DE112018007706T5 - Filmausbildungsvorrichtung - Google Patents

Filmausbildungsvorrichtung Download PDF

Info

Publication number
DE112018007706T5
DE112018007706T5 DE112018007706.3T DE112018007706T DE112018007706T5 DE 112018007706 T5 DE112018007706 T5 DE 112018007706T5 DE 112018007706 T DE112018007706 T DE 112018007706T DE 112018007706 T5 DE112018007706 T5 DE 112018007706T5
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
heating
treatment
film forming
chamber
mist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE112018007706.3T
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Orita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Mitsubishi Electric Industrial Systems Corp
Original Assignee
Toshiba Mitsubishi Electric Industrial Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Mitsubishi Electric Industrial Systems Corp filed Critical Toshiba Mitsubishi Electric Industrial Systems Corp
Publication of DE112018007706T5 publication Critical patent/DE112018007706T5/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/16—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
    • B05B7/1606—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed the spraying of the material involving the use of an atomising fluid, e.g. air
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/18—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area using fluids, e.g. gas streams
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
    • B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
    • B05B13/0221—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B16/00—Spray booths
    • B05B16/20—Arrangements for spraying in combination with other operations, e.g. drying; Arrangements enabling a combination of spraying operations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B16/00—Spray booths
    • B05B16/90—Spray booths comprising conveying means for moving objects or other work to be sprayed in and out of the booth, e.g. through the booth
    • B05B16/95—Spray booths comprising conveying means for moving objects or other work to be sprayed in and out of the booth, e.g. through the booth the objects or other work to be sprayed lying on, or being held above the conveying means, i.e. not hanging from the conveying means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/0012—Apparatus for achieving spraying before discharge from the apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0218—Pretreatment, e.g. heating the substrate
    • B05D3/0227—Pretreatment, e.g. heating the substrate with IR heaters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0209—Pretreatment of the material to be coated by heating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2252/00—Sheets
    • B05D2252/04—Sheets of definite length in a continuous process
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2252/00—Sheets
    • B05D2252/10—Applying the material on both sides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/50—Multilayers
    • B05D7/52—Two layers
    • B05D7/54—No clear coat specified
    • B05D7/546—No clear coat specified each layer being cured, at least partially, separately
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0097—Processing two or more printed circuits simultaneously, e.g. made from a common substrate, or temporarily stacked circuit boards
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
    • H05K3/146—By vapour deposition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Die vorliegende Erfindung hat die Aufgabe, eine Filmausbildungsvorrichtung zu schaffen, die einen dünnen Film auf einem Substrat unter geringen Kosten ohne Verringerung einer Filmausbildungsqualität und einer Filmausbildungsrate ausbilden kann. In einer Filmausbildungsvorrichtung (11) des ersten Ausführungsbeispiels sind eine Infrarotbestrahlungsvorrichtung (2, 4) und eine Dünnfilmausbildungsdüse (1) separat voneinander so angeordnet, dass eine in einer Erwärmungskammer (80) ausgeführte Erwärmungsbehandlung und eine in einer Filmausbildungskammer (90) ausgeführte Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden. Die Filmausbildungsvorrichtung (11) des ersten Ausführungsbeispiels führt die Erwärmungsbehandlung der Infrarotbestrahlung durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtung (2, 4) in der Erwärmungskammer (80) aus und führt dann die Nebelsprühbehandlung der Dünnfilmausbildungsdüse (1) in der Filmausbildungskammer (90) aus.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Filmausbildungsvorrichtung, die verwendet wird, um eine elektronische Vorrichtung wie beispielsweise eine Solarbatterie herzustellen, und die einen Film auf einem Substrat ausbildet.
  • Hintergrund des Standes der Technik
  • Als ein Verfahren zum Ausbilden eines Filmes auf einem Substrat ist das chemische Dampfauftragverfahren (CVD-Verfahren) bekannt. Jedoch erfordert das chemische Dampfauftragverfahren häufig ein Filmausbilden in einem Vakuum (Unterdruck), und somit muss eine große Vakuumkammer und auch eine Vakuumpumpe etc. angewendet werden. Des Weiteren besteht bei dem chemischen Dampfauftragverfahren ein Problem dahingehend, dass die Anwendung eines Substrates mit einer großen Fläche als ein dem Filmausbilden auszusetzendes Substrat vom Gesichtspunkt der Kosten oder dergleichen schwierig ist. Im Hinblick darauf hat ein Nebelverfahren, das eine Filmausbildungsbehandlung bei Umgebungsdruck ermöglicht, an Aufmerksamkeit gewonnen.
  • Als eine herkömmliche Technologie in Bezug auf eine Filmausbildungsvorrichtung, die ein derartiges Nebelverfahren anwendet, gibt es beispielsweise eine Technologie gemäß Patentdokument 1.
  • In der Technologie gemäß Patentdokument 1 werden eine zerstäubte Ausgangslösung und ein Reaktionsmaterial aus einer Ausgangslösungsausspritzöffnung und einer Reaktionsmaterialausspritzöffnung, die an einer Bodenfläche einer Nebelsprühkopfeinheit vorgesehen sind, die eine Nebelsprühdüse etc. aufweist, auf ein in einer Umgebungsdruckatmosphäre angeordneten Substrat gesprüht. Bei einem derartigen Sprühen wird ein Film auf dem Substrat ausgebildet. Es ist hierbei zu beachten, dass sich das Reaktionsmaterial auf ein Material bezieht, das zu einer Reaktion mit der Ausgangslösung beiträgt.
  • 7 zeigt eine erläuternde Darstellung eines schematischen Aufbaus einer herkömmlichen Filmausbildungsvorrichtung. Wie dies in 7 gezeigt ist, sind an einer oberen Fläche eines Substratanordnungstisches 30, die eine Substratanordnungseinheit ist, eine Vielzahl an Substraten 10 angeordnet.
  • Der Substratanordnungstisch 30 hat einen Saugmechanismus 31, der einen Unterdrucksaugvorgang ausführt (Vakuumsaugen). Unter Verwendung des Saugmechanismus 31 kann der Substratanordnungstisch 30 die gesamte Rückfläche von jedem der Vielzahl an angeordneten Substraten 10 an die obere Fläche des Substratanordnungstisches 30 saugen. Des Weiteren ist in dem Substratanordnungstisch 30 ein Erwärmungsmechanismus 32 unterhalb des Saugmechanismus 31 vorgesehen. Unter Verwendung des Erwärmungsmechanismus 32 kann der Substratanordnungstisch 30 eine Erwärmungsbehandlung bei der Vielzahl an auf der oberen Fläche des Substratanordnungstisches 30 angeordneten Substraten 10 ausführen.
  • Eine Dünnfilmausbildungsdüse (Düse zum Ausbilden eines dünnen Filmes) 1 (eine Nebelsprüheinheit) führt eine zum Sprühen eines Ausgangsnebels MT aus einer in einer Sprühfläche 1S vorgesehenen Sprühöffnung nach unten gerichtet aus. Es ist hierbei zu beachten, dass der Ausgangsnebel MT ein Nebel ist, der durch Zerstäuben einer Ausgangslösung erhalten wird. Unter Verwendung der Dünnfilmausbildungsdüse 1 kann der Ausgangsnebel MT in die Umgebung gesprüht werden.
  • Sowohl die Dünnfilmausbildungsdüse 1, der Substratanordnungstisch 30 als auch die Vielzahl an auf der oberen Fläche des Substratanordnungstisches 30 angeordneten Substraten 10 sind in einer Filmausbildungskammer 60 untergebracht. Die Filmausbildungskammer 60 umfasst eine obere Kammer 68, eine untere Kammer 69 und eine Tür 67. Wenn die Filmausbildungskammer 60 die Filmausbildungsbehandlung ausführt, kann die Filmausbildungskammer 60 die Dünnfilmausbildungsdüse 1, den Substratanordnungstisch 30 und die Vielzahl an Substraten 10 von der Außenseite durch Schließen der Tür 67 isolieren, um einen Öffnungsabschnitt zwischen der oberen Kammer 68 und der unteren Kammer 69 zu schließen.
  • Somit kann durch Schließen der Tür 67 der Filmausbildungskammer 60 und durch Ausführen einer Nebelsprühbehandlung unter Verwendung der Dünnfilmausbildungsdüse während der Erwärmungsbehandlung des Erwärmungsmechanismus 32 ein dünner Film auf den Substraten 10 ausgebildet werden, die auf der oberen Fläche des Substratanordnungstisches 3 platziert sind.
  • In dieser Weise bildet eine herkömmliche Filmausbildungsvorrichtung einen dünnen Film auf den Substraten 10 aus, indem gleichzeitig die Nebelsprühbehandlung unter Verwendung der Dünnfilmausbildungsdüse 1 und eine Erwärmungsbehandlung unter Verwendung des Erwärmungsmechanismus 32 ausgeführt werden.
  • Dokumente des Standes der Technik
  • Patentdokumente
  • Patentdokument 1: WO 2017/068625 A1
  • Zusammenfassung
  • Durch die Erfindung zu lösendes Problem
  • Wie dies vorstehend beschrieben ist, hat im Allgemeinen eine herkömmliche Filmausbildungsvorrichtung den folgenden Aufbau. Genauer gesagt ist der Erwärmungsmechanismus 32 im Inneren des Substratanordnungstisches 30 vorgesehen, der ermöglicht, dass die Substrate 10, die Basismaterialien als ein Zielort der Filmausbildung sind, auf seiner oberen Fläche angeordnet werden, und der Substratanordnungstisch 30 wird als eine flache Erwärmungseinrichtung genutzt.
  • Wenn eine flache Erwärmungseinrichtung wie beispielsweise der Substratanordnungstisch 30 verwendet wird, wird eine Wärmebehandlung für die Substrate 10 ausgeführt, indem die obere Fläche des Substratanordnungstisches 30 und die untere Fläche der Substrate 10 miteinander in Kontakt gelangen und bewirkt wird, dass Wärme zwischen dem Substratanordnungstisch 30 und den Substraten 10 übertragen wird.
  • Wenn jedoch das Substrat 10 einen Aufbau hat, bei dem die untere Fläche des Substrates gekrümmt ist, oder die untere Fläche vertiefte Abschnitte und vorragende Abschnitte aufweist, anstatt dass sie eine flache plattenartige Form hat, ermöglicht die flache Erwärmungseinrichtung, dass die obere Fläche des Substratanordnungstisches 30 und die Rückseitenfläche der Substrate 10 lediglich örtlich miteinander in Kontakt gelangen. Daher ergeben sich Probleme dahingehend, dass ein Erwärmen der Substrate 10 beim Ausführen der Erwärmungsbehandlung durch den Erwärmungsmechanismus 32 ungleichmäßig ist, und die Substrate 10 verbiegen und verformen sich beispielsweise.
  • Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung die vorstehend dargelegten Probleme zu lösen und eine Filmausbildungsvorrichtung zu schaffen, die einen dünnen Film auf einem Substrat ohne Verringern der Filmausbildungsqualität und einer Filmausbildungsrate ausbilden kann.
  • Lösung des Problems
  • Eine Filmausbildungsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung hat: eine Substratbeförderungseinheit, die so aufgebaut ist, dass sie ein Substrat befördert; einen Erwärmungsmechanismus, der eine Infrarotlampe aufweist und so aufgebaut ist, dass er eine Erwärmungsbehandlung zum Erwärmen des Substrates durch Abstrahlen von infrarotem Licht von der Infrarotlampe ausführt; und eine Nebelsprüheinheit, die so aufgebaut ist, dass sie eine Nebelsprühbehandlung zum Sprühen eines Ausgangsnebels ausführt, der durch Zerstäuben einer Ausgangslösung erhalten wird. Der Erwärmungsmechanismus und die Nebelsprüheinheit sind separat so angeordnet, dass die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden. Ein dünner Film wird auf einer vorderen Fläche des Substrates ausgebildet durch Ausführen der Erwärmungsbehandlung mit dem Erwärmungsmechanismus und einem dann erfolgenden Ausführen der Nebelsprühbehandlung mit der Nebelsprüheinheit, während das Substrat mit der Substratbeförderungseinheit befördert wird.
  • Effekte der Erfindung
  • Die Filmausbildungsvorrichtung der vorliegenden Erfindung gemäß Anspruch 1 hat den Erwärmungsmechanismus, der eine Erwärmungsbehandlung zum Erwärmen des Substrates durch Bestrahlen von infrarotem Licht von einer Infrarotlampe ausführt. Daher kann durch Ausführen der Erwärmungsbehandlung des Erwärmungsmechanismus das Substrat unabhängig von der Form des Substrates gleichförmig erwärmt werden.
  • Des Weiteren sind der Erwärmungsmechanismus und die Nebelsprüheinheit separat so angeordnet, dass die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden. Daher kann das Auftreten eines Ausgangsnebelverdampfungsphänomens, bei dem eine Nebelquelle infrarotes Licht absorbiert und erwärmt und verdampft wird, sicher vermieden werden, wenn sowohl die Erwärmungsbehandlung als auch die Nebelsprühbehandlung ausgeführt werden.
  • Als ein Ergebnis kann durch Ausführen der Erwärmungsbehandlung des Erwärmungsmechanismus und darauf folgendem Ausführen der Nebelsprühbehandlung der Nebelsprüheinheit die Filmausbildungsvorrichtung der vorliegenden Erfindung gemäß Anspruch 1 einen dünnen Film auf der vorderen Fläche des Substrates ausbilden, ohne dass die Filmausbildungsqualität und eine Filmausbildungsrate vermindert werden.
  • Diese und andere Ziele, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung gehen aus der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der vorliegenden Erfindung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen deutlicher hervor.
  • Figurenliste
    • 1 zeigt eine erläuternde Darstellung eines schematischen Aufbaus einer Filmausbildungsvorrichtung gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
    • 2 zeigt eine erläuternde Darstellung eines schematischen Aufbaus einer Filmausbildungsvorrichtung gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
    • 3 zeigt eine erläuternde Darstellung, in der schematisch eine erste Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels gezeigt ist.
    • 4 zeigt eine erläuternde Darstellung, in der schematisch eine zweite Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels gezeigt ist.
    • 5 zeigt eine erläuternde Darstellung (Nr. 1), in der ein schematischer Aufbau einer Filmausbildungsvorrichtung gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung gezeigt ist.
    • 6 zeigt eine erläuternde Darstellung (Nr. 2), in der der schematische Aufbau der Filmausbildungsvorrichtung gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung gezeigt ist.
    • 7 zeigt eine erläuternde Darstellung eines schematischen Aufbaus einer herkömmlichen Filmausbildungsvorrichtung.
  • Beschreibung der Ausführungsbeispiele
  • Grundsätzliche Technik
  • Ein verbesserter Aufbau der in 7 gezeigten herkömmlichen Technologie wird als eine neue grundsätzliche Technik erachtet. In dem verbesserten Aufbau ist eine Infrarotbestrahlungsvorrichtung, die eine Erwärmungsbehandlung zum Erwärmen der Substrate 10 durch Bestrahlen von infrarotem Licht von den Infrarotlampen ausführt, separat als ein Erwärmungsmechanismus vorgesehen und getrennt (beabstandet) von dem Substratanordnungstisch 30 angeordnet, anstelle eines Aufbaus, bei dem der Erwärmungsmechanismus 32 im Inneren des Substratanordnungstisches 30 vorgesehen ist.
  • Diese grundsätzliche Technik kann ein direktes Erwärmen mit Infrarotlicht ausführen, das elektromagnetische Wellen ist, ohne mit den Substraten 10 als ein Basismaterial in Kontakt zu gelangen, indem die Infrarotbestrahlungsvorrichtung als der Erwärmungsmechanismus genutzt wird, und somit kann ein gleichförmiges Erwärmen unabhängig von der Form der Substrate 10 ausgeführt werden.
  • Selbst bei dieser grundsätzlichen Technik tritt ein Ausgangsnebelverdampfungsphänomen auf, bei dem ein Ausgangsnebel MT von der Infrarotbestrahlungsvorrichtung gestrahltes infrarotes Licht absorbiert, sodass der Ausgangsnebel MT erwärmt wird und verdampft, und somit verbleiben Probleme der Verschlechterung bei der Filmausbildungsqualität und einer Filmausbildungsrate. Des Weiteren birgt das Ausgangsnebelverdampfungsphänomen auch ein Problem in sich, bei dem eine durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtung ausgeführte Erwärmung behindert wird.
  • Nachstehend sind das erste bis dritte Ausführungsbeispiel beschrieben, die die Aufgabe haben, die Probleme der herkömmlichen Technologie und der vorstehend beschriebenen grundsätzlichen Technik umfassend zu lösen.
  • Erstes Ausführungsbeispiel
  • 1 zeigt eine erläuternde Darstellung eines schematischen Aufbaus einer Filmausbildungsvorrichtung gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. In 1 ist ein Orthogonalkoordinatensystem XYZ gezeigt.
  • Wie dies in 1 gezeigt ist, hat eine Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels eine Erwärmungskammer 80, eine Filmausbildungskammer 90, eine Dünnfilmausbildungsdüse (Düse zum Ausbilden eines dünnen Films) 1, Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 und eine Förderungseinrichtung 53 als Hauptkomponenten.
  • Die Beförderungseinrichtung 53 ist eine Substratbeförderungseinheit, die ermöglicht, dass eine Vielzahl an Substraten 10 auf der oberen Fläche des Riemens 52 angeordnet wird, und die die Vielzahl an Substraten 10 in einer Beförderungsrichtung (Richtung X) befördert. Die Beförderungseinrichtung 53 umfasst ein Paar an Rollen 51 zur Beförderung, die an sowohl dem rechten als auch dem linken Ende (Richtung -X, Richtung +X) vorgesehen sind, und einen endlosen Riemen 52 für die Beförderung, der über das Paar an Rollen 51 gespannt ist. Es ist hierbei zu beachten, dass der Riemen 52 eine Kombination aus einem Paar an linearen Beförderungsketten umfasst, die an beiden Enden in der Richtung Y vorgesehen sind.
  • Bei Drehantrieb des Paares an Rollen 51 kann die Beförderungseinrichtung 53 eine obere Seite (Seite der Richtung +Z) des Riemens 52 entlang der Beförderungsrichtung (Richtung X) bewegen.
  • Von dem Paar an Rollen 51 der Beförderungseinrichtung 53 ist eine Rolle an der linken Seite (Richtung -X) an der Außenseite der Erwärmungskammer 80 vorgesehen, und die andere Rolle ist an der rechten Seite (Richtung +X) an der Außenseite der Filmausbildungskammer 90 vorgesehen. Des Weiteren ist ein mittlerer Abschnitt des Riemens 52 im Inneren von sowohl der Erwärmungskammer 80 als auch der Filmausbildungskammer 90 vorgesehen.
  • Bei Drehantrieb des Paares an Rollen 51 kann der Riemen 52 zwischen der Innenseite der Erwärmungskammer 80 und der Innenseite und der Außenseite der Filmausbildungskammer 90 durch ein Paar an Öffnungsabschnitten 88, die an einem Abschnitt von Flächen an der rechten und linken Seite (Richtung -X, Richtung +X) der Erwärmungskammer 80 vorgesehen sind, und ein Paar an Öffnungsabschnitten 98 bewegt werden, die an einem Abschnitt von Flächen an der rechten und linken Seite der Filmausbildungskammer 90 vorgesehen sind.
  • Die Erwärmungskammer 80 und die Filmausbildungskammer 90 sind benachbart vorgesehen, und der rechte Öffnungsabschnitt 88 der Erwärmungskammer 80 und der linke Öffnungsabschnitt 98 der Filmausbildungskammer 90 werden gemeinsam genutzt.
  • Ein Teil der Beförderungseinrichtung 53 und die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 sind in der Erwärmungskammer 80 untergebracht. Die Erwärmungskammer 80 umfasst eine obere Kammer 81, eine untere Kammer 82 und ein Paar an Öffnungsabschnitten 88. Das Paar an Öffnungsabschnitten 88 ist zwischen der oberen Kammer 81 und der unteren Kammer 82 in einer Höhenrichtung angeordnet, die die Richtung Z ist. Daher ist die Beförderungseinrichtung 53, die zwischen den Öffnungsabschnitten 88 und 88 in der Erwärmungskammer 80 vorgesehen ist, an einer Position angeordnet, die höher als die untere Kammer 82 und niedriger als die obere Kammer 81 ist.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2, die eine Erwärmungseinheit einer ersten Richtung ist, ist an einer Position, die von der Beförderungseinrichtung 53 beabstandet ist, im Inneren der unteren Kammer 82 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fixiert. Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4, die eine Erwärmungseinheit einer zweiten Richtung ist, ist an einer Position, die von der Beförderungseinrichtung 53 beabstandet ist, im Inneren der oberen Kammer 81 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fixiert. Die Kombination aus der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 und der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 bildet einen Erwärmungsmechanismus.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass beide Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 an Positionen angeordnet sind, die mit einem Bereich einer oberen Fläche (Bereich, der zwischen den als Paar vorgesehenen Linearbeförderungseinrichtungsketten angeordnet ist) des Riemens 52 in der Erwärmungskammer 80 in der Draufsicht überlappen.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 weist einen Lampenanordnungstisch 21 und eine Vielzahl an Infrarotlampen 22 auf. Die in Vielzahl vorgesehenen Infrarotlampen 22 sind an einem oberen Abschnitt des Lampenanordnungstisches 21 angebracht. Daher kann die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 infrarotes Licht nach oben (Richtung +Z) aus der Vielzahl an Infrarotlampen 22 abstrahlen. Mit der vorstehend erwähnten Infrarotbestrahlung der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 kann eine Erwärmungsbehandlung (Erwärmungsbehandlung einer ersten Richtung) für die Vielzahl an auf der oberen Fläche des Riemens 52 angeordneten Substraten 10 ausgeführt werden.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 hat einen Lampenanordnungstisch 41 und eine Vielzahl an Infrarotlampen 42. Die in Vielzahl vorgesehenen Infrarotlampen 42 sind an einem unteren Abschnitt des Lampenanordnungstisches 41 angebracht. Daher kann die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 infrarotes Licht nach unten (Richtung -Z) aus der Vielzahl an Infrarotlampen 42 abstrahlen. Mit der vorstehend erwähnten Infrarotbestrahlung der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 kann eine Erwärmungsbehandlung (Erwärmungsbehandlung einer zweiten Richtung) für die Vielzahl an auf der oberen Fläche des Riemens 52 angeordneten Substraten 10 ausgeführt werden.
