DE1284293C2 - Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien - Google Patents
Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialienInfo
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Description
HO
CHCH,0
H(2.v + 2—y—z)-0CH,CH
OC-C=CH2
O R
Kettenende
mit freier
Hydroxylgruppe
mit freier
Hydroxylgruppe
Kohlenstoffgerüst eines Alkylenoxyd- Additionspolymerisierbares
mehrwertigen Alkohols Kelten- Ester-Kettenende
Verlängerung
entspricht, wobei
= H oder CH3,
= H oder CH3,
χ = eine der Zahlen 3,4,5 oder 6,
χ = eine der Zahlen 3,4,5 oder 6,
y = eine der Zahlen 2,3,4,5 oder 6,
ζ = eine der Zahlen 0,1,2,3 oder 4,
m = eine der Zahlen 0,1 oder höher,
η — die Zahl 1 oder höher
ny+ mz = größer als 6, jedoch nicht größer als 500, ist
Als zur Additionspolymerisation befähigte äthylenisch ungesättigte Monomere sind beispielsweise Ester
von a-Methylencarbonsäuren, wie die Bis-acrylate und Bis-methacrylate des Äthylenglykols, des Diäthylenglykols
und von Polyäthylenglykolen mit Molekulargewichten bis 500 oder mehr bekannt. Monomere dieser
Gattung weisen mindestens eine und vorzugsweise zwei endständige äthylenische Gruppen auf. Weitere bekannte
Monomere dieser Art sind die Pentaerythritacrylate und Pentaerythritmethacrylate mit zwei bis vier
Acrylylresten.
Es hat sich herausgestellt, daß die Verwendung dieser bekannten additionspolymerisierbaren äthylenisch ungesättigten
Ester im Rahmen lichtempfindlicher Gemische fotopolymerisierbarer Schichten von Aufzeichnungsmaterialien
den Nachteil einer die Verarbeitung häufig erschwerenden Toxäzität mit sich bringt.
Außerdem ließ bei Verwendung der entsprechenden fotopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterialien für
die Herstellung von Reproduktionen die Schärfe der Rasterpunkte zu wünschen übrig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, äthylenisch
ungesättigte Ester anzugeben, die eine herabgesetzte Toxizität aufweisen und außerdem im Rahmen
der Reproduktionstechnik zu Reproduktionen mit verbesserter Schärfe der Rasterpunkte führen.
Die Erfindung geht aus von der Verwendung eines fotopolymerisierbaren Gemisches, das ein organisches,
bei 500C festes polymeres Bindemittel, einen Fotopolymerisationsinitiator
und einen äthylenisch ungesättigten, additionspolymerisierbaren Ester einer «-Methylencarbonsäure
mit einem Polyol, dessen Kohlenstoffkette durch Sauerstoffatome unterbrochen ist, enthält,
als lichtempfindliche Schicht fotopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien. Kennzeichnend ist, daß das
Gemisch als äthylenisch ungesättigten Ester einen Ester eines verzweigtkettigen, mehrwertigen Ätheralkohols
mit wiederkehrenden Äthereinheiten enthält, der durch Kondensation von Äthylenoxyd oder Propylenoxyd mit
3- bis 6wertigen Alkoholen erhalten wurde und der Formel
HO /CHCH2O
Kettenende
mit freier
Hydroxylgruppe
mit freier
Hydroxylgruppe
-CxH(2a- + 2--v- z)
Kohlenstoffgerüst eines mehrwertigen Alkohols
entspricht, wobei
= H oder CH3,
= H oder CH1,
= eine der Zahlen 3,4,5 oder 6,
= eine der Zahlen 2, 3, 4, 5 oder 6,
= eine der Zahlen 0, I, 2, 3 oder 4,
= eine der Zahlen 0,1 oder höher.
= die Zahl 1 oder höher
OCH1CH \ OC C=CH,
OR-
Alkylenoxyd-
Ketten-
verlüngerung
Additionspolymerisierbares
Ester-Kettencndc
Ester-Kettencndc
Diese durch eine Alkylenoxyd-Ketten Verlängerung der angegebenen Art charakterisierten äthylenisch
ungesättigten Ester verzweigtkettiger mehrwertiger Ätheralkohole zeichnen sich durch eine gegenüber den
bisher verwendeten Estern durch eine stark erniedrigte Giftigkeit aus, wodurch ihre Verarbeitung erleichtert
wird. Außerdem führt ihre Verwendung in fotopolymerisierbaren Schichten bei der Herstellung von Repro-
ny+mz = größer als 6, jedoch nicht größer als 500 ist. duktionen zu einer stark verbesserten Schärfe der
Rasterpunkte. Außerdem wird eine höhere Gleichmäßigkeit hinsichtlich der Größe der einzelnen Rasterpunkte erreicht
Geeignete verzweigtkettige mehrwertige Alkohole mit wiederkehrenden Athereinheiten und einem breiten
Vernetzungsbereich werden durch Kondensation von Äthylen- oder Propylenoxyd mit 3- bis öweitigen
Alkoholen von niedrem Molekulargewicht gewonnen.
