DE102006029223B4 - LCD mit einer Ausrichtungsmarkierung sowie Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents

LCD mit einer Ausrichtungsmarkierung sowie Verfahren zu seiner Herstellung Download PDF

Info

Publication number
DE102006029223B4
DE102006029223B4 DE102006029223A DE102006029223A DE102006029223B4 DE 102006029223 B4 DE102006029223 B4 DE 102006029223B4 DE 102006029223 A DE102006029223 A DE 102006029223A DE 102006029223 A DE102006029223 A DE 102006029223A DE 102006029223 B4 DE102006029223 B4 DE 102006029223B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alignment marks
alignment
black matrix
lcd
gate lines
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102006029223A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102006029223A1 (de
Inventor
Keuk-Sang Chilgok Kwon
Kwang-Soon Park
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Display Co Ltd
Original Assignee
LG Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Display Co Ltd filed Critical LG Display Co Ltd
Publication of DE102006029223A1 publication Critical patent/DE102006029223A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102006029223B4 publication Critical patent/DE102006029223B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133354Arrangements for aligning or assembling substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

Aktiv-Matrix-LCD mit:
– einem unteren und einem oberen Substrat (100, 200; 300, 400);
– einer Vielzahl von Gateleitungen (101, 301), die auf dem unteren Substrat (100, 300) angeordnet sind;
– einer Vielzahl von Datenleitungen (103, 303), die so angeordnet sind, dass sie die Gateleitungen (101, 301) auf dem unteren Substrat (100, 300) senkrecht schneiden und gemeinsam mit diesen Einheitspixel bilden;
– einer ersten und einer zweiten Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b), welche auf derselben Schicht wie die Gateleitungen (101, 301) hergestellt sind, und welche jeweils auf der einen und der anderen Seite einer der Datenleitungen (103, 303) benachbart zu dieser ausgebildet sind;
– einer dritten und einer vierten Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b), welche auf derselben Schicht wie die Datenleitungen (101, 301) hergestellt sind, und welche jeweils auf der einen und der anderen Seite einer der Gateleitungen (101, 301) benachbart zu dieser ausgebildet sind;
– einer Vielzahl von...

Description

  • Die Erfindung betrifft ein LCD (Flüssigkristalldisplay), und spezieller betrifft sie ein LCD mit mindestens einer Ausrichtungsmarkierung.
  • Im Allgemeinen verfügt ein LCD über zwei Substrate, die durch einen bestimmten Zwischenraum voneinander getrennt sind, in den ein Flüssigkristall eingefüllt ist. Zwischen den zwei Substraten und dem Flüssigkristall sind mehrere Schichten ausgebildet.
  • Auf den zwei einander zugewandten Substraten sind Ausrichtungsmarkierungen ausgebildet, die als Referenzpunkte zum Ausrichten der zwei Substrate für ihre Befestigung verwendet werden. D. h., dass bei einem Ausrichtprozess der Grad der Ausrichtung der zwei Substrate dadurch bestimmt werden kann, dass erkannt wird, inwieweit die Ausrichtungsmarkierungsmuster auf den zwei Substraten übereinstimmen.
  • Die Ausrichtungsmarkierungen werden in einem nicht aktiven Bereich auf dem Substrat, in dem keine aktiven Elemente ausgebildet sind, hergestellt, und wenn der Ausrichtprozess abgeschlossen ist, wird der nicht aktive Bereich mit den Ausrichtungsmarkierungen abgeschnitten und weggeworfen.
  • In jüngerer Zeit werden die Abstände zwischen Elementen immer kleiner, um LCDs höher zu integrieren und Vollfarben zu realisieren, die natürlichen Farben ähnlich sind. So können dann, wenn die Ausrichtung eine geringe Abweichung zeigt, entsprechende Elemente in anderen Abschnitten liegen, als es ursprünglich vorgesehen ist, was die Farbreproduzierbarkeit und die Ausbeute verringert. Demgemäß ist die Ausrichtung von hoher Bedeutung.
  • Nachfolgend werden Ausrichtungsmarkierungen bei einem LCD unter Bezugnahme auf die 1 erläutert, die eine Draufsicht ist, die Ausrichtungsmarkierungen zeigt, wie sie auf einem Substrat eines LCD ausgebildet sind. Das Substrat 1 kann in einen aktiven Bereich 3, in dem verschiedene Elemente ausgebildet sind, und einen nicht aktiven Bereich 5 unterteilt werden, der abgeschnitten und weggeworfen werden kann, wenn die Fertigungsprozesse abgeschlossen sind. Ausrichtungsmarkierungen 7 sind mit einer typischen Kreuzform in vier Eckabschnitten des nicht aktiven Bereichs 5 ausgebildet.
  • Die Ausrichtungsmarkierungen werden in frühen Herstellprozessen für ein oberes und ein unteres Substrat auf diesen hergestellt, und sie werden beim Anbringen der beiden aneinander verwendet.
  • Wenn das obere und das untere Substrat eines LCD unter Einfügung eines Flüssigkristalls aneinander befestigt werden, wird in Draufsicht auf die Ebene der Substrate geprüft, ob die Ausrichtungsmarkierungen der beiden Substrate überlappen, um die korrekte Positionierung zu überprüfen.
  • Im Allgemeinen werden die Ausrichtungsmarkierungen in den Eckabschnitten des oberen und des unteren Substrats hergestellt, und typischerweise werden zwei Ausrichtungsmarkierungen in einem Eckabschnitt und einem anderen, der diesem diagonal entspricht, hergestellt. Alternativ können vier Ausrichtungsmarkierungen, jeweils einer in jedem Eckabschnitt, hergestellt werden, wenn dies zweckmäßig ist, und es kann auch, in einigen Fällen, nur eine Ausrichtungsmarkierung in einem einzelnen Eckabschnitt hergestellt werden.
  • Die Ausrichtungsmarkierungen sind zu klein, um mit dem bloßen Auge erkannt zu werden, so dass sie unter Verwendung eines Mikroskops betrachtet werden, um den Grad der Ausrichtung der Substrate zu ermitteln.
  • Jedoch ermöglichen die Ausrichtungsmarkierungen bei einem LCD gemäß der einschlägigen Technik nur eine Gesamtausrichtung von Substraten, und es gelingt nicht, einen Fehlausrichtungsgrad zwischen Linien in einem aktiven Bereich zu erkennen.
  • Tatsächlich erfährt ein LCD während des Herstellprozesses einen Hochtemperaturprozess sowie mehrere Belichtungsprozesse und einen Testvorgang, und dabei kann das aus Glas bestehende Substrat verformt werden, was zu einer Verformung von Linienmustern führt. Dann ist der genaue Ausrichtungsgrad zwischen Linien alleine mittels der in den Eckabschnitten der Substrate hergestellten Ausrichtungsmarkierungen nur schwer erkennbar.
  • Außerdem wird der Effekt einer internen Verformung schwerwiegend, wenn die Größe von Substraten erhöht wird und Linien immer feiner werden.
  • Die US 2002/0080296 A1 beschreibt eine Flüssigkristallanzeige sowie ein Verfahren zu deren Herstellung. Hierbei wird bei der Herstellung eines Substrats mit einem TFT-Array eine hochdotierte amorphe Siliziumschicht als Drainelektrode eines Dünnschichttransistors abgeschieden, welcher mit einer Gateelektrode und einer Source-Elektrodenleitung in Verbindung steht. Auf der hochdotierten amorphen Siliziumschicht, welche sich entlang eines Randbereichs in einem Pixelbereich erstreckt, wird eine transparente Pixelelektrode abgeschieden, wobei die Pixelelektrode mit der hochdotierten amorphen Siliziumschicht elektrisch verbunden ist. Gleichzeitig mit der hochdotierten amorphen Siliziumschicht wird in einem Eckbereich der Pixelelektrode eine L-förmig gebildete Schicht gebildet. Da die hochdotierten amorphen Siliziumschichten Licht stärker absorbieren als die Pixelelektrode und diese in Bereichen gebildet sind, die gegenüberliegenden Ecken der Pixelelektrode entsprechen, kann bei einer Verbindung des Substrats mit einem TFT-Array mit einem Farbfiltersubstrat leicht und präzise festgestellt werden, ob die beiden Substrate richtig aufeinander ausgerichtet sind.
  • Die JP 05-232513 A beschreibt eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung. Hierbei werden Ausrichtungsmarkierungen, die bei einer Herstellung eines Dünnschichttransistor-Arrays zusammen mit der Gateelektrode gebildet werden, an zwei sich gegenüberliegenden Ecken einer rechteckigen Pixelelektrode gebildet, ohne über die Pixelelektrode hinauszuragen. Bei einer Verbindung des Substrats mit dem Dünnschichttransistor-Array mit einem Farbfiltersubstrat befinden sich die Ausrichtungsmarkierungen an den Schnittpunkten der Eckbereiche der Schwarzmatrix, wodurch das Farbfiltersubstrat mit dem Substrat mit den Dünnschichttransistoren ausgerichtet werden kann.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein LCD und ein Verfahren zu dessen Herstellung zu schaffen, bei denen der Grad der Ausrichtung zwischen feinen Linien genau erfasst werden kann.
  • Diese Aufgabe ist durch das LCD gemäß dem beigefügten Anspruch 1 und das Verfahren gemäß dem beigefügten Anspruch 6 gelöst. Bei der Erfindung sind Ausrichtungsmarkierungen in einem aktiven Bereich in einem LCD hergestellt.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand von durch Figuren veranschaulichten Ausführungsformen näher erläutert.
  • 1 ist eine Draufsicht, die Ausrichtungsmarkierungen zeigt, wie sie auf einem Substrat bei einem üblichen LCD hergestellt werden;
  • 2 ist eine Draufsicht, die ein LCD gemäß einer ersten Ausführungsform zeigt;
  • 3A ist eine Schnittansicht entlang einer Linie III-III in der 2;
  • 3B ist eine Schnittansicht zum Veranschaulichen der Entstehung einer Fehlausrichtung zwischen einem Grenzbereich eines Einheitspixels und einer Schwarzmatrix in einem aktiven Bereich des LCD gemäß der ersten Ausführungsform,
  • 4 ist eine Draufsicht, die ein LCD gemäß einer zweiten Ausführungsform zeigt; und
  • 5 ist eine Schnittansicht entlang einer Linie V-V in der 4.
  • Wie es aus den 2, 3A und 3B erkennbar ist, verfügt ein LCD gemäß der ersten Ausführungsform über ein Arraysubstrat, d. h. ein unteres Substrat 100, ein Farbfiltersubstrat, d. h. ein oberes Substrat 200, sowie eine Flüssigkristallschicht (nicht dargestellt), die zwischen diesen ausgebildet ist.
  • Auf dem unteren Substrat 100 ist eine Vielzahl von Gateleitungen 101 in einer horizontalen Richtung angeordnet, und eine Vielzahl von Datenleitungen 103 ist so angeordnet, dass sie die Gateleitungen 101 vertikal schneiden, um gemeinsam mit diesen Einheitspixel zu bilden. An den Schnittstellen der Gateleitungen 101 und der Datenleitungen 103 sind Schaltelemente, nämlich Dünnschichttransistoren (TFT) zum Schalten der Einheitspixel vorhanden. Jedes dieser Schaltelemente verfügt über eine Gateelektrode 101a, die durch Verlängern eines Teils der Gateleitung 101 gebildet ist, einen auf einem oberen Teil der Gateelektrode 101a ausgebildeten Gateisolierfilm 110, eine Sourceelektrode 103a, die durch Verlängern eines Abschnitts der Datenleitung 103 auf dem Gateisolierfilm 110 gebildet ist, und eine Drainelektrode 103b, die so ausgebildet ist, dass sie ein bestimmtes Stück von der Sourceelektrode 103a getrennt ist. Ferner verfügt das Schaltelement über eine Halbleiterschicht (nicht dargestellt) und eine Schicht für Ohm'schen Kontakt (nicht dargestellt), um zwischen der Sourceelektrode 103a und der Drainelektrode 103b einen leitenden Kanal zu bilden. Die Schaltelemente liefern selektiv Datensignale von den Datenleitungen 103 an die Einheitspixel, wenn sie Gatesignale von den Gateleitungen 101 empfangen.
  • In jedem Einheitspixel ist eine Pixelelektrode 105 zum Empfangen von Datensignalen von den Schaltelementen ausgebildet. Die Pixelelektroden 105 sind in einem durch die Datenleitungen 103 und die Gateleitungen abgeteilten Zellenbereich positioniert, und sie bestehen aus einem transparenten, leitenden Material mit hoher Lichttransmission, wie ITO (Indiumzinnoxid), IZO (Indiumzinkoxid), ITZO (Indiumzinnzinkoxid) oder TO (Zinnoxid) usw.
  • Die Pixelelektrode 105 wird auf einem Passivierungsfilm 120 hergestellt, der auf die gesamte Oberfläche des Arraysubstrats 100 aufgetragen ist, und sie wird über ein den Passivierungsfilm 120 durchdringendes Kontaktloch 107 elektrisch mit der Drainelektrode 103b verbunden. Die Pixelelektrode 105 erzeugt gemeinsam mit einer auf dem oberen Substrat 200 ausgebildeten Elektrode 105 aufgrund des über das Schaltelement gelieferten Datensignals eine Potentialdifferenz.
  • Aufgrund dieser Potentialdifferenz werden zwischen dem unteren und dem oberen Substrat 100 und 200 positionierte Flüssigkristalle aufgrund ihrer Anisotropie der Elektrizitätskonstante gedreht. Durch die so gedrehten Flüssigkristalle wird die durch die Pixelelektrode 105 von einer Lichtquelle zum oberen Substrat 200 durchgelassene Lichtmenge kontrolliert, um so Bilder anzeigen zu können.
  • Zusätzlich zur gemeinsamen Elektrode 205 sind auf dem oberen Substrat 200 Farbfilter 209 zum Realisieren der Farben Rot, Grün und Blau angeordnet. Jedes Farbfilter 209 lässt eine dieser Farben durch, während es Licht im jeweils anderen Wellenlängenband absorbiert, um eine gewünschte Farbe anzuzeigen.
  • In einem Bereich, der einem Grenzbereich von Einheitspixeln entspricht, ist eine Schwarzmatrix 211 ausgebildet, um Lichtlecks zu verhindern.
  • An der linken und der rechten Seite der Datenleitung 103, die im oberen Teil des unteren Substrats 100 ausgebildet ist, sind eine erste und eine zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b ausgebildet. Bei anderen Ausführungsformen ist jeweils nur eine Ausrichtungsmarkierung auf der einen oder der anderen Seite der Datenleitung ausgebildet. Die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b werden auf derselben Schicht hergestellt, auf der die Gateleitung 102 hergestellt wird, wobei dies durch denselben Maskierungsprozess erfolgt. In diesem Fall werden die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b gemäß einem Inseltyp ausgebildet, und sie sind über keinerlei Leitung elektrisch angeschlossen, so dass sie keinerlei Einfluss auf die Pixelspannung haben.
  • Eine Seite der ersten Ausrichtungsmarkierung 120a sowie eine Seite der Schwarzmatrix 211 liegen auf derselben geraden Linie, und eine Seite der zweiten Ausrichtungsmarkierung 120b und die andere Seite der Schwarzmatrix 211 liegen auf derselben geraden Linie. D. h., dass die Schwarzmatrix 211 in einem oberen Teil mit der Datenleitung 103 und der ersten und der zweiten Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b ausgebildet ist, und in diesem Fall sind die linke Seite der Schwarzmatrix 211 und die linke Seite der ersten Ausrichtungsmarkierung 120a auf derselben geraden Linie positioniert, und die rechte Seite der Schwarzmatrix 211 und die rechte Seite der zweiten Ausrichtungsmarkierung 120b sind auf einer geraden Linie positioniert.
  • Demgemäß überlappen, wenn das obere und das untere Substrat 200 und 100 genau ausgerichtet und aneinander befestigt sind, die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b auf dem unteren Substrat 100 mittels der Schwarzmatrix 211 des oberen Substrats 100 hinsichtlich einer Ebene miteinander, so dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b nicht beobachtbar sind. D. h., dass dann, wenn das obere und das untere Substrat 200 und 100 genau ausgerichtet und aneinander befestigt sind und die Leiterbahn im aktiven Bereich entsprechend dem Design genau strukturiert ist, die Schwarzmatrix 211 des oberen Substrats 200 sowie die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b des unteren Substrats 100 übereinstimmen, so dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b des unteren Substrats nicht erkennbar sind.
  • So können der Ausrichtungszustand des oberen und des unteren Substrats 200 und 100 sowie die Position des Leiterbahnmusters genau geprüft werden. Wenn jedoch die Ausrichtung des oberen und des unteren Substrats 200 und 100 gestört ist oder die Leiterbahn nicht genau dem Design strukturiert ist, liegen die erste oder die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a oder 120b außerhalb des Lichtsperrbereichs durch die Schwarzmatrix 211, und sie sind so beobachtbar. Demgemäß kann ein Bediener beim Ausrichtprozess zum Befestigen des oberen und des unteren Substrats 200 und 100 aneinander leicht erkennen, ob sie genau ausgerichtet sind oder ob sie in einer Richtung verschoben sind, und falls ja, um wieviel, und insbesondere kann er erkennen, ob die Leiterbahn verschoben wurde, und falls ja, in welcher Richtung.
  • Die 3B zeigt ein Beispiel für eine zwischen dem Grenzbereich der Einheitspixel und der Schwarzmatrix 211 im aktiven Bereich erzeugten Fehlausrichtung. Wie dargestellt, liegt, wenn die Leiterbahn auf dem unteren Substrat 100, beispielsweise die Datenleitung 103, die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b sowie die Pixelelektrode 105 relativ zur linken Seite der Schwarzmatrix 211 des oberen Substrats 200 verschoben sind, ein Teil A der ersten Ausrichtungsmarkierung 120a außerhalb des Lichtsperrbereichs der Schwarzmatrix 211, so dass eine Beobachtung durch den Bediener möglich ist.
  • Wenn die zwei Substrate 200 und 100 und die Leiterbahnen außerhalb des Toleranzbereichs für die wechselseitige Befestigung liegen, leckt Licht aus, so dass nicht die gewünschte Bildqualität erzielt werden kann, wenn Flüssigkristallzellen angesteuert werden.
  • Demgemäß kann durch Anbringen der ersten und der zweiten Ausrichtungsmarkierungen 120a und 120b im aktiven Bereich, d. h. in einem Einheitspixel, der Ausrichtungsgrad zwischen dem oberen und dem unteren Substrat 200 und 100 sowie der Ausrichtungsgrad zwischen hoch integrierten, feinen Leiterbahnen genau erkannt werden.
  • Die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung 120a und 120b können mit beliebiger Form hergestellt werden. In der Zeichnung sind sie mit quadratischer Form dargestellt, jedoch können sie beispielsweise dreieckig oder kreisförmig hergestellt werden, solange die Ausrichtung mittels eines Einheitspixels genau geprüft werden kann und ein sich aus der Anbringungsrelation ergebender Mangel, wie ein Lichtleck, verhindert werden kann.
  • Nun werden unter Bezugnahme auf die 4 und 5 ein LCD und ein Verfahren zu seiner Herstellung gemäß einer zweiten Ausführungsform beschrieben.
  • Dabei ist der Aufbau dieser zweiten Ausführungsform demjenigen der ersten Ausführungsform ähnlich, so dass nur unterschiedliche Teile beschrieben werden.
  • Wie dargestellt, sind bei dieser Ausführungsform eine dritte und eine vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b an der Ober- und der Unterseite jeder Gateleitung 301 ausgebildet. Die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b sind auf derselben Schicht hergestellt, auf der die Datenleitung 303 hergestellt wurde, und zwar mittels desselben Maskierungsprozesses, und in diesem Fall sind die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b mit einem Inseltyp ausgebildet, wobei sie elektrisch mit keinerlei Leitung verbunden sind, so dass sie keinerlei Einfluss auf eine Pixelspannung haben.
  • Eine Seite der dritten Ausrichtungsmarkierung 305a sowie eine Seite der Schwarzmatrix 411 liegen in derselben geraden Linie, und eine Seite der vierten Ausrichtungsmarkierung 305b und die andere Seite der Schwarzmatrix 411 liegen in derselben geraden Linie.
  • Demgemäß überlappen, wenn das obere und das untere Substrat 400 und 300 genau ausgerichtet und aneinander befestigt werden, die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b auf dem unteren Substrat 300 mittels der Schwarzmatrix des oberen Substrats in einer Ebene miteinander, so dass die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b nicht erkennbar sind. D. h., dass dann, wenn das obere und das untere Substrat 400 und 300 genau ausgerichtet und aneinander befestigt sind, und die Leiterbahn im aktiven Bereich entsprechend dem Design genau strukturiert ist, die Schwarzmatrix 411 des oberen Substrats 400 sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b des unteren Substrats 300 übereinstimmen, so dass die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b des unteren Substrats nicht erkennbar sind.
  • So können der Ausrichtungszustand des oberen und des unteren Substrats 400 und 300 sowie die Position des Leiterbahnmusters genau geprüft werden.
  • Wenn jedoch die Ausrichtung des oberen und des unteren Substrats 400 und 300 gestört ist, oder wenn die Leiterbahn nicht genau entsprechend dem Design strukturiert ist, liegen die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b außerhalb des durch die Schwarzmatrix 411 gebildeten Lichtsperrbereichs und sie sind so erkennbar. Demgemäß kann der Bediener beim Ausrichtprozess zum Befestigen des oberen und des unteren Substrats 400 und 300 aneinander leicht erkennen, ob die beiden Substrate genau ausgerichtet wurden, ob sie in einer Richtung verschoben sind und falls ja, um wieviel, und insbesondere kann er erkennen, ob die Leiterbahn verschoben wurde und falls ja, in welcher Richtung.
  • Im Ergebnis kann durch Herstellen der Ausrichtungsmarkierungen im aktiven Bereich eines LCD gemäß der Erfindung genaue Positionsinformation zur Leiterbahn erhalten werden, ein Mängelgrund kann in Echtzeit erkannt werden, und demgemäß kann die Prozesszeit verkürzt werden, und ein Prozess in Zusammenhang mit dem Grund für einen Defekt kann verbessert werden.
  • Ein derartiges LCD und ein Verfahren zu dessen Herstellung zeigen u. a. die folgenden Vorteile.
  • Mittels Einheitspixeln kann genau geprüft werden, ob die Ausrichtung mangelhaft ist oder nicht, so dass ein Mangel, der sich aus einer fehlerhaften Anbringungsbeziehung ergibt, wie ein Lichtleck, verhindert werden kann.
  • Außerdem kann, da ein Defekt beinahe in Echtzeit erkannt werden kann, die Prozesszeit verkürzt werden, und so kann die Produktivität des LCD verbessert werden.
  • Bei der zweiten Ausführungsform wurde beschrieben, dass die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung 305a und 305b auf den beiden Seiten einer Datenleitung 303 angeordnet sind. Jedoch kann auch nur eine der beiden Ausrichtungsmarkierungen verwendet werden. Weiterhin können Ausrichtungsmarkierungen zu einer Seite oder erfindungsgemäß zu beiden Seiten einer Gateleitung 101 verwendet werden.

Claims (10)

  1. Aktiv-Matrix-LCD mit: – einem unteren und einem oberen Substrat (100, 200; 300, 400); – einer Vielzahl von Gateleitungen (101, 301), die auf dem unteren Substrat (100, 300) angeordnet sind; – einer Vielzahl von Datenleitungen (103, 303), die so angeordnet sind, dass sie die Gateleitungen (101, 301) auf dem unteren Substrat (100, 300) senkrecht schneiden und gemeinsam mit diesen Einheitspixel bilden; – einer ersten und einer zweiten Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b), welche auf derselben Schicht wie die Gateleitungen (101, 301) hergestellt sind, und welche jeweils auf der einen und der anderen Seite einer der Datenleitungen (103, 303) benachbart zu dieser ausgebildet sind; – einer dritten und einer vierten Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b), welche auf derselben Schicht wie die Datenleitungen (101, 301) hergestellt sind, und welche jeweils auf der einen und der anderen Seite einer der Gateleitungen (101, 301) benachbart zu dieser ausgebildet sind; – einer Vielzahl von Pixelelektroden (105, 325), von denen eine jeweilige in jedem Einheitspixel ausgebildet ist, – einer Schwarzmatrix (211, 411), die einem Bereich des oberen Substrats (200, 400), der einem Grenzbereich der Einheitspixel entspricht, ausgebildet ist, wobei die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) mit der Schwarzmatrix (211, 411) ausgerichtet sind; und – einer zwischen dem unteren und dem oberen Substrat (100, 200; 300, 400) vorhandenen Flüssigkristallschicht.
  2. LCD nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) in einem genau mit der Schwarzmatrix (211, 411) ausgerichteten Zustand mit dieser überlappen und nicht erkennbar sind.
  3. LCD nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) mit einer Vieleckform, einer Rechteckform oder einer Dreiecksform ausgebildet sind.
  4. LCD nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) mit einer Kreisform ausgebildet sind.
  5. LCD nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) elektrisch isoliert sind.
  6. Verfahren zum Herstellen eines Aktiv-Matrix-LCD mit den folgenden Schritten: – Bereitstellen eines unteren und eines oberen Substrats (100, 200; 300, 400); – Gleichzeitiges Herstellen einer Vielzahl von Gateleitungen (101; 301) auf dem unteren Substrat (100; 300) und einer ersten und einer zweiten Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b); – Gleichzeitiges Herstellen einer Vielzahl von Datenleitungen (103, 303), die so angeordnet werden, dass sie die Gateleitungen (101; 301) auf dem unteren Substrat (100, 300) senkrecht schneiden und gemeinsam mit diesen Einheitspixel definieren, und einer dritten und einer vierten Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b), wobei die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) jeweils auf der einen und der anderen Seite einer der Gateleitungen (101; 301) benachbart zu dieser angeordnet werden, und wobei die Datenleitung (103, 303) so zwischen der ersten und der zweiten Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) angeordnet wird, dass diese benachbart zu ihr sind; – Herstellen einer Pixelelektrode (105; 325) in einem jeweiligen Einheitspixel; – Herstellen einer Schwarzmatrix (211; 411) in einem Bereich des oberen Substrats (200; 400), der einem Grenzbereich der Einheitspixel entspricht; und – Ausrichten der ersten und der zweiten Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie der dritten und der vierten Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) mit der Schwarzmatrix (211; 411).
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) auf solche Weise genau mit der Schwarzmatrix (211; 411) ausgerichtet werden, dass sie mit der Schwarzmatrix (211, 411) überlappen und nicht erkennbar sind.
  8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) mit einer Vieleckform, einer Rechteckform oder einer Dreiecksform hergestellt werden.