  • In dieser Weise führt die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2, die eine Erwärmungseinheit einer ersten Richtung ist, eine Erwärmungsbehandlung einer ersten Richtung zum Erwärmen der Vielzahl an Substraten 10 aus, indem infrarotes Licht zu der Richtung +Z (erste Richtung) abgestrahlt wird. Die Richtung +Z ist eine Richtung von der Rückseitenfläche zu der vorderen Fläche der Substrate 10.
  • Im Gegensatz dazu führt die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4, die eine Erwärmungseinheit einer zweiten Richtung ist, eine Erwärmungsbehandlung einer zweiten Richtung aus zum Erwärmen der Vielzahl an Substraten 10, indem infrarotes Licht zu der Richtung -Z (zweite Richtung) abgestrahlt wird, die eine zu der Richtung +Z entgegengesetzte Richtung ist. Die Richtung -Z ist eine Richtung von der vorderen Fläche zu der Rückseitenfläche der Substrate 10.
  • Des Weiteren hat die Filmausbildungsvorrichtung 11 die Erwärmungskammer 80, die im Inneren die Substrate 10 und die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 unterbringt, wenn die Filmausbildungsvorrichtung 11 eine Erwärmungsbehandlung (Erwärmungsbehandlung in einer ersten Richtung und Erwärmungsbehandlung in einer zweiten Richtung) ausführt, die durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 ausgeführt werden.
  • Die Erwärmungskammer 80 kann die Vielzahl an auf dem Riemen 52 angeordneten Substraten 10 und die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 von der Außenseite isolieren, indem die Öffnungsabschnitte 88 zwischen der oberen Kammer 81 und der unteren Kammer 82 mit einem Luftvorhang 7 geschlossen werden, wenn eine Erwärmungsbehandlung ausgeführt wird.
  • Die Dünnfilmausbildungsdüse (Düse zum Ausbilden eines dünnen Films) 1 und ein Teil der Beförderungseinrichtung 53 sind in der Filmausbildungskammer 90 untergebracht. Die Filmausbildungskammer 90 umfasst eine obere Kammer 91, eine untere Kammer 92 und ein Paar an Öffnungsabschnitten 98. Das Paar an Öffnungsabschnitten 98 ist zwischen der oberen Kammer 91 und der unteren Kammer 92 in der Höhenrichtung angeordnet, die die Richtung Z ist. Daher ist die Beförderungseinrichtung 53, die zwischen den Öffnungsabschnitten 98 und 98 in der Filmausbildungskammer 90 vorgesehen ist, an einer Position angeordnet, die höher als die untere Kammer 92 und niedriger als die obere Kammer 91 ist.
  • Die Dünnfilmausbildungsdüse 1, die eine Nebelsprüheinheit ist, ist in der oberen Kammer 91 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fest angeordnet. In diesem Fall ist die Dünnfilmausbildungsdüse 1 so angeordnet, dass sie eine derartige Positionsbeziehung hat, dass die Sprühfläche 1S und die obere Fläche des Riemens 52 einander zugewandt sind.
  • Die Dünnfilmausbildungsdüse 1 führt eine Nebelsprühbehandlung zum Sprühen eines Ausgangsnebels (Quellennebel) MT nach unten (Richtung -Z) aus einer Sprühöffnung aus, die in der Sprühfläche 1S vorgesehen ist. Es ist hierbei zu beachten, dass der Ausgangsnebel MT ein Nebel ist, der durch Zerstäuben einer Ausgangslösung (Quellenlösung) erlangt wird. Unter Verwendung der Dünnfilmausbildungsdüse 1 kann der Ausgangsnebel MT in die Umgebung gesprüht werden. Die Filmausbildungskammer 90 kann die Dünnfilmausbildungsdüse 1 und die Vielzahl an auf dem Riemen 52 angeordneten Substraten 10 von der Außenseite isolieren, indem die Öffnungsabschnitte 98 zwischen der oberen Kammer 91 und der unteren Kammer 92 mit dem Luftvorhang 7 geschlossen wird, wenn die Nebelsprühbehandlung ausgeführt wird.
  • Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels eine Filmausbildungsumgebung einstellen, indem sowohl das Paar an Öffnungsabschnitten 88 der Erwärmungskammer 80 als auch das Paar an Öffnungsabschnitten 98 der Filmausbildungskammer 90 mit dem Luftvorhang 7 geschlossen wird und der Riemen 52 der Beförderungseinrichtung 53 entlang der Beförderungsrichtung (Richtung X) bewegt wird.
  • In der Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels sind unter der Filmausbildungsumgebung die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 und die Dünnfilmausbildungsdüse 1 separat voneinander angeordnet, sodass die in der Erwärmungskammer 80 ausgeführte Erwärmungsbehandlung und die in der Filmausbildungskammer 90 ausgeführte Nebelsprühbehandlung einander nicht beeinflussen oder beeinträchtigen.
  • Dann wird in der Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels unter der Filmausbildungsumgebung die Erwärmungsbehandlung der Infrarotbestrahlung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 in der Erwärmungskammer 80 ausgeführt, und anschließend wird die Nebelsprühbehandlung der Dünnfilmausbildungsdüse 1 in der Filmausbildungskammer 90 ausgeführt.
  • Als ein Ergebnis kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels einen dünnen Film auf vorderen Flächen der auf der oberen Fläche des Riemens 52 angeordneten Substrate 10 in der Filmausbildungskammer 90 ausbilden.
  • Wie dies vorstehend beschrieben ist, hat die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels eine Kombination aus den Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4, die getrennt (beabstandet) von der Beförderungseinrichtung 53 vorgesehen sind, die eine Substratbeförderungseinheit ist, wobei diese eine Erwärmungsbehandlung zum Erwärmen der Vielzahl an Substraten 10 durch Abstrahlen von infrarotem Licht von den Infrarotlampen 22 und 42 als ein Erwärmungsmechanismus ausführen.
  • Somit kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels die Substrate 10 mit den Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 erwärmen, ohne die Substrate 10 zu berühren. Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels ein gleichförmiges Erwärmen ohne Verformung der Substrate 10 unabhängig von der Form der Substrate 10 ausführen.
  • Des Weiteren sind die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 und die Dünnfilmausbildungsdüse 1 separat voneinander so angeordnet, dass die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung nicht durcheinander beeinflusst werden. Daher kann das Auftreten des Ausgangsnebelverdampfungsphänomens, bei dem ein Ausgangsnebel infrarotes Licht absorbiert, und erwärmt und verdampft wird, mit Sicherheit vermieden werden, wenn sowohl die Erwärmungsbehandlung als auch die Nebelsprühbehandlung ausgeführt werden.
  • Als ein Ergebnis kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels einen dünnen Film auf den Substraten 10 ausbilden, ohne dass die Filmausbildungsqualität und die Filmausbildungsrate vermindert werden.
  • Außerdem werden als die in der Erwärmungskammer 80 ausgeführte Erwärmungsbehandlung, die durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 ausgeführte Erwärmungsbehandlung einer ersten Richtung und die durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 ausgeführte Erwärmungsbehandlung einer zweiten Richtung gleichzeitig ausgeführt. Dies ermöglicht ein Erwärmen von der Rückseitenfläche der Substrate 10 bei der Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung und ein Erwärmen von der vorderen Fläche der Substrate 10 bei der Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung.
  • Als ein Ergebnis kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels die Substrate 10 in der Erwärmungskammer 80 noch gleichförmiger erwärmen.
  • Des Weiteren kann, indem die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4, die ein Erwärmungsmechanismus sind, im Inneren der Erwärmungskammer 80 vorgesehen sind, die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels infrarotes Licht auf die Substrate 10 abstrahlen, ohne durch die Erwärmungskammer 80 zu strahlen. Demgemäß kann die Filmausbildungsvorrichtung 11 des ersten Ausführungsbeispiels die Effizienz zum Abstrahlen von infrarotem Licht verbessern.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass das Abstrahlen von infrarotem Licht von der Infrarotabstrahlungsvorrichtung 2, die unter der Beförderungseinrichtung 53 (Richtung -Z) angeordnet ist, nach oben (Richtung +Z) ausgeführt wird. Dies bedeutet, dass das infrarote Licht auf die Vielzahl an Substraten 10 durch den Riemen 52 (obere Seite und untere Seite) der Beförderungseinrichtung 53 gestrahlt wird.
  • Im Hinblick auf derartige Konfigurationen sind eine erste Gegenmaßnahme und eine zweite Gegenmaßnahme denkbar: Die erste Gegenmaßnahme greift einen Aufbau auf, bei dem der Riemen 52 eine Kombination aus einem Paar an linearen Beförderungsketten aufweist, und ein Öffnungsabschnitt für eine Übertragung von infrarotem Licht vorgesehen ist, und die zweite Gegenmaßnahme greift einen Aufbau auf, bei dem ein Infrarotlichtübertragungsmaterial mit einer ausgezeichneten Übertragungsfähigkeit von infrarotem Licht, das infrarotes Licht nicht absorbiert, als ein Bestandteilmaterial des Riemens 52 verwendet wird.
  • Somit kann im Hinblick auf den Riemen 52, indem zumindest eine Gegenmaßnahme aus der ersten und zweiten Gegenmaßnahme aufgegriffen wird, ein Infrarotlichtabsorptionsgrad des Riemens 52 auf ein minimal erforderliches Maß reduziert werden.
  • Ein spezifisches Beispiel der zweiten Gegenmaßnahme ist nachstehend erörtert. Mögliche Beispiele des Infrarotlichtübertragungsmaterials umfassen Germanium, Silicium, Zinksulfid und Zinkselenit. Es ist hierbei zu beachten, dass es erforderlich ist, dass die Festigkeit für eine Verwendung als Riemen 52 erfüllt wird.
  • Im Gegensatz dazu wird eine Abstrahlung von infrarotem Licht von der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4, die oberhalb (Richtung +Z) der Beförderungseinrichtung 53 angeordnet ist, nach unten (Richtung -Z) ausgeführt, und das infrarote Licht wird direkt auf die Substrate 10 gestrahlt. Somit müssen die erste und zweite Gegenmaßnahme, die vorstehend erläutert sind, hierbei nicht berücksichtigt werden.
  • Zweites Ausführungsbeispiel
  • 2 zeigt eine erläuternde Darstellung eines schematischen Aufbaus einer Filmausbildungsvorrichtung gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. In 2 ist ein Orthogonalkoordinatensystem XYZ gezeigt.
