DE1597787A1 - Glasraster mit Anlageflaeche fuer lichtempfindliches Material - Google Patents
Glasraster mit Anlageflaeche fuer lichtempfindliches MaterialInfo
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Description
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"Glaaraster mit Anlagefläche für lichtempf'ind:liches I,iTaterial" Die Erfindung betrifft einen Glasraster, mit. Anlagefläche für lichtempfindliches Material. Glasraster denen in. der tteprüdukticnstechnik zur Umwanä- lung der verschiedenen Tonwerte der Halbton Vorlage in Rasterstrukturen, bei denen das. Verhältnis, der Raster-. punktflache z:..ur Gesamtfläche die entsprechenden 'lorwer@e vortäuscht, Än längsten bekannt sind Kreuzlinienrasterx, die j,e nach Feinheit in Abständen von c:aZ - 10 ' mm, vor der lehterap@f.ncllichen Schicht. und parallel zu d?ieser in den Strahlangang der Reprokamera engeschal.tet werden., wazuu in den Kamerakästen besondere Rasterhalte-.und A1-- st.andaezxrstellarreehtungen eingebaut werden. Derr Einbau dieser L,inriehtungen bedeutet nicht. nur eine Kdmplizaerung und Verteuerung cker Geräte.. sanded.e No:twrend.gke,it der U a.;l d4ea richtigen Abatandes setzt; auch, @s:aderer'fh- rungen dies fhatographen varaua, und es muußi mit IrrtUäerh unA Fe=hlern gerechnet werden. Mit der vorliegend@:n Erfindung sollen diese Nachteile beseitigt werden. Die Aufgabenstellung ist mit einem Glasraster gelöst, der nach der brfindung dadurch ge- kennzeichnet: ist, dati der eigentliche rtaster mit einer Jistanz.scheibe als Anlagefläche fier das durch den Raster hindurch zu belichtende lichtempfindliche i"aterial in Verbindung gebracht ist, wobei die Distanzscheibe aus klar transparentem., farblosem Glas von einer Dicke be- steht,; die den Erfordernissen des photographischen Hasterungsprazesses an gepatzt ist und caie ferner mit !le- menten, 'wie, Vakuuinsaugnanilen und/oder .rosition.erangU- stiften o . dgl. ,: zur lage#en#.uen Halterung des photo- graphischen irateri=als,versehen ist,. Nach der, brfindung ist also der na.Jter ein. mit einer Filmanlageflö;che im. richtigen Abstand voL#loiniert. ausgebllcLeter Glearaster, der einfac=h in eine Halterung am Kamerakastern einge- setzt. werden kann und bei c,Leni eher vorteilhaft die Ein- stellung des, richtigen Aesti_ naedurch cen rho-tographen ebenso entfällt wie die mechanisch schwierige 2e.rallel- rührun:g einer besonderen Hasterhaltevorrichtung. Darüber hinaus; hat aas. erfindungsgemäße St,-2:tem den Vor- teil, daß es eine filmseitige bntsp.iegelung ermäglicht. ,@:ährend nämlich uie i#ritsp:iegelunvon bekannten Glas- ä, rastern sehcvierig ist, weil diese Laster die zür~ wisch- feste L,ntspiegslungssch:iehten erfüraerliche thermische t3ehandlunicht aushalten, kann beim erf indr-ngsgdmäßen - Die.. ylanhaltung des I`ilms auf der Glas-Anlagefläche kann in bekannter heiße durch einen rückseitigen, elastis@"iieai hnpreiideckel erfolgen. Bevorzugt wird jedoch eine vakuumhalterung, bei uer der atr,osphärische Truck direkt oder vermittels einer übergelegten Folie nie ±#lutv:al;,üng: bewirkt.
Störungen sind bei einer .rressung von Film auf polier- teI=_zs äi.Iu`e@läclien in Jestalt des Auftretens sogenaxn- ter i@iej:zorisher hinge möglich, aber alle diesbezüglich bekannten :Lbilylfematsnahmen körnen auch in Verbindung - Die erfindungsgemäße Rasterausführung mit Filmanlagefläche läßt sich mit allen Rastermustern kombinieren, insbesondere mit Linien-, Kreuzlinien-, Spirallinien-, Punkt-, Waben- oder Kornrastern: Bevorzugt werden dabei solche Raster, die die erstrebte Gradationskurve zu erzielen gestatten, ohne daß es einer rasterlosen sogenannten Hoehlichtbelichtung bedarf.