Äthylenoxyd und Propylenoxyd können als Kettenverlängerer angewandt werden, können aber auch am
Ende freier Hydroxylgruppen enthaltender Ketten stehen.
«-Methylencarbonsäuren, die die additionspolymerisierbaren Esterkettenenden liefern, sind beispielsweise
Acrylsäure und Methacrylsäure.
Besonders bevorzugte Monomere der Erfindung sind die Triacrylat- und Trimethacrylatester des Reaktionsproduktes von Ti'imethylolpropan und Äthylenoxyd, die
Triacrylatester des Reaktionsproduktes von Trimethylolpropan und Propylenoxyd, das Tetraacrylat und das
Tetramethacrylat der Reaktionsprodukte von Äthylenoxyd und Propylenoxyd mit Pentaerythrit. Die Reaktionsprodukte besitzen vorzugsweise ein durchschnittliches Molekulargewicht von etwa 450 bis etwa 40 000.
Die fotopolymerisierbaren Massen enthalten ein thermoplastisches, bei 50° C festes, makromolekulares
organisches Polymeres (IO bis 99 Teile) mindestens eines der beschriebenen Monomeren (99 bis 5 Teile),
einen durch aktinische Bestrahlung — beispielsweise einer Wellenlänge von 200 bis 700 πιμ — aktivierbaren
Initiator für die Additionspolymerisation (0,001 bis 20 Teile); falls gewünscht, können 0,001 bis 2 Teile eines
Inhibitors für die Additionspolymerisation zugegeben werden. Alle Mengenangaben stellen Gewichtsangaben
dar.
Die die beschriebenen Massen verwendenden fotopolymerisierbaren Materialien bestehen aus einer Schicht
und einem Träger. Die Schicht ist unterhalb 40° C fest und ist befähigt, bei Belichtung unterbelichtete Bildbereiche auszubilden, die, bedingt durch ihre Fließ-, Kleboder Übertragungstemperatur, oberhalb 40° C und
unterhalb 220° C thermisch übertragbar sind. Das thermographische Übertragungsverfahren für Reproduktionen besteht darin, die Oberfläche dieser Schicht
auf eine gesonderte, bildaufnehmende Oberfläche zu drücken, mindestens eine der Oberflächen auf eine
Temperatur von mindestens 40° C zu erhitzen und die beiden Flächen wieder voneinander zu trennen. Dabei
gehen die thermisch übertragbaren, unexponierten Bildbereiche der Schicht auf die bildaufnehmende
Fläche über.
Die fotopolymerisierbaren Schichten, die sowohl für
das thermische Übertragungsverfahren oder für bei Raumtemperatur ablaufende Reproduktionsverfahren
benutzt werden, besitzen eine Dicke von 0,0003 bis 0,13 mm, vorzugsweise von 0,003 bis 0,03 mm. Für die
Herstellung von Druckplatten arbeitet man mit fotopolymerisierbaren Schichten, die 0,08 bis 6,35 mm,
vorzugsweise 0,25 bis 1,02 mm dick sind.
Geeignete aufnehmende Trägermaterialien, thermoplastische, polymere Bindemittel, nicht thermoplastische polymere Zusatzstoffe, Füllstoffe oder Verstärkungsstoffe, Initiatoren für die Additionspolymerisation,
Inhibitoren für die thermische Polymerisation, zuzusetzende Farbstoffe und Pigmente sowie feste oder flexible
Trägerstoffe sind in den US-Patentschriften 30 60 023, 30 60 024,30 60 025 und 30 60 026 beschrieben.
Beispiel 1
Triacrylat des oxyäthylierten Trimethylolpropans
A. Herstellung,
auf die hier kein Schutz beansprucht wird
Eine Mischung der nachstehend aufgeführten Stoffe wurde 15V2 Stunden unter Rückfluß erhitzt, wobei ein
mit einer azeotropischen Trennvorrichtung ausgestatteter Kühler benutzt wurde:
1200 g oxyäthyliertes Trimethylolpropan eines durchschnittlichen Molekulargewichts von 1040
(über die Herstellung vgL »Polyethers«, Teil I, Interscience Publishers, New York; N. G.
Gaylord, Ed.),
310 g reine Acrylsäure, die 0,1% p-Methoxyphenol
als Polymerisationsinhibitor enthielt,
600 cm3 Benzol,
6,3 cm3 konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches
Gewicht 184).
1,5 g Kupfer(I)-oxyd.
Während dieser Zeit wurden 62 cm3 Wasser (100% der Theorie) aufgefangen.
Die Reaktionsmischung wurde gekühlt, mit 2000 cm3
Benzol verdünnt und dann mit zwei 600-cm3-Anteilen
von 20%igem Natriumchlorid, zwei 600-cm3-Anteilen von 24%igem Kaliumbicarbonat und schließlich mit 600
cm3 von 20%igem Natriumchlorid extrahiert Der organische Extrakt wurde durch Verrühren mit 180 g
«ι Kieselgur, Abfiltrieren und Aufbewahren über wasserfreiem Kalziumsulfat über Nacht geklärt
Ein 500-cm3-Anteil des wasserfreien Extraktes wurde
unter Durchleiten durch eine 38 mm χ 60 cm-Kolonne gereinigt, die mit Aluminiumxoyd einer Teilchengröße
ji von 0,3 mm gefüllt war. Nach Zugabe von 0,10 g
p-Methoxyphenol wurde die gereinigte Lösung durch Luftabsaugung mit Hilfe einer Wasserstrahlpumpe auf
einem Ölbad bei einer Badtemperatur von 50 bis 60° C so aufkonzentriert, daß 128 g eines viskosen wasserhel
len Öls (H - 1,4712) anfielen. Toxikologische
Untersuchungen ergaben, daß dieses Monomere nur etwa Vs so giftig war wie Pentaerythrittriacrylat und
daß dieses Monomere nur V5 so giftig wie das Triäthylenglykoldiacrylat war.
Kopierfiim
für direkt positive thermische Überfagung
Es wurde eine Mischung der nachstehenden Bestandteile bereitet, indem diese 16 Stunden in einem
Glasgefäß mit Kugeln aus keramischer Masse (Durchmesser 9,2 mm) vermählen wurden:
1,50 g des vorstehend beschriebenen Triacrylats,
" 6,00 g einer 25%igen Lösung von Polymethylmethacrylat mit einem in Benzollösung gemessenem
Molekulargewicht von etwa 20 000 bis 50 000,
2,00 g einer 15%igen Dispersion von Ruß in Isopropan-
anol,
b0 0,20 g 2-t-Butylanthrachinon,
Die erhaltene Masse wurde dann auf eine 0,10 mm dicke Polyäthylenterephthalatgrundfolie aufgezogen.
b5 Beschichtet wurde unter Verwendung eines auf einen
Abstand von 0,15 mm eingestellten Abstreichmessers.
Nach Lufttrocknung über Nacht wurde der Überzug auf eine unbehandelte Polyäthylenterephthalatfolie von
0,03 mm Dicke aufgeschichtet, wobei mit geheizten, belasteten mechanisch angetriebenen Waken gearbeitet
wurde. Walzentemperatur: 1000C; Druck: 8,45 kg/cm2 (linear); Durchlaufgeschwindigkeit: 60,96 cm.
Diese Folie wurde 1 Minute in Berührung mit einem positiven Transparent im Abstand von 40,64 cm durch
eine 65-Ampere-3300-Watt-Kohtobogenlampe belichtet Dann wurde die 0,03 mm dicke Deckfolie entfernt
und die unbelichteten Bildbereiche des Überzuges nunmehr von der 0,10-mm-Trägerfolie auf Papier
übertragen, wobei die gleiche Vorrichtung angewandt und unter den gleichen Bedingungen gearbeitet wurde
wie bei der Beschichtung der Deckfolie. Papier und Überzug wurden unmittelbar nach Austritt aus dem
Walzenspalt voneinander getrennt Die exponierten polymerisierten Bereiche waren nicht länger plastisch
und anhaftend und gingen unter diesen Bedingungen nicht über. Erhalten wurde eine positive Kopie des
ursprünglichen Transparents auf dem aufnehmenden Papier.
Triacrylat des oxyäthylierten Trimethylolpropans A. Herstellung
Die für die Herstellung des Monomeren im Beispiel 1, A beschriebene Arbeitsweise wurde unter Verwendung
nachstehender Substanzen wiederholt:
609 g oxyäthyliertes Trimethylolpropan eines
durchschnittlichen Molekulargewichts von
609,
270 g reine Acrylsäure mit einem Gehalt von
270 g reine Acrylsäure mit einem Gehalt von
0,1% an p-Methoxyphenol, 300 cm3 Benzol,
3,0 cm3 konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches
3,0 cm3 konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches
Gewicht: 1,84).