  • Wie dies in 2 gezeigt ist, hat die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels Erwärmungskammern 801 und 802, Filmausbildungskammern 901 und 902, zwei Dünnfilmausbildungsdüsen 1, eine Kombination aus zwei Paaren an Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 und eine Beförderungseinrichtung 53 als Hauptkomponenten.
  • Die Beförderungseinrichtung 53, die eine Substratbeförderungseinheit ist, ermöglicht, dass die Vielzahl an Substraten 10 auf der oberen Fläche des Riemens 52 angeordnet werden, und sie befördert die Vielzahl an Substraten 10 in der Beförderungsrichtung (Richtung X). Die Beförderungseinrichtung 53 umfasst ein Paar an Rollen 51 für eine Beförderung, die an sowohl dem rechten als auch dem linken Ende vorgesehen sind, und einen endlosen Riemen 52 für die Beförderung, der über das Paar an Rollen 51 gespannt ist.
  • Mit dem Drehantrieb des Paares der Rollen 51 kann die Beförderungseinrichtung 53 eine obere Seite (Seite der Richtung +Z) des Riemens 52 entlang der Beförderungsrichtung (Richtung X) bewegen.
  • Von dem Paar an Rollen 51 der Beförderungseinrichtung 53 ist eine Rolle an der linken Seite (Richtung -X) an der Außenseite der Erwärmungskammer 801 vorgesehen und ist die andere Rolle an der rechten Seite (Richtung +X) der Filmausbildungskammer 902 vorgesehen. Des Weiteren ist ein mittlerer Abschnitt des Riemens 52 im Inneren von sowohl der Erwärmungskammer 801, der Erwärmungskammer 802, der Filmausbildungskammer 901 und der Filmausbildungskammer 902 vorgesehen.
  • Daher kann mit dem Drehantrieb des Paares der Rollen 51 der Riemen 52 zwischen der Innenseite der Erwärmungskammern 801 und 802 und der Innenseite und der Außenseite der Filmausbildungskammern 901 und 902 durch das Paar an Öffnungsabschnitten 88, die an einem Abschnitt der jeweiligen rechten und linken Seitenfläche (Richtung -X, Richtung +X) der Erwärmungskammern 801 und 802 vorgesehen sind, und ein Paar an Öffnungsabschnitten 98 bewegt werden, die an einem Abschnitt der jeweiligen rechten und linken Seitenfläche der Filmausbildungskammern 901 und 902 vorgesehen sind.
  • Die Erwärmungskammern 801 und 802 und die Filmausbildungskammern 901 und 902 sind benachbart von der linken Seite zu der rechten Seite in der Reihenfolge der Erwärmungskammer 801, der Filmausbildungskammer 901, der Erwärmungskammer 802 und der Filmausbildungskammer 902 vorgesehen. Des Weiteren sind der rechte Öffnungsabschnitt 88 der Erwärmungskammer 801 und der linke Öffnungsabschnitt 98 der Filmausbildungskammer 901 gemeinsam vorgesehen (sie werden gemeinsam genutzt). Der rechte Öffnungsabschnitt 98 der Filmausbildungskammer 901 und der linke Öffnungsabschnitt 88 der Erwärmungskammer 802 werden gemeinsam genutzt. Der rechte Öffnungsabschnitt 88 der Erwärmungskammer 802 und der Öffnungsabschnitt 98 der Filmausbildungskammer 902 werden gemeinsam genutzt.
  • Ein Teil der Beförderungseinrichtung 53 ist in den Erwärmungskammern 801 und 802 untergebracht. Der Aufbau im Inneren und um die Erwärmungskammern 801 und 802 herum ist der Gleiche, und somit ist nachstehend hauptsächlich die Erwärmungskammer 801 beschrieben.
  • Die Erwärmungskammer 801 umfasst eine obere Kammer 83, eine untere Kammer 84 und ein Paar an Öffnungsabschnitten 88. Das Paar an Öffnungsabschnitten 88 ist zwischen der oberen Kammer 83 und der unteren Kammer 84 in der Höhenrichtung, die die Richtung Z ist, angeordnet. Daher ist die Beförderungseinrichtung 53, die zwischen den Öffnungsabschnitten 88 und 88 in der Erwärmungskammer 801 vorgesehen ist, an einer Position angeordnet, die höher als die untere Kammer 84 und niedriger als die obere Kammer 83 ist.
  • In einem Bereich um die Erwärmungskammer 801 herum ist die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2, die eine Erwärmungseinheit einer ersten Richtung ist, an einer Position, die von der Beförderungseinrichtung 53 getrennt (beabstandet) ist, an einer unteren Seite (Richtung -Z) an der Außenseite der unteren Kammer 84 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fixiert.
  • In einem Bereich um die Erwärmungskammer 801 herum ist die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4, die eine Erwärmungseinheit einer zweiten Richtung ist, an einer Position, die von der Beförderungseinrichtung 53 beabstandet (entfernt) ist, an einer oberen Seite (Richtung +Z) an der Außenseite der oberen Kammer 83 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fixiert. Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 und die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 bilden einen Erwärmungsmechanismus.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass die beiden Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 an Positionen angeordnet sind, die in einem Oberflächenbereich (ein Bereich, der zwischen dem Paar an linearen Beförderungsketten angeordnet ist) des Riemens 52 in der Erwärmungskammer 801 in der Draufsicht überlappen.
  • Sowohl die Erwärmungskammer 801 als auch die Erwärmungskammer 802 verwendet als ihr Bestandteilmaterial ein Infrarotlichtübertragungsmaterial mit einer ausgezeichneten Übertragungsfähigkeit, die infrarotes Licht nicht absorbiert, das von den Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 abgestrahlt wird. Genauer gesagt nutzt jede der Erwärmungskammern 801 und 802 Quarzglas als ihr Bestandteilmaterial.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2, die eine Erwärmungseinheit der ersten Richtung ist, führt eine Erwärmungsbehandlung einer ersten Richtung aus zum Erwärmen der Substrate 10 durch Abstrahlen von infrarotem Licht zu der Richtung +Z (erste Richtung) ähnlich wie im ersten Ausführungsbeispiel.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4, die eine Erwärmungseinheit der zweiten Richtung ist, führt eine Erwärmungsbehandlung einer zweiten Richtung aus zum Erwärmen der Substrate 10 durch Bestrahlen von infrarotem Licht zu der Richtung -Z (zweite Richtung), die eine Richtung ist, die zu der Richtung +Z entgegengesetzt ist, wobei dies ähnlich wie im ersten Ausführungsbeispiel ist.
  • Des Weiteren bringt die Erwärmungskammer 801 im Inneren die Substrate 10 unter, wenn die Erwärmungsbehandlung (Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung und Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung) der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 ausgeführt wird.
  • Die Erwärmungskammer 801 kann die Vielzahl an auf dem Riemen 52 angeordneten Substraten 10 von der Außenseite isolieren, indem die Öffnungen 88 zwischen der oberen Kammer 83 und der unteren Kammer 84 durch den Luftvorhang 7 geschlossen werden, wenn die Erwärmungsbehandlung ausgeführt wird.
  • Wie dies vorstehend beschrieben ist, hat die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4, die am Außenumfang der Erwärmungskammern 801 vorgesehen sind, als einen ersten Erwärmungsmechanismus, und die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 und 4, die am Außenumfang der Erwärmungsvorrichtung 802 vorgesehen sind, als einen zweiten Erwärmungsmechanismus.
  • Des Weiteren wird die erste Erwärmungsbehandlung durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 für die Vielzahl an Substraten 10 in der Erwärmungskammer 801 ausgeführt, und die zweite Erwärmungsbehandlung wird durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 für die Vielzahl an Substraten 10 in der Erwärmungskammer 802 ausgeführt. Diese erste und zweite Erwärmungsbehandlung umfassen die Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung und die Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung, die vorstehend jeweils beschrieben sind.
  • Jede der Filmausbildungskammern 901 und 902 bringt die Dünnfilmausbildungsdüse 1 und einen Teil der Beförderungseinrichtung 53 unter. Der Innenaufbau der Filmausbildungskammern 901 und 902 sind die Gleichen, und somit ist nachstehend hauptsächlich die Filmausbildungskammer 901 besch rieben.
  • Die Erwärmungskammer 901 umfasst eine obere Kammer 91, eine untere Kammer 92 und ein Paar an Öffnungsabschnitten 98. Das Paar an Öffnungsabschnitten 98 ist zwischen der oberen Kammer 91 und der unteren Kammer 92 in der Höhenrichtung angeordnet, die die Richtung Z ist. Daher ist Beförderungseinrichtung 53, die zwischen den Öffnungsabschnitten 98 und 98 in der Filmausbildungskammer 901 vorgesehen ist, an einer Position angeordnet, die höher als die untere Kammer 4 und niedriger als die obere Kammer 83 ist.
  • In der Filmausbildungskammer 901 ist die Dünnfilmausbildungsdüse 1, die eine Nebelsprüheinheit ist, in der oberen Kammer 91 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung feststehend angeordnet. In diesem Fall ist die Dünnfilmausbildungsdüse 1 so angeordnet, dass sie eine derartige Positionsbeziehung hat, dass die Sprühfläche 1S und die obere Fläche des Riemens 52 aneinander zugewandt sind.
  • In der Filmausbildungskammer 901 führt die Dünnfilmausbildungsdüse 1 eine Nebelsprühbehandlung zum Sprühen des Ausgangsnebels MT nach unten (Richtung -Z) aus einer Sprühöffnung, die in der Sprühfläche 1S vorgesehen ist, ähnlich wie im ersten Ausführungsbeispiel aus.
  • Wie dies vorstehend beschrieben ist, hat die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels die Dünnfilmausbildungsdüse 1, die in der Filmausbildungskammer 901 als eine erste Nebelsprüheinheit vorgesehen ist, und die Dünnfilmausbildungsdüse 1, die in der Filmausbildungskammer 902 als eine zweite Nebelsprüheinheit vorgesehen ist.
  • Des Weiteren wird die erste Nebelsprühbehandlung durch die Dünnfilmausbildungsdüse 1 ausgeführt, die in der Filmausbildungskammer 901 vorgesehen ist, und die zweite Nebelsprühbehandlung wird durch die Dünnfilmausbildungsdüse 1 ausgeführt, die in der Filmausbildungskammer 902 vorgesehen ist.
  • Jede der Filmausbildungskammern 901 und 902 können die Dünnfilmausbildungsdüse 1 und die Vielzahl an auf dem Riemen 52 angeordneten Substraten 10 von der Außenseite isolieren, indem die Öffnungsabschnitte 98 zwischen der oberen Kammer 91 und der unteren Kammer 92 durch den Luftvorhang 7 geschlossen werden, wenn die Nebelsprühbehandlung ausgeführt wird.
  • Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 12 des ersten Ausführungsbeispiels eine Filmausbildungsumgebung einstellen, indem sämtliche aus dem Paar an Öffnungsabschnitten 88 der jeweiligen Erwärmungskammern 801 und 802 und dem Paar an Öffnungsabschnitten 98 der jeweiligen Filmausbildungskammern 901 und 902 mit dem Luftvorhang 7 geschlossen werden und der Riemen 52 der Beförderungseinrichtung 53 entlang der Beförderungsrichtung (Richtung X) bewegt wird.
  • In der Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels sind unter der Filmausbildungsumgebung die Kombination aus den zwei Paaren an Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 und die zwei Dünnfilmausbildungsdüsen 1 separat voneinander so angeordnet, dass die für die Substrate 10 in den Erwärmungskammern 801 und 802 ausgeführte Erwärmungsbehandlung und die in den Filmausbildungskammern 901 und 902 ausgeführte Nebelsprühbehandlung einander nicht beeinträchtigen/beeinflussen.
  • Dann wird in der Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels unter der Filmausbildungsumgebung die erste Erwärmungsbehandlung der Infrarotbestrahlung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 für die Vielzahl an Substraten 10 in der Erwärmungskammer 801 ausgeführt, und anschließend wird die erste Nebelsprühbehandlung der Dünnfilmausbildungsdüse 1 in der Filmausbildungskammer 902 ausgeführt.
  • Danach wird in der Filmausbildungsvorrichtung 12 unter der Filmausbildungsumgebung die zweite Erwärmungsbehandlung der Infrarotbestrahlung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 für die Vielzahl an Substraten 10 in der Erwärmungskammer 802 ausgeführt, und anschließend wird die zweite Nebelsprühbehandlung der Dünnfilmausbildungsdüse 1 in der Filmausbildungskammer 902 ausgeführt.
  • Als ein Ergebnis kann die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels schließlich einen dünnen Film auf vorderen Flächen der auf der oberen Fläche des Riemens 52 angeordneten Substrate in der Filmausbildungskammer 902 ausbilden.
  • Wie dies vorstehend beschrieben ist, kann ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels die Substrate 10 mit der Kombination aus den beiden Paaren an Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 erwärmen, ohne die Substrate 10 zu berühren. Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels ein gleichförmiges Erwärmen ohne Verformung der Substrate 10 unabhängig von der Form der Substrate 10 ausführen.
  • Des Weiteren sind ähnlich wie im ersten Ausführungsbeispiel in der Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels die beiden Paare an Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 und die beiden Dünnfilmausbildungsdüsen 1 separat voneinander so angeordnet, dass die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden. Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 12 sicher ein Auftreten des Ausgangsnebelverdampfungsphänomens vermeiden, wenn sowohl die erste als auch die zweite Erwärmungsbehandlung und die erste und zweite Nebelsprühbehandlung ausgeführt werden.
  • Als ein Ergebnis kann ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels einen dünnen Film auf vorderen Flächen der Substrate 10 ausbilden, ohne dass die Filmausbildungsqualität und die Filmausbildungsrate verringert werden.
  • Wie dies vorstehend beschrieben ist, sind in der Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels der erste und zweite Erwärmungsmechanismus und die erste und zweite Nebelsprüheinheit abwechselnd in der Reihenfolge des ersten Mechanismus/erste Einheit und des zweiten Mechanismus/zweite Einheit so angeordnet, dass die erste und zweite Erwärmungsbehandlung und die erste und zweite Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden.
  • Des Weiteren weist die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels ein Merkmal dahingehend auf, dass die erste und zweite Erwärmungsbehandlung und die erste und zweite Nebelsprühbehandlung abwechselnd in der Reihenfolge der ersten Behandlung und der zweiten Behandlung ausgeführt werden.
  • Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels die Dicke eines ausgebildeten dünnen Films erhöhen, und sie kann dünne Filme einer gestapelten Struktur inklusive zweier Filme mit verschiedenen Filmqualitäten (verschiedene Filmeigenschaften) ausbilden, indem abwechselnd wiederholt die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung zweimal ausgeführt werden.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass in der vorstehend beschriebenen Filmausbildungsvorrichtung 12 eine Kombination aus zwei Erwärmungsmechanismen und zwei Nebelsprüheinheiten dargestellt ist. Jedoch kann eine erweiterte Abwandlung, die durch eine Kombination an n (n ≥ 2) Erwärmungsmechanismen und n Nebelsprüheinheiten erzielt wird, ausgeführt werden.
  • Die erweiterte Abwandlung umfasst erste bis n-te Erwärmungsmechanismen, die eine erste bis n-te Erwärmungsbehandlung ausführen, und erste n-te Nebelsprüheinheiten, die eine erste bis n-te Nebelsprühbehandlung ausführen.
  • In der erweiterten Abwandlung sind der erste bis n-te Erwärmungsmechanismus und die erste bis n-te Nebelsprüheinheit abwechselnd separat voneinander in der Reihenfolge des ersten Mechanismus/erste Einheit bis n-ten Mechanismus/n-te Einheit so angeordnet, dass die erste bis n-te Erwärmungsbehandlung und die erste bis n-te Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden.
  • Des Weiteren hat die erweiterte Abwandlung ein Merkmal dahingehend, dass die erste bis n-te Erwärmungsbehandlung und die erste bis n-te Nebelsprühbehandlung abwechselnd in der Reihenfolge der ersten, zweiten, ..., n-ten Behandlung ausgeführt werden.
  • Daher kann die erweiterte Abwandlung die Dicke eines ausgebildeten dünnen Filmes erhöhen und sie kann dünne Filme einer gestapelten Struktur ausbilden inklusive Filme aus n Lagen mit verschiedenen Filmqualitäten (verschiedene Filmeigenschaften), indem abwechselnd wiederholt die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung n (≥ 2) mal ausgeführt werden.
  • Außerdem führt die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels gleichzeitig die Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2 und die Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 4 als die erste und zweite Erwärmungsbehandlung aus, die für die Substrate 10 in den Erwärmungskammern 801 und 802 ausgeführt werden, ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel.
  • Als ein Ergebnis kann die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels noch gleichförmiger die Substrate 10 in jeder der Erwärmungskammern 801 und 802 ähnlich wie im ersten Ausführungsbeispiel erwärmen.
  • Des Weiteren kann, indem die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4, die Erwärmungsmechanismen sind, an der Außenseite der Erwärmungskammern 801 und 802 vorgesehen werden, die Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels die Wartung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 wie beispielsweise ein Ersetzen oder Austauschen der Infrarotlampen 22 und 42 vereinfachen.
  • Außerdem haben die Erwärmungskammern 801 und 802 der Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels als ihr Bestandteilmaterial Quarzglas, das ein Infrarotlicht übertragendes Material mit einer ausgezeichneten Übertragungsfähigkeit für infrarotes Licht ist, das von den Infrarotlampen 22 und 42 abgestrahlt wird.
  • Dieser Aufbau erzeugt einen Effekt zum Verringern eines Infrarotlichtabsorptionsgrades der Bodenfläche der unteren Kammer 62 zum Zeitpunkt des Erwärmens der Substrate 10 durch die Bodenfläche der unteren Kammer 84 von jeder der Erwärmungskammern 801 und 802 bei der Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung auf ein minimal nötiges Maß. In ähnlicher Weise erzeugt der Aufbau einen Effekt zum Verringern eines Infrarotlichtabsorptionsgrades der oberen Fläche der oberen Kammer 83 zum Zeitpunkt der Erwärmung der Substrate 10 durch die obere Fläche der oberen Kammer 83 von jeder der Erwärmungskammern 801 und 802 bei der Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung auf ein minimal nötiges Maß.
  • Des Weiteren umfassen andere mögliche Beispiele des Infrarotlicht übertragenden Materials außer Quarzglas: Germanium, Silizium, Zinksulfid und Zinkselenit.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass auch bei der Filmausbildungsvorrichtung 12 des zweiten Ausführungsbeispiels ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel zumindest eine Gegenmaßnahme aus der ersten und zweiten Gegenmaßnahme in Bezug auf die Infrarotlichtabsorption des Riemens 52 aufgegriffen werden kann.
  • Abwandlungen
  • Als Abwandlungen des zweiten Ausführungsbeispiels sind die folgenden Konfigurationen denkbar. In den Abwandlungen ist zumindest eine Konfiguration aus der ersten Konfiguration und der zweiten Konfiguration wie folgt festgelegt: In der ersten Konfiguration sind eine Vielzahl an Erwärmungsmechanismen vorhanden, die jeweils eine Kombination aus den Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 sind; und in der zweiten Konfiguration sind eine Vielzahl an Nebelsprüheinheiten vorhanden, die jeweils die Dünnfilmausbildungsdüse 1 sind.
  • 3 zeigt eine erläuternde Darstellung, in der schematisch eine erste Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels gezeigt ist. Ein orthogonales Koordinatensystem XYZ ist in 3 gezeigt. Wie dies in 3 gezeigt ist, sind eine Erwärmungskammer 811, eine Erwärmungskammer 812 und eine Filmausbildungskammer 911 benachbart in dieser Reihenfolge entlang der Beförderungsrichtung angeordnet, wobei eine Filmausbildungsvorrichtung 12X gebildet ist, die die erste Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels ist. Genauer gesagt ist in der Filmausbildungsvorrichtung 12X die erste Konfiguration festgelegt.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass, obgleich dies in 3 nicht gezeigt ist, ähnlich wie bei den Erwärmungskammern 801 und 802 die Erwärmungskammern 811 und 812 im Inneren einen Teil der Beförderungseinrichtung 53 haben und die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 am Außenumfang haben, und ähnlich wie bei der Filmausbildungskammer 901 die Filmausbildungskammer 911 im Inneren einen Teil der Beförderungseinrichtung 53 und die Dünnfilmausbildungsdüse 1 hat. Des Weiteren ist die Beförderungsrichtung der Substrate 10 mit der Beförderungseinrichtung 53 von links nach rechts.
  • In der Filmausbildungsvorrichtung 12X, die die erste Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels ist, ist die erste Konfiguration festgelegt. Somit erzeugt die Filmausbildungsvorrichtung 12X einen Effekt zum relativ leichten Ausführen einer Temperatureinstellung der Substrate 10 durch ein aufeinanderfolgendes Ausführen einer Wärmebehandlung zweimal bei den Substraten 10 in den Erwärmungskammern 801 und 812, ohne dass die Nebelsprühbehandlung dazwischen ausgeführt wird.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass bei dem in 3 gezeigten Beispiel die Erwärmungsbehandlung zweimal in Aufeinanderfolge ausgeführt wird, ohne die Nebelsprühbehandlung dazwischen auszuführen. Jedoch ist es denkbar, eine erweiterte Konfiguration aufzugreifen, bei der die Erwärmungsbehandlung drei- oder mehr mal in Aufeinanderfolge ausgeführt wird, ohne dass die Nebelsprühbehandlung dazwischen ausgeführt wird. Schließlich ist es denkbar, eine erweiterte Konfiguration aufzugreifen, bei der die Erwärmungsbehandlung in Aufeinanderfolge durch zumindest zwei Erwärmungsmechanismen ausgeführt wird, ohne die Nebelsprühbehandlung dazwischen auszuführen. In diesem Fall wird erwartet, dass der vorstehend erläuterte Effekt der Filmausbildungsvorrichtung 12X verstärkt wird.
  • 4 zeigt eine erläuternde Darstellung, die schematisch eine zweite Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels zeigt. Ein orthogonales Koordinatensystem XYZ ist in 4 gezeigt. Wie dies in 4 gezeigt ist, sind eine Erwärmungskammer 821 und Filmausbildungskammern 921 und 922 benachbart in dieser Reihenfolge entlang der Beförderungsrichtung angeordnet, wobei eine Filmausbildungsvorrichtung 12Y gebildet ist, die die zweite Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels ist. Genauer gesagt ist in der Filmausbildungsvorrichtung 12Y die zweite Konfiguration festgelegt.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass, obwohl dies in 4 nicht gezeigt ist, ähnlich wie bei der Erwärmungskammer 801 die Erwärmungskammer 821 im Inneren einen Teil der Beförderungseinrichtung 53 hat und die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2 und 4 am Außenumfang hat, und ähnlich wie bei den Filmausbildungskammern 901 und 902 die Filmausbildungskammern 921 und 922 im Inneren einen Teil der Beförderungseinrichtung 53 und die Dünnfilmausbildungsdüse 1 haben. Des Weiteren ist die Beförderungsrichtung der Substrate 10 von links nach rechts.
  • In der Filmausbildungsvorrichtung 12Y, die die zweite Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels ist, ist die zweite Konfiguration festgelegt. Somit erzeugt die Filmausbildungsvorrichtung 12Y einen Effekt zum Ausbilden von dünnen Filmen einer gestapelten Struktur, die unter einer Umgebung ausgebildet werden, bei der die Temperaturen der Substrate 10 unterschiedlich sind, indem in Aufeinanderfolge eine Nebelsprühbehandlung zweimal in den Filmausbildungskammern 921 und 922 ausgeführt wird, ohne dass die Erwärmungsbehandlung dazwischen ausgeführt wird.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass bei dem in 4 gezeigten Beispiel die Nebelsprühbehandlung zweimal in Aufeinanderfolge ausgeführt wird, ohne dass die Erwärmungsbehandlung dazwischen ausgeführt wird. Jedoch ist es denkbar, eine erweiterte Konfiguration aufzugreifen, bei der die Erwärmungsbehandlung drei- oder mehr mal in Aufeinanderfolge ausgeführt wird, ohne dass die Erwärmungsbehandlung dazwischen ausgeführt wird. Genauer gesagt ist es denkbar, eine erweiterte Konfiguration aufzugreifen, bei der die Nebelsprühbehandlung durch zumindest zwei Nebelsprüheinheiten in Aufeinanderfolge ausgeführt wird, ohne dass die Erwärmungsbehandlung dazwischen ausgeführt wird. In diesem Fall wird erwartet, dass der vorstehend erläuterte Effekt der Filmausbildungsvorrichtung 12Y verstärkt wird.
  • Des Weiteren können als eine dritte Abwandlung des zweiten Ausführungsbeispiels sowohl die erste Konfiguration als auch die zweite Konfiguration festgelegt werden, und eine Filmausbildungsvorrichtung, bei der die Erwärmungskammern 811 und 812 der Filmausbildungsvorrichtung 12X und die Filmausbildungskammern 921 und 922 der Filmausbildungsvorrichtung 12Y kombiniert sind, kann ausgeführt werden.
  • Drittes Ausführungsbeispiel
  • Die 5 und 6 zeigen jeweils erläuternde Darstellungen eines schematischen Aufbaus einer Filmausbildungsvorrichtung gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. 5 zeigt einen Aufbau unter Betrachtung von oben, und 6 zeigt einen Aufbau unter Betrachtung von einer Seitenfläche ähnlich wie bei den 1 und 2. Ein orthogonales Koordinatensystem XYZ ist in sowohl 5 als auch in 6 gezeigt.
  • Wie dies in den 5 und 6 gezeigt ist, hat eine Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels eine Erwärmungskammer 18, eine Filmausbildungskammer 19, eine Kombination aus Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L, eine Kombination aus Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L und eine Beförderungskette 25 als Hauptkomponenten. Es ist hierbei zu beachten, dass in 5 die Darstellung der Beförderungskette 25 weggelassen ist, und in 6 die Darstellung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L und der Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L weggelassen ist.
  • Wie dies in 6 gezeigt ist, hat die Beförderungskette 25, die eine Substratbeförderungseinheit ist, Substrataufhängeteile 25p, und hängt die Vielzahl an Substraten 10 unter Verwendung der Substrataufhängeteile 25p auf. In diesem Fall sind die in Vielzahl vorgesehenen Substrate 10 so aufgehängt, dass die linke Seite (Seite der Richtung +Y) einer vorderen Seite entspricht und die rechte Seite (Seite der Richtung -Y) einer Rückseitenfläche in Bezug auf die Beförderungsrichtung (Richtung +X) entspricht.
  • Die Beförderungskette 25 kann in der Beförderungsrichtung (Richtung X) durch eine (nicht gezeigte) Antriebseinrichtung bewegt werden und kann die Vielzahl an Substraten 10 in der Beförderungsrichtung zusammen mit der Bewegung der Beförderungskette 25 bewegen.
  • Ein Ende der Beförderungskette 25 ist an der linken Seite (Richtung -X) an der Außenseite der Erwärmungskammer 18 vorgesehen und ein anderes Ende ist an der rechten Seite (Richtung +X) an der Außenseite der Filmausbildungskammer 19 (außerhalb von dieser) vorgesehen.
  • Des Weiteren ist ein mittlerer Abschnitt der Beförderungskette 25 im Inneren von sowohl der Erwärmungskammer 18 als auch der Filmausbildungskammer 19 vorgesehen und kann zwischen dem Inneren der Erwärmungskammer 18 und dem Inneren und der Außenseite der Filmausbildungskammer 19 durch das Paar an Öffnungsabschnitten 89, die an einem Abschnitt der rechten und linken (Richtung -X, Richtung +X) Seitenflächen der Erwärmungskammer 18 vorgesehen sind, und die Öffnungsabschnitte 99, die an der rechten und linken Seitenfläche der Filmausbildungskammer 19 vorgesehen sind, bewegt werden.
  • Die Erwärmungskammer 18 und die Filmausbildungskammer 19 sind von links nach rechts benachbart in der Reihenfolge der Erwärmungskammer 18 und der Filmausbildungskammer 19 vorgesehen. Des Weiteren werden die rechten Öffnungsabschnitte 89 der Erwärmungskammer 18 und die linken Öffnungsabschnitte 99 der Filmausbildungskammer 19 gemeinsam genutzt.
  • Ein Teil der Beförderungskette 25 ist im Inneren der Erwärmungskammer 18 untergebracht. Die Erwärmungskammer 18 umfasst eine rechte Kammer 85, eine linke Kammer 86 und ein Paar an Öffnungsabschnitten 89. Das Paar an Öffnungsabschnitten 89 ist zwischen der rechten Kammer 85 und der linken Kammer 86 in einer Breitenrichtung angeordnet, die die Richtung Y ist. Daher ist die Beförderungskette 25, die zwischen den Öffnungsabschnitten 89 und 89 in der Erwärmungskammer 18 vorgesehen ist, an der linken Seite (Seite der Richtung +Y) der rechten Kammer 85 und der rechten Seite (Seite der Richtung - Y) der linken Kammer 86 in Bezug auf die Beförderungsrichtung (Richtung X) angeordnet.
  • Die Erwärmungskammer 18 hat als ihr Bestandteilmaterial ein Infrarotlichtübertragungsmaterial mit einem ausgezeichneten Übertragungsvermögen, das von den Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L abgestrahltes infrarotes Licht nicht absorbiert. Genauer gesagt, greift die Erwärmungskammer 18 Quarzglas als ihr Bestandteilmaterial auf. Andere mögliche Beispiele des infrarotlichtübertragenden Materials außer Quarzglas umfassen Germanium, Silizium, Zinksulfid und Zinkselenit.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2R, die eine Erwärmungseinheit einer ersten Richtung ist, ist an der rechten Seite (Richtung -Y) an der Außenseite der rechten Kammer 85 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung in Bezug auf die Beförderungsrichtung (Richtung +X) fixiert. Somit ist die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2R beabstandet von der Beförderungskette 25 angeordnet.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2L, die eine Erwärmungseinheit einer zweiten Richtung ist, ist an der linken Seite (Richtung +Y) an der Außenseite der linken Kammer 86 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung in Bezug auf die Beförderungsrichtung fixiert. Somit ist die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2L von der Beförderungskette 25 beabstandet angeordnet. Die Kombination aus der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2R und der Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2L bildet einen Erwärmungsmechanismus.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass, obwohl dies in 4 nicht gezeigt ist, beide Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L an einer Höhe angeordnet sind, die im Wesentlichen die Gleiche wie bei der Vielzahl an Substraten 10 in der Erwärmungskammer 18 ist.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2R, die die Erwärmungseinheit der ersten Richtung ist, führt eine Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung aus zum Erwärmen der Substrate 10 durch Abstrahlen von infrarotem Licht zu der Richtung +Y (erste Richtung). Die Richtung +Y, die die linke Seite in Bezug auf die Beförderungsrichtung ist, ist eine Richtung von der Rückflächenseite zu der vorderen Fläche der Substrate 10.
  • Die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2L, die eine Erwärmungseinheit der zweiten Richtung ist, führt eine Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung aus zum Erwärmen der Substrate 10 durch Abstrahlen von infrarotem Licht zu der Richtung -Y (zweite Richtung), die eine Richtung ist, die zu der Richtung +Y entgegengesetzt ist. Die Richtung -Y, die die rechte Seite in Bezug auf die Beförderungsrichtung ist, ist eine Richtung von der vorderen Fläche zu der Rückseitenfläche der Substrate 10.
  • Des Weiteren sind im Inneren der Erwärmungskammer 18 die Substrate 10 untergebracht, wenn die Erwärmungsbehandlung (Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung und Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung) der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L ausgeführt wird.
  • Wenn die Erwärmungskammer 18 die Erwärmungsbehandlung ausführt, kann die Erwärmungskammer 18 die Vielzahl an Substraten 10, die durch die Substrataufhängeteile 25p aufgehängt sind, von der Außenseite isolieren, indem die Öffnungsabschnitte 89 zwischen der rechten Kammer 85 und der linken Kammer 86 mit dem Luftvorhang 7 verschlossen werden.
  • In dieser Weise hat die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L, die am Außenumfang der Erwärmungskammer 18 vorgesehen sind, als einen Erwärmungsmechanismus.
  • Des Weiteren wird eine Erwärmungsbehandlung durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L ausgeführt, die am Außenumfang der Erwärmungskammer 18 vorgesehen sind.
  • In der Filmausbildungskammer 19 sind die Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L und ein Teil der Beförderungskette 25 untergebracht. Die Filmausbildungskammer 19 umfasst eine rechte Kammer 95, eine linke Kammer 96 und ein Paar an Öffnungsabschnitten 99. Das Paar an Öffnungsabschnitten 99 ist zwischen der rechten Kammer 95 und der linken Kammer 96 in der Breitenrichtung angeordnet, die die Richtung Y ist. Daher ist die Beförderungskette 25, die zwischen den Öffnungsabschnitten 99 und 99 in der Filmausbildungskammer 19 vorgesehen ist, an der linken Seite der rechten Kammer 95 und der rechten Seite der linken Kammer 96 in Bezug auf die Beförderungsrichtung angeordnet.
  • Die Dünnfilmausbildungsdüse 1R, die eine Nebelsprüheinheit einer ersten Richtung ist, ist im Inneren der rechten Kammer 95 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fest angeordnet. In diesem Fall ist die Dünnfilmausbildungsdüse 1R so angeordnet, dass sie eine Positionsbeziehung derart hat, dass die Sprühfläche 1S und die Rückseitenfläche der Substrate 10 einander zugewandt sind.
  • Die Dünnfilmausbildungsdüse 1L, die eine Nebelsprüheinheit einer zweiten Richtung ist, ist im Inneren der linken Kammer 96 durch eine (nicht gezeigte) Fixiereinrichtung fest angeordnet. In diesem Fall ist die Dünnfilmausbildungsdüse 1L so angeordnet, dass sie eine Positionsbeziehung derart hat, dass die Sprühfläche 1S und die vordere Fläche der Substrate 10 einander zugewandt sind.
  • In der Filmausbildungskammer 19 führt die Dünnfilmausbildungsdüse 1R eine Nebelsprühbehandlung einer ersten Richtung aus zum Sprühen des Ausgangsnebels MT zu der linken Seite (Richtung +Y) von der Sprühöffnung, die in der Sprühfläche 1S vorgesehen ist.
  • In der Filmausbildungskammer 19 führt die Dünnfilmausbildungsdüse 1L eine Nebelsprühbehandlung einer zweiten Richtung aus zum Sprühen des Ausgangsnebels MT zu der rechten Seite (Richtung -Y) aus der Sprühöffnung, die in der Sprühfläche 1S vorgesehen ist.
  • In dieser Weise hat die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels die Dünnfilmausbildungsdüse 1R als eine Nebelsprüheinheit der ersten Richtung und die Dünnfilmausbildungsdüse 1L als eine Nebelsprüheinheit der zweiten Richtung. Somit bildet in der Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels die Kombination aus den Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L die Nebelsprüheinheit, und die Nebelsprühbehandlung umfasst eine Kombination aus der Nebelsprühbehandlung der ersten Richtung und der Nebelsprühbehandlung der zweiten Richtung.
  • Wenn die Filmausbildungskammer 19 die Nebelsprühbehandlung ausführt, kann die Filmausbildungskammer 19 die Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L und die Vielzahl an Substraten 10, die durch die Substrataufhängeteile 25p aufgehängt sind, von der Außenseite isolieren, indem die Öffnungsabschnitte 99 zwischen der rechten Kammer 95 und der linken Kammer 96 durch den Luftvorhang 7 geschlossen werden.
  • Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels eine Filmausbildungsumgebung festlegen (einstellen), indem sowohl das Paar an Öffnungsabschnitten 89 der Erwärmungskammer 18 als auch das Paar an Öffnungsabschnitten 99 der Filmausbildungskammer 19 mit dem Luftvorhang 7 geschlossen werden und die Beförderungskette 25 entlang der Beförderungsrichtung (Richtung X) bewegt wird.
  • In der Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels sind unter der Filmausbildungsumgebung die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L und die Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L separat voneinander angeordnet, sodass die für die Substrate 10 in der Erwärmungskammer 18 ausgeführte Erwärmungsbehandlung und die in der Filmausbildungskammer 19 ausgeführte Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden.
  • Dann wird in der Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels unter der Filmausbildungsumgebung die Erwärmungsbehandlung einer Infrarotbestrahlung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L für die Substrate 10 in der Erwärmungskammer 18 ausgeführt, und anschließend wird die Nebelsprühbehandlung der Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L in der Filmausbildungskammer 901 ausgeführt.
  • Als ein Ergebnis kann die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels einen dünnen Film auf jeder der vorderen Flächen und der Rückseitenflächen der Substrate 10, die von der Beförderungskette 25 herabhängen, in der Filmausbildungskammer 901 ausbilden.
  • In dieser Weise kann ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels die Substrate 10 mit den Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L erwärmen, ohne die Substrate 10 zu berühren. Daher kann die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels ein gleichförmiges Erwärmen ausführen, ohne die Substrate 10 zu verformen und ohne Rücksicht auf die Form der Substrate 10.
  • Des Weiteren sind ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel in der Filmausbildungsvorrichtung 13 die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L und die Dünnfilmausbildungsdüsen 1R und 1L separat voneinander so angeordnet, dass die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden. Daher kann das Auftreten des Ausgangsnebelverdampfungsphänomens sicher vermieden werden, wenn die Nebelsprühbehandlung ausgeführt wird.
  • Als ein Ergebnis kann ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels einen dünnen Film auf den Substraten 10 ausbilden, ohne dass die Filmausbildungsqualität und die Filmausbildungsrate verringert werden.
  • Außerdem werden als die für die Substrate 10 in der Erwärmungskammer 18 ausgeführte Erwärmungsbehandlung die Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung, die durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2R ausgeführt wird, und die Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung, die durch die Infrarotbestrahlungsvorrichtung 2L ausgeführt wird, gleichzeitig ausgeführt. Dies ermöglicht ein Erwärmen von der Rückseitenfläche der Substrate 10 bei der Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung und ein Erwärmen von der vorderen Fläche der Substrate 10 bei der Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung.
  • Als ein Ergebnis kann ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels die Substrate 10 in der Erwärmungskammer 80 noch gleichförmiger erwärmen.
  • Außerdem kann die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels einen dünnen Film auf jeder der Rückseitenflächen und der vorderen Flächen der Substrate ausbilden, indem gleichzeitig die Nebelsprühbehandlung der ersten Richtung aus der Dünnfilmausbildungsdüse 1R und die Nebelsprühbehandlung der zweiten Richtung aus der Dünnfilmausbildungsdüse 1L ausgeführt werden.
  • Des Weiteren kann, indem die Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L, die ein Erwärmungsmechanismus sind, an der Außenseite der Erwärmungskammer (außerhalb von dieser) 18 vorgesehen sind, die Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels die Wartung der Infrarotbestrahlungsvorrichtungen 2R und 2L wie beispielsweise ein Austauschen oder Ersetzen der Infrarotlampen 22 vereinfachen.
  • Außerdem hat die Erwärmungskammer 18 der Filmausbildungsvorrichtung 13 des dritten Ausführungsbeispiels als ihr Bestandteilmaterial Quarzglas, das ein infrarotlichtübertragendes Material mit einer ausgezeichneten Übertragungsfähigkeit für infrarotes Licht ist, das von den Infrarotlampen 22 und 42 abgestrahlt wird.
  • Dieser Aufbau erzeugt einen Effekt zum Verringern eines Infrarotlichtabsorptionsgrades der Seitenfläche der rechten Kammer 85 zum Zeitpunkt der Erwärmung der Substrate 10 durch die Seitenfläche der rechten Kammer der Erwärmungskammer 18 bei der Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung auf ein minimal nötiges Maß. In einer ähnlichen Weise erzeugt dieser Aufbau einen Effekt zum Verringern eines Infrarotlichtabsorptionsgrades der Seitenfläche der linken Kammer 86 zum Zeitpunkt der Erwärmung der Substrate 10 durch die Seitenfläche der linken Kammer 86 der Erwärmungskammer 18 bei der Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung auf ein minimal nötiges Maß.
  • Es ist hierbei zu beachten, dass in der vorliegenden Erfindung jedes Ausführungsbeispiel frei kombiniert werden kann oder jedes Ausführungsbeispiel innerhalb des Umfangs der Erfindung geeignet abgewandelt oder weggelassen werden kann.
  • Während die Erfindung vorstehend detailliert aufgezeigt und beschrieben ist, soll die vorstehend dargelegte Beschreibung in sämtlichen Aspekten als veranschaulichend und nicht als einschränkend aufgefasst werden. Es ist daher verständlich, dass viele nicht dargestellte Abwandlungen und Änderungen ohne Abweichen vom Umfang der Erfindung angedacht werden können.
  • Bezugszeichenliste
    • 1, 1R, 1L
    Dünnfilmausbildungsdüse
    2, 2R, 2L, 4
    Infrarotbestrahlungsvorrichtung
    11-13, 12X, 12Y
    Filmausbildungsvorrichtung
    18, 80, 801, 802, 811, 812, 821
    Erwärmungskammer
    19, 90, 901, 902, 911, 921, 922
    Filmausbildungskammer
    21, 41
    Lampenanordnungstisch
    22, 42
    Infrarotlampe
    25
    Beförderungskette
    51
    Rolle
    52
    Riemen
    53
    Beförderungseinrichtung
    81, 83, 91
    obere Kammer
    82, 84, 92
    untere Kammer
    85, 95
    rechte Kammer
    86, 96
    linke Kammer
    88, 89, 98, 99
    Öffnungsabschnitt
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • WO 2017/068625 A1 [0011]

Claims (8)

  1. Filmausbildungsvorrichtung mit: einer Substratbeförderungseinheit (53, 25), die so aufgebaut ist, dass sie ein Substrat (10) befördert; einem Erwärmungsmechanismus (2, 4, 2R, 2L), der eine Infrarotlampe (22, 42) aufweist und so aufgebaut ist, dass er eine Erwärmungsbehandlung zum Erwärmen des Substrates durch Abstrahlen von infrarotem Licht von der Infrarotlampe ausführt; und einer Nebelsprüheinheit (1), die so aufgebaut ist, dass sie eine Nebelsprühbehandlung zum Sprühen eines Ausgangsnebels (MT) ausführt, der durch Zerstäuben einer Ausgangslösung erhalten wird, wobei der Erwärmungsmechanismus und die Nebelsprüheinheit separat so angeordnet sind, dass die Erwärmungsbehandlung und die Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden, und ein dünner Film auf einer vorderen Fläche des Substrates ausgebildet ist durch Ausführen der Erwärmungsbehandlung mit dem Erwärmungsmechanismus und einem dann erfolgenden Ausführen der Nebelsprühbehandlung mit der Nebelsprüheinheit, während das Substrat mit der Substratbeförderungseinheit befördert wird.
  2. Filmausbildungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei der Erwärmungsmechanismus einen ersten bis n-ten (n ≥ 2) Erwärmungsmechanismus umfasst, die so aufgebaut sind, dass sie jeweils eine erste bis n-te Erwärmungsbehandlung ausführen, und die Erwärmungsbehandlung die erste bis n-te Erwärmungsbehandlung umfasst, die Nebelsprüheinheit eine erste bis n-te Nebelsprüheinheit umfasst, die so aufgebaut sind, dass sie jeweils eine erste bis n-te Nebelsprühbehandlung ausführen, und die Nebelsprühbehandlung die erste bis n-te Nebelsprühbehandlung umfasst, der erste bis n-te Erwärmungsmechanismus und die erste bis n-te Nebelsprüheinheit separat voneinander so angeordnet sind, dass die erste bis n-te Erwärmungsbehandlung und die erste bis n-te Nebelsprühbehandlung nicht voneinander beeinflusst werden, und die erste bis n-te Erwärmungsbehandlung und die erste bis n-te Nebelsprühbehandlung abwechselnd in der Reihenfolge der ersten bis n-ten Behandlung ausgeführt werden.
  3. Filmausbildungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei zumindest eine Konfiguration aus einer ersten Konfiguration, bei der der Erwärmungsmechanismus eine Vielzahl an Erwärmungsmechanismen umfasst, und einer zweiten Konfiguration festgelegt ist, bei der die Nebelsprüheinheit eine Vielzahl an Nebelsprüheinheiten umfasst, in dem Fall der ersten Konfiguration die Erwärmungsbehandlung in Aufeinanderfolge, ohne Ausführen der Nebelsprühbehandlung dazwischen, durch zumindest zwei Erwärmungsmechanismen aus der Vielzahl an Erwärmungsmechanismen ausgeführt wird, und in dem Fall der zweiten Konfiguration die Nebelsprühbehandlung in Aufeinanderfolge, ohne Ausführen der Erwärmungsbehandlung dazwischen, durch zumindest zwei Nebelsprüheinheiten aus der Vielzahl an Nebelsprüheinheiten ausgeführt wird.
  4. Filmausbildungsverfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Erwärmungsmechanismus Folgendes umfasst eine Erwärmungseinheit einer ersten Richtung (2, 2R), die so aufgebaut ist, dass sie eine Erwärmungsbehandlung einer ersten Richtung ausführt zum Erwärmen des Substrates durch Abstrahlen von infrarotem Licht zu einer ersten Richtung, und eine Erwärmungseinheit einer zweiten Richtung (4, 2L), die so aufgebaut ist, dass sie eine Erwärmungsbehandlung einer zweiten Richtung ausführt zum Erwärmen des Substrates durch Abstrahlen von infrarotem Licht zu einer zweiten Richtung, die eine Richtung ist, die zu der ersten Richtung entgegengesetzt ist, und die Erwärmungsbehandlung die Erwärmungsbehandlung der ersten Richtung und die Erwärmungsbehandlung der zweiten Richtung umfasst.
  5. Filmausbildungsvorrichtung gemäß Anspruch 4, wobei die Nebelsprüheinheit Folgendes umfasst eine Nebelsprüheinheit einer ersten Richtung (1R), die so aufgebaut ist, dass sie eine Nebelsprühbehandlung einer ersten Richtung ausführt zum Sprühen der Nebelquelle zu der ersten Richtung, und eine Nebelsprüheinheit einer zweiten Richtung (1L), die so aufgebaut ist, dass sie eine Nebelsprühbehandlung einer zweiten Richtung ausführt zum Sprühen des Ausgangsnebels zu der zweiten Richtung, die eine Richtung ist, die zu der ersten Richtung entgegengesetzt ist, und die Nebelsprühbehandlung die Nebelsprühbehandlung der ersten Richtung und die Nebelsprühbehandlung der zweiten Richtung umfasst.
  6. Filmausbildungsvorrichtung gemäß Anspruch 4 oder 5, wobei die erste Richtung eine Richtung von einer Rückseitenfläche zu der vorderen Fläche des Substrates ist, und die zweite Richtung eine Richtung von der vorderen Fläche zu der Rückseitenfläche des Substrates ist.
  7. Filmausbildungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, die des Weiteren Folgendes aufweist: eine Erwärmungskammer (80), die so aufgebaut ist, dass sie in ihrem Inneren das Substrat und den Erwärmungsmechanismus unterbringt beim Ausführen der Erwärmungsbehandlung; und eine Filmausbildungskammer (90), die so aufgebaut ist, dass sie in ihrem Inneren das Substrat und die Nebelsprüheinheit unterbringt beim Ausführen der Nebelsprühbehandlung .
  8. Filmausbildungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, die des Weiteren Folgendes aufweist: eine Erwärmungskammer (801, 802, 18), die so aufgebaut ist, dass sie in ihrem Inneren das Substrat unterbringt beim Ausführen der Erwärmungsbehandlung; und eine Filmausbildungskammer (901, 902, 19), die so aufgebaut ist, dass sie in ihrem Inneren die Nebelsprüheinheit unterbringt beim Ausführen der Nebelsprühbehandlung, wobei der Erwärmungsmechanismus an der Außenseite der Erwärmungskammer angeordnet ist und das Substrat durch die Erwärmungskammer erwärmt, und die Erwärmungskammer ein infrarotlichtübertragendes Material mit einem ausgezeichneten Übertragungsvermögen für infrarotes Licht, das von der Infrarotlampe abgestrahlt wird, als ein Bestandteilmaterial hat.
DE112018007706.3T 2018-06-08 2018-06-08 Filmausbildungsvorrichtung Pending DE112018007706T5 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2018/022034 WO2019234917A1 (ja) 2018-06-08 2018-06-08 成膜装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE112018007706T5 true DE112018007706T5 (de) 2021-02-18

Family

ID=68769825

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE112018007706.3T Pending DE112018007706T5 (de) 2018-06-08 2018-06-08 Filmausbildungsvorrichtung

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20210114047A1 (de)
JP (1) JP7039151B2 (de)
KR (1) KR20210005937A (de)
CN (1) CN112135923B (de)
DE (1) DE112018007706T5 (de)
TW (1) TWI685585B (de)
WO (1) WO2019234917A1 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210129182A1 (en) * 2019-11-04 2021-05-06 Roeslein & Associates, Inc. Ultraviolet bottom coating system and method of operating
JP7094649B1 (ja) * 2020-09-17 2022-07-04 東芝三菱電機産業システム株式会社 成膜装置
CN113414039B (zh) * 2021-05-25 2022-06-14 安庆中船柴油机有限公司 一种船用部件喷涂生产线的气体过滤系统
CN114832979B (zh) * 2022-04-13 2023-02-14 潮峰钢构集团有限公司 高强度钢构件的多功能表面处理系统及其处理方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62122121A (ja) * 1985-11-21 1987-06-03 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体基板の加熱方法
JPH0390579A (ja) * 1989-08-31 1991-04-16 Taiyo Yuden Co Ltd 薄膜形成装置
JP3430277B2 (ja) * 1995-08-04 2003-07-28 東京エレクトロン株式会社 枚葉式の熱処理装置
JPH11126743A (ja) * 1997-10-24 1999-05-11 Tokyo Electron Ltd 処理装置
CN1086158C (zh) * 1999-08-30 2002-06-12 上海交通大学 透明导电薄膜和减反射薄膜喷涂装置及其方法
JP2006016273A (ja) * 2004-07-05 2006-01-19 Fujikura Ltd 噴霧熱分解法による成膜装置
CN100374612C (zh) * 2005-12-26 2008-03-12 内蒙古科技大学 金属雾化喷射连续生产双金属薄板、薄带的工艺及设备
US20110151619A1 (en) * 2008-09-24 2011-06-23 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Sys. Corp. Method of forming metal oxide film and apparatus for forming metal oxide film
US20130189635A1 (en) * 2012-01-25 2013-07-25 First Solar, Inc. Method and apparatus providing separate modules for processing a substrate
KR20190141027A (ko) * 2012-05-24 2019-12-20 가부시키가이샤 니콘 디바이스 제조 방법
JP5914251B2 (ja) * 2012-08-16 2016-05-11 東芝三菱電機産業システム株式会社 積層フィルム製造装置
JP2014072352A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 熱処理装置
CN104704624B (zh) * 2012-10-09 2017-06-09 应用材料公司 具索引的串联基板处理工具
CN105555424A (zh) * 2013-10-30 2016-05-04 株式会社尼康 薄膜的制造方法、透明导电膜
JP6510667B2 (ja) 2015-10-19 2019-05-08 東芝三菱電機産業システム株式会社 成膜装置
JP6598988B2 (ja) * 2016-04-26 2019-10-30 東芝三菱電機産業システム株式会社 成膜装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019234917A1 (ja) 2019-12-12
JPWO2019234917A1 (ja) 2021-04-22
JP7039151B2 (ja) 2022-03-22
TW202000969A (zh) 2020-01-01
CN112135923B (zh) 2022-11-22
CN112135923A (zh) 2020-12-25
US20210114047A1 (en) 2021-04-22
KR20210005937A (ko) 2021-01-15
TWI685585B (zh) 2020-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112018007706T5 (de) Filmausbildungsvorrichtung
CH699583A2 (de) Transportvorrichtung für eine Vakuumprozessanlage, Antriebseinrichtung für eine Anlagenkomponente einer Vakuumprozessanlage, und Vakuumprozessanlage.
DE112016006798B4 (de) Schichtaufbringungsvorrichtung
DE102011009693A1 (de) Kühlmodul und Vorrichtung zum thermischen Behandeln von Substraten
DE102011056913A1 (de) Dampfabscheidungsverfahren zur kontinuierlichen Abscheidung und Behandlung einer Dünnfilmschicht auf einem Substrat
EP2739766B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur herstellung von dünnen schichten
DE3315332A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten von glasscheiben oder -bahnen
DE102010002839B4 (de) Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in Beschichtungsanlagen
DE112018007709T5 (de) Filmausbildungsvorrichtung
DE2032375B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Überziehen von kontinuierlich bewegtem Flachglas mit einem durch Pyrolyse hergestellten Metalloxid
DE112016006797T5 (de) Schichtaufbringungsvorrichtung
DE102010028958B4 (de) Substratbehandlungsanlage
DE112015004673T5 (de) Reaktionskammer für Vorrichtung zur chemischen Gasphasenabscheidung
DE102011085789B4 (de) Vertikale Durchlaufbeschichtungsanlage zur kontinuierlichen Vakuumbeschichtung von Substraten
DE102010040059A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Temperierung von band- und folienförmigen Substraten in einer Substratbehandlungsanlage
DE102008007629A1 (de) Schleusenvorrichtung zum Ein- und Ausbringen von Behältern in und aus einer Vakuumbehandlungskammer
DE102019205295A1 (de) Bedruckstofftransportvorrichtung
DE202017100862U1 (de) Vorrichtung zur aufeinander folgenden Vorder- und Rückseitenbeschichtung von bandförmigen Substraten
WO2017092906A1 (de) Beschichtungsanordnung, substratträger und verfahren
DE102014102002A1 (de) Substratbehandlungsverfahren
DE102014112536A1 (de) Substratbehandlungsanlage und Heizeinrichtung
US11732360B2 (en) Film forming apparatus
DE102013111968B4 (de) Vakuumbehandlungsanlage zur Behandlung eines bandförmigen Substrates
DE102015101875B4 (de) Prozessieranordnung und Verfahren zum Prozessieren eines Substrats
DE202021105990U1 (de) Wagenvorrichtung für den Transport von blattförmigen Elementen und Transporteinheit

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication