DE1218247B - Saures galvanisches Kupferbad - Google Patents
Saures galvanisches KupferbadInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
Int. Cl.:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a-5/20
Nummer: 1218 247
Aktenzeichen: R 28124 VI b/48 a
Anmeldetag: 9. Juni 1960
Auslegetag: 2. Juni 1966
Im Laufe der letzten Jahre ist auf dem Gebiet der sauren Glanzverkupferung eine Anzahl von Verfahren
unter Patentschutz gestellt worden, wobei zunächst die Abscheidung glänzender Niederschläge im Vordergrund
des Interesses stand.
Bald zeigte es sich jedoch, daß es mit manchen Elektrolyten möglich war, gekoppelt mit mehr oder weniger
ausgeprägten Glanzeffekten, Unebenheiten des Grundmaterials, wie sie von der mechanischen Vorbehandlung
herrühren, in gewissem Umfang zu glätten.
Hiermit wird ein für die Praxis sehr interessantes Ziel aufgezeigt, nämlich durch den Einsatz geeigneter
Elektrolyte der metallischen Oberfläche ein derartiges Maß an Glanz und Glätte zu geben, daß auf die kostspielige
nachträgliche mechanische Bearbeitung des galvanisierten Gutes verzichtet werden kann.
Bei den bisher geschützten Verfahren entfaltet sich die einebnende Wirkung meistens nur in einem schmalen
Bereich, der besonders bei höheren Stromdichten liegt. Außerdem sind beträchtliche Schichtdicken aufzutragen,
um Rauhigkeiten, die durch einen Feinschliff erzeugt sind, ,zum Verschwinden ζμ bringen.
Nach dem deutschen Patent 940 860 wurden Rohre bei 8 A/dm2 über 20 Minuten verkupfert. Mit der erzielten
Schichtdicke von 32 My waren die Rauhigkeiten eines Feinschliffs noch nicht ganz verschwunden. Nach dem
deutschen Patent 962 129 werden bezüglich der einebnenden Wirkung der Kupferniederschläge keine
besseren Ergebnisse erzielt. Die bisher verwendeten Einebner haben oft den Nachteil, eine Glanzverminderung
des Niederschlages zu bewirken, die die Ausgangsstufe einer gewissen Grießigkeit darstellt. Dadurch
ist die Brauchbarkeit der Niederschläge bei den mannigfaltigen Arbeitsbedingungen eines sauren Kupferelektrolyten
unter gewissen Bedingungen gefährdet.
Dem Verfahren mit den erfindungsgemäßen Substanzen haften die oben beschriebenen Nachteile der
Labilität des Elektrolyten, der mangelnden Einebnung über den gesamten Stromdichtebereich und der nachteiligen
Beeinflussung des Glanzes durch den Einebner nicht an. Es wurden Teile mit einem 240er-Schliff bearbeitet
und mit Schichtdicken von 5,10,15 und 20 My versehen. Bei einer Schichtdicke von 15 My waren die
durch den Schliff erzeugten Unebenheiten vollkommen verschwunden. Die Glättung erfolgte bei Stromdichten
von 0,5 bis 10 A/dm2, so daß auch stark profilierte Teile, wie sie in der Industrie anfallen, nach der Verkupferung
ohne Zwischenpolitur sofort glanzvernickelt werden können.
In vielen Fällen finden bisher Derivate des Thioharnstoffe Verwendung, die noch mit weiteren Substanzen
kombiniert werden. Hier werden vor allem Saures galvanisches Kupferbad
Anmelder:
Riedel & Co., Bielefeld, Wiesenstr. 23
Als Erfinder benannt:
Dipl.-Chem. Dr. Mario Käppel,
Jöllenbeck bei Bielefeld
Dipl.-Chem. Dr. Mario Käppel,
Jöllenbeck bei Bielefeld
verschiedene Typen von organischen Farbstoffen mit heterozyklischem Aufbau einschließlich der Isoform,
aromatische Verbindungen sowie heterozyklische Stick· Stoffverbindungen, aber auch mehrwertige Alkohole
geschützt.
Besonders ausführlich wird auch eine große Gruppe organischer Schwefelverbindungen beschrieben, die
sich durch das Auftreten der wasserlöslich machenden SO3H-Gruppe, der — PO(OH)2- oder der — COOH-Gruppe
auszeichnen. Daneben sind auch heterozyklische Schwefelverbindungen sowie aromatische Sulfide,
Disulfide und SuIf oxyde, die in manchen Fällen auch
sulfuriert sind, bekanntgeworden.
Zwar sind im Stand der Technik cyanidische Kupferbäder
mit Verbindungen vorgeschlagen worden, die im Molekül C = S-Gruppen im Verhältnis 1:1 enthalten
und die durch ein Heteroatom voneinander getrennt sind. Als Beispiel werden Thiurammonosulfide genannt
sowie alkylierte Derivate wie Tetramethyl-thiuramsulfid. Das Vorliegen der C = S-Gruppen neben einem
Arylrest oder Aralkylrest im Sinne der Erfindung ist nicht als wesentlich erkannt worden.
In der Patentliteratur wurde ferner bisher meist ein
sehr großer Wert auf die Feststellung gelegt, daß gerade gut wasserlösliche Verbindungen zur Erzielung
besonderer Effekte bei der Abscheidung der Kupferüberzüge geeignet seien.
Die Untersuchung des neuen Bades erbrachte nun gerade den nach dem Stand der Technik überraschenden
Befund, daß in Wasser fast unlösliche Verbindungen im Hinblick auf Glanz und Einebnung hervorragende
Ergebnisse liefern, sowohl was die Intensität der Effekte an sich als auch was den Stromdichtebereich
anbelangt, in dem die Wirkungen auftreten.
Nach diesen Messungen reicht der Bereich herab bis unter 0,5 A/dm2; weiterhin wurde beobachtet, daß
Versuchsbleche, deren Oberfläche eine mittlere Rauhtiefe von 0,25 My aufwies, bei einer Kupferabschei-
dung mit 0,5 A/dma und einer Warenbewegung von 5 m/Min, bei nur 5 My Auflage für das Auge vollkommen
eingeebnet waren. Die obere Grenze des
609 577/372
Stromdichtebereiches, in dem ein hoher Spiegelglanz zusammen mit hervorragender Einebnung auftritt,
liegt bei 10 A/dm2.
Substanzen, die den beschriebenen hohen Glanz- und Einebnungseffekt hervorrufen, weisen im Molekül
C = S-Gruppen und Aryl- oder Aralkylreste auf, die im Verhältnis 1:1 vorliegen, mit Ausnahme von arylsubstituierten
Thioharnstoffen und am Stickstoffatom arylsubstituierten Rhodaninen. Diese beiden Gruppen
sind durch aneinandergebundene oder auch Bestandteile eines Ringsystems bildende Heteroatome getrennt.
Sie zeichnen sich also durchweg durch den Gehalt eines aromatischen Ringsystems aus, das keine
ausgesprochen hydrophilen Gruppen trägt und in erster Linie für die obenerwähnte niedrige Löslichkeit
in wäßrigen Medien verantwortlich ist.
Eine direkte Überführung der Substanzen in das wäßrige Medium scheint oft überhaupt nicht möglich
zu sein, so daß man streng genommen von unlöslichen Verbindungen sprechen müßte; jedoch kann man sie
durch Auflösen in einem organischen Lösungsmittel, z. B. einem Alkohol oder Keton, in die wäßrige Phase
überführen, aus der dann ein Ausfallen bei den angewandten Konzentrationen nicht zu beobachten ist.
Es mag sich hier um einen thermodynamisch instabilen Zustand handeln, der durch starke kinetische Hemmungen
(vermutlich Keimbildungshemmungen) aufrechterhalten wird.
Die Verbindungen stellen z. B. Derivate des an sich in saurenKupferbädern bekannten Thiosemicarbacides
dar; entscheidend ist dabei jedoch, daß es sich um aromatische N-Monosubstitutionsprodukte handelt.
Die S-Substitutionsprodukte des Isothiosemicarbacides zeigen praktisch keinerlei Wirkung, ebenso
fallen die aromatischen und aliphatischen Disubstitutionsprodukte stark in der Wirkung ab, ferner auch
aliphatische Monosubstitutionsprodukte, während gemischte aliphatisch-aromatische Derivate eine Zwischenstellung
einnehmen. Die allgemeine Formel für diese Verbindung lautet damit:
1. a)
s = c:
.NH- NH- Ar
NH-R
Ebenfalls sehr gute Ergebnisse erhält man mit Derivaten des Thiocarbohydrazids, wobei wiederum die
Monoarylverbindungen sich durch besonderen Effekt auszeichnen.
2. NH- NH- Ar
IO NH-NH-R
S 1^ C >
.NH-N = CH-Ar
'NH-R
Ar = Phenyl-, Naphthyl-, Pyridyl-, die ihrerseits noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H5-,
NH2-, NHCH3- oder NHC2H5-Gruppen sub-
*5 stituiert sein können.
R = H bzw. aliphatischer Rest mit 1 bis 4 C-Atomen.
Das sich mit der Kombination eines Arylrestes mit einem doppeltgebundenen zweifach negativen Schwefel
über geeignete Brückenatome in sauren Kupferbädern besonders gute Effekte erzielen lassen, konnte auch
mit folgenden Verbindungen erhärtet werden.
3. a) 3-MethylbenzthiazoUn-2-thion
Ar = Phenyl-, Naphthyl-, Pyridyl-, die ihrerseits noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H5-,
NH8-, NHCH3- oder NHC2H5-Gruppen substituiert
sein können.
R = H bzw. aliphatischer Rest mit 1 bis 4 C-Atomen.
Hinzu kommt hier, daß die 1-arylsubstituierten Verbindungen
den in den übrigen Stellungen, namentlich der 4-Stellung substituierten, in der Wirkung überlegen
sind.
Es wurde außerdem gefunden, daß die Thiosemicarbazone aromatischer Aldehyde eine ähnlich gute
Wirkung entfalten.
35
40
45
b) 3-Methylbenzoxazolin-2-thion
C = S
CH3
c) 3-Methylbenzimidazolin-2-thion
c) 3-Methylbenzimidazolin-2-thion
55
C = S
6o
Ar = Phenyl-, Naphthyl-, Pyridyl-, die ihrerseits noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H5-Gruppen
substituiert sein können.
R = H bzw. aliphatischer Rest mit 1 bis 4 C-Atomen.
R = H bzw. aliphatischer Rest mit 1 bis 4 C-Atomen.
Hier gehören die Brückenatome einem Ringsystem an.
Wie weiter oben schon erwähnt, ist das Vorhandensem einer C-S-Doppelbindung erforderlich; so zeigt
z. B. das 2-Merkaptobenzthiazol praktisch keine Wirkung, das sonst der unter 3, a) genannten Verbindung
weitgehend analog ist.
Weitere Versuche zeigten, daß die absolute Zahl der aromatischen Substituenten im Molekül nicht entscheidend
ist, sondern das Verhältnis zu der vorhandenen Anzahl an > C = S-Gruppen.
5 6
Der Erfinder konnte nämlich mit folgenden Verbin- sprochene Wasserlöslichkeit der in sauren Kupferdungstypen
ausgezeichnete Glänz- und Einebnungs- bädern verwendeten Glanzsubstanzen nicht erfordereffekte
erzielen: Hch, ja in vielen Fällen gar nicht erwünscht ist. Die in
Wasser besser löslichen Substanzen zeigten sich prak-
4· / Ar 5 tisch durchweg den hier beschriebenen Verbindungen
S = C- N (^ unterlegen.
I \ Es wurde außerdem gezeigt, daß der erfinderische
/cn Gedanke nicht in der Anwendung von reinen Schwe-
I Ar · felverbindungen an sich liegt, sondern in der Kombi-
_ ' / ίο nation des zweifachen negativen doppeltgebundenen
^= \ Schwefelatoms mit aromatischen Resten im Verhält-
R nisl:l.
Ferner wurde nun eine weitere Gruppe von Verbin-
Thiuram-mono- und -polysulfide düngen gefunden, die zusammen mit den obengenann-
_, , -vT ι ι ι τ. -j ι j· -t. · »5 ten erfindungsgemäßen Substanzen zur Erzielung der
Ar = PhenyKNaphthyK Pyridyl- die ihrerseits beschriebenen Spiegelglanz- und Einebnungseffekte
noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H5-Cjruppen ganz besonders geeignet ist. Dabei handelt es sich um
substituiert sein können. Derivate von Sulfonen und Sulfoxyden der folgenden
R = H bzw. aliphatischer Rest mit 1 bis 4 C-AtO-' ^ allSemei*en Formel:
men.
7. R χ = bevorzugt gleich 1 bis 2. \
NCS
/N
Rein aliphatisch substituierte Verbindungen zeigen „,/
hier, wie nach dem bisher Gesagten zu erwarten, prak- ag s
tisch keine Wirkung.
Mit R und R' = H, Alkyl und Oxyalkyl mit Cl
5. S = C-O-Ar bisC4,
I R" = Alkyl und Oxyalkyl mit Cl bis
(S)* 30 C4,
I χ = 1 bis 2 und η = 1 bis 2,
c __ c O Ar
wobei die Reste auch verzweigt und/oder durch
Dixanthogen-mono- und -polysulfide Heteroatome substituiert sein können.
Ar = Phenyl-, Naphthyl-, Pyridyl-, die ihrer- 35
seits noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H5- Zwar waren einerseits einfache Sulfone bzw. SuIf-
Gruppen substituiert sein können. oxyde bekannt und andererseits Verbindungen des
χ — bevorzugt gleich 1 bis 2. zweifach negativen Schwefels mit bestimmten wasser
löslich machenden Gruppen. Die unter 7 beanspruch-
6. a) S = C — NH — Ar 4o ten Substanzen stellen jedoch völlig neue, bisher nicht
I bekannte Typen von Verbindungen dar, deren ent-
NH scheidendes Kennzeichen die Kombination von ein-
I fach und/oder doppelgebundenem zweifach negativem
Njj Schwefel mit einem 6fach positiven Schwefelatom, das
ι 45 einer nicht wasserlöslich machenden Gruppe angehört,
S = C — NH — Ar darstellt.
Damit ist gezeigt, daß auch bei dieser Verbindungs-Hydrazindithiodicarbonamide
^asse das Kriterium einer ausgesprochenen Wasser-
, __ , , , _. ., , ,,. ., löslichkeit nicht entscheidend ist.
Ar = Phenyl-, Naphthyl- Pyridyl·-, die ihrer- So Zusätzlich mr Kombination der Verbindungen der
seits noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H5- Typen 1 bis 6 ^ den Substanzen vom Typ 7 erwies
Gruppen substituiert sein können. sich Qoch die AnwendUng von Stoffen als besonders
b) S = C NH Ar vorteilhaft, die eine schwache Netzwirkung zeigen.
ι Es handelt sich dabei jedoch keineswegs um eine
■Jttt 55 Anwendung von Netzmitteln im üblichen Sinne, son-
I dem von der Seite dieser Substanzen wird ebenfalls ein
' großer Beitrag zu einer gleichmäßigen Hochglanzbil-
NH dung geleistet; deshalb ist es verständlich, daß nur ein
I ganz bestimmter Verbindungstyp und auch hier nur
O = C — NH2 6o eine begrenzte Gruppe von Substanzen anwendbar ist.
. Sie stellen nichtionogene Produkte dar, wie sie durch
Hydrazmmonothiodicarbonamide Anlagerung von Äthylenoxyd an sogenannte Fett-
Ar = Phenyl-, Naphthyl-, Pyridyl-, die ihrer- alkohole entstehen. Entsprechende Anlagerungsproseits
noch durch CH3-, OH-, OCH3-, OC2H6- dukte an Alkylphenole sind völlig ungeeignet.
Gruppen substituiert sein können. 6g Die aliphatische Kette besteht vorzugsweise aus
Gruppen substituiert sein können. 6g Die aliphatische Kette besteht vorzugsweise aus
12 C-Atomen, jedoch sind hier gewisse Abweichungen
Der Erfinder glaubt, mit diesen ausführlichen Dar- möglich; der Polyglykolrest kann sich aus 15 bis
legungen gezeigt zu haben, daß einmal eine ausge- 40 Äthylenoxydmolekülen aufbauen.
Als Kupfergrundbad kann in allen Fällen ein Elektrolyt folgender Zusammensetzung Verwendungfinden:
210 g CuSO4 · 5 H2O
60 g H2SO4
60 g H2SO4
Der Chloriongehalt des Bades bewegt sich in den Grenzen von 20 bis 300 mg/1.
In der folgenden Tabelle ist, um die große Variationsbreite der angegebenen Substanzen zu demonstrieren,
eine Zusammensetzung angegeben, die sich durch sehr große Einfachheit auszeichnet.
NjN-Bis-^-oxyäthyty-ditMocarbamidsäure-ß-methyl-
sulfonyläthylester
l-Phehylthiosemicarbacid
1-Phenylthiocarbohydrazid
Di-(methylphenyl)-thiuramdisulfid
3-Methylbenztbiazolin-2-thion
Pyridin-^aldehyd-thiosemicarbazon
C12-Alkohol-Äthylenoxyd-Addukt mit 20 Ätherbindungen
Cao-Alkohol-Äthylenoxyd-Addukt mit 16 Ätherbindungen
*) Die Zahlen geben die Mengen in g/l an.
