 1999-11-30 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Color cathode-ray tube having phosphor elements deposited on an imperforate matrix border |
US6187487B1 (en) | 1997-09-08 | 2001-02-13 | James Regis Matey | Method of developing a latent charge image |
US6013400A (en) * | 1998-02-09 | 2000-01-11 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of manufacturing a luminescent screen assembly for a cathode-ray tube |
US6037086A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-14 | Thomson Consumer Electronics, Inc., | Method of manufacturing a matrix for a cathode-ray tube |
US5925485A (en) * | 1998-08-05 | 1999-07-20 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Method of manufacturing a phosphor screen for a CRT |
US6007952A (en) * | 1998-08-07 | 1999-12-28 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Apparatus and method of developing a latent charge image |
US6300021B1 (en) | 1999-06-14 | 2001-10-09 | Thomson Licensing S.A. | Bias shield and method of developing a latent charge image |
US6326110B1 (en) | 1999-08-23 | 2001-12-04 | Thomson Licensing S.A. | Humidity and temperature insensitive organic conductor for electrophotographic screening process |
US6444380B1 (en) | 2001-01-16 | 2002-09-03 | Thomson Licensing S. A. | Filming process for electrophotographic screen (EPS) formation |
US6599322B1 (en) * | 2001-01-25 | 2003-07-29 | Tecomet, Inc. | Method for producing undercut micro recesses in a surface, a surgical implant made thereby, and method for fixing an implant to bone |
US6620332B2 (en) * | 2001-01-25 | 2003-09-16 | Tecomet, Inc. | Method for making a mesh-and-plate surgical implant |
US7018418B2 (en) * | 2001-01-25 | 2006-03-28 | Tecomet, Inc. | Textured surface having undercut micro recesses in a surface |
KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
US20080116468A1 (en) * | 2006-11-22 | 2008-05-22 | Gelcore Llc | LED backlight using discrete RGB phosphors |
-
1967
- 1967-03-29 US US626752A patent/US3558310A/en not_active Expired - Lifetime
-
1968
- 1968-03-04 GB GB00370/68A patent/GB1180195A/en not_active Expired
- 1968-03-20 FR FR1563268D patent/FR1563268A/fr not_active Expired
- 1968-03-27 ES ES352038A patent/ES352038A1/es not_active Expired
- 1968-03-28 NL NL6804370A patent/NL6804370A/xx unknown
- 1968-03-28 SE SE04139/68A patent/SE330661B/xx unknown
- 1968-03-29 DE DE1771076A patent/DE1771076C3/de not_active Expired
- 1968-03-29 BE BE713007D patent/BE713007A/xx unknown
- 1968-03-29 AT AT307468A patent/AT301635B/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1563268A (de) | 1969-04-11 |
ES352038A1 (es) | 1969-07-01 |
BE713007A (de) | 1968-07-31 |
US3558310A (en) | 1971-01-26 |
NL6804370A (de) | 1968-09-30 |
GB1180195A (en) | 1970-02-04 |
DE1771076A1 (de) | 1971-04-01 |
AT301635B (de) | 1972-09-11 |
DE1771076C3 (de) | 1980-08-28 |
SE330661B (de) | 1970-11-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |