DE112021001596T5 - Anzeigetafel, verfahren zu deren herstellung und anzeigevorrichtung - Google Patents

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Yu Ma
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Abstract

Die vorliegende Anmeldung bezieht sich auf das Gebiet der Anzeigetechnik und offenbart eine Anzeigetafel, ein Verfahren zu deren Herstellung und eine Anzeigevorrichtung. Die Anzeigetafel umfasst einen Anzeigebereich und einen Nicht-Anzeigebereich, der an den Anzeigebereich angrenzt. Die Anzeigetafel umfasst ein Array-Substrat, ein gegenüberliegendes Substrat, einen ersten Ausrichtungsfilm und eine Haltewandstruktur, wobei eine Bond-Elektrode auf dem Array-Substrat angeordnet ist und sich in dem Nicht-Anzeigebereich befindet, wobei das gegenüberliegende Substrat und das Array-Substrat einander gegenüberliegend angeordnet sind, wobei der erste Ausrichtungsfilm auf einer dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet ist, wobei die Haltewandstruktur auf einer dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet ist und mindestens ein Teil der Haltewandstruktur zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm und der Bond-Elektrode angeordnet ist. Die Haltewandstruktur kann verhindern, dass der erste Ausrichtungsfilm die Bond-Elektrode bedeckt und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird. Die Breite eines Rahmens der Anzeigetafel wird nicht durch eine Hinzufügung der Haltewandstruktur vergrößert.

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Anmeldung bezieht sich auf das Gebiet der Anzeigetechnik und insbesondere auf eine Anzeigetafel, ein Verfahren zu deren Herstellung und eine Anzeigevorrichtung, welche die Anzeigetafel umfasst.
  • STAND DER TECHNIK
  • Der Markt stellt immer höhere Anforderungen an Displayrahmen, was eine größere Herausforderung für das periphere Design von Displays darstellt. Bei Spleißbildschirm -Produkten wurde der Rahmen derzeit auf 0,4 bis 0,6 mm reduziert.
  • Insbesondere bei vorderseitig gebundenen Produkten mit ultraschmalen Rahmen kann während der Bildung eines Ausrichtungsfilms der Fluss des Ausrichtungsfilms aufgrund der eingeschränkten Prozessbedingungen nicht genau gesteuert werden, was dazu führt, dass der Ausrichtungsfilm zu einer Bond-Elektrode diffundiert, die Bond-Elektrode bedeckt und wiederum das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt, was zu häufig auftretenden Fehlern, wie z. B. schwerwiegenden Leitungsfehlern, führt und dazu führt, dass die Produkte nicht in Serie herstellbar sind.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass die im Textteil „Stand der Technik“ offenbarten Informationen nur dazu dienen, das Verständnis des Hintergrunds der vorliegenden Anmeldung zu verbessern, und daher Informationen enthalten können, die nicht zum Stand der Technik gehören, der dem Fachmann bekannt ist.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • Eine Aufgabe der vorliegenden Anmeldung ist es, die oben erwähnten Mängel des Standes der Technik zu überwinden und eine Anzeigetafel, ein Verfahren zu deren Herstellung und eine Anzeigevorrichtung, welche die Anzeigetafel umfasst, bereitzustellen.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Anmeldung wird eine Anzeigetafel mit einem Anzeigebereich und einem an den Anzeigebereich angrenzenden Nicht-Anzeigebereich bereitgestellt, wobei die Anzeigetafel umfasst:
    • ein Array-Substrat, auf dem eine Bond-Elektrode angeordnet ist, wobei sich die Bond-Elektrode in dem Nicht-Anzeigebereich befindet;
    • ein gegenüberliegendes Substrat, das gegenüber dem Array-Substrat angeordnet ist;
    • einen ersten Ausrichtungsfilm, der auf einer dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet ist; und
    • eine Haltewandstruktur, die auf der dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet ist, wobei zumindest ein Teil der Haltewandstruktur zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm und der Bond-Elektrode angeordnet ist.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung befindet sich eine orthografische Projektion der Haltewandstruktur auf dem Array-Substrat zumindest teilweise innerhalb einer orthografischen Projektion des gegenüberliegenden Substrats auf dem Array-Substrat.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst die Anzeigetafel ferner:
    • einen Dichtungsrahmen, der zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm und dem gegenüberliegenden Substrat angeordnet ist, wobei sich der Dichtungsrahmen in dem Nicht-Anzeigebereich und auf einer dem Anzeigebereich zugewandten Seite der Bond-Elektrode befindet;
    • wobei die Haltewandstruktur umfasst:
    • eine erste Haltewand, die von der Bond-Elektrode beabstandet ist; und
    • eine zweite Haltewand, die zwischen der ersten Haltewand und dem Dichtungsrahmen angeordnet ist, wobei die zweite Haltewand von der ersten Haltewand und auch von dem Dichtungsrahmen beabstandet ist, und wobei mindestens ein Teil des ersten Ausrichtungsfilms sich auf einer von der ersten Haltewand abgewandten Seite der zweiten Haltewand befindet.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst die zweite Haltewand eine Vielzahl von zweiten Teilhaltewänden, wobei zwei benachbarte zweite Teilhaltewände jeweils voneinander beabstandet sind.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist die zweite Teilhaltewand streifenförmig ausgebildet, wobei eine Erstreckungsrichtung der zweiten Haltewand mit einer Erstreckungsrichtung der gegenüberliegenden ersten Haltewand übereinstimmt, und wobei ein Abstand zwischen den beiden benachbarten zweiten Teilhaltewänden jeweils kleiner als eine Länge der zweiten Teilhaltewand ist.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist ein Abstand zwischen der zweiten Haltewand und dem Dichtungsrahmen größer als oder gleich 80 Mikrometer.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist ein Abstand zwischen der ersten Haltewand und der zweiten Haltewand größer als oder gleich 50 Mikrometer.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung sind eine Breite der ersten Haltewand und eine Breite der zweiten Haltewand beide größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer und eine Höhe der ersten Haltewand und eine Höhe der zweiten Haltewand sind beide größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst die Haltewandstruktur:
    • eine erste Haltewand, die von der Bond-Elektrode beabstandet ist; und
    • eine Sperrschicht, die auf einer von der Bond-Elektrode abgewandten Seite der ersten Haltewand angeordnet ist, wobei die Sperrschicht von der ersten Haltewand beabstandet ist, um eine Rille auszubilden, wobei die Sperrschicht sich erstreckt und den Anzeigebereich bedeckt, und wobei der erste Ausrichtungsfilm auf einer von dem Array-Substrat abgewandten Seite der Sperrschicht angeordnet ist.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist ein Abstand zwischen der ersten Haltewand und der Sperrschicht größer als oder gleich 50 Mikrometer.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist eine Breite der ersten Haltewand größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer, und wobei die Höhe der ersten Haltewand und die Höhe der Sperrschicht beide größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer sind.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung fällt eine orthografische Projektion einer vom Anzeigebereich abgewandten Kante der ersten Haltewand auf dem Array-Substrat mit einer orthografischen Projektion einer entsprechenden Kante des gegenüberliegenden Substrats auf dem Array-Substrat zusammen.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist die erste Haltewand streifenförmig ausgebildet und eine Länge der ersten Haltewand ist größer als eine Länge einer der ersten Haltewand gegenüberliegenden Kante des ersten Ausrichtungsfilms oder eine Länge der ersten Haltewand ist größer als eine Länge einer Reihe, die von einer Vielzahl von Bond-Elektroden gebildet wird, die entlang einer Erstreckungsrichtung der ersten Haltewand angeordnet sind.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst die erste Haltewand zwei erste Teilhaltewände, wobei die beiden ersten Teilhaltewände streifenförmig ausgebildet sind und die Enden der beiden ersten Teilhaltewände miteinander verbunden sind und einen Eckabschnitt bilden, und wobei der Eckabschnitt entsprechend einer Ecke des Array-Substrats angeordnet ist.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung ist der Eckabschnitt als schräge Fase oder als gerundete Fase ausgebildet.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst das Array-Substrat in dem Nicht-Anzeigebereich:
    • ein erstes Basissubstrat;
    • eine Pufferschicht, die auf einer Seite des ersten Basissubstrats angeordnet ist;
    • eine Bond-Leitung, die auf einer von dem ersten Basissubstrat abgewandten Seite der Pufferschicht angeordnet ist; und
    • eine Isolierschichtgruppe, die auf einer von dem ersten Basissubstrat abgewandten Seite der Bond-Leitung angeordnet ist, wobei die Isolierschichtgruppe mit einer Kerbe versehen ist, so dass die Bond-Leitung zur Bildung der Bond-Elektrode freiliegt.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst die Bond-Leitung eine erste Sub-Elektrode, eine zweite Sub-Elektrode und eine dritte Sub-Elektrode, wobei die erste Sub-Elektrode und die dritte Sub-Elektrode symmetrisch auf beiden Seiten der zweiten Sub-Elektrode angeordnet sind, und wobei ein Ende der ersten Sub-Elektrode, ein Ende der zweiten Sub-Elektrode und ein Ende der dritten Sub-Elektrode parallel zueinander angeordnet sind und die anderen Enden einstückig miteinander verbunden sind, um einen Verbindungsabschnitt zu bilden, wobei eine orthographische Projektion der ersten Haltewand auf dem ersten Basissubstrat teilweise mit einer orthographischen Projektion des Verbindungsabschnitts auf dem ersten Basissubstrat überlappt.
  • Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Anmeldung wird ein Verfahren zur Herstellung einer Anzeigetafel bereitgestellt, das umfasst:
    • Bereitstellen eines Array-Substrats, wobei das Array-Substrat mit einer Bond-Elektrode versehen ist und die Bond-Elektrode sich in einem Nicht-Anzeigebereich befindet;
    • Ausbilden einer Haltewandstruktur auf einer Seite des Array-Substrats, auf der ein gegenüberliegendes Substrat angebracht werden muss, wobei sich zumindest ein Teil der Haltewandstruktur zwischen einem ersten Ausrichtungsfilm und der Bond-Elektrode befindet;
    • Ausbilden des ersten Ausrichtungsfilms auf der Seite des Array-Substrats, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss; und
    • Bereitstellen des gegenüberliegenden Substrats und zellenweises Ausrichten des gegenüberliegenden Substrats mit dem Array-Substrat.
  • In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung umfasst das Ausbilden der Haltewandstruktur auf der Seite des Array-Substrats, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss, folgendes:
    • Ausbilden einer Haltewandstruktur-Materialschicht auf der Seite des Array-Substrats, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss; und
    • Strukturieren der Haltewandstruktur-Materialschicht, um die Haltewandstruktur zu bilden.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Anmeldung wird eine Anzeigevorrichtung bereitgestellt, welche die in einem der obigen Aspekte beschriebene Anzeigetafel umfasst.
  • Bei der erfindungsgemäßen Anzeigetafel und dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren ist die Haltewandstruktur auf einer dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet, und mindestens ein Teil der Haltewandstruktur befindet sich zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm und der Bond-Elektrode. Die Haltewandstruktur wird verwendet, um den Materialfluss des ersten Ausrichtungsfilms zu begrenzen, wodurch verhindert wird, dass der erste Ausrichtungsfilm die Bond-Elektrode bedeckt und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird, wodurch häufig auftretende Fehler, wie z. B. schwerwiegende Leitungsfehler, vermieden werden und die Produkte massenproduzierbar sind.
  • Es versteht sich, dass die obige allgemeine Beschreibung und die folgende detaillierte Beschreibung lediglich beispielhaft und erläuternd sind und nicht als Einschränkung der Offenbarung ausgelegt werden sollten.
  • Figurenliste
  • Die beigefügten Zeichnungen, die in die Beschreibung aufgenommen sind und einen Teil der Beschreibung darstellen, zeigen beispielhafte Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung. Die Zeichnungen erklären zusammen mit der Beschreibung die Grundsätze der vorliegenden Anmeldung. Offensichtlich stellen die Zeichnungen in der folgenden Beschreibung nur einige der Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung dar und der Fachmann kann anhand der hierin beschriebenen Zeichnungen andere Zeichnungen ohne erfinderisches Zutun erhalten.
    • 1 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer vorderseitig gebundenen Anzeigetafel.
    • 2 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Anzeigetafel gemäß einer ersten beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung.
    • 3 ist eine schematische Draufsicht auf die Struktur von 2.
    • 4 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Anzeigetafel gemäß einer zweiten beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung.
    • 5 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Anzeigetafel gemäß einer dritten beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung.
    • 6 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Anzeigetafel gemäß einer vierten beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung.
    • 7 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Anzeigetafel gemäß einer fünften beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung.
    • 8 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Anzeigetafel gemäß einer sechsten beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung.
    • 9 ist ein Vergleichsdiagramm von tatsächlich gemessenen Daten von Kantenabständen eines ersten Ausrichtungsfilms einer Anzeigetafel mit einer Haltewandstruktur und eines ersten Ausrichtungsfilms einer Anzeigetafel ohne eine Haltewandstruktur.
    • 10 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer Positionsbeziehung zwischen einer Bond-Leitung einer Gate-Leitung und einer Haltewandstruktur in einer erfindungsgemäßen Anzeigetafel.
    • 11 ist eine schematische Querschnittsansicht der Struktur von 10.
    • 12 ist ein schematisches Blockdiagramm des Ablaufs eines Verfahrens zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Anzeigetafel gemäß einer beispielhaften Ausführungsform.
    • 13-15 sind schematische Strukturdiagramme einzelner Schritte zur Herstellung einer Haltewandstruktur.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Array-Substrat;
    11
    erstes Basissubstrat;
    12
    Bond-Elektrode;
    13
    Bond-Leitung;
    131
    erste Sub-Elektrode;
    132
    zweite Sub-Elektrode;
    133
    dritte Sub-Elektrode;
    14
    Pufferschicht;
    15
    Gate-Isolierschicht;
    16
    Schutzschicht;
    17
    Gate-Leitung;
    2
    Gegenüberliegendes Substrat;
    21
    zweites Basissubstrat;
    22
    Polarisator;
    23
    schwarze Matrix;
    24
    Farbfilmschicht;
    25
    zweiter Ausrichtungsfilm;
    3
    Erster Ausrichtungsfilm;
    4
    Dichtungsrahmen;
    5
    Haltewandstruktur;
    51
    Erste Haltewand;
    511
    Erste Teilhaltewand;
    52
    Zweite Haltewand;
    521
    Zweite Teilhaltewand;
    53
    Sperrschicht;
    54
    Rille;
    6
    COF-Substrat;
    7
    anisotroper leitfähiger Klebstoff;
    8
    organischer Film;
    9
    Haltewandstruktur-Materialschicht;
    AA
    Anzeigebereich;
    FA
    Nicht-Anzeigebereich;
    BOD
    Bindungsbereich.
  • AUSFÜHRUNGSFORMEN DER ERFINDUNG
  • Beispielhafte Ausführungsformen werden nun unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen ausführlicher beschrieben. Die Ausführungsformen können jedoch in einer Vielzahl von Formen implementiert werden und sollten nicht so ausgelegt werden, dass sie auf die hier dargelegten Ausführungsformen beschränkt sind. Vielmehr werden diese Ausführungsformen bereitgestellt, damit die vorliegende Offenbarung umfassender und vollständiger ist, um dem Fachmann die Idee der beispielhaften Ausführungsformen zu vermitteln. Gleiche Bezugszeichen in den Zeichnungen bezeichnen gleiche oder ähnliche Strukturen, und die wiederholte Beschreibung derselben entfällt. Darüber hinaus sind die Zeichnungen lediglich schematische Darstellungen der vorliegenden Offenbarung und nicht unbedingt maßstabsgetreu gezeichnet.
  • Obwohl relative Begriffe wie „oben“ und „unten“ in der Beschreibung verwendet werden, um die relative Beziehung einer bezeichneten Komponente zu einer anderen bezeichneten Komponente zu beschreiben, dienen diese Begriffe nur der Bequemlichkeit in der Beschreibung, z. B. gemäß einer in den Zeichnungen dargestellten beispielhaften Richtung. Es versteht sich von selbst, dass, wenn die dargestellte Vorrichtung auf den Kopf gestellt wird, die beschriebene obenliegende Komponente zu einer untenliegenden Komponente wird. Wenn sich eine Struktur „auf“ einer anderen Struktur befindet, kann dies bedeuten, dass die Struktur einstückig auf der anderen Struktur ausgebildet ist, oder dass die Struktur „direkt“ auf der anderen Struktur angeordnet ist, oder dass die Struktur „indirekt“ über andere Strukturen auf der anderen Struktur angeordnet ist.
  • Die Ausdrücke „ein“, „eine“, „der“, „besagte“ und „mindestens ein“ werden verwendet, um anzuzeigen, dass es ein oder mehrere ElementeBestandteile oder ähnliches gibt; die Ausdrücke „umfassen“ und „aufweisen“ werden verwendet, um eine offene Bedeutung von „einschließen“ anzuzeigen, und bedeuten, dass es zusätzlich zu den aufgeführten Elementen/Bestandteilen/usw. weitere ElementeBestandteile/usw. geben kann; die Ausdrücke „erstes“, „zweites“ und „drittes“ usw. werden nur als Markierungen verwendet und schränken die Anzahl der Objekte nicht ein.
  • In einer Dünnfilmtransistor-Flüssigkristallanzeige (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, TFT-LCD) wird normalerweise ein Chip-on-Film-Substrat (COF-Substrat) verwendet, um eine Leiterplatte (PCB) und eine Flüssigkristalltafel miteinander zu verbinden, so dass die PCB-Platte ein Ansteuerungssignal an die Flüssigkristalltafel ausgeben kann, um eine entsprechende Ansteuerung durchzuführen. Ein Ende des COF-Substrats 6 ist an einer Bond-Elektrode 12 (bonding lead) eines Array-Substrats 1 gebunden, und das andere Ende des COF-Substrats 6 ist mit der PCB-Platte verbunden.
  • In der Flüssigkristall-Anzeigetafel ist das Array-Substrat 1 mit einem Ausrichtungsfilm versehen, um einen vorgegebenen Neigungswinkel für Flüssigkristallmoleküle zu schaffen, so dass die Flüssigkristallmoleküle in einer geordneten Weise angeordnet sind. Ein Tintenstrahldruckverfahren ist ein gängiges Prozess zur Herstellung des Ausrichtungsfilms, das die Vorteile einer hohen Effizienz und einer hohen Auslastung hat. Bei der Herstellung des Ausrichtungsfilms durch Tintenstrahldrucken breitet sich der Rand der eingespritzten Tinte frei aus, was zu einer schlechten Genauigkeit führt. Die Tintenstrahltinte ist nach der Ausbreitung im Randbereich wellig, und der wellige Bereich muss aufgrund einer ungleichmäßigen Filmdicke des Ausrichtungsfilms so weit wie möglich nach außen ausgedehnt werden, um eine Beeinträchtigung des Anzeigebereichs AA der Flüssigkristallanzeigevorrichtung zu vermeiden.
  • Unter Bezugnahme auf ein schematisches Strukturdiagramm einer vorderseitig gebundenen Anzeigetafel gemäß 1 sind das Array-Substrat 1 und ein gegenüberliegendes Substrat 2 gegenüberliegend angeordnet, und das Array-Substrat 1 ragt aus dem gegenüberliegenden Substrat 2 heraus, d.h. eine orthographische Projektion des gegenüberliegenden Substrats 2 auf dem Array-Substrat 1 befindet sich innerhalb des Array-Substrats 1. Die Bond-Elektrode 12 ist in einem Bereich des Array-Substrats 1 ohne die orthografische Projektion des gegenüberliegenden Substrats 2 angeordnet, und die Bond-Elektrode 12 befindet sich auf einer dem gegenüberliegenden Substrat 2 zugewandten Seite des Array-Substrats 1. Das COF-Substrat 6 ist durch einen anisotropen leitfähigen Klebstoff 7 an der Bond-Elektrode 12 angehaftet und elektrisch leitend mit dieser verbunden. Ein erster Ausrichtungsfilm 3 ist ebenfalls auf der dem gegenüberliegenden Substrat 2 zugewandten Seite des Array-Substrats 1 angeordnet. Während der Bildung des ersten Ausrichtungsfilms 3 kann der Fluss des ersten Ausrichtungsfilms 3 aufgrund der eingeschränkten Prozessbedingungen nicht genau gesteuert werden, was dazu führt, dass der erste Ausrichtungsfilm 3 zur Bond-Elektrode 12 diffundiert. Der erste Ausrichtungsfilm 3 besteht aus isolierendem Material und kann die Bond-Elektrode 12 bedecken, so dass das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird, was zu häufig auftretenden Fehlern, wie z. B. schwerwiegenden Leitungsfehlern, führt und dazu führt, dass die Produkte nicht in Serie herstellbar sind. Daher hat sich die Frage, wie der Fluss des ersten Ausrichtungsfilms 3 gesteuert werden kann, zu einem großen Engpass für LCD-Produkte (Liquid Crystal Display, Flüssigkristallanzeige) mit sehr schmalen Rahmen entwickelt.
  • In dieser beispielhaften Ausführungsform kann das gegenüberliegende Substrat 2 ein Farbfilmsubstrat sein.
  • Beispielhafte Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung stellen eine Anzeigetafel bereit. Wie in den schematischen Strukturdiagrammen der erfindungsgemäßen Anzeigetafel gemäß den 2-8 gezeigt, weist die Anzeigetafel einen Anzeigebereich AA und einen an den Anzeigebereich AA angrenzenden Nicht-Anzeigebereich FA auf. Die Anzeigetafel kann ein Array-Substrat 1, ein gegenüberliegendes Substrat 2, einen Dichtungsrahmen 4, einen ersten Ausrichtungsfilm 3 und eine Haltewandstruktur 5 umfassen. Das Array-Substrat 1 ist mit einer Bond-Elektrode 12 versehen, die sich in dem Nicht-Anzeigebereich FA befindet. Das gegenüberliegende Substrat 2 ist gegenüber dem Array-Substrat 1 angeordnet. Der erste Ausrichtungsfilm 3 ist auf einer dem gegenüberliegenden Substrat 2 zugewandten Seite des Anzeigesubstrats 1 angeordnet. Die Haltewandstruktur 5 ist auf der dem gegenüberliegenden Substrat 2 zugewandten Seite des Array-Substrats 1 angeordnet, wobei sich mindestens ein Teil der Haltewandstruktur 5 zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm 3 und der Bond-Elektrode 12 befindet.
  • Bei der erfindungsgemäßen Anzeigetafel und dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren wird die Haltewandstruktur 5 verwendet, um den Materialfluss des ersten Ausrichtungsfilms 3 zu begrenzen, wodurch verhindert wird, dass der erste Ausrichtungsfilm 3 die Bond-Elektrode 12 bedeckt und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird, wodurch häufig auftretende Fehler, wie z. B. schwerwiegende Leitungsfehler, vermieden werden und die Produkte massenproduzierbar sind.
  • In dieser beispielhaften Ausführungsform befindet sich eine orthographische Projektion der Haltewandstruktur 5 auf dem Array-Substrat 1 zumindest teilweise innerhalb einer orthographischen Projektion des gegenüberliegenden Substrats 2 auf dem Array-Substrat 1, d.h. die orthographische Projektion der Haltewandstruktur 5 auf dem Array-Substrat 1 kann sich vollständig innerhalb der orthographischen Projektion des gegenüberliegenden Substrats 2 auf dem Array-Substrat 1 befinden, oder die orthografische Projektion der Haltewandstruktur 5 auf dem Array-Substrat 1 kann sich teilweise außerhalb der orthografischen Projektion des gegenüberliegenden Substrats 2 auf dem Array-Substrat 1 und teilweise innerhalb der orthografischen Projektion des gegenüberliegenden Substrats 2 auf dem Array-Substrat 1 befinden, so dass eine Breite des Rahmens der Anzeigetafel nicht durch die Hinzufügung der Haltewandstruktur 5 vergrößert wird und die Anforderung an einen schmalen Rahmen immer noch erfüllt ist. Darüber hinaus wird sichergestellt, dass im Falle von Prozessschwankungen ein Spalt zwischen der Haltewandstruktur 5 und der Bond-Elektrode 12 vorhanden ist, so dass vermieden werden kann, dass die Bond-Elektrode 12 durch die Haltewandstruktur 5 abgedeckt wird und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird.
  • In dieser beispielhaften Ausführungsform kann die Anzeigetafel ferner einen Dichtungsrahmen 4 umfassen, der zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm 3 und dem gegenüberliegenden Substrat 2 im Nicht-Anzeigebereich FA angeordnet ist und sich auf einer dem Anzeigebereich AA zugewandten Seite der Bond-Elektrode 12 befindet.
  • Die Anzeigetafel weist einen Anzeigebereich AA und einen an den Anzeigebereich AA angrenzenden Nicht-Anzeigebereich FA auf. Im Nicht-Anzeigebereich FA ist ferner ein Bindungsbereich (BOD) vorgesehen. Im Bindungsbereich (BOD) ist eine Bond-Elektrode 12 vorgesehen.
  • In dieser beispielhaften Ausführungsform kann das Array-Substrat 1 ein erstes Basissubstrat 11 und einen Dünnfilmtransistor, eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode (von denen keine in den Figuren dargestellt ist) umfassen, die auf dem ersten Basissubstrat 11 angeordnet sind. Insbesondere ist eine Pufferschicht auf einer Seite des ersten Basissubstrats 11 angeordnet. Eine erste Elektrode ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Pufferschicht angeordnet. Ein Gate ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der ersten Elektrode angeordnet. Eine Gate-Isolierschicht ist auf einer von dem ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite des Gates angeordnet. Eine aktive Schicht ist auf einer von dem ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Gate-Isolierschicht angeordnet. Eine Isolierschicht ist auf einer von dem ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der aktiven Schicht angeordnet. Eine Source und ein Drain sind auf einer von dem ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Isolierschicht angeordnet. Eine Schutzschicht ist auf einer von dem ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Source und des Drain angeordnet. Eine zweite Elektrode ist auf einer von dem ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Schutzschicht angeordnet. Die Materialien der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode können ITO (Indium-Zinn-Oxid) sein. Das Gate, die aktive Schicht sowie die Source und der Drain bilden den Dünnschichttransistor. Das Gate ist über eine Gateleitung mit der Bond-Elektrode 12 (Gateleitungs-Bond-Elektrode) verbunden. Die Source oder der Drain ist über eine Datenleitung mit der Bond-Elektrode 12 (Datenleitungs-Bond-Elektrode) verbunden. Die erste Elektrode kann eine Pixelelektrode sein. Bei der zweiten Elektrode kann es sich um eine gemeinsame Elektrode handeln.
  • In einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung kann das Array-Substrat 1 ein erstes Basissubstrat 11 und einen Dünnfilmtransistor, eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode (von denen keine in den Figuren dargestellt ist) umfassen, die auf dem ersten Basissubstrat 11 angeordnet sind. Insbesondere ist eine Pufferschicht auf einer Seite des ersten Basissubstrats 11 angeordnet. Ein Gate ist auf der vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Pufferschicht angeordnet. Eine Gate-Isolierschicht ist auf der vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite des Gates angeordnet. Eine aktive Schicht ist auf der vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Gate-Isolierschicht angeordnet. Eine Isolierschicht ist auf der vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der aktiven Schicht angeordnet. Eine Source und ein Drain sind auf der vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Isolierschicht angeordnet. Eine erste Schutzschicht ist auf der vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Source und des Drain angeordnet. Eine organische Filmschicht ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der ersten Schutzschicht angeordnet. Eine erste Elektrode ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der organischen Filmschicht angeordnet. Eine zweite Schutzschicht ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der ersten Elektrode angeordnet. Eine zweite Elektrode ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der zweiten Schutzschicht angeordnet. Die Materialien der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode können ITO (Indium-Zinn-Oxid) sein. Das Gate, die aktive Schicht sowie die Source und der Drain bilden den Dünnschichttransistor. Das Gate ist über eine Gateleitung mit der Bond-Elektrode 12 (Gateleitungs-Bond-Elektrode) verbunden. Die Source oder der Drain ist über eine Datenleitung mit der Bond-Elektrode 12 (Datenleitungs-Bond-Elektrode) verbunden. Die erste Elektrode kann eine Pixelelektrode sein. Bei der zweiten Elektrode kann es sich um eine gemeinsame Elektrode handeln.
  • Die Dünnfilmtransistoren in den beiden obigen beispielhaften Ausführungsformen sind Bottom-Gate-Dünnfilmtransistoren. Natürlich können die Dünnfilmtransistoren Top-Gate-Dünnfilmtransistoren oder auch Doppel-Gate-Dünnfilmtransistoren sein.
  • Darüber hinaus ist es auch möglich, nur eine Elektrode, z. B. eine Pixelelektrode, auf dem Array-Substrat 1 vorzusehen; die andere Elektrode (z. B. die gemeinsame Elektrode) ist auf dem gegenüberliegenden Substrat 2 angeordnet.
  • Eine Planarisierungsschicht, eine Passivierungsschicht usw. können auch auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der zweiten Elektrode angeordnet sein.
  • Die Haltewandstruktur 5 ist auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Passivierungsschicht angeordnet. Die Haltewandstruktur 5 kann verwendet werden, um den ersten Ausrichtungsfilm 3 und die Bond-Elektrode 12 zu trennen, d.h. die Haltewandstruktur 5 wird verwendet, um den Fluss des Materials des ersten Ausrichtungsfilms 3 zu begrenzen, wodurch verhindert wird, dass der erste Ausrichtungsfilm 3 die Bond-Elektrode 12 bedeckt und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird, so dass häufig auftretende Fehler, wie z. B. schwerwiegende Leitungsfehler, vermieden werden und die Produkte massenproduzierbar sind.
  • Daher ist die Haltewandstruktur 5 in dem mit der Bond-Elektrode 12 vorgesehenen Nicht-Anzeigebereich FA angeordnet, während in dem nicht mit Bond-Elektrode 12 vorgesehenen Nicht-Anzeigebereich FA keine Haltewandstruktur 5 angeordnet werden muss. In der schematischen Draufsicht auf die Struktur der erfindungsgemäßen Anzeigetafel gemäß 3 sind beispielsweise zwei Seiten der Anzeigetafel mit Bond-Elektroden 12 versehen. Insbesondere ist eine Reihe von Bond-Elektroden 12 auf einer langen Seite der Anzeigetafel angeordnet, bei denen es sich um Datenleitungs-Bond-Elektroden handeln kann; und eine Reihe von Bond-Elektroden 12 ist auch auf einer breiten Seite der Anzeigetafel angeordnet, bei denen es sich um Gateleitungs-Bond-Elektroden handeln kann. Ein Bereich, in dem sich die Bond-Elektroden 12 befinden, ist der Bindungsbereich (BOD), und der Bindungsbereich (BOD) kann als Rechteck ausgebildet werden, wobei eine Längsrichtung des Rechtecks mit der langen Seite oder der breiten Seite der Anzeigetafel übereinstimmt. Haltewandstrukturen 5 sind an den beiden Seiten angeordnet, an denen die Bond-Elektroden 12 vorgesehen sind, und keine Haltewandstruktur 5 ist an den anderen beiden Seiten angeordnet, an denen keine Bond-Elektroden 12 vorgesehen sind.
  • Unter Bezugnahme auf die 2 bis 6 kann die Haltewandstruktur 5 in dieser beispielhaften Ausführungsform eine erste Haltewand 51 und eine zweite Haltewand 52 umfassen. Die erste Haltewand 51 und die Bond-Elektrode 12 sind voneinander beabstandet. Eine orthografische Projektion einer vom Anzeigebereich AA abgewandten Kante der ersten Haltewand 51 auf dem Array-Substrat 1 fällt mit einer orthografischen Projektion einer entsprechenden Kante des gegenüberliegenden Substrats 2 auf dem Array-Substrat 1 zusammen. Das heißt, die vom Anzeigebereich AA abgewandte Kante der ersten Haltewand 51 ist bündig mit der Kante des gegenüberliegenden Substrats 2, die der ersten Haltewand 51 gegenüberliegt, so dass eine Breite des Rahmens der Anzeigetafel nicht durch die Hinzufügung der Haltewandstruktur 5 vergrößert wird und die Anforderung an einen schmalen Rahmen immer noch erfüllt ist. Darüber hinaus wird sichergestellt, dass im Falle von Prozessschwankungen ein Spalt zwischen der Haltewandstruktur 5 und der Bond-Elektrode 12 vorgesehen ist, so dass vermieden werden kann, dass die Bond-Elektrode 12 durch die Haltewandstruktur 5 abgedeckt wird und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird.
  • In dem Fall, in dem die Haltewandstruktur 5 nur auf einer Seite angeordnet ist, kann die erste Haltewand 51 in einer Streifenform ausgebildet sein, die insbesondere eine gerade Streifenform oder eine gebogene Streifenform sein kann, die beide in den Schutzumfang der vorliegenden Anmeldung fallen.
  • Bezugnehmend auf 3, in dem Fall, in dem die Haltewandstrukturen 5 auf zwei Seiten der Anzeigetafel und zwar auf zwei benachbarten Seiten der Anzeigetafel angeordnet sind, können die zwei ersten Haltewände 51 jeweils in Streifenformen ausgebildet sein, die insbesondere gerade Streifenformen oder gebogene Streifenformen sein können.
  • Unter Bezugnahme auf 4 kann die erste Haltewand 51 zwei erste Teilhaltewände 511 umfassen, wobei eine der ersten Teilhaltewände 511 an der langen Seite der Anzeigetafel und die andere an der kurzen Seite der Anzeigetafel angeordnet ist. Die beiden ersten Teilhaltewände 511 sind beide in Streifenformen ausgebildet, die insbesondere gerade Streifenformen oder gebogene Streifenformen sein können. Die Enden der beiden ersten Teilhaltewände 511 sind miteinander verbunden, um einen Eckabschnitt auszubilden. Der Eckabschnitt kann bogenförmig, d. h. mit einer gerundeten Fase (wie durch die gestrichelte Linie in der Figur dargestellt) ausgebildet sein oder durch eine direkte Verbindung einen eingeschlossenen Winkel bilden, oder er kann als schräge Fase ausgebildet sein. Der Eckabschnitt ist entsprechend einer Ecke des Array-Substrats 1 angeordnet. Das heißt, der Eckabschnitt befindet sich an der Ecke des Array-Substrats 1, um mit der Ecke des Array-Substrats 1 zusammenzuwirken.
  • Wenn die Haltewandstrukturen 5 an drei oder vier Seiten der Anzeigetafel angeordnet sind, können die drei oder vier ersten Haltewände 51 natürlich alle streifenförmig ausgebildet und nicht miteinander verbunden sein. Alternativ kann die erste Haltewand 51 drei erste Teilhaltewände 511 umfassen, wobei die drei ersten Teilhaltewände 511 nacheinander gekoppelt sind, um eine halbgeschlossene Form zu bilden. Alternativ kann die erste Haltewand 51 vier erste Teilhaltewände 511 umfassen, wobei die vier ersten Teilhaltewände 511 nacheinander gekoppelt sind, um einen rechteckigen Kasten zu bilden.
  • Die Breite der ersten Haltewand 51 ist größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer, und die Höhe der ersten Haltewand 51 ist größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer. Die Höhe der ersten Haltewand 51 ist kleiner als die Höhe des Dichtungsrahmens 4, um eine übermäßige Abstützung in der Anzeigetafelanordnung zu vermeiden.
  • Wenn die ersten Haltewände 51 streifenförmig ausgebildet sind und nicht miteinander verbunden sind, ist die Länge der ersten Haltewand 51 größer als die Länge der der ersten Haltewand 51 gegenüberliegenden Kante des ersten Ausrichtungsfilms 3, d.h. die Länge der ersten Haltewand 51 an einer langen Seite des ersten Ausrichtungsfilms 3 kann größer sein als die Länge der langen Seite des ersten Ausrichtungsfilms 3, und die Länge der ersten Haltewand 51 an einer kurzen Seite des ersten Ausrichtungsfilms 3 kann größer sein als die Länge der kurzen Seite des ersten Ausrichtungsfilms 3, um sicherzustellen, dass die erste Haltewand 51 den Fluss des ersten Ausrichtungsfilms 3 zur Bond-Elektrode 12 vollständig blockieren kann.
  • Die Länge der ersten Haltewand 51 kann größer sein als die Länge einer Reihe, die durch eine Vielzahl von Bond-Elektroden 12 gebildet wird, die entlang einer Erstreckungsrichtung der ersten Haltewand 51 angeordnet sind. Beispielsweise bildet eine Vielzahl von Bond-Elektroden 12, die an der langen Seite des ersten Ausrichtungsfilms 3 angeordnet sind, eine Reihe, wobei ein Abstand von einer von den übrigen Bond-Elektroden 12 abgewandten Seite einer ersten Bond-Elektrode 12 zu einer von den übrigen Bond-Elektroden 12 abgewandten Seite der letzten Bond-Elektrode 12 die Länge der Reihe ist. Natürlich kann die Vielzahl von Bond-Elektroden 12 auch eine gewisse Fehlausrichtung aufweisen. Auf diese Weise kann die erste Haltewand 51 die Bond-Elektroden 12 vollständig schützen und das Fließen des ersten Ausrichtungsfilms 3 zu den Bond-Elektroden 12 verhindern.
  • Die zweite Haltewand 52 ist zwischen der ersten Haltewand 51 und dem Dichtungsrahmen 4 angeordnet. Die zweite Haltewand 52 und die erste Haltewand 51 sind voneinander beabstandet, wobei ein Abstand zwischen der ersten Haltewand 51 und der zweiten Haltewand 52 größer als oder gleich 50 Mikrometer ist. Durch eine solche Anordnung kann trotz der Prozessschwankungen sichergestellt werden, dass die erste Haltewand 51 und die zweite Haltewand 52 voneinander beabstandet sind, so dass es vemieden werden kann, dass die erste Haltewand 51 und die zweite Haltewand 52 sich überlappen und eine einzige Haltewand bilden. Die zweite Haltewand 52 ist von dem Dichtungsrahmen 4 beabstandet. Der Abstand zwischen der zweiten Haltewand 52 und dem Dichtungsrahmen 4 ist größer als oder gleich 80 Mikrometer. Durch eine solche Anordnung kann trotz der Prozessschwankungen sichergestellt werden, dass ein ausreichender Toleranzraum für die Bildung des Dichtungsrahmens 4 vorhanden ist, so dass die Überlappung des Dichtungsrahmens 4 und der zweiten Haltewand 52 vermieden wird und die Basis, auf der das Dichtungsrahmen 4 zu bilden ist, relativ flach gemacht wird und auch der gebildete Dichtungsrahmen 4 relativ flach gemacht wird, um das Array-Substrat 1 und das gegenüberliegende Substrat 2 besser zu kleben und die Dichtung zwischen dem Array-Substrat 1 und dem gegenüberliegenden Substrat 2 sicherzustellen.
  • Unter Bezugnahme auf die 4 und 5 kann die zweite Haltewand 52 eine Vielzahl von zweiten Teilhaltewänden 521 umfassen, wobei zwei benachbarte zweite Teilhaltewände 521 voneinander beabstandet sind. Ein Spalt zwischen zwei benachbarten zweiten Teilhaltewänden 521 kann es ermöglichen, dass ein Teil des überschüssigen Materials des ersten Ausrichtungsfilms 3 hindurchfließt, wodurch verhindert wird, dass das Material des ersten Ausrichtungsfilms 3 in den Anzeigebereich AA zurückfließt und den Anzeigeeffekt beeinträchtigt. Darüber hinaus wird das Material des ersten Ausrichtungsfilms 3, das durch die zweiten Teilhaltewände 521 fließt, durch die erste Haltewand 51 blockiert, um zu verhindern, dass das Material des ersten Ausrichtungsfilms 3 zu den Bond-Elektroden 12 fließt. In diesem Fall befindet sich der anschließend gebildete erste Ausrichtungsfilm 3 auf der dem Anzeigebereich AA zugewandten Seite der ersten Haltewand 51.
  • Die zweite Teilhaltewand 521 kann in einer Streifenform ausgebildet sein, die insbesondere eine gerade Streifenform oder eine gebogene Streifenform sein kann. Eine Erstreckungsrichtung der zweiten Teilhaltewand 521 stimmt mit einer Erstreckungsrichtung der gegenüberliegenden ersten Haltewand 51 überein, d.h. die zweite Teilhaltewand 521 und die gegenüberliegende erste Haltewand 51 verlaufen im Wesentlichen parallel zueinander. Ein Abstand zwischen zwei benachbarten zweiten Teilhaltewänden 521 ist kleiner als oder gleich einer Länge einer zweiten Teilhaltewand 521. Der Abstand zwischen zwei benachbarten zweiten Teilhaltewänden 521 kann ein ganzzahliges Vielfaches eines Pixels sein. Die Länge der zweiten Teilhaltewand 521 kann ebenfalls ein ganzzahliges Vielfaches eines Pixels sein. Durch eine solche Anordnung kann sichergestellt werden, dass die Sperrfähigkeit der zweiten Haltewand 52 dazu ausreichend ist, den ersten Ausrichtungsfilm 3 zu blockieren.
  • Die Vielzahl von zweiten Teilhaltewänden 521 kann entlang einer geraden Linie angeordnet sein, um eine Reihe zu bilden. Alternativ können sie nicht entlang einer geraden Linie, sondern versetzt entlang mehrerer gerader Linien angeordnet sein, solange sichergestellt ist, dass der Abstand zwischen der zweiten Haltewand 52 und der ersten Haltewand 51 ausreichend ist.
  • Natürlich kann in einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung gemäß 3 die zweite Haltewand 52 auch in der gleichen Streifenform wie die erste Haltewand 51 ausgebildet sein. In diesem Fall kann das Material des ersten Ausrichtungsfilms 3 aus dem nicht verbundenen Eckabschnitt der zweiten Haltewand 52 herausfließen.
  • Die zweite Haltewand 52 kann auch einstückig in einer „L“-Form oder einer halbgeschlossenen Form ausgebildet sein. In diesem Fall kann das Material des ersten Ausrichtungsfilms 3 entlang der zweiten Haltewand 52 zu einer Seite ohne die Haltewandstruktur 5 ausfließen. Die zweite Haltewand 52 kann auch als einstückiger rechteckiger Rahmen ausgebildet sein. In diesem Fall befindet sich der nachträglich gebildete erste Ausrichtungsfilm 3 auf der dem Anzeigebereich AA zugewandten Seite der zweiten Haltewand 52.
  • Darüber hinaus kann in Bezug auf 6 in dem Fall, dass eine Vielzahl von zweiten Haltewänden 52 vorgesehen ist, eine zweite Haltewand 52 als eine Struktur mit einer Vielzahl von zweiten Teilhaltewänden 521 ausgebildet sein, um Auslassöffnungen für das Material des ersten Ausrichtungsfilms 3 bereitzustellen, wobei die andere zweite Haltewand 52 als eine einstückige Streifenform oder eine „L“-Form oder eine halbgeschlossene Form ausgebildet sein kann.
  • Die Breite der zweiten Haltewand 52 ist größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer, und die Höhe der zweiten Haltewand 52 ist größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer. Die Höhe der zweiten Haltewand 52 ist kleiner als die Höhe des Dichtungsrahmens 4, um eine übermäßige Abstützung in der Anzeigetafelanordnung zu vermeiden. Da die zweite Haltewand 52 und die erste Haltewand 51 durch einen und denselben Strukturierungsprozess gebildet werden, können die Breite der zweiten Haltewand 52 und die Breite der ersten Haltewand 51 unterschiedlich sein, aber die Höhe der zweiten Haltewand 52 ist im Wesentlichen gleich wie die der ersten Haltewand 51.
  • Bei den Materialien der ersten Haltewand 51 und der zweiten Haltewand 52 kann es sich um organische Materialien, R/G/B-Farbfilmschichtmaterialien, OC (OVER COATING) Planarisierungsschichtmaterialien, PS (Photo Spacer, UV-härtendes PAA-Harz) Materialien usw. handeln.
  • Darüber hinaus kann in einigen weiteren beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung, wie in 7 gezeigt, die Haltewandstruktur 5 nur eine erste Haltewand 51 umfassen, wobei die erste Haltewand 51 in Form von Streifen ausgebildet sein kann, die nicht miteinander verbunden sind. Alternativ können die Streifen miteinander verbunden, um einen Eckabschnitt auszubilden (wie durch die gestrichelten Linien in der Figur gezeigt). Die spezifische Struktur der ersten Haltewand 51 ist gleich wie die der ersten Haltewand 51 in den oben genannten beispielhaften Ausführungsformen, so dass sich eine wiederholte Darstellng erübrigt. Natürlich kann die Haltewandstruktur 5 auch drei oder mehr Haltewände usw. umfassen.
  • In einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung gemäß 8 kann die Haltewandstruktur 5 eine erste Haltewand 51 und eine Sperrschicht 53 umfassen. Die erste Haltewand 51 und die Bond-Elektrode 12 sind voneinander beabstandet. Die Sperrschicht 53 ist auf einer von der Bond-Elektrode 12 abgewandten Seite der ersten Haltewand 51 angeordnet, wobei die Sperrschicht 53 von der ersten Haltewand 51 beabstandet ist, um eine Rille 54 zu bilden. Die Sperrschicht 53 erstreckt sich und bedeckt den Anzeigebereich AA. Der erste Ausrichtungsfilm 3 befindet sich auf einer von dem Array-Substrat 1 abgewandten Seite der Sperrschicht 53.
  • Die spezifische Struktur der ersten Haltewand 51 ist gleich wie die der ersten Haltewand 51 in den oben genannten beispielhaften Ausführungsformen, so dass sich eine wiederholte Darstellng erübrigt.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass in dem Fall, in dem die Bond-Elektroden 12 auf zwei oder mehr Seiten vorgesehen sind, es ausreichend ist, die Struktur oder die Anzahl der ersten Haltewände 51 zu ändern, und es nicht notwendig ist, eine weitere Sperrschicht 53 vorzusehen. Beispielsweise können in dem Fall, in dem die Bond-Elektroden 12 auf zwei benachbarten Seiten vorgesehen sind, zwei streifenförmige erste Haltewände 51 auf diesen beiden Seiten vorgesehen werden, wobei zwischen den beiden ersten Haltewänden 51 und der Sperrschicht 53 jeweils eine Rille 54 ausgebildet ist. Alternativ umfasst die erste Haltewand 51 zwei erste Teilhaltewände 511, wobei zwischen den beiden ersten Teilhaltewänden 511 und der Sperrschicht 53 jeweils eine Rille 54 ausgebildet ist. Die beiden ersten Teilhaltewände 511 sind streifenförmig ausgebildet. Die Enden der beiden ersten Teilhaltewände 511 sind miteinander verbunden, um einen Eckabschnitt auszubilden. Der Eckabschnitt kann bogenförmig ausgebildet sein oder durch eine direkte Verbindung einen eingeschlossenen Winkel bilden. Der Eckabschnitt ist entsprechend der Ecke des Array-Substrats 1 angeordnet. Das heißt, der Eckabschnitt befindet sich an der Ecke des Array-Substrats 1, um mit der Ecke des Array-Substrats 1 zusammenzuwirken.
  • Aufgrund einer solchen Anordnung fließt in einem nachfolgenden Prozess zur Bildung des ersten Ausrichtungsfilms 3 der überschüssige erste Ausrichtungsfilm 3 in die Rille 54, wodurch der Materialfluss des ersten Ausrichtungsfilms 3 begrenzt wird und verhindert wird, dass der erste Ausrichtungsfilm 3 die Bond-Elektrode 12 bedeckt und das Leiten der elektrischen Signale beeinträchtigt wird, wodurch häufig auftretende Fehler, wie z. B. schwerwiegende Leitungsfehler, vermieden werden und die Produkte massenproduzierbar sind.
  • Ein Abstand zwischen der ersten Haltewand 51 und der Sperrschicht 53 ist größer als oder gleich 50 Mikrometer. Durch diese Anordnung kann trotz der Prozessschwankungen sichergestellt werden, dass die erste Haltewand 51 und die Sperrschicht 53 zur Bildung der Rille 54 beabstandet sind, so dass es vermieden ist, dass die erste Haltewand 51 und die Sperrschicht 53 sich überlappen und damit keine Rille 54 bilden.
  • Die Breite der ersten Haltewand 51 ist größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer, und die Höhe der ersten Haltewand 51 und die Höhe der Sperrschicht 53 sind größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer, um sicherzustellen, dass eine Rille 54 mit ausreichender Tiefe gebildet wird, um das überschüssige fließende Material des ersten Ausrichtungsfilms 3 aufzunehmen.
  • Das Material der ersten Haltewand 51 kann ein organisches Material oder ein anorganisches Material sein.
  • Das Material der Sperrschicht 53 kann ein organisches oder anorganisches Material sein, solange es ein transparentes Material ist, da die Sperrschicht 53 den Anzeigebereich AA abdeckt und das Licht durchlassen muss.
  • Da die erste Haltewand 51 und die Sperrschicht 53 durch denselben Strukturierungsprozess gebildet werden, ist das Material der ersten Haltewand 51 und der Sperrschicht 53 natürlich dasselbe. Die Höhe der ersten Haltewand 51 und die Höhe der Sperrschicht 53 sind im Wesentlichen identisch.
  • Unter Bezugnahme auf ein Vergleichsdiagramm von tatsächlich gemessenen Daten von Kantenabständen eines ersten Ausrichtungsfilms 3 in verschiedenen Anzeigetafel-Testproben mit einer Haltewandstruktur 5 und ohne eine Haltewandstruktur 5 gemäß 9 stellt die Abszisse in der Figur die tatsächlich gemessenen Daten von Kantenabständen des ersten Ausrichtungsfilms 3 in Mikrometer dar. Wie aus der Figur ersichtlich ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3, wenn die Testprobe F mit einer Haltewandstruktur 5 versehen ist, etwa 0,35 Mikrometer. Wenn die Testprobe F mit keiner Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,95 Mikrometer. Wenn die Testprobe E mit einer Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,19 Mikrometer. Wenn die Testprobe E mit keiner Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,73 Mikrometer. Wenn die Testprobe D mit einer Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,16 Mikrometer. Wenn die Testprobe D mit keiner Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,75 Mikrometer. Wenn die Testprobe C mit einer Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,11 Mikrometer. Wenn die Testprobe C mit keiner Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,76 Mikrometer. Wenn die Testprobe B mit einer Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,2 Mikrometer. Wenn die Testprobe B mit keiner Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,62 Mikrometer. Wenn die Testprobe A mit einer Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,38 Mikrometer. Wenn die Testprobe A mit keiner Haltewandstruktur 5 versehen ist, beträgt der Kantenabstand des ersten Ausrichtungsfilms 3 etwa 0,69 Mikrometer.
  • Unter Bezugnahme auf schematische Strukturdiagramme einer Positionsbeziehung zwischen einer Bond-Leitung einer Gate-Leitung und einer Haltewandstruktur gemäß 10 und 11 sind eine Vielzahl von Gate-Leitungen 17 parallel angeordnet, wobei eine Gate-Leitung 17 mit einer Bond-Leitung 13 verbunden ist. Die Bond-Leitung 13 kann eine erste Sub-Elektrode 131, eine zweite Sub-Elektrode 132 und eine dritte Sub-Elektrode 133 umfassen, wobei die erste Sub-Elektrode 131 und die dritte Sub-Elektrode 133 symmetrisch auf beiden Seiten der zweiten Sub-Elektrode 132 angeordnet sind, und wobei ein Ende der ersten Sub-Elektrode 131, ein Ende der zweiten Sub-Elektrode 132 und ein Ende der dritten Sub-Elektrode 133 parallel zueinander angeordnet sind und die anderen Enden einstückig miteinander verbunden sind. Insbesondere ist die zweite Sub-Elektrode 132 in Form eines langen Streifens ausgebildet. Die erste Sub-Elektrode 131 umfasst zwei miteinander verbundene Segmente, wobei die beiden Segmente so miteinander verbunden sind, dass sie einen stumpfen Winkel bilden, wobei eines der Segmente parallel zur zweiten Sub-Elektrode 132 verläuft und ein Ende des anderen Segments mit einem Ende der zweiten Sub-Elektrode 132 verbunden ist. Die dritte Sub-Elektrode 133 umfasst zwei miteinander verbundene Segmente, wobei die beiden Segmente so miteinander verbunden sind, dass sie einen stumpfen Winkel bilden, wobei eines der Segmente parallel zur zweiten Sub-Elektrode 132 verläuft und ein Ende des anderen Segments mit einem Ende der zweiten Sub-Elektrode 132 und einem Ende der ersten Sub-Elektrode 131 verbunden ist, um einen Verbindungsabschnitt auszubilden. Der Verbindungsabschnitt ist annähernd dreieckig ausgebildet. Die Gate-Leitung 17 ist mit dem oberen Ende des Verbindungsabschnitts verbunden, nachdem sie gebogen wurde. Die Gate-Leitung 17 ist relativ dünn, und durch diese Anordnung kann die Fläche der Bond-Leitung 13 vergrößert werden, um das anschließende Bonden zu erleichtern. Natürlich kann auch die Bond-Leitung der Datenleitung auf diese Weise ausgestaltet werden.
  • Bezugnehmend auf 11 ist eine Pufferschicht 14 auf einer Seite des ersten Basissubstrats 11 angeordnet. Auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Pufferschicht 14 sind ein Gate (in der Figur nicht dargestellt), eine Gate-Leitung 17 und eine Bond-Leitung 13 angeordnet. Auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite des Gates, der Gate-Leitung 17 und der Bond-Leitung 13 der Gate-Leitung 17 ist eine Gate-Isolierschicht 15 angeordnet. Auf einer vom ersten Basissubstrat 11 abgewandten Seite der Gate-Isolierschicht 15 ist eine Schutzschicht 16 angeordnet. Die Gate-Isolierschicht 15 und die Schutzschicht 16 bilden eine Isolierschichtgruppe. Natürlich kann die Isolierschichtgruppe auch eine Passivierungsschicht, eine dielektrische Zwischenschicht usw. oder nur die Isolierschicht enthalten. Die Schutzschicht 16 und die Gate-Isolierschicht 15 werden an einer Stelle entfernt, an der das Bonden erforderlich ist, um die Bond-Leitung 13 freizulegen und die Bond-Elektrode 12 zu bilden.
  • Eine orthografische Projektion der ersten Haltewand 51 auf dem ersten Basissubstrat 11 überlappt teilweise mit einer orthografischen Projektion des Verbindungsabschnitts der Bond-Leitung 13 auf dem ersten Basissubstrat 11, aber die erste Haltewand 51 und die Bond-Elektrode 12 sind voneinander beabstandet.
  • Das gegenüberliegende Substrat 2 kann ein zweites Basissubstrat 21, einen Polarisator 22, der auf einer Seite des zweiten Basissubstrats 21 angeordnet ist, eine schwarze Matrix 23 und eine Farbfilmschicht 24, die auf der gegenüberliegenden Seite des zweiten Basissubstrats 21 angeordnet sind, und einen zweiten Ausrichtungsfilm 25, der auf einer vom zweiten Basissubstrat 21 abgewandten Seite der schwarzen Matrix 23 und der Farbfilmschicht 24 angeordnet ist, umfassen. Der zweite Ausrichtungsfilm 25 befindet sich auf der dem Array-Substrat 1 zugewandten Seite.
  • Ferner stellen die offenbarten beispielhaften Ausführungsformen auch ein Verfahren zur Herstellung einer Anzeigetafel bereit. 12 ist ein schematisches Blockdiagramm des Ablaufs eines Verfahrens zur Herstellung einer Anzeigetafel gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Anmeldung. Das Verfahren zur Herstellung einer Anzeigetafel kann die folgenden Schritte umfassen:
  • Schritt S 10: Bereitstellen eines Array-Substrats 1, wobei das Array-Substrat 1 mit einer Bond-Elektrode 12 versehen ist und die Bond-Elektrode 12 sich in einem Nicht-Anzeigebereich FA befindet;
  • Schritt S20: Ausbilden einer Haltewandstruktur 5 auf einer Seite des Array-Substrats 1, auf der ein gegenüberliegendes Substrat angebracht werden muss, wobei sich zumindest ein Teil der Haltewandstruktur 5 zwischen einem ersten Ausrichtungsfilm 3 und der Bond-Elektrode 12 befindet;
  • Schritt S30: Ausbilden des ersten Ausrichtungsfilms 3 auf der Seite des Array-Substrats 1, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss;
  • Schritt S40: Bereitstellen des gegenüberliegenden Substrats und zellenweises Ausrichten des gegenüberliegenden Substrats mit dem Array-Substrat 1.
  • Das gegenüberliegende Substrat 2 kann ein Farbfilmsubstrat sein.
  • In der beispielhaften Ausführungsform gemäß 13 wird eine Haltewandstruktur-Materialschicht 9 auf der Seite des Array-Substrats 1 ausgebildet, auf der das gegenüberliegende Substrat 2 angebracht werden muss. Das Material der Haltewandstruktur-Materialschicht 9 ist ein lichtempfindliches Material, beispielsweise ein Fotolack. Gemäß 14 wird eine Maske auf einer von dem Array-Substrat 1 abgewandten Seite der Haltewandstruktur-Materialschicht 9 vorgesehen, um die Haltewandstruktur-Materialschicht 9 zu belichten. Gemäß 15 wird die Haltewandstruktur-Materialschicht 9, die mit ultraviolettem Licht bestrahlt wurde, entfernt, um die Haltewandstruktur 5 zu bilden.
  • Natürlich ist es möglich, dass das Material der Haltewandstruktur-Materialschicht 9 kein lichtempfindliches Material ist. In diesem Fall muss der Fotolack auf der Haltewandstruktur-Materialschicht 9 ausgebildet werden, und die Maske wird auf einer von dem Array-Substrat 1 abgewandten Seite des Fotolacks angeordnet. Der Fotolack wird belichtet, um den mit ultraviolettem Licht bestrahlten Fotolack zu entfernen, so dass ein Teil der Haltewandstruktur-Materialschicht 9 freigelegt wird. Dann wird die Haltewandstruktur-Materialschicht 9 geätzt, um die Haltewandstruktur 5 zu bilden.
  • Der spezifische Aufbau der Haltewandstruktur 5 wurde bereits ausführlich beschrieben und wird daher hier nicht wiederholt.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass, obwohl die einzelnen Schritte des Verfahrens zur Herstellung einer Anzeigetafel in der vorliegenden Anmeldung in einer bestimmten Reihenfolge in den Figuren beschrieben werden, dies erfordert oder impliziert, dass die Schritte in der spezifischen Reihenfolge durchgeführt werden müssen, oder alle gezeigten Schritte durchgeführt werden müssen, um das gewünschte Ergebnis zu erzielen. Zusätzlich oder alternativ können bestimmte Schritte weggelassen werden, mehrere Schritte können zu einem Schritt zusammengefasst werden und/oder ein Schritt kann in mehrere Schritte zerlegt werden und so weiter.
  • Ferner stellen die offenbarten beispielhaften Ausführungsformen auch eine Anzeigevorrichtung bereit, welche die in einer der obigen Ausführungsformen beschriebene Anzeigetafel umfassen kann. Die spezifische Struktur der Anzeigetafel wurde bereits ausführlich beschrieben und wird daher hier nicht wiederholt.
  • Der spezifische Typ der Anzeigevorrichtung ist nicht besonders eingeschränkt. Dabei kann es sich um gängige Arten von Anzeigevorrichtungen in der einschlägigen Fachwelt handeln, wie z. B. mobile Geräte wie Mobiltelefone, tragbare Geräte wie Uhren, VR-Geräte usw. Der Fachmann kann eine entsprechende Wahl nach der spezifischen Verwendung der Anzeigevorrichtung treffen, was hier nicht näher erläutert wird.
  • Es ist zu beachten, dass die Anzeigevorrichtung neben der Anzeigetafel auch andere notwendige Komponenten oder die Kombination davon umfasst. Am Beispiel eines Displays muss es ein Gehäuse, eine Leiterplatte, eine Stromversorgungsleitung usw. umfassen. Der Fachmann kann entsprechende Ergänzungen je nach den spezifischen Nutzungsanforderungen der Anzeigevorrichtung vornehmen, was hier nicht näher erläutert wird.
  • Im Vergleich zum Stand der Technik sind die vorteilhaften Effekte der Anzeigevorrichtung, die durch die beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung bereitgestellt werden, gleich wie die vorteilhaften Effekte der Anzeigetafel, die durch die oben erwähnten beispielhaften Ausführungsformen bereitgestellt werden, und werden hier nicht wiederholt.
  • Der Fachmann kann unter Berücksichtigung der Beschreibung nach der Implementierung der hierin offenbarten technischen Lösungen leicht zu anderen Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung gelangen. Die vorliegende Anmeldung soll alle Variationen, Verwendungen oder Anpassungen der vorliegenden Offenbarung abdecken, die mit den allgemeinen Grundsätzen der vorliegenden Offenbarung übereinstimmen und allgemeines Wissen oder konventionelle technische Maßnahmen in der einschlägigen Fachwelt umfassen, die in der vorliegenden Offenbarung nicht offenbart sind. Die Beschreibung und die Ausführungsformen sind nur beispielhaft und der wahre Umfang und Geist der vorliegenden Offenbarung wird durch die beigefügten Ansprüche definiert.

Claims (20)

  1. Anzeigetafel mit einem Anzeigebereich und einem an den Anzeigebereich angrenzenden Nicht-Anzeigebereich, wobei die Anzeigetafel umfasst: ein Array-Substrat, auf dem eine Bond-Elektrode angeordnet ist, wobei sich die Bond-Elektrode in dem Nicht-Anzeigebereich befindet; ein gegenüberliegendes Substrat, das gegenüber dem Array-Substrat angeordnet ist; einen ersten Ausrichtungsfilm, der auf einer dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet ist; und eine Haltewandstruktur, die auf der dem gegenüberliegenden Substrat zugewandten Seite des Array-Substrats angeordnet ist, wobei zumindest ein Teil der Haltewandstruktur zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm und der Bond-Elektrode angeordnet ist.
  2. Anzeigetafel nach Anspruch 1, wobei sich eine orthografische Projektion der Haltewandstruktur auf dem Array-Substrat zumindest teilweise innerhalb einer orthografischen Projektion des gegenüberliegenden Substrats auf dem Array-Substrat befindet.
  3. Anzeigetafel nach Anspruch 2, wobei die Anzeigetafel ferner umfasst: einen Dichtungsrahmen, der zwischen dem ersten Ausrichtungsfilm und dem gegenüberliegenden Substrat angeordnet ist, wobei sich der Dichtungsrahmen in dem Nicht-Anzeigebereich und auf einer dem Anzeigebereich zugewandten Seite der Bond-Elektrode befindet; wobei die Haltewandstruktur umfasst: eine erste Haltewand, die von der Bond-Elektrode beabstandet ist; und eine zweite Haltewand, die zwischen der ersten Haltewand und dem Dichtungsrahmen angeordnet ist, wobei die zweite Haltewand von der ersten Haltewand und auch von dem Dichtungsrahmen beabstandet ist und mindestens ein Teil des ersten Ausrichtungsfilms auf einer von der ersten Haltewand abgewandten Seite der zweiten Haltewand angeordnet ist.
  4. Anzeigetafel nach Anspruch 3, wobei die zweite Haltewand eine Vielzahl von zweiten Teilhaltewänden umfasst, und wobei zwei benachbarte zweite Teilhaltewände jeweils voneinander beabstandet sind.
  5. Anzeigetafel nach Anspruch 4, wobei die zweite Teilhaltewand streifenförmig ausgebildet ist, wobei eine Erstreckungsrichtung der zweiten Haltewand mit einer Erstreckungsrichtung der gegenüberliegenden ersten Haltewand übereinstimmt, und wobei ein Abstand zwischen den beiden benachbarten zweiten Teilhaltewänden kleiner als eine Länge der zweiten Teilhaltewand ist.
  6. Anzeigetafel nach Anspruch 3, wobei ein Abstand zwischen der zweiten Haltewand und dem Dichtungsrahmen größer als oder gleich 80 Mikrometer ist.
  7. Anzeigetafel nach Anspruch 3, wobei ein Abstand zwischen der ersten Haltewand und der zweiten Haltewand größer als oder gleich 50 Mikrometer ist.
  8. Anzeigetafel nach Anspruch 3, wobei eine Breite der ersten Haltewand und eine Breite der zweiten Haltewand beide größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer sind und eine Höhe der ersten Haltewand und eine Höhe der zweiten Haltewand beide größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer sind.
  9. Anzeigetafel nach Anspruch 1, wobei die Haltewandstruktur umfasst: eine erste Haltewand, die von der Bond-Elektrode beabstandet ist; und eine Sperrschicht, die auf einer von der Bond-Elektrode abgewandten Seite der ersten Haltewand angeordnet ist, wobei die Sperrschicht von der ersten Haltewand beabstandet ist, um eine Rille auszubilden, wobei die Sperrschicht sich erstreckt und den Anzeigebereich bedeckt, und wobei der erste Ausrichtungsfilm auf einer von dem Array-Substrat abgewandten Seite der Sperrschicht angeordnet ist.
  10. Anzeigetafel nach Anspruch 9, wobei ein Abstand zwischen der ersten Haltewand und der Sperrschicht größer als oder gleich 50 Mikrometer ist.
  11. Anzeigetafel nach Anspruch 9, wobei eine Breite der ersten Haltewand größer als oder gleich 15 Mikrometer und kleiner als oder gleich 25 Mikrometer ist und eine Höhe der ersten Haltewand und eine Höhe der Sperrschicht beide größer als oder gleich 1 Mikrometer und kleiner als oder gleich 3 Mikrometer sind.
  12. Anzeigetafel nach einem der Ansprüche 3 bis 11, wobei eine orthografische Projektion einer vom Anzeigebereich abgewandten Kante der ersten Haltewand auf dem Array-Substrat mit einer orthografischen Projektion einer entsprechenden Kante des gegenüberliegenden Substrats auf dem Array-Substrat zusammenfällt.
  13. Anzeigetafel nach einem der Ansprüche 3 bis 11, wobei die erste Haltewand streifenförmig ausgebildet ist und eine Länge der ersten Haltewand größer ist als eine Länge einer der ersten Haltewand gegenüberliegenden Kante des ersten Ausrichtungsfilms oder eine Länge der ersten Haltewand größer ist als eine Länge einer Reihe, die von einer Vielzahl von Bond-Elektroden gebildet wird, die entlang einer Erstreckungsrichtung der ersten Haltewand angeordnet sind.
  14. Anzeigetafel nach einem der Ansprüche 3 bis 11, wobei die erste Haltewand zwei erste Teilhaltewände umfasst, wobei die beiden ersten Teilhaltewände streifenförmig ausgebildet sind und die Enden der beiden ersten Teilhaltewände miteinander verbunden sind und einen Eckabschnitt bilden, und wobei der Eckabschnitt entsprechend einer Ecke des Array-Substrats angeordnet ist.
  15. Anzeigetafel nach Anspruch 14, wobei der Eckabschnitt als schräge Fase oder als gerundete Fase ausgebildet ist.
  16. Anzeigetafel nach Anspruch 3, wobei das Array-Substrat in dem Nicht-Anzeigebereich umfasst: ein erstes Basissubstrat; eine Pufferschicht, die auf einer Seite des ersten Basissubstrats angeordnet ist; eine Bond-Leitung, die auf einer von dem ersten Basissubstrat abgewandten Seite der Pufferschicht angeordnet ist; und eine Isolierschichtgruppe, die auf einer von dem ersten Basissubstrat abgewandten Seite der Bond-Leitung angeordnet ist, wobei die Isolierschichtgruppe mit einer Kerbe versehen ist, so dass die Bond-Leitung zur Bildung der Bond-Elektrode freiliegt.
  17. Anzeigetafel nach Anspruch 16, wobei die Bond-Leitung eine erste Sub-Elektrode, eine zweite Sub-Elektrode und eine dritte Sub-Elektrode umfasst, wobei die erste Sub-Elektrode und die dritte Sub-Elektrode symmetrisch auf beiden Seiten der zweiten Sub-Elektrode angeordnet sind, und wobei ein Ende der ersten Sub-Elektrode, ein Ende der zweiten Sub-Elektrode und ein Ende der dritten Sub-Elektrode parallel zueinander angeordnet sind und die anderen Enden einstückig miteinander verbunden sind, um einen Verbindungsabschnitt zu bilden, wobei eine orthographische Projektion der ersten Haltewand auf dem ersten Basissubstrat teilweise mit einer orthographischen Projektion des Verbindungsabschnitts auf dem ersten Basissubstrat überlappt.
  18. Verfahren zur Herstellung einer Anzeigetafel, umfassend: Bereitstellen eines Array-Substrats, wobei das Array-Substrat mit einer Bond-Elektrode versehen ist und die Bond-Elektrode sich in einem Nicht-Anzeigebereich befindet; Ausbilden einer Haltewandstruktur auf einer Seite des Array-Substrats, auf der ein gegenüberliegendes Substrat angebracht werden muss, wobei sich zumindest ein Teil der Haltewandstruktur zwischen einem ersten Ausrichtungsfilm und der Bond-Elektrode befindet; Ausbilden des ersten Ausrichtungsfilms auf der Seite des Array-Substrats, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss; und Bereitstellen des gegenüberliegenden Substrats und zellenweises Ausrichten des gegenüberliegenden Substrats mit dem Array-Substrat.
  19. Verfahren zur Herstellung einer Anzeigetafel nach Anspruch 18, wobei das Ausbilden der Haltewandstruktur auf der Seite des Array-Substrats, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss, umfasst: Ausbilden einer Haltewandstruktur-Materialschicht auf der Seite des Array-Substrats, auf der das gegenüberliegende Substrat angebracht werden muss; und Strukturieren der Haltewandstruktur-Materialschicht, um die Haltewandstruktur zu bilden.
  20. Anzeigevorrichtung, die eine Anzeigetafel nach einem der Ansprüche 1-17 umfasst.
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Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101290417A (zh) * 2007-04-18 2008-10-22 奇美电子股份有限公司 液晶显示面板及其基板的制造方法
CN105068326B (zh) * 2015-09-01 2017-09-26 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示基板
CN107632434A (zh) * 2017-09-26 2018-01-26 武汉天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN107884994B (zh) * 2017-11-29 2021-04-16 武汉天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置
CN110262136A (zh) * 2019-04-02 2019-09-20 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
CN110061012B (zh) * 2019-04-09 2022-01-28 Tcl华星光电技术有限公司 一种阵列基板及其制作方法、以及显示面板
CN111142288B (zh) * 2020-02-25 2021-06-01 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示装置
CN111665665A (zh) * 2020-07-17 2020-09-15 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及显示装置
CN112083607B (zh) * 2020-09-23 2022-04-22 惠科股份有限公司 阵列基板及其制造方法、显示装置

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