- Neuartige und vorteilhafte viirkungen für Sonderfälle sind zu erreichen, wenn die Anlagefläche des erfindungsgemäßen Rasters auch ihrerseits mit einer Kastrierung versehen wird. Mer auf dieser Fläche ängelegte Film erhält dann gleichzeitig durch den aus größerem Abstand wirkenden Hauptraster eine "flächenvariable", vom Tonwert' der Vorlage abhängige Rasterung und ein dieser überlagertes negatives oder positives Rastermuster. Die Ausnutzung dieser Variante des erfindungsgemäßen Rasters mit Anlage-Fläche kommt besonders für die Tiefdruckformenherstellung einschließlich Textildruck in Frage, aber auch für die Herstellung von Siebdruekfolien und Siebzylindern. Selbst bei der hochdruckformherstellung sind e:uf diese Weise äußerst einfach havternegative mit spitzen offenen Lichtpunkten herzustellen. Eine weitere Variante besteht in der Anbringung zweier Rastermuster oder Rasterlineaturen in verschiedene Ab-.ständen von der Anlagefläche. Vorteilhaft ist z.B. eine Rasterlineatur in der Verkittungsebene des Hauptrasters eine weitere in der Verkittungsebene von Hauptraster und Klarscheibe-'anzubringen. In Verbindung mit unterschiedlicher Einfärbung der Muster können diese durch. Filterschalturig bei der Belichtung gemeinsam oder evtl. selektiv zur Wirkung gebracht werden;, um die Gradation zu steuern, die bekanntlich vom Rasterabstand abhängig ist. Be-einem solchen Raster sind also mehrere Gradationen wählbar. Weitere Einzelheiten werden nachfolgend anhand einer zeichnerischen Darstellung von Ausführungsbeispielen näher erläutert. -In dieser- Darstellung.zeigt Fign 1 im Prinzip einen Schnitt durch den Schichtaufbau des erfindungsgemäßen Rasters; Fig2 schematisch in perspektivischer Ansicht einen erfindungsgemäßen Raster mit Rahmen und Einrichtungen zur Vakuumhalterung; Fig* 3. einen Schnitt durch einen Randbereich des in, einem ;Rahmen gehaltenen Rasters längs knie A " A in Fig; 2
Fig. 4 schematisch in perspektivischer .Ansicht eine besondere Ausführungsform des Rasters und Fig. 5 schematisch in perspektivischer Ansicht eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Rasters. ` Alle Darstellungen zeigen typische Ausführungsformen de.s erfindungsgemäßen Rasters mit Anlagefläche für lichtempfirdli.ches Material wie Film, photographisches Papier, elektrophotographisches Papier oder licht- empfirÜ_äche Schichten auf unterschiedlichen Schicht- trägern wie Aluminiumfolien z.B. zur Ver:-zendung als Druckplatten. Fig. 1 läßt die Prinzipanordnung der einzelnen zum er- findungsgemäßen Raster g;:hörenden blemente erkennen. Da- bei sind mit -1 die objektivseitige Rastert eilplatte, auf der sich z.B. die Parallel-Lineatur 2 befindet, mit 3 die Verkittungsschicht beispielsweise aus einem :selbst aus- härtenden Zweikomponenten-Klebstoff,-mit 4 eine weitere, auf der hasterteilplatte 5 angebrachte Parallel-Lineatur, die in 90o 'ainkel zur Lineatur -2 steht und mit 6 eine weitere llerkittungsschicht, z.B. zwecks Lösbarkeit mittels Kanadabalsam hergestellt, bezeichnet. 7 ist eine Klar- glasscheibe und 8 deren als Anlage für das lichtempfind- liche I"Taterial .9 dienende Oberfläche. - In der Fig. 3 sind mit 1-12 die gleichen Elemente wie in den Fig. 1-u. 2 bezeichnet. Eine Bohrung 13 ist für die Vakuumführung und eine Schlauchtülle 14 ist für den Anschluß eines.Verbindungsschlaaches zu einer Vakuumpumpe (nicht dargestellt) vorgesehen: Der erfindungsgemäße Glasraster sitzt im. Rahmen 11 und wird durch. eine umlaufende Rahmenleiste 17 gehalten, die durch Schrauben 18 unter Zwischenlage des elästsohen Streifens 16 den Raster von rückwärts gegen die in Profil des Rahmens gelagerte Abdichtungsleiste 15 drückt.
