DE1227560B - Verfahren zum elektrolytischen AEtzen von Elektroden aus Schwermetall fuer Elektrolyt-kondensatoren - Google Patents
Verfahren zum elektrolytischen AEtzen von Elektroden aus Schwermetall fuer Elektrolyt-kondensatorenInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
Int. α.:
HOIg
Deutsche Kl.: 21 g -10/03
Nummer: 1227 560
Aktenzeichen: S 79212 VIII c/21 g
Anmeldetag: 27. April 1962
Auslegetag: 27. Oktober 1966
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum elektrolytischen Ätzen von Elektroden aus Schwermetall,
wie Niob oder insbesondere Tantal, bei dem die Elektroden zwecks Rauhung als Anode in einer
Lösung geschaltet werden, die ein organisches Lösungsmittel und einen geringen Anteil Wasser enthält
und frei von Halogenionen ist.
In der Technik finden mehrere Verfahren Anwendung, um die Oberfläche von Körpern aus Schwermetall,
wie Tantal oder Niob, für deren Verwendung als Elektroden in Elektrolytkondensatoren zu vergrößern.
Insbesondere Tantalelektroden gewinnen wegen der großen chemischen Beständigkeit und
wegen der hohen Dielektrizitätskonstante der als Dielektrikum wirkenden Tantaloxydschicht, die als
dünner Überzug auf der Tantalelektrode erzeugt wird, immer mehr Bedeutung. Da die elektrische Kapazität
eines Elektrolytkondensators proportional von der Fläche seiner als Dielektrikum wirkenden Oxydschicht
abhängt und in der Technik Kondensatoren erwünscht sind, die bei kleinem Volumen eine möglichst
große Kapazität aufweisen, wird bei der Herstellung von Elektrodenmaterial darauf geachtet, pro
Gewichts- oder Volumeinheit eine große wirksame Oberfläche zu erzielen.
Für die Vergrößerung der Oberfläche von als Elektroden verwendeten Metallen sind verschiedene Verfahren
bekannt. Bei Tantal oder Niob ergibt sich jedoch die Schwierigkeit, daß die Metalle äußerst inert
sind gegen chemische Angriffe, so daß die bei anderen Metallen üblichen chemischen Methoden
zum Ätzen oder Aufrauhen für Tantal oder Niob nicht geeignet sind; mit den bei anderen Metallen gebräuchlichen
Verfahren erreicht man bei Tantal oder Niob höchstens eine ganz geringe Aufrauhung; eher
aber wird noch eine glättende Wirkung ausgeübt, was die wirksame Oberfläche natürlich verkleinert. Für
die Oberflächenvergrößerung von Tantal- oder Niobkörpern erweisen sich elektrochemische Verfahren
als geeignet.
So ist es beispielsweise bekannt, das anodisch geschaltete Tantal durch einen Elektrolyten, bestehend
aus Formamid, einem geringen Prozentsatz Wasser und einem formamidlöslichen anorganischen Salz,
beispielsweise einem Halogenid, aufzurauhen.
Weiterhin ist es bekannt, Tantal für die Herstellung von Elektroden für Elektrolytkondensatoren dadurch
aufzurauhen, daß es in einem Elektrolyten als Anode geschaltet wird, der aus einer in einem organischen
Lösungsmittel gelösten organischen Halogenverbindung besteht, »die sich unter Chlorionenbildung
zersetzt, wenn sie in gelöstem Zustand einem
Verfahren zum elektrolytischen Ätzen von
Elektroden aus Schwermetall für Elektrolytkondensatoren
Elektroden aus Schwermetall für Elektrolytkondensatoren
Anmelder:
Siemens &Halske Aktiengesellschaft,
Berlin und München,
München 2, Wittelsbacherplatz 2
Als Erfinder benannt:
Dr. Walter Huber, Landshut
elektrischen Potential unterworfen wird«. Beispielsweise ist angegeben, Trichloressigsäure und/oder
Salze dieser Säure, insbesondere das Natriumsalz, in
ao methanolischer Lösung zu verwenden. Der Elektrolyt
soll entweder wasserfrei sein oder kann bis zu 10% Wasser enthalten. Die Ätzung des Tantals erfolgt
hierbei durch die »Chlorionen der Trichloressigsäure«.
Außerdem ist es bekannt, zum elektrolytischen Ätzen von Tantal das Tantal als Anode in einer
Elektrolytlösung anzuordnen, bestehend aus a) einem mindestens 6,5 Gewichtsprozent Methanol enthaltenden
Lösungsmittel, b) einer Spur Wasser und
c) einem methanollöslichen, darin gelösten anorganischen Salz, und zwar zweckmäßig einem Ammoniumfluorid,
wobei das Salz in einer solchen Menge zugegen ist, daß ein Stromdurchgang zwischen
der Kathode und der Anode ermöglicht wird. An Stelle von Ammoniumfluorid können beispielsweise
Bleifluorid, Calciumfluorid, Kupferfluorid, Nickelchlorid, Ammoniumrhodanid, Kupfernitrat od. dgl.
angewendet werden.
Bei den der Erfindung zugrunde liegenden Untersuchungen wurde jedoch festgestellt, daß die bekannten
Bäder, die Trichloressigsäure und/oder deren Salze enthalten, bei Stromdurchgang zu
mancherlei Nebenreaktionen und vor allem zu Zerfall neigen. Außerdem wurde festgestellt, daß in den
Ätzbädern vorhandene Schwermetallionen sich in den meisten Fällen nicht mehr völlig von den Elektrodenkörpern
entfernen lassen. Sie führen daher zu schlecht formierbaren Elektroden. Noch nachteiliger
wirken sich in dieser Hinsicht Halogenionen aus.
Gemäß der Erfindung werden diese Nachteile vermieden, indem vorgeschlagen wird, daß das Ätzen in
einer Lösung vorgenommen wird, dte neben dem an-
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organischen Lösungsmittel und dem geringen Anteil Wasser eine organische, Halogenionen nicht abspaltende
Säure und/oder deren Alkali- oder Ammoniumsalze enthält. Die Lösungen verhalten sich sehr
stabil.
Während bei den bisher bekanntgewordenen elektrochemischen Aufrauhverfahren für Tantal Halogenionen,
Pseudohalogenionen (wie SCN~, OCN~) oder
Trichloracetationen die Aufrauhung bewirken (wobei letztere im Sinne einer die eigentlich wirksamen Chlorionen
abspaltenden Substanz eingesetzt wird), wird mit Anionen organischer Säuren, die kein Halogen
enthalten und auch keine Pseudohalogenionen liefern können, eine wirksame Aufrauhung von
Tantal erzielt. Die Auswahl an Mitteln, mit denen eine günstige Vergrößerung der Oberfläche von für
Elektroden in Elektrolytkondensatoren bestimmten Tantal- oder Niobkörpern erzielt werden kann, wird
dadurch beträchtlich erhöht. Die Formierbarkeit der aufgerauhten Elektrodenkörper wird durch eventuell
den Elektroden anhaftende geringe Reste des Aufrauhbades bei dem erfindungsgemäßen Verfahren
nicht verschlechtert.
Bei den der Erfindung zugrunde liegenden Untersuchungen,
wobei als Anode geschaltetes Schwermetall, wie Tantal oder Niob, in einem Elektrolyten
geätzt wurde, der halogenfreie organische Säuren und/oder deren Salze, beispielsweise das Natriumsalz,
in Methanollösung enthielt, wurden immer überraschend hohe Aufrauhgrade erzielt. Als organische
Säuren können unter anderem vor allem Fumarsäure, Camphersäure, Benzoesäure, Salizylsäure, Gentisinsäure,
Terephthalsäure, vorzugsweise Phthalsäure, verwendet werden.
Die Reaktion kann man sich, am Beispiel von Tantal erläutert, folgendermaßen vorstellen: Das
Anion der organischen Säure wandert zur Anode und wird entladen:
-COO
-COOH
-COOH
Diese Enladung vollzieht sich nur an den Stellen der Tantalanode, wo die (stets vorhandene) Oxydhaut
Fehler (Löcher) hat oder besonders dünn ist, so daß das organische Säureanion zum blanken Metall
vordringen und dort entladen werden kann. Das aus dem Anion durch Entladung entstandenen Radikal
ist instabil. Es zerfällt unter Bildung von CO2 in ein anderes Radikal, das einem freien Halogenatom vergleichbar
ist.
coo
COOH
• (einsames Elektron)
COOH + CO2
COOH + CO2
Diese Radikale reagieren mit den Tantalatomen der Ta-Anode unter Bildung einer in Methanol löslichen
metallorganischen Tantalverbindung. Auf diese Weise wird das Tantal dort aufgelöst, wo
Phthalsäureanionen in größerer Menge entladen werden und somit eine genügend hohe Radikalkonzentration
entsteht.
(Aus der metallorganischen Tantalverbindung entsteht
dann in der Lösung durch Reaktion mit dem Wasser Tantaloxydhydrat, welches als Niederschlag
ausfällt.)
Gleichzeitig verläuft die Reaktion der Tantaloxydbildung (Formierprozeß) bei der Entladung der aus
dem Wasser stammenden OH~-Ionen. Im Gegensatz zur Auflösung des Tantals bei der Entladung der
Phthalsäureanionen erfolgt der Formierprozeß überall, sofern nur die Dicke der schon vorhandenen
Oxydhaut noch kleiner ist als der bestehenden Spannung Anode/Lösung und der Zusammensetzung der
Lösung (Wassergehalt) entspricht. Ist kein Wasser vorhanden, kann sich auch keine schützende Oxydhaut
bilden. Es erfolgt dann eine gleichmäßige Abtragung des Tantals ohne' Vergrößerung der Oberfläche.
Bei der erfindungsgemäßen Verwendung von beispielsweise Phthalsäure als ätzendem Agens, wobei
an Stelle der Säure auch die Alkalisalze oder das Ammoniumsalz eingesetzt werden können, lassen
sich besonders gut reproduzierbare Aufrauhgrade erhalten. Hier ist die Erzielung eines guten Aufrauhgrades
nicht an die strikte Einhaltung einer bestimmten Konzentration und bestimmter Ätzbedingungen
gebunden.
Als organische Lösungsmittel können z. B. einwertige Alkohole, Glykol, Amide, Amine, Nitrobenzol
usw., insbesondere Methylalkohol verwendet werden. In diesen Lösungsmitteln, die eine hohe
Dielektrizitätskonstante aufweisen, können die gelösten organischen Säuren bzw. deren Salze genügend
dissoziieren, so daß eine angemessene Leitfähigkeit des Elektrolyten gewährleistet ist. Außerdem ist ein
gewisser Prozentsatz Wasser im Elektrolyten erforderlich, wie nach der dargestellten Theorie verständlich
wird. Der Wassergehalt muß jedoch so eingeregelt werden, daß die besten Aufrauhgrade erzielt
werden; ein zu großer Prozentsatz Wasser im Elektrolyten würde nämlich die Oxydbildung, d. h. die Formierung
begünstigen, die die Primärreaktion der Aufrauhung darstellt. Wenn aber die Formierung infolge
Wasserüberschuß zu sehr begünstigt ist, kann die Entladung der Phthalsäureanionen und damit die
Abtragung des Tantals weniger oder gar nicht mehr erfolgen, da die Bedeckung der Metalloberfläche mit
einer dichten (und dicken) Oxydschicht um so vollkommener wird, wodurch der Aufrauhgrad kleiner
wird.
Als günstig für die Erzielung eines hohen Aufrauhgrades hat es sich erwiesen, wenn das Lösungsmittel
im Elektrolyten einen gewissen Gehalt an Methanol aufweist. Die besten Ergebnisse werden erzielt, wenn
das Lösungsmittel vollständig aus Methanol besteht.
Ebenso wird ein optimaler Aufrauhgrad erreicht, wenn z. B. bei der Verwendung von Phthalsäure so
viel Natriumhydroxyd zugesetzt wird, wie der Bildung des Mononatriumphthalats entspricht. Das
nach dieser Neutralisationsreaktion entstehende Wasser genügt für die Erzielung eines guten Aufrauhgrades.
Die Konzentration der organischen Säure und/oder deren Salzen wird zweckmäßig' so eingestellt,
daß sich noch keine Konzentrationsniederschläge bilden. Sie kann natürlich kleiner sein; dadurch
wird aber ein geringerer Aufrauhgrad erzielt, und ebenso wird die Leitfähigkeit des Ätzelektrolyten verringert, wodurch eine höhere Klemmenspannung
erforderlich ist.
Gute Ergebnisse lieferte eine Lösung von 10 bis 20 g Phthalsäure und 3 bis 4 g Natriumhydroxid in
11 Methanol.
Optimale Aufrauhgrade wurden mit der folgenden Zusammensetzung der Elektrolytlösung erreicht:
100 cm3 Methanol mit etwa 0,05% H2O-Gehalt,
1,5 g Phthalsäure,
0,36 g Natriumhydroxid.
0,36 g Natriumhydroxid.
IO
Je nach der nach dem Rauhen der Elektrode angelegten Formierspannung, wobei die Formierung
35 bis 40 Minuten bei etwa 70° C und einer Stromdichte von etwa 2 mA/cm2 in 10%iger H3PO4 durchgeführt
wurde, wurden mit der optimalen Zusammensetzung folgende Aufrauhgrade bei einer Ätzzeit von
15 Minuten und einer Klemmenspannung von 15 V erhalten:
Formierspannung (Volt) .80 10 5 ao
Aufrauhgrad 4,6 6,8 12,1
Kapazität der aufgerauhten Folie (μΡ) 0,904 10,49 18,96
Kapazität der nicht aufgerauhten Folie (μΡ) .. 0,196 1,540 1,567
30
Die Kapazitätsmessung erfolgte bei 50Hz in 2n-Schwefelsäure
mit je zwei gleich vorbehandelten Wendeln als Elektroden.
Claims (7)
1. Verfahren zum elektrolytischen Ätzen von Elektroden für Elektrolytkondensatoren, bei dem
die Elektroden .aus Schwermetall, wie Niob oder insbesondere Tantal, zwecks Rauhung als Anode
in einer Lösung geschaltet werden, die ein organisches Lösungsmittel und einen geringen Anteil
Wasser enthält und frei von Halogenionen ist, dadurchgekennzeichnet, daß das Ätzen
in einer Lösung vorgenommen wird, die neben dem organischen Lösungsmittel und dem geringen
Anteil Wasser eine organische, Halogenionen nicht abspaltende Säure und/oder deren Alkalioder
Ammoniumsalze enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzlösung unter Verwendung
von Methanol als Lösungsmittel oder eines anderen, mit Methanol mischbaren, eine hohe
Dielektrizitätskonstante aufweisenden, organischen Lösungsmittels mit einem Gehalt von mindestens
6,5 % Methanol zuvor hergestellt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß neben Methanol ein einwertiger
Alkohol, Glykol, ein Amid, ein Amin oder Nitrobenzol einzeln oder gemeinsam verwendet
wird.
4. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Ätzlösung unter Verwendung von Fumarsäure, Camphersäure, Benzoesäure, Salicylsäure, Gentisinsäure
oder Terephthalsäure, vorzugsweise Phthalsäure, hergestellt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration
in der Ätzlösung so eingestellt wird, daß sich keine Konzentrationsniederschläge an den Elektroden
bilden.
6. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Elektroden in eine methanolische Lösung von Natriumhydrogenphthalat getaucht werden und
die Lösung aus 10 bis 20 g Phthalsäure, 3 bis 4 g Natriumhydroxid und 1 1 Methanol hergestellt
wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung aus 15 g Phthalsäure,
3,6 g Natriumhydroxid und 11 Methanol hergestellt wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 925 330.
Deutsche Patentschrift Nr. 925 330.
609 708/291 10.66 © Bundesdruckerei Berlin
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FR932975A FR1356025A (fr) | 1962-04-27 | 1963-04-27 | Procédé de fabrication d'électrodes, notamment en tantale et en niobium pour condensateurs électrolytiques et électrodes conformes à celles obtenues |
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CN113745007B (zh) * | 2021-08-24 | 2023-03-28 | 西安交通大学 | 一种钽电解电容器阳极箔的电化学腐蚀扩容工艺 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE925330C (de) * | 1950-08-29 | 1955-03-17 | Gen Electric | Verfahren zum elektrolytischen AEtzen von Tantal |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE925330C (de) * | 1950-08-29 | 1955-03-17 | Gen Electric | Verfahren zum elektrolytischen AEtzen von Tantal |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3334922A1 (de) * | 1982-09-30 | 1984-04-05 | Dale Electronics, Inc., Columbus, Nebr. | Widerstand mit einem einen hohen widerstand aufweisenden film und verfahren zu dessen herstellung |
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