0,75 g Kupfer(I)-oxyd.
0,75 g Kupfer(I)-oxyd.
Im Verlauf von 13 Stunden wurde entsprechend 100% der "iTieorie 54 c n3 Wasser aufgefangen. Die
Reaktionsmischung wurae extrahiert und geklärt, wie im Beispiel 1 beschrieben, wobei entsprechende
Substanzmengen eingesetzt wurden. Nach Aufkonzen-
15
20
25
30
35 tration im Vakuum in Gegenwart von 0,4 g p-Methoxyphenol
verblieben 707 g eines viskosen, hellgelben Öls (N = 1,4722). Die Masse wurde durch Auflösung von
100 g in 100 cm3 Aceton und Durchlaufenlassen dieser Lösung durch mit aktiviertem Aluminiumoxyd gefüllte
Kolonnen gereinigt
B. Kopierfilm
für direkt positive thermische Übertragung
für direkt positive thermische Übertragung
Entsprechend Beispiel 1, B wurde ein Kopierfilm hergestellt, dabei jedoch an Stelle des Triacrylats des
Beispiels 1 nunmehr 1,5 g des vorstehend beschriebenen Triacrylats angewandt Nach Belichtung und Entwicklung
durch thermische Übertragung entsprechend Beispiel 1, B lieferte er positive Kopien der Transparente.
C. Druckerpressen-Druckform
Eine Mischung nachstehender Substanzen wurde als 15,2 χ 22,86-cm-Fläche in einer Schale auf eine mit einer
Kiebmasse überschichtete Aluminiumfolie gegossen:
42 g Celluloseacetat — Hydrogensuccinat in 200 cm3
Aceton und 10 cm3 Methanol,
20 g des Triacrylatmonomeren der Zubereitung A,
0,06 g p-Meihoxyphenol,
0,07 g 2-Äthylanthrachinon.
0,06 g p-Meihoxyphenol,
0,07 g 2-Äthylanthrachinon.
Nach langem Trocknen an der Luft unter Einstellung einer Dicke von etwa 0,76 mm wurde die Platte über
Nacht in Kohlendioxydatmosphäre konditioniert. Dann wurde 90 Sekunden in Berührung mit einem inaktiven
Verfahrens-Transparent exponiert (Abstand einer 140-Ampere-Kohlenbogenlampe: 76,2 cm). Durch Aufspritzen
von 0,04normaler Natriumhydroxydlösung wurden die unexponierten Bereiche weggewaschen, und
es verblieb der exponierte, polymerisierte Teil in Form eines für Druckerpressen-Druckformen geeigneten
Reliefbildes. Dieses stellte eine einwandfreie Reproduktion mit guter Abstimmung von Schattenbereichen und
helleren Bildpunkten dar.
Es konnten keine Anzeichen für Ungleichheit bei der Bildung von Halbtonpunkten festgestellt werden.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verwendung eines fotopolymerisierbaren Gemisches, das ein organisches, bei 500C festes polymeres Bindemittel, einen Fo '.opolymerisationsinitiator und einen äthylenisch ungesättigten, additionspolymerisierbaren Ester einer «-Methylencarbonsäure mit einem Polyol, dessen Kohlenstoffkette durch Sauerstoffatome unterbrochen ist, enthält, als lichtempfindliche Schicht fotopolymerisierbarer Aufzeich-IO nungsmaterialien, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch als äthylenisch ungesättigten Ester einen Ester eines verzweigtkettigen, mehrwertigen Ätheralkohols mit wiederkehrenden Äthereinheiten enthält, der durch Kondensation von Äthylenoxyd oder Propylenoxyd mit 3- bis 6wertigen Alkoholen erhalten wurde und der Formel
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Families Citing this family (121)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3515552A (en) * | 1966-09-16 | 1970-06-02 | Minnesota Mining & Mfg | Light-sensitive imaging sheet and method of using |
BE757386A (fr) * | 1969-10-13 | 1971-04-13 | Du Pont | Procede de transfert double pour images photodurcissables |
CA977202A (en) * | 1970-08-03 | 1975-11-04 | Uniroyal | Photosensitive compositions |
US3965150A (en) * | 1970-12-18 | 1976-06-22 | General Electric Company | Polyether esters of alkenoic acids |
US3787212A (en) * | 1972-08-04 | 1974-01-22 | Monsanto Co | Polymeric photosensitive compositions and methods using same |
US4025348A (en) * | 1974-05-10 | 1977-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin compositions |
US4310615A (en) * | 1974-11-13 | 1982-01-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Image transfer element having release layer |
CA1037311A (en) * | 1974-11-13 | 1978-08-29 | Ronald S. Steelman | Image transfer element |
DE2660921C3 (de) * | 1975-11-17 | 1987-07-30 | E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. | Verfahren zur Herstellung von punktgeätzten Masken |
US4077858A (en) * | 1976-10-04 | 1978-03-07 | Celanese Corporation | Completely polymerized ultraviolet cured coatings |
DE2651507C3 (de) * | 1976-11-11 | 1981-09-10 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verwendung von Triacrylaten von oxäthyliertem Trimethylolpropan mit einem Oxäthylierungsgrad von 2,5 bis 4 als Verdünnungsmittel in strahlenhärtbaren Zusammensetzungen |
US4187382A (en) * | 1976-12-28 | 1980-02-05 | Union Carbide Corporation | Process for producing low color residue acrylate ester monomers |
US4187383A (en) * | 1976-12-28 | 1980-02-05 | Union Carbide Corporation | Process for producing low color residue acrylate esters |
US4226927A (en) * | 1978-05-10 | 1980-10-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photographic speed transfer element with oxidized polyethylene stripping layer |
US4254210A (en) * | 1978-05-11 | 1981-03-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Combined silver halide tonable photopolymer element to increase density |
US4201821A (en) * | 1978-12-22 | 1980-05-06 | Howard A. Fromson | Decorated anodized aluminum article |
US4308119A (en) * | 1979-02-21 | 1981-12-29 | Panelgraphic Corporation | Abrasion-resistant optical coating composition containing pentaerythritol based polyacrylates and cellulose esters |
US4262079A (en) * | 1979-04-26 | 1981-04-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Image transfer element |
DE2934486C2 (de) * | 1979-08-25 | 1986-09-25 | Fa. Carl Freudenberg, 6940 Weinheim | Verfahren zur Herstellung eines Werkstückes aus einem polymeren Werkstoff |
US4399192A (en) * | 1980-01-07 | 1983-08-16 | Panelographic Corporation | Radiation cured abrasion resistant coatings of pentaerythritol acrylates and cellulose esters on polymeric substrates |
US4407855A (en) * | 1980-01-07 | 1983-10-04 | Panelographic Corporation | Method for forming an abrasion resistant coating from cellulose ester and pentaerythritol acrylates |
US4373008A (en) * | 1980-01-30 | 1983-02-08 | Rohm And Haas Company | Ambient hydrocurable coating compositions |
US4284710A (en) * | 1980-05-01 | 1981-08-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers |
US4343888A (en) * | 1980-05-01 | 1982-08-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Use of radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers in printing plates |
US4414312A (en) * | 1980-09-03 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger |
US4369247A (en) * | 1980-09-03 | 1983-01-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process of producing relief structures using polyamide ester resins |
US4329419A (en) * | 1980-09-03 | 1982-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric heat resistant photopolymerizable composition for semiconductors and capacitors |
US4410612A (en) * | 1980-09-03 | 1983-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electrical device formed from polymeric heat resistant photopolymerizable composition |
US4373007A (en) * | 1980-11-03 | 1983-02-08 | Panelgraphic Corporation | [Non-photoinitialio] non-photocatalyzed dipentaerythritol polyacrylate based coating compositions exhibiting high abrasion resistance |
US4382135A (en) * | 1981-04-01 | 1983-05-03 | Diamond Shamrock Corporation | Radiation-hardenable diluents |
US4341860A (en) | 1981-06-08 | 1982-07-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging compositions containing substituted cyclohexadienone compounds |
US4417023A (en) * | 1982-01-21 | 1983-11-22 | Diamond Shamrock Corporation | Polysiloxane stabilizers for flatting agents in radiation hardenable compositions |
US4599274A (en) * | 1983-03-11 | 1986-07-08 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Photo-curable adhesive composition for glass lamination and laminated glass and process for its production |
US4592816A (en) | 1984-09-26 | 1986-06-03 | Rohm And Haas Company | Electrophoretic deposition process |
US4691045A (en) * | 1984-12-06 | 1987-09-01 | Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd. | Hydroxyl group-containing (meth)acrylate oligomer, prepolymer therefrom, and method for use thereof |
US4876384A (en) * | 1985-04-22 | 1989-10-24 | Diamond Shamrock Chemicals Co. | Radiation-hardenable diluents |
US4722947A (en) * | 1985-08-05 | 1988-02-02 | Pony Industries, Inc. | Production of radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers |
US4745138A (en) * | 1985-08-05 | 1988-05-17 | Pony Industries, Inc. | Radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers |
CA1292476C (en) * | 1985-11-13 | 1991-11-26 | Robert A. Lieberman | Radiation-hardenable diluents |
US5110889A (en) * | 1985-11-13 | 1992-05-05 | Diamond Shamrock Chemical Co. | Radiation hardenable compositions containing low viscosity diluents |
US4670512A (en) * | 1986-03-14 | 1987-06-02 | The Dow Chemical Company | Acrylic coating compositions and method therefor |
JPH0686493B2 (ja) * | 1986-07-04 | 1994-11-02 | サンノプコ株式会社 | 放射線交叉結合可能な組成物 |
DE3703080A1 (de) * | 1986-07-25 | 1988-01-28 | Bayer Ag | (meth)-acrylsaeureester |
CA1317313C (en) * | 1987-04-10 | 1993-05-04 | Hisaki Tanabe | Polymerizable vinyl monomers and vinyl resins prepared therefrom |
US4885229A (en) * | 1987-12-22 | 1989-12-05 | 501 Daicel Chemical Industries Ltd. | Photopolymerizable compositions |
JP2532302B2 (ja) * | 1990-11-07 | 1996-09-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
DE69131158T2 (de) * | 1990-11-22 | 1999-12-16 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Photoempfindliches Aufzeichnungsmedium enthaltendes Volumen-Phasenhologram und Verfahren zum Herstellen von einem Volumen-Phasenhologram mit diesem Medium |
WO1994003840A1 (en) * | 1992-07-31 | 1994-02-17 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method and product for particle mounting |
US5496589A (en) * | 1993-03-23 | 1996-03-05 | Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. | Curing composition and method for impregnating wood |
JP3084677B2 (ja) * | 1993-05-11 | 2000-09-04 | キヤノン株式会社 | スチリルクマリン化合物、光増感剤、感光性樹脂組成物、ホログラム記録媒体 |
DE4315831A1 (de) * | 1993-05-12 | 1994-11-17 | Basf Ag | Strahlungshärtbare, wäßrige Dispersion |
JP3085497B2 (ja) * | 1993-05-25 | 2000-09-11 | キヤノン株式会社 | ピラン誘導体、光増感剤、感光性樹脂組成物及びこの組成物を用いたホログラム記録媒体 |
US5436227A (en) * | 1993-05-27 | 1995-07-25 | Shell Oil Company | Soluble/insoluble alcohol in drilling fluid |
US5363918A (en) * | 1993-08-04 | 1994-11-15 | Shell Oil Company | Wellbore sealing with unsaturated monomer system |
JPH0867866A (ja) * | 1994-06-20 | 1996-03-12 | Canon Inc | 光重合剤及び/又は光架橋剤に対する可視光増感剤、感光性組成物及びホログラム記録媒体 |
US5557308A (en) | 1994-07-08 | 1996-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet print head photoresist layer having durable adhesion characteristics |
DE4432648A1 (de) | 1994-09-14 | 1996-03-21 | Bayer Ag | Tertiäre Amine, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Härtungsbeschleuniger |
US5580410A (en) * | 1994-12-14 | 1996-12-03 | Delta Technology, Inc. | Pre-conditioning a substrate for accelerated dispersed dye sublimation printing |
DE19535936A1 (de) * | 1995-09-27 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Acryliertes Polyetherpolyol und dessen Verwendung für strahlenhärtbare Formulierungen |
WO1999019369A2 (en) | 1997-10-16 | 1999-04-22 | Sun Chemical Corporation | PHOTONEUTRALIZATION OF pH SENSITIVE AQUEOUS POLYMERIC DISPERSIONS AND METHODS FOR USING SAME |
US6037014A (en) * | 1997-11-06 | 2000-03-14 | The Edgington Co. | Coating composition |
US6143120A (en) * | 1998-06-25 | 2000-11-07 | The Standard Register Company | Cellulose substrates with transparentized area and method of making |
US6103355A (en) * | 1998-06-25 | 2000-08-15 | The Standard Register Company | Cellulose substrates with transparentized area and method of making same |
EP0989172A1 (de) * | 1998-09-24 | 2000-03-29 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Kleber für metallische Folien, mit diesem Kleber überzogene metallische Folie, mit der metallischen Folie überzogene Schichtplatte und daraus hergestellte Erzeugnisse |
US6358596B1 (en) | 1999-04-27 | 2002-03-19 | The Standard Register Company | Multi-functional transparent secure marks |
JP4558178B2 (ja) * | 2000-11-30 | 2010-10-06 | 新日鐵化学株式会社 | 光又は熱硬化性樹脂組成物及びプリント配線基板 |
US6376148B1 (en) | 2001-01-17 | 2002-04-23 | Nanotek Instruments, Inc. | Layer manufacturing using electrostatic imaging and lamination |
US6607813B2 (en) | 2001-08-23 | 2003-08-19 | The Standard Register Company | Simulated security thread by cellulose transparentization |
US6911263B2 (en) * | 2002-01-30 | 2005-06-28 | Awi Licensing Company | PET wear layer/sol gel top coat layer composites |
DE10225943A1 (de) * | 2002-06-11 | 2004-01-08 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Estern von Polyalkoholen |
MXPA04012235A (es) * | 2002-06-11 | 2005-02-25 | Basf Ag | Esteres (met) acrilicos del trimetilolpropano polialcoxilado. |
DE50303213D1 (de) * | 2002-06-11 | 2006-06-08 | Basf Ag | (meth)acrylester von polyalkoxyliertem glycerin |
PL374428A1 (en) * | 2002-06-11 | 2005-10-17 | Basf Aktiengesellschaft | (meth)acrylic esters of polyalkoxylated trimethylolpropane |
EP1426426A1 (de) * | 2002-12-02 | 2004-06-09 | Rohm And Haas Company | Durch Strahlung härtbare Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Kaltsiegelklebstoffen |
CN102690595A (zh) | 2003-06-12 | 2012-09-26 | 瓦尔斯帕供应公司 | 含有反应性稀释剂的涂料组合物和方法 |
US7728068B2 (en) * | 2003-06-12 | 2010-06-01 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating compositions containing reactive diluents and methods |
FR2857662B1 (fr) * | 2003-07-15 | 2008-06-13 | Seppic Sa | Procede de preparation de polyethoxyles a partir de polyols solides a temperature ordinaire et composition mise en oeuvre |
US7105588B2 (en) * | 2003-10-10 | 2006-09-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Screen printable hydrogel for medical applications |
JP2005221743A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
US20050176246A1 (en) * | 2004-02-09 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
US7683107B2 (en) | 2004-02-09 | 2010-03-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet printable thick film compositions and processes |
US20050173680A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
US7135267B2 (en) * | 2004-08-06 | 2006-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods |
US7371335B2 (en) * | 2004-10-21 | 2008-05-13 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Curable thick film compositions for use in moisture control |
WO2006057875A1 (en) * | 2004-11-22 | 2006-06-01 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating composition and methods |
US8609762B2 (en) * | 2004-12-17 | 2013-12-17 | Valspar Sourcing, Inc. | Aqueous coating compositions containing acetoacetyl-functional polymers, coatings, and methods |
BRPI0518327A2 (pt) * | 2004-12-17 | 2008-11-11 | Valspar Sourcing Inc | composiÇço de revestimento, mÉtodo para revestir um substrato, revestimento sobre um substrato, e, mÉtodo para revestir uma superfÍcie de substrato |
US20060154180A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Kannurpatti Anandkumar R | Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element |
EP1691237A3 (de) | 2005-02-15 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Holographisches Aufzeichnungsmaterial und holographisches Aufzeichnungsverfahren |
US7569165B2 (en) * | 2005-03-09 | 2009-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
JP2007012371A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | 導電組成物およびプラズマディスプレイの背面基板の製造方法 |
US7291292B2 (en) * | 2005-08-26 | 2007-11-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of silver particles using thermomorphic polymers |
US20070059459A1 (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-15 | Haixin Yang | Ink jet printable hydrogel for sensor electrode applications |
WO2007059516A1 (en) | 2005-11-15 | 2007-05-24 | Valspar Sourcing, Inc. | Crush resistant latex topcoat composition for fiber cement substrates |
US7666328B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film conductor composition(s) and processing technology thereof for use in multilayer electronic circuits and devices |
EP1979426A1 (de) * | 2006-01-31 | 2008-10-15 | Valspar Sourcing, Inc. | Beschichtungssystem für zementverbundartikel |
US9783622B2 (en) * | 2006-01-31 | 2017-10-10 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Coating system for cement composite articles |
AU2007211045B2 (en) * | 2006-01-31 | 2012-03-08 | Valspar Holdings I, Inc | Coating system for cement composite articles |
AU2007211046B2 (en) * | 2006-01-31 | 2011-09-01 | Valspar Sourcing, Inc. | Method for coating a cement fiberboard article |
US7645564B2 (en) * | 2006-03-03 | 2010-01-12 | Haixin Yang | Polymer solutions, aqueous developable thick film compositions, processes of making and electrodes formed thereof |
