DE3539572A1 - Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrix - Google Patents
Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrixInfo
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- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2278—Application of light absorbing material, e.g. between the luminescent areas
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren nach
dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Zur Erhöhung des Kontrastes von Leuchtschirmbildern von
Farbbildkathodenstrahlröhren ist es bekannt, vor Auf
bringen der einzelnen Leuchtstoffelemente eine soge
nannte Dunkel-Matrix auf den aus Glas bestehenden
Leuchtschirmträger aufzubringen. Diese Dunkel-Matrix
besteht aus einer möglichst dunklen und lichtabsor
bierenden Schicht, die die einzelnen Leuchtstoffelemen
te, z. B. Punkte oder Streifen, des Farbbild-Leucht
schirmes umranden.
Bekannte Verfahren zur Herstellung einer solchen Dun
kel-Matrix bestehen darin, zunächst eine gleichmäßige
Schicht, z. B. aus Graphit, aufzubringen und dann
mittels eines Positiv- oder Negativ-Photo-Ätzverfahrens
entsprechend zu strukturieren. Es ist weiterhin vorge
schlagen worden, das Material für eine solche Dunkel-
Matrix durch Aufdampfen aufzubringen.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,
ein Herstellungsverfahren der eingangs genannten Art
anzugeben, das die Herstellung genauer strukturierbarer
Dunkel-Matrixschichten gestattet.
Diese Aufgabe wird durch die im Kennzeichen des Pa
tentanspruches 1 angegebenen Merkmale gelöst.
Das beschriebene Verfahren, das zwei aufeinanderliegen
de Schichten der Dunkel-Matrix vorsieht, besitzt den
Vorteil, daß die Körperfarbe und die Transparenz dieser
Matrix in einfacher Weise verändert werden können. Die
Körperfarbe läßt sich besonders durch Variation der
Dicke der Metalloxidschicht verändern. Das Aufdampfen
der Metallschichten garantiert insbesondere bei Verwen
dung von Chromoxid bzw. Chrom eine gute Haftfestigkeit
der Schicht und eine gute und präzise Ätzbarkeit der
Schicht. Ein weiterer Vorteil bei Anwendung des Posi
tiv-Photoätzverfahrens besteht darin, daß im Vergleich
zu den Maskenöffnungen kleinere Rasteröffnungen erhal
ten werden können.
Anhand des nachfolgend näher beschriebenen Verfahrens
wird ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel angegeben.
Auf die gut gereinigte Glasoberfläche des Leuchtschirm
trägers wird im Vakuum zunächst eine Metalloxidschicht
in einer Dicke von etwa 600 Angströmeinheiten aufge
bracht. Diese Schicht besteht bevorzugt aus Chromoxid.
Es hat sich jedoch auch als vorteilhaft erwiesen, eine
Mischschicht aus Chromoxid und Nickeloxid aufzubringen.
Ggf. wurden auch gute Ergebnisse mit einer Nickeloxid
schicht erzielt.
Auf diese Oxidschicht wird nun ebenfalls im Vakuum eine
Metallschicht aufgedampft, deren Dicke größer ist als
die Dicke der darunterliegenden Metalloxidschicht. Als
Metall hat sich besonders gut Chrom bewährt, das bevor
zugt in einer Dicke von etwa 1000 bis 2000 Angströmein
heiten aufgebracht wird. Eine solche Doppelschicht
besitzt zum einen den Eindruck einer sehr dunklen
Schicht und ist durch ein Photo-Ätzverfahren genügend
genau ätzbar.
Zur Durchführung des Photo-Ätzverfahrens wird auf die
aufgebrachte zweischichtige Metalloxid-Metallschicht
eine Photo-Resistschicht aufgebracht, die dann durch
eine Schattenmaske, oder wie im Falle von Flachbild
schirmen, durch eine Rastervorlage von außen, z. B. mit
UV-Licht belichtet wird. Durch die Belichtung kann
erreicht werden, daß die Schicht an den belichteten
Stellen gegenüber einem Lösungsmittel löslich gemacht
wird (Positiv-Verfahren). Nach Entfernen der belichte
ten Stellen der Photo-Resistschicht können die freige
legten Teile der Metalloxid-Metallschicht herausgeätzt
werden, so daß die Matrixschicht in der gewünschten
Konfiguration zurückbleibt. Das Positivverfahren hat
sich besonders deshalb bewährt, weil es möglich ist,
Öffnungen in der Matrixschicht herzustellen, die etwa
10 bis 20 % kleiner sind als die Öffnungen in der
Schattenmaske, durch welche hindurch belichtet wurde.
Claims (7)
1. Verfahren zum Herstellen einer Dunkel-Matrix auf
dem Leuchtschirmträger einer Farbbildkathodenstrahlröh
re mit Schattenmaske, bei dem eine gleichförmige
Schicht des Matrixmaterials aufgebracht und dann nach
einem Photo-Ätzverfahren entsprechend den aufzubringen
den Leuchtstoffelementen strukturiert wird, dadurch
gekennzeichnet, daß als Matrixmaterial zunächst eine
Metalloxidschicht und darauf eine Metallschicht durch
Aufdampfen aufgebracht wird und dann durch Photoätzung
strukturiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als Metalloxidschicht eine Chromoxid- und/oder
Nickeloxidschicht aufgedampft wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß als Metallschicht eine Chromschicht
aufgedampft wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Dicke der Metallschicht größer
ist als die Dicke der Metalloxidschicht.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Strukturierung bei Anwendung
einer Belichtung durch die Schattenmaske hindurch nach
einem Positivverfahren vorgenommen wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Metalloxidschicht in einer
Dicke von 400 bis 800, insbesondere 500 bis 700 Ang
strömeinheiten aufgebracht wird.
7. Verfahrennach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Metallschicht in einer Dicke
von 600 bis 3000, insbesondere 1000 bis 2000 Angström
einheiten aufgebracht wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853539572 DE3539572A1 (de) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrix |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853539572 DE3539572A1 (de) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrix |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3539572A1 true DE3539572A1 (de) | 1987-05-14 |
DE3539572C2 DE3539572C2 (de) | 1993-09-02 |
Family
ID=6285424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853539572 Granted DE3539572A1 (de) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrix |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3539572A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2647259A1 (fr) * | 1989-05-16 | 1990-11-23 | Thomson Tubes Electroniques | Tube electronique de visualisation avec reseau noir entre luminophores |
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-
1985
- 1985-11-08 DE DE19853539572 patent/DE3539572A1/de active Granted
Patent Citations (4)
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WO1990014678A1 (fr) * | 1989-05-16 | 1990-11-29 | Thomson Tubes Electroniques | Tube electronique de visualisation avec reseau noir entre luminophores |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3539572C2 (de) | 1993-09-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: AEG ELEKTRONISCHE ROEHREN GMBH, 89077 ULM, DE |
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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