  9. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) mit einer Kreisform hergestellt werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Ausrichtungsmarkierung (120a, 120b) sowie die dritte und die vierte Ausrichtungsmarkierung (305a, 305b) elektrisch isoliert werden.
DE102006029223A 2005-06-27 2006-06-26 LCD mit einer Ausrichtungsmarkierung sowie Verfahren zu seiner Herstellung Active DE102006029223B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050055965A KR101140241B1 (ko) 2005-06-27 2005-06-27 얼라인 마크를 포함한 액정표시소자
KR10-2005-0055965 2005-06-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102006029223A1 DE102006029223A1 (de) 2006-12-28
DE102006029223B4 true DE102006029223B4 (de) 2011-06-09

Family

ID=37513783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102006029223A Active DE102006029223B4 (de) 2005-06-27 2006-06-26 LCD mit einer Ausrichtungsmarkierung sowie Verfahren zu seiner Herstellung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7532277B2 (de)
KR (1) KR101140241B1 (de)
DE (1) DE102006029223B4 (de)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8022559B2 (en) * 2005-09-22 2011-09-20 Sharp Kabushiki Kaisha Substrate for a display panel, and a display panel having the same
TWI498626B (zh) * 2005-11-15 2015-09-01 Semiconductor Energy Lab 液晶顯示裝置
WO2008029060A2 (fr) * 2006-09-07 2008-03-13 Saint-Gobain Glass France Substrat pour dispositif electroluminescent organique, utilisation et procede de fabrication de ce substrat, ainsi que dispositif electroluminescent organique.
US9099673B2 (en) * 2006-11-17 2015-08-04 Saint-Gobain Glass France Electrode for an organic light-emitting device, acid etching thereof and also organic light-emitting device incorporating it
FR2913146B1 (fr) * 2007-02-23 2009-05-01 Saint Gobain Electrode discontinue, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et leurs fabrications
FR2924274B1 (fr) 2007-11-22 2012-11-30 Saint Gobain Substrat porteur d'une electrode, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et sa fabrication
FR2925981B1 (fr) * 2007-12-27 2010-02-19 Saint Gobain Substrat porteur d'une electrode, dispositif electroluminescent organique l'incorporant.
US20090195736A1 (en) * 2008-02-04 2009-08-06 Himax Display, Inc. Liquid crystal on silicon display panel and electronic device using the same
US8284354B2 (en) * 2008-02-04 2012-10-09 Himax Display, Inc. Liquid crystal on silicon display panel and electronic device using the same
FR2936358B1 (fr) 2008-09-24 2011-01-21 Saint Gobain Procede de fabrication d'un masque a ouvertures submillimetriques pour grille electroconductrice submillimetrique, masque a ouverture submillimetriques, grille electroconductrice submillimetrique.
FR2936362B1 (fr) 2008-09-25 2010-09-10 Saint Gobain Procede de fabrication d'une grille submillimetrique electroconductrice revetue d'une grille surgrille, grille submillimetrique electroconductrice revetue d'une surgrille
FR2944145B1 (fr) 2009-04-02 2011-08-26 Saint Gobain Procede de fabrication d'une structure a surface texturee pour dispositif a diode electroluminescente organique et structure a surface texturee
FR2955575B1 (fr) 2010-01-22 2012-02-24 Saint Gobain Substrat verrier revetu d'une couche haut indice sous un revetement electrode et dispositif electroluminescent organique comportant un tel substrat.
US8780315B2 (en) * 2012-05-31 2014-07-15 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. LCD panel, color filter substrate, and method of manufacturing the color filter substrate
KR101497524B1 (ko) * 2013-04-22 2015-03-02 주식회사 네오랩컨버전스 코드가 기록된 디스플레이 장치
KR102124827B1 (ko) * 2013-12-02 2020-06-22 엘지디스플레이 주식회사 프로세스 키를 포함하는 표시패널
KR102163358B1 (ko) * 2014-07-21 2020-10-12 엘지디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102290821B1 (ko) * 2015-05-29 2021-08-18 엘지디스플레이 주식회사 표시장치
JP6482960B2 (ja) * 2015-06-11 2019-03-13 シチズン時計株式会社 光学素子
CN104965326A (zh) * 2015-07-30 2015-10-07 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其驱动方法和制备方法、显示装置
CN106610742B (zh) * 2015-10-21 2023-08-29 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板及其制造方法
KR20180063937A (ko) * 2016-12-02 2018-06-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 이를 리페어하기 위한 방법
KR20180078409A (ko) * 2016-12-29 2018-07-10 엘지디스플레이 주식회사 표시장치 및 이의 제조방법
KR102107384B1 (ko) * 2017-10-31 2020-05-07 엘지디스플레이 주식회사 프로세스 키를 포함하는 표시장치
KR102538411B1 (ko) 2018-07-25 2023-05-31 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102673361B1 (ko) * 2019-08-02 2024-06-13 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN111025799B (zh) * 2019-12-02 2021-07-27 苏州华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232513A (ja) * 1992-02-25 1993-09-10 Casio Comput Co Ltd アクティブマトリックス液晶表示装置
US20020080296A1 (en) * 1997-07-23 2002-06-27 Kazuo Oike Liquid crystal device, liquid crystal device manufacturing method, and electronic apparatus
US20040263769A1 (en) * 2003-06-28 2004-12-30 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating liquid crystal display device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3099812B2 (ja) * 1998-07-30 2000-10-16 日本電気株式会社 液晶表示装置
JP2002311449A (ja) * 2001-02-06 2002-10-23 Seiko Epson Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法及び電子機器
KR100662780B1 (ko) * 2002-12-18 2007-01-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 테스트화소를 구비한 액정표시장치 및 이를 이용한 블랙 매트릭스를 제작하는 방법
KR20050033223A (ko) * 2003-10-06 2005-04-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 제조방법
KR100566457B1 (ko) * 2003-10-22 2006-03-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 다양한 크기의 유리기판에 적용되는 포토 마스크 및 이를이용한 액정표시패널의 제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232513A (ja) * 1992-02-25 1993-09-10 Casio Comput Co Ltd アクティブマトリックス液晶表示装置
US20020080296A1 (en) * 1997-07-23 2002-06-27 Kazuo Oike Liquid crystal device, liquid crystal device manufacturing method, and electronic apparatus
US20040263769A1 (en) * 2003-06-28 2004-12-30 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR101140241B1 (ko) 2012-04-26
DE102006029223A1 (de) 2006-12-28
KR20070000547A (ko) 2007-01-03
US20060290841A1 (en) 2006-12-28
US7532277B2 (en) 2009-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102006029223B4 (de) LCD mit einer Ausrichtungsmarkierung sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DE102005030672B4 (de) Flüssigkristallanzeigevorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
DE3587570T2 (de) Farbflüssigkristallanzeigeelement.
DE102006060731B4 (de) Flüssigkristallanzeigevorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
DE19814676C2 (de) Flüssigkristallanzeige und Herstellungsverfahren dafür
DE69108062T2 (de) Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit aktiver Matrix.
DE4318028B4 (de) Flüssigkristallanzeigeeinrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
DE102004053587B4 (de) Flüssigkristalldisplay-Tafel und Verfahren zu deren Herstellung
DE102013111753B4 (de) Flüssigkristallanzeigevorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
DE102007061259B4 (de) Arraysubstrat für ein Flüssigkristalldisplay sowie Verfahren zum Herstellen desselben
DE102012108165B4 (de) Array-Substrat für Streufeldschaltung-Modus-Flüssigkristallanzeigevorrichtung und Verfahren zum Herstellen desselben
DE102008051923B4 (de) Elektrophoresedisplay und Verfahren zum Herstellen desselben
DE602005004726T2 (de) Tafel mit Dünnschichttransistormatrix für Flüssigkristallanzeigegerät und Herstellungsverfahren dafür
DE3852617T2 (de) Farb-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung und ihr Herstellungsverfahren.
DE102005029418B4 (de) Flüssigkristalldisplay und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102006030012B4 (de) LCD und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102005061304B4 (de) Verfahren zum Herstellen einer Kontaktfleckelektrode und Verfahren zum Herstellen eines Flüssigkristalldisplays
DE102014105084B4 (de) TFT-Array-Substrat, Anzeigefeld und Anzeigevorrichtung
DE102006028994A1 (de) Flüssigkristallanzeige-Panel und Verfahren zur Herstellung desselben
DE102008048503B4 (de) Flüssigkristalldisplay
DE102005056702A1 (de) TFT-Arraysubstrat und zugehöriges Herstellverfahren
DE102018202462B4 (de) Flüssigkristallanzeigefeld und Flüssigkristallanzeigevorrichtung
DE102015110890A1 (de) Anzeigefeld und Verfahren zur Herstellung desselben
DE102012024523A1 (de) Liquid Crystal Display Device
DE69433614T2 (de) Anzeigevorrichtung mit aktiver matrix

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: LG DISPLAY CO., LTD., SEOUL, KR

8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: TER MEER STEINMEISTER & PARTNER GBR PATENTANWAELTE

R020 Patent grant now final

Effective date: 20110910