CA2653048C (en) * | 2006-05-19 | 2014-12-09 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating system for cement composite articles |
DE602007012700D1 (de) | 2006-06-02 | 2011-04-07 | Valspar Sourcing Inc | Wässrige hochleistungsbeschichtungszusammensetzungen |
US7812090B2 (en) * | 2006-06-02 | 2010-10-12 | Valspar Sourcing, Inc. | High performance aqueous coating compositions |
EP2043967B1 (de) | 2006-07-07 | 2018-07-04 | Valspar Sourcing, Inc. | Beschichtungssysteme für zementverbundartikel |
US7527915B2 (en) * | 2006-07-19 | 2009-05-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame retardant multi-layer photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto |
MX2008002220A (es) * | 2007-02-16 | 2009-02-25 | Valspar Sourcing Inc | Tratamiento para articulos compuestos de cemento. |
EP2183200A1 (de) * | 2007-08-01 | 2010-05-12 | Valspar Sourcing, Inc. | Beschichtungssystem für zementverbundartikel |
US8470518B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-06-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element |
WO2009067788A1 (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Southbourne Investments Ltd. | Holographic recording medium |
WO2009143094A2 (en) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Co-processable photoimageable silver and carbon nanotube compositions and method for field emission devices |
BRPI0917455B1 (pt) * | 2008-08-15 | 2018-11-21 | Valspar Sourcing Inc | composição de revestimento, método para preparar um artigo revestido, e, artigo revestido |
US8465904B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-06-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element |
WO2010060109A1 (en) | 2008-11-24 | 2010-05-27 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating system for cement composite articles |
US9132364B2 (en) * | 2010-02-26 | 2015-09-15 | Dionex Corporation | High capacity ion chromatography stationary phases and method of forming |
US9034447B2 (en) | 2011-03-11 | 2015-05-19 | Dionex Corporation | Electrostatically bound hyperbranched anion exchange surface coating prepared via condensation polymerization using ditertiary amine linkers for improved divalent anion selectivity |
US20130105440A1 (en) | 2011-11-01 | 2013-05-02 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Nanocomposite negative photosensitive composition and use thereof |
MX2015004636A (es) * | 2012-10-12 | 2015-10-22 | Lilly Co Eli | Motores químicos y métodos para su uso, especialmente en la inyección de fluidos altamente viscosos. |
EP3035122B1 (de) | 2014-12-16 | 2019-03-20 | ATOTECH Deutschland GmbH | Verfahren zur Feinleiterherstellung |
US11925790B2 (en) | 2017-02-17 | 2024-03-12 | Eli Lilly And Company | Processes and devices for delivery of fluid by chemical reaction |
FR3067929B1 (fr) * | 2017-06-23 | 2019-11-22 | Produits Dentaires Pierre Rolland | Adhesif dentaire |
AU2018329639B2 (en) | 2017-09-08 | 2020-10-29 | Eli Lilly And Company | System for controlling gas generation within a drug delivery device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2755303A (en) * | 1952-04-12 | 1956-07-17 | Bayer Ag | Polymerizable esters |
US2996538A (en) * | 1957-11-25 | 1961-08-15 | Dow Chemical Co | Preparation of monomeric polyglycol acrylate and methacrylate esters |
NL132290C (de) * | 1959-09-11 | |||
US3041371A (en) * | 1959-11-03 | 1962-06-26 | Union Carbide Corp | Production of acrylic and methacrylic esters of polyoxyalkylene compounds |
US3261686A (en) * | 1963-04-23 | 1966-07-19 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements |
-
1964
- 1964-05-26 US US370338A patent/US3380831A/en not_active Expired - Lifetime
-
1965
- 1965-04-26 GB GB17533/65A patent/GB1055198A/en not_active Expired
- 1965-05-22 DE DE1965P0036875 patent/DE1284293C2/de not_active Expired
- 1965-05-25 BE BE664445D patent/BE664445A/xx unknown
- 1965-05-25 FR FR18403A patent/FR1444298A/fr not_active Expired
-
1967
- 1967-12-11 US US689320A patent/US3594410A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3380831A (en) | 1968-04-30 |
BE664445A (de) | 1965-11-25 |
FR1444298A (fr) | 1966-07-01 |
DE1284293B (de) | 1968-11-28 |
GB1055198A (en) | 1967-01-18 |
US3594410A (en) | 1971-07-20 |
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