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Lithografische Flachdruckplatte Lithografische Flachdruckplatten bestehen
aus einem Träger, z. B. einer Metallfolie oder Papierblatt, auf der eine Oberflächenschicht
angeordnet ist, die farbabstoßend, wasseraufnehmend und wasserunlöslich ist. Durch
Umwandlung bestimmter einem Muster entsprechender Teile in eine farbaufnehmende,
wasserabstoßende Form erhält man die für den Flachdruck geeignete Druckplatte.
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Die erfindungsgemäße Flachdruckplatte ist gekennzeichnet durch einen
Überzug auf der Oberflächenschicht der ein wasserlösliches Metallsalz enthält, das
reduzierbar ist und wasserunlösliche, wasserabstoßende und farbaufnehmende Druckbildstellen
zu bilden vermag. Die so aufgebaute bemusterbare lithografische Platte ist einfach
in der Konstruktion und leicht in der Handhabung. Sie ist aus billigem und leicht
erhältlichem Material hergestellt, die in einer einfachen wirksamen Weise produzierbar
ist, die stabil ist und deshalb Stabilität und gute Lebensdauer besitzt und verwendet
werden kann, um eine große Anzahl an guten und lesbaren Kopien nach üblichen lithografischen
Vervielfältigungsverfahren herzustellen. Sie kann bemustert bzw. bebildert werden,
ohne besonderes Material oder Vorrichtungen, wie besondere Farbbänder, Stifte, Tinte
u. dgl., und kann im Zusammenhang mit licht- oder hitzeempfindlichem Material verwendet
werden, um ein Bemustern entsprechend der vorgelegten Originale zu gewährleisten.
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Dies und andere Vorteile der Erfindung sind im folgenden an Hand einer
Ausführungsform der Erfindung in den Zeichnungen erläutert, worin F i g. 1 eine
perspektivische Ansicht, teilweise im Schnitt, einer lithografischen Platte mit
den erfindungsgemäßen Merkmalen, F i g.2 eine Perspektive, teilweise im Schnitt,
einer Modifikation der erfindungsgemäßen lithografischen Platte, F i g. 3 eine teilweise
erhabene Ansicht eines Zusammenbaus der Platte nach F i g.1 und eines Übertragungsblattes
zum Bemustern der lithografischen Platte, F i g. 4 eine teilweise erhabene Ansicht
einer Modifikation in der Anordnung der Elemente zur Herstellung einer bemusterten
Platte von einem Original nach einem thermografischen Verfahren, F i g. 5 eine teilweise
erhabene Ansicht einer Modifikation zum Bemustern einer Platte nach der erfindungsgemäßen
Verfahrensweise unter Anwendung der Maßnahmen des USA.-Patents 3 094 417, F i g.
6 eine Perspektive, teilweise im Schnitt, einer bemusterten Platte, die erfindungsgemäß
hergestellt worden ist, und F i g. 7 eine perspektivische Ansicht, teilweise im
Schnitt, einer Anordnung von Elementen zur Herstellung einer bebilderten lithografischen
Platte ist.
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Die erfindungsgemäßen Ideen liegen, kurz gesagt, in der Verwendung
einer lithografischen Platte mit einer wasseraufnehmenden, farbabstoßenden, hydrophilen
lithografischen Oberfläche, die überzogen ist mit einem wasserlöslichen Salz eines
Metalls, das zu einem wasserunlöslichen, wasserabstoßenden, oleophilen, farbaufnehmenden
Material reduzierbar ist, auf die Umsetzung mit einem Reduktionsmittel hin. Das
Metallsalz kann als ein Oxydationsmittel wirken, oder vorzugsweise kann es ein Salz,
kombiniert mit einem Oxydationsmittel, sein, und die Oxydations-Reduktions-Reaktion
kann nach Berührung zwischen dem Metallsalz (oder dem Metallsalz und Oxydationsmittel)
und dem Reduktionsmittel durchgeführt werden, wobei Aktivierung durch Hitze im allgemeinen
notwendig ist.
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Als lithografische Platte mit einer lithografischen Oberfläche, auf
die der Überzug des Metallsalzes aufgebracht ist, kann ein dünnes flexibles Blatt
10 eines Metalls, wie Aluminium, Zinn oder Kupfer, verwendet werden, dessen Oberfläche
wasseraufnehmend, farbabstoßend und hydrophil gemacht werden kann durch Behandlung,
wie durch Silizieren, Anodisieren, Phosphatieren u. dgl., wie im Falle einer Aluminiumplatte,
oder es kann eine beschichtete lithografische Papierplatte verwendet werden, wie
ein
Basispapier 12 mit einem Gesamtüberzug 14 aus einem Füllstoff und einem hydrophilen,
wasserunlöslichen Kolloid, wie Stärke, Carboxymethylcellulose, Casein, Zinkpolyacrylat,
Alginat u. dgl.
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Als wasserlösliches Salz eines Metalles, das reduzierbar ist zu einem
oleophilen Bemusterungsmaterial, können die Salze von Metallen wie Kupfer und Eisen
[Eisen(III)] usw. verwendet werden in Form des korrespondierenden Oxalats, Sulfats,
Nitrats, Gluconats u. dgl., vertreten durch Eisen(III)-ammoniumoxalat, Kupfer(II)=sulfat,
Kupfer(II)-gluconat, Eisen(III)-sulfat, Kupfernitrat u. dgl. Ein geeigneter Überzug
16 des Metallsalzes kann auf der lithografischen Oberfläche durch Aufbringen des
Salzes aus Lösungen hergestellt werden, in denen das Salz in einer Menge vorliegt
im Bereich von 1 bis 10 Gewichtsprozent und vorzugsweise 2 bis 5 Gewichtsprozent.
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Als Oxydationsmittel, das verwendet werden kann in Kombination mit
dem Metallsalz, können ein Dichromat, Permänganat und organische oder anorganische
Peroxyde verwendet werden, wie z. B. Kaliumdichromat, Benzoylperoxyd u. dgl.
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Die Verwendung eines Oxydationsmittels ist ausreichend, wenn es in
einer Menge im Bereich von 0,5 bis 5 Gewichtsprozent und vorzugsweise ungefähr 2
bis 4 Gewichtsprozent in Lösung allein oder in Kombination mit dem Metallsalz vorliegt.
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Als Reduktionsmittel können organische Reduktionsmittel verwendet
werden, wie 1-Naphthol, 4-Methoxy-l-naphthol, 2,6-Ditertiärbutylhydrochinon und
Tertiärbutylhydrochinon und 2,5-Ditertiärbutylhydrochinon. Geeignete Mengen des
Reduktionsmittels können aus Lösungen aufgebracht werden, indem das Reduktionsmittel
in einer Menge im Bereich von 0,001- bis 0,lmolar vorliegt.
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Ist das Metallsalz ein oxydierendes Salz, so kann ,es aufgebracht
werden ohne ein Oxydationsmittel als Überzug 16 auf der lithografischen Oberfläche.
Wird das Oxydationsmittel, wie es in bevorzugter Weise geschieht, in Kombination
mit einem Metallsalz aufgebracht, so kann das Oxydationsmittel mit dem Metallsalz
in einer Masse -zusammengemischt werden, um den Überzug 16 mit dem Metallsalz und
Oxydationsmittel zu geben, oder das Oxydationsmittel kann als ein getrennter Überzug
18 auf oder unter dem Überzug 16, den das Metallsalz enthält, niedergeschlagen
werden, wie es in F i g. 2 der Zeichnung aufgezeigt ist.
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Die Überzugsgewichte des Metallsalzes und der Oxydationsmittel sind
nicht kritisch, da es ausreicht, wenn eine geringe Menge oder eine große Menge des
Metallsalzes in dem Überzug für die Reduktion zur Bildherstellung vorliegt und wenn
genügend Oxydationsmittel vorhanden ist, um mit dem Reduktionsmittel zu reagieren,
zur Reduktion mindestens eines Teiles des Metallsalzes. Geeignete Mengen zur Durchführung
der Erfindung werden abgelagert, wenn die Elemente in den oben beschriebenen Mengen
in den entsprechenden Lösungen vorliegen.
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Bei der Verwendung der Platte kann das Reduktionsmittel direkt auf
die Oberfläche des Überzugs 16 aufgeschrieben werden, wie etwa durch eine flüssige
Tinte mit dem Reduktionsmittel, oder es kann aufgeschrieben werden mit einem Stift
oder einem Zeichenstift, die das Reduktionsmittel enthalten, oder durch Übertragung
von einem Kohlepapier oder Band in Oberflächenberührung mit dem Überzug 16 oder
durch eine übliche Schreibmaschine, Matrizenübertragung, Griffeltechnik (stylus
techniques) oder thermographische Arbeitsweisen unter Verwendung eines Originals
30, in dem das Bild erzeugt ist von einem lichtempfindlichen oder infrarotabsorbierenden,
Hitze entwickelnden Material und wobei ein Übertragungsblatt 32 mit einem Reduktionsmittel
verwendet wird, das ein Wärmemuster auf den Überzug 16 auf Grund der Wärme von einer
Infrarotbestrahlung des Originals, wie durch eine Lampe 34, überträgt. Das Reduktionsmittel
kann eines sein, das auf Licht durch ein durchsichtiges Original oder Negativ anspricht.
Im letzteren Falle kann das Reduktionsmittel als ein Überzug in einem gesonderten
Übertragungsblatt 32 oder als ein Überzug vorliegen, wie Überzugsschicht oder die
Schicht 16 mit dem reduzierbaren Metallsalz.
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Das folgende erläutert Massen, die geeignet sind zur Verwendung und
Bildung der Schicht 16 auf der lithografischen Oberfläche einer Lithoplatte: Beispiel
1 5 Gewichtsprozent Kupfernitrat, 95 Gewichtsprozent Wasser. _ Beispiel2 . 4 Gewichtsprozent
Kupfersulfat, 96 Gewichtsprozent Wasser. Beispiel 3 2 Gewichtsprozent Kupfersulfat,
2 Gewichtsprozent Kupfergluconat, 2 Gewichtsprozent Eisen(III)-sulfat, 94 Gewichtsprozent
Wasser.
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Beispiel4 2 Gewichtsprozent Kupfersulfat, 2 Gewichtsprozent Kaliumdichromat,
96 Gewichtsprozent Wasser. Beispiels 2 Gewichtsprozent Kupfersulfat, 2 Gewichtsprozent
Benzoylperoxyd, 48 Gewichtsprozent Wasser, 48 Gewichtsprozent Äthylalkohol. Beispiel
6 1,6 Gewichtsprozent Kaliumdichromat, 0,4 Gewichtsprozent Eisen(III)-ammoniumoxalat,
98,0 Gewichtsprozent Wasser. Im Beispiel s wird das Benzoylperoxyd in dem Äthylalkohol
gelöst und Kupfersulfat in dem Wasser und dann die beiden Phasen vereinigt.
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Die Lösungen können auf die lithografische Oberfläche mit den üblichen
Überzugstechniken aufgebracht werden, wie durch Walzenauftrag, Sprühen, Fließen,
Bürsten, Eintauchen u. dgl., gefolgt vom Trocknen in der Luft oder in einem Trockenluftofen.
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In F i g. 1 wird eine lithografische Platte in Form eines Papierbasisblattes
12 mit einer lithografischen Schicht 14 eines mit Füllstoff versehenen Caseins,
Alginats, Carboxymethyleellulose, Stärke oder Zinkpolyacrylat beschrieben, um eine
wasserunlösliche, wasseraufnehmende, farbabstoßende, hydrophile lithografische Oberfläche
zu geben, die überzogen ist mit einer Schicht 16, die das Metallsalz allein oder
in
Kombination mit einem Oxydationsmittel enthält, aufgebracht aus
einer Masse, wie sie durch die Beispiele 1 bis 5 dargestellt wird.
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In F i g. 2 wird eine erfindungsgemäß hergestellte Lithoplatte erläutert,
wobei das Basisblatt 10 eine Aluminiumfolie darstellt, die an der oberen Oberfläche
siliziert oder anodisiert ist, um so eine wasserbenetzbare, farbabstoßende, hydrophile
lithografische Oberfläche zu ergeben, mit einer ersten Schicht 16 eines Metallsalzes
aus einer der Massen der Beispiele 1, 2 oder 3 und einem zweiten Überzug
18 eines Oxydationsmittels, aufgebracht aus einer wäßrigen oder Lösungsmittel-Lösung
mit 1 bis 5 Gewichtsprozent des Oxydationsmittels, wie Benzoylperoxyd, Kaliumpermanganat
u. dgl.
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Verwendet wird eine verdünnte Lösung (0,001molar) eines Reduktionsmittels
in (4-Methoxy-l-naphthol) als Schreibmaterial, aufgebracht mit einer Tintenfeder
oder einem anderen Schreibgerät, zum Aufschreiben des Bildes auf der Schicht 16.
Danach wird der bemusterte Druckstock durch eine Heizzone vorgetrieben, wie zwischen
erhitzten Walzen, oder sonstwie erhitzt, um die Oxydations-Reduktions-Reaktion in
den bemusterten Teilen in Gang zu bringen, zur Reduktion des Metallsalzes zu einem
wasserunlöslichen, farbaufnehmenden Bild auf der lithografischen Oberfläche. Dies
ergibt eine bemusterte Platte, die als eine bemusterte Platte aufgebracht werden
kann auf einem Zylinder einer lithografischen Presse zur Herstellung vieler Kopien
durch Anfeuchten der Oberfläche mit einer abstoßenden und oleophilen Farbmasse.
Das wäßrige, abstoßende Mittel feuchtet die nichtbemusterten Teile an, um die farbaufnehmenden,
bemusterten Teile zur Anfeuchtung durch die Farbmasse für die Vielfach-Kopienherstellung
zu belassen. Die Teile des Überzugs 16 in den nichtbemusterten Bereichen werden
wasserlöslich bleiben zur Entfernung, z. B. durch einen Schwamm od. dgl. oder durch
das Wasser des wäßrigen, abstoßenden Mittels und der Ätzlösung, die während der
lithografischen Vervielfältigung aufgebracht wird. Statt dessen kann, wie in F i
g. 3 erläutert, das Reduktionsmittel über ein getrenntes Übertragungsblatt 32 eingeführt
werden, wie durch Beschichten oder Imprägnieren eines Papierbasisblattes, wie Pergamentpapier,
eines Papierbasisgewebes oder eines Schreibbandes mit einer verdünnten Lösung, wie
0,001- bis 0,lmolar an 1-Naphthol, 4-Methoxy-l-naphthol, 2,6-Ditertiärbutylhydrochinon
u. dgl. Danach kann das Übertragungsmedium in der Form des Blattes 32 oder des Schreibbandes
in Oberflächenberührung mit der Schicht 16 gebracht und ein Druck ausgeübt werden,
z. B. durch eine Taste, einen Stift, eine Schreibfeder, eine Form od. dgl. Etwas
Reduktionsmittel wird von dem Blatt 32 auf die Schicht 16 übertragen, wo es anschließend
erhitzt wird, wie durch Vortreiben des Blattes zwischen erhitzten Walzen od. dgl.,
und die Oxydations-Reduktions-Reaktion zur Bildentwicklung, wie oben beschrieben,
in Gang gebracht wird. Wiederum sind nichtbemusterte Teile des Überzugs 16 durch
Wasser entfernbar, bevor die Platte auf die Presse montiert wird, oder auch danach,
z. B. durch Abwischen oder durch ein abstoßendes Mittel, mit dem die Platte bei
der Verwendung angefeuchtet wird.