- Pig. 4 zeigt schematisch einen. erfindungsgemäßen Raster der im-Aufbau dem Raster gemäß der Fig. 1 u. 2 entspricht, jedoch mit der Besonderheit,, daß die Anlagefläche für das lcht@empfiädliche Material eine zusätzliche Rasttierung trägt:. hierbei ist die eigentliche Rastermusterung des Hauptrasters ein unter 450 zur Vorderkante der Rasterscheibe verlaufender Linienrasteri2während die Teilplatte 5 keine Rasterlineatur trägt. Als ZusatzrasiL.erung 19 ist hier ebenfalls eine Iinienrasterung gewählt, die unter 1350 zur 7 Vorderkante der Scheibe verläuft.
- Fig. 5 zeigt einen Raster mit ebenfalls zwei getrennten Rasterlineatüren,'die jedoch beide in den Verkittungeebenen liegen. Der Parallel-Lineatur Z in 450 - Stellung ist-also in dem-durch-die Dicke der Scheibe 5 gegebenen Abstand die Parallel-Lineatur 20 in 135o-Stellung zugeordnet. Selbstverständlich kann .diese auf der Scheibe 5 oder auf der Scheibe 7 angebracht oder auf beide verteilt sein.
Claims (2)
- f a t e n t a n s p r ü c h e 1. Glasraster für die Reproduktionstechnik, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß der eigentliche Raster mit einer Distanzscheibe als Anlagefläche für das durch den Raster hindurch zu belichtende lichtempfindliche photographische tlaterial in Verbindung gebracht ist, wobei die Distanzscheibe aus klar transparentem, farblosem Glas von. einer Dicke besteht, die den. Erfordernissen des photographischen Rasterungsprozesses angepaßt ist und die ferner mit Elementen,-wie Vakuumsaugkänälen und/oder Positionierungsstif'ten oder dergleichen, zur lagegenauen Halterung des photographischen Materials, versehen ist.
- 2. Raster nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Distanzscheibe mit einer zusätzlichen Rastrierung oder sonstigen überflächenveredelung, ausgestattet ist. 5. Raster@nach Anspruch 1 und/oder 2, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , da13 die Anlagefläche durch Lntspiegelung, Schliff oder Atzung vorbehandelt ist. Raster nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 - 3, d a d u r c h g e k e.n n z e i c h n e t , daß der eigentliche Glasraster@und ale Distanzscheibe lösbar mit= einander verbunden sind, wie durch mechanische Halterung, Evakuierung des Berührungsraumes, lösbare verkittung gegenüber einer unter gleichen Bedingungen nicht lösbaren Verkittung des eigentlichen Glasrasters oder dergleichen. 5. Raster nach Anspruch 1 , d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß der eigentliche Raster als Raster mit eingefärbter, transparenter und scharf begrenzter Rasterlineatur und farblosen oder lasierend gefärbten Zwischenräumen, z.B. in Form von Linien, Vier-, Sechs-oder Achtecken ausgebildet ist, wobei den scharf begrenzten, bandförmigen oder sich kreuzenden Hasterlinien des Rasternetzes vorzugsweise im Bereich ihrer Kreuzungsstellen scharf begrenzte Elemente größerer Lichtdichte, wie dunkle oder opake punktförmige Elemente in Form von Vielecken oder dunkle oder opake Linien, überlagert sind. 6. Glasraster mit Anlagefläche nach Ansprüchen 1 - 4, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß zwei oder drei voneinander getrennte Rastermuster oder Rasterlineaturen in verschiedenen Abständen von der Anlagefläche der Distanzscheibe angebracht sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US770301A US3597217A (en) | 1967-10-24 | 1968-10-24 | Combination halftone screen and emulsion positioning plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK0063694 | 1967-10-24 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1597787A1 true DE1597787A1 (de) | 1970-08-27 |
DE1597787B2 DE1597787B2 (de) | 1974-08-22 |
DE1597787C3 DE1597787C3 (de) | 1975-05-15 |
Family
ID=7231248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671597787 Expired DE1597787C3 (de) | 1967-10-24 | 1967-10-24 | In eine Reprokamera einsetzbarer Glasraster für reproduktionstechnische Belichtungsvorgänge |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1597787C3 (de) |
-
1967
- 1967-10-24 DE DE19671597787 patent/DE1597787C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1597787B2 (de) | 1974-08-22 |
DE1597787C3 (de) | 1975-05-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHV | Ceased/renunciation |