0,08*)
0,0006
0,0006
0,04
0,001
0,001
0,03
0,002
0,06
0,0015
2
2
0,03
0,002 4
Claims (5)
1. Saures Kupferbad zum galvanischen Abscheiden von hochglänzenden, eingeebneten Überzügen,
dadurch gekennzeichnet, daß es in Wasser schwer lösliche Verbindungen in Mengen
von 0,0002 bis 0,01 g/l enthält, die im Molekül C = S-Gruppen und Aryl- oder Aralkylreste im
Verhältnis 1:1 aufweisen, wobei diese beiden Gruppen durch aneinandergebundene oder auch
Bestandteile eines Ringsystems bildende Heteroatome getrennt sind, mit Ausnahme von arylsubstituierten
Thioharnstoffen und am Stickstoffatom arylsubstituierten Rhodanien.
2. Saures Kupferbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es bei Vorhandensein von
mehr als einer C = S- bzw. Arylgruppe solche Verbindungen enthält, bei denen die C = S-Gruppen
durch Brückenatome über den Kohlenstoff verbunden sind, wobei als solche bevorzugt ein oder
mehrere Heteroatome auftreten.
3. Saures Kupferbad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es Verbindungen enthält,
bei denen der Arylrest heterozyklischer Natur einschließlich der Isoform ist, wobei ein- oder
zweigliedrige Ringsysteme, auftreten, bei denen ein oder mehrere Wasserstoffatonie derart substituiert
sein können, daß die Schwerlöslichkeit der Verbindung erhalten bleibt.
4. Saures Kupferbad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich
.Verbindungen der allgemeinen Formel
R
R
:n —c — s —
^-SOs-R"
R'
in einer Menge von 0,002 bis 0,4 g/l enthält, wobei R und R' ein Wasserstoffatom oder einen Alkyl-
oder Oxyalkylrest mit einer Kohlenstoffkette von 1 bis 4 C-Atomen, R" einen Alkylrest oder einen
Oxyalkylrest mit einer Kohlenstoffkette von 1 bis 4 C-Atomen bedeuten" und die Reste auch verzweigt
und/oder durch Heteroatome substituiert sein können und χ bzw. η gleich 1 bis 2 ist.
5. Saures Kupferbad nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es zur Erhöhung
der Glanzintensität und zur Verbreiterung des Glanzbereiches Anlagerungsprodukte von 15 bis
40 Mol Äthylenoxyd pro Mol unverzweigtem oder schwach verzweigtem aliphatischen Alkohol mit
einer Kettenlänge von 8 bis 16 Kohlenstoffatomen in einer Menge von 0,1 bis 20 g/l enthält.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 924 489;
deutsche Auslegeschrift Nr. 1 099 300;
deutsche Auslegeschrift D 12 765 VI/48a (bekanntgemacht am 31.10.1956);
USA.-Patentschriften Nr. 2 609 339, 2 563 360.
Deutsche Patentschrift Nr. 924 489;
deutsche Auslegeschrift Nr. 1 099 300;
deutsche Auslegeschrift D 12 765 VI/48a (bekanntgemacht am 31.10.1956);
USA.-Patentschriften Nr. 2 609 339, 2 563 360.
609 577/372 5.66 © Bundesdruckerei Berlin
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DER28124A DE1218247B (de) | 1960-06-09 | 1960-06-09 | Saures galvanisches Kupferbad |
FR862309A FR1290585A (fr) | 1960-06-09 | 1961-05-19 | Perfectionnements apportés aux procédés de formation de revêtements par dépôtsde cuivre ayant de hautes qualités de brillance et de poli à partir de bains acides |
GB2067861A GB985316A (en) | 1960-06-09 | 1961-06-08 | Deposition of high-polish level copper coatings from acid baths |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DER28124A DE1218247B (de) | 1960-06-09 | 1960-06-09 | Saures galvanisches Kupferbad |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE1218247B true DE1218247B (de) | 1966-06-02 |
Family
ID=7402636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DER28124A Pending DE1218247B (de) | 1960-06-09 | 1960-06-09 | Saures galvanisches Kupferbad |
Country Status (2)
Country | Link |
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DE (1) | DE1218247B (de) |
GB (1) | GB985316A (de) |
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- 1960-06-09 DE DER28124A patent/DE1218247B/de active Pending
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