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Ist das Reduktionsmittel in einem Übertragungsmedium enthalten, so
kann die Bildentwicklung direkt von einem Original durchgeführt werden, wenn das
Original mit einem Infrarot absorbierenden, Wärme entwickelnden Material versehen
ist. Zu diesem Zweck werden, wie in F i g. 4 illustriert, die Elemente, nämlich
die beschichtete lithografische Platte 10 und 16.
das Übertragungsblatt
32 und das Original 30 zusammengebracht und mit einer Infrarotlampe bestrahlt. Die
Strahlungen 36 werden durch die Infrarot absorbierenden Teile des Originals absorbiert,
um ein Wärmemuster zu entwickeln, das auf das Obertragungsmedium übertragen wird,
um die Verschiebung des Reduktionsmittels von den entsprechenden Teilen des Übertragungsmediums
auf die Schicht 16 zu bewirken. Die aus dem Wärmemuster zur Verfügung stehende Wärme
wird im allgemeinen ausreichen, um gleichzeitig die Oxydations-Reduktions-Reaktion
für die Bildentwicklung in Gang zu bringen, oder die Platte kann getrennt erhitzt
werden, um die Reaktion durchzuführen oder zu beendigen. Danach kann der Teil der
Schicht 16 auf den nichtbemusterten Teilen der Platte durch ein wäßriges Medium
in Form von Wasserwäsche oder Wischen entfernt werden.
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In F i g. 7 wird eine Platte mit mehreren Schichten erläutert, einschließlich
der Basisschicht 12 mit einem lithografischen Überzug 14 und der Schicht 16 mit
dem Metallsalz mit oder ohne Oxydationsmittel. Die Schicht 20 ist eine gesonderte
Schicht mit einem lichtempfindlichen oder wärmeempfindlichen Reduktionsmittel.
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Beim Bemustern der Platte wird die Platte mit dem lichtempfindlichen
Reduktionsmittel direkt oder indirekt Licht ausgesetzt durch ein durchsichtiges
Original oder Negativ, um das Freisetzen des Reduktionsmittels in den belichteten
Teilen zur Bildentwicklung zu bewirken.
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F i g. 5 stellt eine Platte dar, die die erfindungsgemäßen Merkmale
besitzt, wo jedoch das Reduktionsmittel nur in dem bemusterten Teil, entsprechend
dem Verfahren der Lichtdesaktivierung in den nichtbemusterten Teilen nach USA.-Patent
3 094 417 zugänglich gemacht wird. Die Platte besteht aus einem üblichen Basisblatt
12 mit einer lithografischen Oberfläche 14, überzogen mit einer Schicht 16, die
das reduzierbare Metall allein oder in Kombination mit einem Oxydationsmittel enthält,
wie oben beschrieben.
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Eine besondere Schicht 40, entweder in einem Übertragungsblatt oder
in der Gesamtschicht auf der Metallsalzschicht 16, wird hergestellt, um ein Reduktionsmittel
zu enthalten, das nach der Belichtung desaktiviert wird. Bei der Durchführung der
Erfindung kann 4-Methoxy-l-naphthol verwendet werden, das nach Belichtung durch
ein durchsichtiges Positiv oder Negativ oder durch Reflexbelichtung bewirkt, daß
das Reduktionsmittel in den belichteten Teilen desaktiviert wird und demnach unfähig
ist, als Reduktionsmittel zu wirken. Das in den nichtbelichteten Teilen nicht umgesetzte
Mittel kann veranlaßt werden, um auf Wärme oder Wärme und Druck hin zu reagieren
zwecks Reduzierung des Metallsalzes in der Schicht 16 zur Bildentwicklung. Die Verwendung
eines fotoreduzierbaren Farbstoffes in der Schicht 40 wird es ermöglichen, die Belichtung
im sichtbaren wie ebenso in unsichtbarem violettem Licht durchzuführen.
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Aus dem obigen ist klar, daß ein neuer Vervielfältigungsdruckstock
und ein Verfahren zum Bebildern desselben geliefert wird, wobei eine große Flexibilität
bei der Herstellung der Platte und deren Verwendung vorhanden ist.
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Es ist klar, daß Änderungen der Einzelheiten der Massen, der Anwendung
und der Verwendungsmethoden
ohne Abweichungen vom Erfindungsgedanken
vorgenommen werden können.