DE112016000328T5 - Flexible Verbundplatte und mehrschichtige Leiterplatte - Google Patents

Flexible Verbundplatte und mehrschichtige Leiterplatte Download PDF

Info

Publication number
DE112016000328T5
DE112016000328T5 DE112016000328.5T DE112016000328T DE112016000328T5 DE 112016000328 T5 DE112016000328 T5 DE 112016000328T5 DE 112016000328 T DE112016000328 T DE 112016000328T DE 112016000328 T5 DE112016000328 T5 DE 112016000328T5
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
temperature
insulating film
composite film
flexible composite
metal foil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE112016000328.5T
Other languages
English (en)
Inventor
Eisuke Tachibana
Taro Suzuki
Makoto Totani
Kouji Kondoh
Eijirou Miyagawa
Junya Kasahara
Takao Arima
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Exsymo Co Ltd
Original Assignee
Ube Exsymo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2015004338A external-priority patent/JP6475020B2/ja
Priority claimed from JP2015004337A external-priority patent/JP6518445B2/ja
Application filed by Ube Exsymo Co Ltd filed Critical Ube Exsymo Co Ltd
Publication of DE112016000328T5 publication Critical patent/DE112016000328T5/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C48/00Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
    • B29C48/25Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C48/88Thermal treatment of the stream of extruded material, e.g. cooling
    • B29C48/911Cooling
    • B29C48/9135Cooling of flat articles, e.g. using specially adapted supporting means
    • B29C48/9145Endless cooling belts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/088Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/09Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/098Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising condensation resins of aldehydes, e.g. with phenols, ureas or melamines
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/18Layered products comprising a layer of metal comprising iron or steel
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/283Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/42Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising condensation resins of aldehydes, e.g. with phenols, ureas or melamines
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/02Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions
    • B32B3/08Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions characterised by added members at particular parts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/06Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the heating method
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/08Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the cooling method
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/10Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the pressing technique, e.g. using action of vacuum or fluid pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/10Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the pressing technique, e.g. using action of vacuum or fluid pressure
    • B32B37/1027Pressing using at least one press band
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/06Interconnection of layers permitting easy separation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4652Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern
    • H05K3/4655Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern by using a laminate characterized by the insulating layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/32Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C43/44Compression means for making articles of indefinite length
    • B29C43/48Endless belts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/022 layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/033 layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/40Symmetrical or sandwich layers, e.g. ABA, ABCBA, ABCCBA
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2305/00Condition, form or state of the layers or laminate
    • B32B2305/55Liquid crystals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/206Insulating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/302Conductive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/306Resistant to heat
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/538Roughness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/546Flexural strength; Flexion stiffness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/732Dimensional properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/732Dimensional properties
    • B32B2307/734Dimensional stability
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/748Releasability
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/02Temperature
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/04Time
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/12Pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2405/00Adhesive articles, e.g. adhesive tapes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G15/00Conveyors having endless load-conveying surfaces, i.e. belts and like continuous members, to which tractive effort is transmitted by means other than endless driving elements of similar configuration
    • B65G15/10Conveyors having endless load-conveying surfaces, i.e. belts and like continuous members, to which tractive effort is transmitted by means other than endless driving elements of similar configuration comprising two or more co-operating endless surfaces with parallel longitudinal axes, or a multiplicity of parallel elements, e.g. ropes defining an endless surface
    • B65G15/12Conveyors having endless load-conveying surfaces, i.e. belts and like continuous members, to which tractive effort is transmitted by means other than endless driving elements of similar configuration comprising two or more co-operating endless surfaces with parallel longitudinal axes, or a multiplicity of parallel elements, e.g. ropes defining an endless surface with two or more endless belts
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0141Liquid crystal polymer [LCP]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0183Dielectric layers
    • H05K2201/0191Dielectric layers wherein the thickness of the dielectric plays an important role
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/06Thermal details
    • H05K2201/068Thermal details wherein the coefficient of thermal expansion is important
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/06Lamination
    • H05K2203/066Transfer laminating of insulating material, e.g. resist as a whole layer, not as a pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/11Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
    • H05K2203/1194Thermal treatment leading to a different chemical state of a material, e.g. annealing for stress-relief, aging
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1545Continuous processing, i.e. involving rolls moving a band-like or solid carrier along a continuous production path
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/067Etchants
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/227Drying of printed circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn umfasst einen Schritt des kontinuierlichen Zuführens eines Isolierfilms (11), der aus einem Flüssigkristallpolymer und einer Metallfolie (12) gebildet wird, zwischen Endlosbändern (23, 24) und einen Schritt des Thermokompresssionsbondens des Isolierfilms (11) auf die Metallfolie (12) zwischen den Endlosbändern (23, 24). Der Schritt des Thermokompressionsbondens umfasst Erhitzen der flexiblen Verbundfolienbahn (10), sodass die Höchsttemperatur der flexiblen Verbundfolienbahn (10) in einem Bereich von einer Temperatur, die 45 °C niedriger als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers ist, bis zu einer Temperatur, die 5 °C niedriger als der Schmelzpunkt ist, liegt. Der Schritt des Thermokompressionsbondens umfasst ebenfalls ein langsames Abkühlen der flexiblen Verbundfolienbahn (10), sodass eine Ausgangstemperatur, die eine Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn (10) ist, wenn diese aus den Endlosbändern (23, 24) transferiert wird, in einem Bereich von einer Temperatur, die 235 °C niedriger als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers ist, bis zu einer Temperatur, die 100 °C niedriger als der Schmelzpunkt ist, liegt.

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine flexible Verbundfolienbahn und eine mehrschichtige Leiterplatte.
  • STAND DER TECHNIK
  • Eine flexible Verbundfolienbahn, bei der eine Isolierschicht und eine Metallschicht aneinander gebondet sind, wird zum Beispiel als Material zur Herstellung einer flexiblen, gedruckten Leiterplatte verwendet. Eine flexible Verbundfolienbahn, die ein flüssiges Kristallpolymer, das ein niedrig-dielektrisches Material ist, in einer Isolierschicht verwendet, erweckt Aufmerksamkeit, da die Notwendigkeit besteht, die Frequenz der flexiblen, gedruckten Leiterplatte zu erhöhen.
  • Zum Beispiel offenbart Patentdokument 1 eine Technik, bei der eine Doppelbandpressevorrichtung eingesetzt wird, um eine Metallfolie auf jede Oberfläche eines Isolierfilms zu platzieren, der aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, gefolgt von Thermokompressionsformen der Metallfolien und des Isolierfilms, um eine flexible Verbundfolienbahn herzustellen, bei welcher der Isolierfilm und die Metallfolien durch Thermokompression aneinander gebondet worden sind. Ferner offenbart Patentdokument 1, dass das Auftreten einer Maßverzerrung oder dergleichen bei der hergestellten, flexiblen Verbundfolienbahn reduziert werden kann, während die Schälfestigkeit zwischen dem Isolierfilm und den Metallfolien aufrechterhalten wird, indem die Erhitzungstemperatur während des Thermokompressionsformens auf einen Bereich von einer Temperatur, die gleich dem Schmelzpunkt des flüssigen Kristallpolymers des Isolierfilms ist, bis zu einer Temperatur, die 20 °C höher als derselbe Schmelzpunkt ist, eingestellt wird.
  • Patentdokument 2 offenbart ein Verfahren für die Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte, welches das Laminieren von mehreren Musterfilmen umfasst, von denen jeder einen Isolierfilm aufweist, der aus einem thermoplastischen Harz und einem Leitermuster gebildet ist, das in der Oberfläche des Isolierfilms ausgebildet ist und integral die Musterfilme mit einer Heizpresse in eine Mehrfachschicht bondet. In dem Musterfilm, der zur Herstellung der mehrschichtigen Leiterplatte verwendet wird, umfasst eine aus dem Isolierfilm gebildete Isolierschicht eine Gitterlücke, und die Gitterlücke wird mit einem Durchkontaktierungsmaterial gefüllt. Das Durchkontaktierungsmaterial, mit dem die Gitterlücke gefüllt wird, sichert die Leitfähigkeit zwischen den Schichten in der mehrschichtigen Leiterplatte.
  • DOKUMENTE DES STANDES DER TECHNIK
  • PATENTDOKUMENTE
    • Patentdokument 1: Japanische offenbarte Patentveröffentlichung Nr. 2010-221694
    • Patentdokument 2: Japanische offenbarte Patentveröffentlichung Nr. 2003-23250
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • PROBLEME, DIE VON DER ERFINDUNG GELÖST WERDEN SOLLEN
  • Der Fortschritt in der Technik hinsichtlich einer Erhöhung der Montagedichte auf einer flexiblen, gedruckten Leiterplatte hat zur Notwendigkeit einer flexiblen Verbundfolienbahn mit einer kleinen Maßänderungsrate geführt. Genauer besteht Bedarf an einer flexiblen Verbundfolienbahn, die eine kleine Maßänderungsrate zwischen vor und nach Ausbilden eines Leiterkreises und zwischen vor und nach einem Erhitzungsprozess aufweist, der zum Montieren verschiedener Elemente die Aufschmelzlötung durchführt.
  • Beim Herstellen von mehrschichtigen Leiterplatten, bei denen jeweils Musterfilme verwendet werden, von denen jeder einen Isolierfilm aufweist, der aus einem verschiedenen Flüssigkristallpolymer geformt ist, treten Leitungsversagen zwischen den Schichten von jeder mehrschichtigen Leiterplatte öfter auf, wenn ein Isolierfilm verwendet wird, der aus einem Typ II Flüssigkristallpolymer gebildet ist, als wenn ein Isolierfilm verwendet wird, der aus einem Typ I Flüssigkristallpolymer gebildet ist. Dies mag daran liegen, dass die Leitung zwischen den Schichten durch das Durchkontaktierungsmaterial hindurch von dem erweichten Flüssigkristallpolymer unterbrochen wird, das in die Gitterlücke fließt, wenn die Musterfilme mit der Heizpresse integriert werden.
  • Die vorliegende Erfindung erfolgt angesichts dieser Gegebenheiten, und ihr Ziel besteht darin, eine flexible Verbundfolienbahn zu liefern, die eine kleine Maßänderungsrate hat. Es ist ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren für die Herstellung einer Verbundfolienbahn zu liefern, die einen Isolierfilm verwendet, der aus einem Typ II Flüssigkristallpolymer gebildet ist und beim Ausbilden einer mehrschichtigen Leiterplatte Leistungsausfälle zwischen den Schichten reduziert, und eine mehrschichtige Leiterplatte bereitzustellen, die Leitungsausfälle zwischen den Schichten herabsetzt.
  • MITTEL ZUM LÖSEN DER PROBLEME
  • Um die obigen Ziele zu erreichen und in Übereinstimmung mit einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine flexible Verbundfolienbahn bereitgestellt, die eine Isolierschicht, die aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, und eine Metallschicht aufweist, die auf einer Oberfläche oder jeder von beiden Oberflächen der Isolierschicht gebildet ist. Das Flüssigkristallpolymer hat einen Schmelzpunkt von über 250 °C. Die flexible Verbundfolienbahn hat eine Maßänderungsrate im Bereich von ±0,05 %, wenn die Erhitzungstemperatur 250 °C in einem Dimensionsbeständigkeitstest beträgt, der in japanischen Industrienormen JIS C 6471 definiert wird. Die Isolierschicht hat eine Standarddickenabweichung von weniger als oder gleich 1,2 µm in der Breitenrichtung der Isolierschicht.
  • Um die obigen Ziele zu erreichen und in Übereinstimmung mit einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren für die Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn geliefert, die einen Schritt kontinuierlicher Einführung eines Isolierfilms, der aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, und einer Metallfolie zwischen einem Paar von zwei Endlosbändern umfasst, und einen Thermokompressionsbondingschritt des Isolierfilms auf die Metallfolie zwischen den Endlosbändern, um eine flexible Verbundfolienbahn zu bilden. Der Thermokompressionsbondingschritt umfasst Erhitzen der flexiblen Verbundfolienbahn, sodass die Höchsttemperatur der flexiblen Verbundfolienbahn in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 45 °C niedriger ist als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms bis zu einer Temperatur, die 5 °C niedriger ist als derselbe Schmelzpunkt, liegt. Der Thermokompressionsbondingschritt umfasst ebenfalls ein langsames Abkühlen der flexiblen Verbundfolienbahn, sodass eine Ausgangstemperatur, die eine Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn ist, wenn diese aus den Endlosbändern transferiert wird, in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 235 °C niedriger als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms bis zu einer Temperatur, die 100 °C niedriger als derselbe Schmelzpunkt ist, liegt.
  • Beim Verfahren für die Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn wird bevorzugt, dass der Isolierfilm aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, das als Bestandteile 6-Hydroxy-2-naphthoesäure und Parahydroxybenzoesäure umfasst und einen Schmelzpunkt von über 250 °C hat.
  • Beim Verfahren für die Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn wird bevorzugt, dass die Metallfolie mindestens eine Folie ist, die aus der Gruppe ausgewählt wird, die aus einer Kupferfolie, einer Aluminiumfolie, einer rostfreien Stahlfolie und einer aus einer Legierung von Kupfer und Aluminium gebildeten Folie besteht.
  • Um die obigen Ziele zu erreichen und in Übereinstimmung mit einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer Verbundfolienbahn geliefert, die durch Laminieren eines Films, der aus einem Polymer von 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure und 4-Hydroxybenzoesäure besteht, und einer Metallfolie gebildet wird und angewandt wird, um eine mehrschichtige Leiterplatte herzustellen. Das Verfahren umfasst einen Schritt des Trocknens des Isolierfilms durch Erhitzen des Isolierfilms bei einer Temperatur von 120 °C bis 250 °C für 20 Sekunden oder länger und einen Thermokompressionsbondingschritt des getrockneten Isolierfilms auf die Metallfolie, um eine Verbundfolienbahn zu bilden, indem man den getrockneten Isolierfilm und die Metallfolie bei einem Druck von 0,5 MPa bis 10 MPa 10 Sekunden bis 600 Sekunden lang gegeneinander drückt, während der getrocknete Isolierfilm und die Metallfolie bei einer Temperatur von 250 °C bis 330 °C erhitzt werden. Der Isolierfilm, der durch Entfernen der Metallfolie von der Verbundfolienbahn nach dem Thermokompressionsbondingschritt erhalten wird, hat eine maximale Verformungsrate von weniger als oder gleich 0,85 % bei 250 °C bis 300 °C, gemessen mit einer dynamischen Viskoelastizitätsmessvorrichtung unter Bedingungen, bei denen die dynamische Belastung 15 g, die Frequenz 1Hz und die Rate des Temperaturanstiegs 5 °C/min ist, während der dynamische Stress und die statische Belastung in einem dynamischen Stresskontrollmodus und einem automatischen statischen Belastungsmodus kontrolliert werden.
  • Um die obigen Ziele zu erreichen und in Übereinstimmung mit noch einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung, wird eine mehrschichtige Leiterplatte bereitgestellt, die durch Laminieren von mehreren Musterfilmen in eine Mehrfachschicht gebildet wird. Jeder Musterfilm wird durch Schaltkreisbearbeitung der Verbundfolienbahn gebildet, die mit dem Verfahren für die Herstellung einer Verbundfolienbahn erhalten wird. Der in jedem der Musterfilme enthaltene Isolierfilm umfasst eine Gitterlücke, die mit einem Durchkontaktierungsmaterial gefüllt wird.
  • AUSWIRKUNGEN DER ERFINDUNG
  • Der vorliegenden Erfindung gelingt es, eine flexible Verbundfolienbahn mit einer kleinen Maßänderungsrate bereitzustellen. Ferner gelingt es der vorliegenden Erfindung, Leitungsausfälle zwischen den Schichten einer mehrschichtigen Leiterplatte zu reduzieren.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Ansicht, die einen Thermokompressionsbondingschritt nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 2 ist eine schematische Ansicht, die den Thermokompressionsbondingschritt einer modifizierten Ausführungsform zeigt.
  • AUSFÜHRUNGSFORMEN DER ERFIN DUNG
  • <Erste Ausführungsform>
  • Eine Ausführungsform eines Herstellungsverfahrens für die flexible Verbundfolienbahn der vorliegenden Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf 1 ausführlich beschrieben.
  • Ein Verfahren für die Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn 10 der vorliegenden Erfindung umfasst einen Thermokompressionsbondingschritt, bei dem kontinuierlich eine Metallfolie 12 auf jede Oberfläche eines Isolierfilms 11 durch Thermokompression gebondet wird. Die flexible Verbundfolienbahn 10 wird durch den Thermokompressionsbondingschritt hergestellt.
  • Zuerst werden der Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 beschrieben, die zur Herstellung der flexiblen Verbundfolienbahn 10 verwendet werden. Der Isolierfilm 11 bildet eine Isolierschicht der flexiblen Verbundfolienbahn 10. Der Isolierfilm 11 wird aus einem Flüssigkristallpolymer geformt, das einen Schmelzpunkt von über 250 °C hat. Beispiele eines solchen Flüssigkristallpolymers umfassen ein Flüssigkristallpolymer, das als Bestandteile Ethylenterephthalat und Parahydroxybenzoesäure aufweist, ein Flüssigkristallpolymer, das als Bestandteile Phenol, Phthalsäure und Parahydroxybenzoesäure enthält, und ein Flüssigkristallpolymer, das als Bestandteile 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure und Parahydroxybenzoesäure enthält.
  • Die Dicke des Isolierfilms 11 ist nicht besonders begrenzt. Die Dicke des Isolierfilms 11 liegt jedoch vorzugsweise im Bereich von 6 µm bis 300 µm, mehr bevorzugt im Bereich von 12 µm bis 150 µm und noch mehr bevorzugt im Bereich von 25 µm bis 100 µm.
  • Die Metallfolie 12 bildet eine Metallschicht der flexiblen Verbundfolienbahn 10. Eine Metallfolie wie eine Kupferfolie, eine Aluminiumfolie, eine rostfreie Stahlfolie und eine Folie, die aus einer Legierung von Kupfer und Aluminium gebildet ist, kann als Metallfolie 12 verwendet werden. Insbesondere wird bevorzugt, dass mindestens eine Folie als Metallfolie 12 verwendet wird, die unter gerollter Kupferfolie, elektrolytischer Kupferfolie und Aluminiumfolie ausgewählt wird.
  • Die Oberflächenrauheit der Metallfolie 12 ist nicht besonders begrenzt. Die Zehn-Punkte-Höhe des Rauheitsprofils (Rz) der Metallfolie 12 liegt jedoch vorzugsweise im Bereich von 0,5 µm bis 10 µm und mehr bevorzugt im Bereich von 0,5 µm bis 7 µm. Die Dicke der Metallfolie 12 ist nicht besonders begrenzt. Die Dicke der Metallfolie 12 liegt jedoch vorzugsweise im Bereich von 1,5 µm bis 150 µm, mehr bevorzugt im Bereich von 2 µm bis 70 µm und noch mehr bevorzugt im Bereich von 9 µm bis 35 µm.
  • Als nächstes wird der Thermokompressionsbondingschritt bei dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung beschrieben. Wie in 1 gezeigt, wird der Thermokompressionsbondingschritt auf einer Produktionsstraße durchgeführt, die eine Doppelbandpressevorrichtung 20, eine Zuführeinheit 30, die den Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 der Doppelbandpressevorrichtung 20 zuführt, und eine Wickeleinheit 40 bereitstellt, die die flexible Verbundfolienbahn 10 aufwickelt, die aus der Doppelbandpressevorrichtung 20 transferiert wird.
  • Die Doppelbandpressevorrichtung 20 umfasst ein Paar obere Trommeln 21, die mit einer vorgegebenen Entfernung in einer Transferrichtung voneinander beabstandet sind, und ein Paar untere Trommeln 22, die unter den oberen Trommeln 21 angeordnet sind und ebenfalls mit einer vorgegebenen Entfernung in der Transferrichtung voneinander beabstandet sind. Ein Endlosband 23 läuft um das Paar obere Trommeln 21 herum. Das Endlosband 23 ist konfiguriert zu rotieren, wenn das Paar obere Trommeln 21 rotiert. Auf dieselbe Weise läuft ein Endlosband 24 um das Paar untere Trommeln 22 herum. Das Endlosband 24 ist konfiguriert zu rotieren, wenn das Paar untere Trommeln 22 rotiert. Die Endlosbänder 23 und 24 sind zum Beispiel aus einem Metallmaterial gebildet wie rostfreier Stahl, Kupferlegierung oder Aluminiumlegierung.
  • Eine Thermokompressionsvorrichtung 25 ist im Inneren von jedem der Endlosbänder 23 und 24 vorgesehen. Die Thermokompressionsvorrichtungen 25 sind aufeinander angeordnet und pressen die Endlosbänder 23 und 24 zusammen. Die Thermokompressionsvorrichtungen 25 üben einen vorgegebenen Druck auf Teile der Endlosbänder 23 und 24 aus, die zwischen den Thermokompresssionsvorrichtungen 25 liegen, und erhitzen die Teile. Die Thermokompressionsvorrichtungen 25 sind so konfiguriert, dass sie die Erhitzungstemperatur von jedem der vorgegebenen Bereiche in der Transferrichtung einregeln können. Zum Beispiel wird für die in 1 gezeigten Thermokompressionsvorrichtungen 25 die Erhitzungstemperatur von jedem der vier Teile 25A bis 25D, die in der Transferrichtung angeordnet sind, individuell eingeregelt.
  • Die Zuführeinheit 30 umfasst eine Isolierfilmrolle 31, auf die der langgestreckte Isolierfilm 11 in eine Rolle gewickelt wird, und einen Satz Metallfolienrollen 32, auf denen die langgstreckten Metallfolien 12 in Rollen gewickelt werden.
  • Beim Thermokompressionsbondingschritt werden zuerst die Metallfolien 12, die von den Metallfolienrollen 32 zugeführt werden, auf beide Oberflächen des Isolierfilms 11 platziert, der von der Isolierfilmrolle 31 der Zuführeinheit 30 zugeführt und kontinuierlich der Doppelbandpressevorrichtung 20 zugeführt wird. Wenn die Endlosbänder 23 und 24 rotieren, werden der Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12, die der Doppelbandpressevorrichtung 20 zugeführt werden, so stromab transferiert, dass sie zwischen den Endlosbändern 23 und 24 gehalten werden.
  • Beim Durchgang zwischen den Endlosbändern 23 und 24 übt die Thermokompressionsvorrichtung 25 einen vorgegebenen Kontaktdruck auf den Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 durch die Endlosbänder 23 und 24 aus. Gleichzeitig erhitzt die Thermokompressionsvorrichtung 25 den Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 durch die Endlosbänder 23 und 24. Dadurch wird der Isolierfilm 11 erweicht und der Isolierfilm 11 wird durch Thermokompression an die Metallfolie 12 gebondet, um die flexible Verbundfolienbahn 10 zu bilden, bei der eine Metallschicht auf jeder Oberfläche einer Isolierschicht vorgesehen ist. Die flexible Verbundfolienbahn 10, die aus der Doppelbandpressevorrichtung 20 transferiert wird, wird rückgewonnen und von der Wickeleinheit 40 in eine Rolle gewickelt.
  • Beim Thermokompressionsbondingschritt werden der Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 wie nachstehend beschrieben erhitzt. Genauer werden in einem Stromaufbereich (Erhitzungszone) zwischen den Endlosbändern 23 und 24 der Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 auf eine erste Temperatur T1 erhitzt. In einem Stromabbereich (langsame Abkühlzone) zwischen den Endlosbändern 23 und 24 wird die am Isolierfilm 11 und den Metallfolien 12 angelegte Wärme reduziert, um langsam den Isolierfilm 11 und die Metallfolien 12 abzukühlen, sodass die flexible Verbundfolienbahn 10 aus der Doppelbandpressevorrichtung 20 bei einer zweiten Temperatur T2 transferiert wird, die niedriger ist als die erste Temperatur T1. Mit anderen Worten, die Erhitzung wird so durchgeführt, dass die Höchsttemperatur der flexiblen Verbundfolienbahn 10 (Isolierfilm 11 und Metallfolien 12) beim Durchgang zwischen den Endlosbändern 23 und 24 die erste Temperatur T1 ist, und eine Ausgangstemperatur, welche die Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn 10 beim Transfer aus den Endlosbändern 23 und 24 ist, die zweite Temperatur T2 ist. An einem Grenzabschnitt zwischen der Erhitzungszone und der langsamen Abkühlzone wird der Erhitzungsmodus geändert, während ein Zustand aufrechterhalten wird, in dem der vorgegebene Kontaktdruck bei der flexiblen Verbundfolienbahn 10 (Isolierfilm 11 und Metallfolien 12) angewandt wird.
  • Wenn der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11 durch mp ausgedrückt wird, liegt die erste Temperatur T1 im Bereich von „mp – 45°C ≤ T1 ≤ mp – 5°C.” Das bedeutet, die erste Temperatur T1 liegt in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 45 °C niedriger ist als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers, bis zu einer Temperatur, die 5°C niedriger ist als derselbe Schmelzpunkt. Wenn zum Beispiel der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11 335 °C ist, liegt die erste Temperatur T1 im Bereich von „290°C ≤ T1 ≤ 330°C.” Die untere Grenze der ersten Temperatur T1, die mit „mp – 45°C” ausgedrückt wird, ist die Mindesttemperatur, die notwendig ist, um den Isolierfilm 11 an die Metallfolien 12 zu bonden.
  • Die obere Grenze der ersten Temperatur T1, ausgedrückt mit „mp – 5°C”, ist die Höchsttemperatur, die das Schmelzen des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11 begrenzt. Sobald das Flüssigkristallpolymer schmilzt, stört das Fließen des Flüssigkristallpolymers die molekulare Orientierung. Dies verursacht Restspannung in der geformten flexiblen Verbundfolienbahn 10. Wenn in diesem Fall die flexible Verbundfolienbahn 10 wieder erhitzt wird, werden große Maßänderungen eintreten. Wenn die obere Grenze der ersten Temperatur T1 „mp – 5°C” ist, um das Schmelzen und den Fluss des Flüssigkristallpolymers einzugrenzen, wird ein solches Problem selten auftreten. Damit wird die Maßänderungsrate der flexiblen Verbundfolienbahn 10 zwischen vor und nach Durchführen des Erhitzungsprozesses reduziert.
  • Wenn der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11 in mp ausgedrückt wird, liegt die zweite Temperatur T2 im Bereich von „mp – 235°C ≤ T2 ≤ mp – 100°C.” Das heißt, die zweite Temperatur T2 liegt in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 235 °C niedriger als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers ist, bis zu einer Temperatur, die 100 °C niedriger als derselbe Schmelzpunkt ist. Wenn zum Beispiel der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11 335 °C ist, liegt die zweite Temperatur T2 im Bereich von „100°C ≤ T2 ≤ 235°C.” Langsame Abkühlung, die mit der zweiten Temperatur T2 in dem obigen Bereich durchgeführt wird, reduziert den Einfluss der Orientierungsänderungen, die durch das Fließen des Flüssigkristallpolymers verursacht werden, das eintritt, wenn die Temperatur die erste Temperatur T1 erreicht. Dies setzt die Maßänderungsrate der flexiblen Verbundfolienbahn 10 zwischen vor und nach Durchführung des Erhitzungsprozesses herab.
  • Die erste Temperatur T1 kann durch Messen der Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn 10 überprüft werden, wenn sie an einer Position in der Thermokompressionsvorrichtung 25 vorbeigeht, wo die Erhitzungstemperatur auf Abnehmen umschaltet. Wenn zum Beispiel in der in 1 gezeigten Thermokompressionsvorrichtung 25 die Teile 25A und 25B als die Erhitzungszonen dienen, die eine Hochtemperaturerhitzung durchführen, um die flexible Verbundfolienbahn auf die erste Temperatur T1 zu erhitzen, und wenn die Teile 25C und 25D als die langsamen Kühlzonen dienen, die Erhitzen bei niedriger Temperatur durchführen, um die flexible Verbundfolienbahn auf die zweite Temperatur T2 zu erhitzen, dann kann die erste Temperatur T1 durch Messen der Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn 10 überprüft werden, wenn sie an einer Position vorbeigeht, die der Grenze zwischen den Teilen 25B und 25C entspricht. Die zweite Temperatur T2 kann durch Messen der Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn 10 sofort nach ihrem Transfer aus den Endlosbändern 23 und 24 überprüft werden.
  • Es wird bevorzugt, dass der Unterschied zwischen der ersten Temperatur T1 und der zweiten Temperatur T2, T1–T2, im Bereich von 55 °C bis 230 °C liegt. Es wird bevorzugt, dass das Verhältnis der ersten Temperatur T1 und der zweiten Temperatur T2, T1/T2, im Bereich von 1,2 bis 3,3 liegt.
  • Der am Isolierfilm 11 und den Metallfolien 12 beim Durchgang zwischen den Endlosbändern 23 und 24 ausgeübte Kontaktdruck liegt zum Beispiel vorzugsweise im Bereich von 0,5 MPa bis 6,0 MPa und mehr bevorzugt im Bereich von 1,5 MPa bis 5,0 MPa.
  • Die flexible Verbundfolienbahn 10, die mit dem obigen Thermokompressionsbondingschritt hergestellt wird, hat eine kleine Maßänderungsrate. Die Maßänderungsrate liegt zum Beispiel im Bereich von ±0,05 %, wenn die Erhitzungstemperatur in einem Dimensionsbeständigkeitstest, wie er in den japanischen Industrienormen (JIS) C 6471-1995 definiert wird, 250 °C ist. Ferner hat die flexible Verbundfolienbahn 10 eine kleine Dickenvariation. Zum Beispiel ist die Standardabweichung der Dicke der Isolierschicht kleiner als oder gleich 1,2 µm in der Breitenrichtung der Isolierschicht.
  • Die Verbundfolienbahn 10, die mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Ausführungsform erhalten wird, wird für eine flexible Leiterplatte benutzt und kann als Klebeband verwendet werden, das bei einer Montagetechnik wie zum Beispiel der Tape-automated-bonding(TAB)-Technik und der Chip-on-film(COF)-Technik angewandt wird. Beispiele von Produkten mit der flexiblen Verbundfolienbahn 10 umfassen elektrische Vorrichtungen wie eine Kamera, ein persönlicher Computer, eine Flüssigkristallanzeige, ein Drucker und eine Handy-Vorrichtung.
  • Die Vorteile der vorliegenden Ausführungsform werden nun beschrieben. Das Verfahren für die Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn umfasst einen Schritt der kontinuierlichen Zuführung eines Isolierfilms 11, der aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, und von Metallfolien 12 zwischen ein Paar Endlosbänder 23 und 24 und einen Thermokompressionsbondingschritt, mit dem der Isolierfilm 11 zwischen den Endlosbändern 23 und 24 an die Metallfolien 12 gebondet wird, um eine flexible Verbundfolienbahn 10 zu bilden.
  • Der Thermokompressionsbondingschritt umfasst Erhitzen der flexiblen Verbundfolienbahn 10, sodass die Höchsttemperatur (erste Temperatur T1) der flexiblen Verbundfolienbahn 10 in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 45 °C niedriger ist als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11, bis zu einer Temperatur, die 5 °C niedriger ist als derselbe Schmelzpunkt, liegt. Der Thermokompressionsbondingschritt umfasst ebenfalls langsames Kühlen der flexiblen Folienbahn 10, sodass eine Ausgangstemperatur (zweite Temperatur T2), die eine Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn 10 ist, wenn diese aus den Endlosbändern 23 und 24 transferiert wird, in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 235 °C niedriger ist als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms 11, bis zu einer Temperatur, die 100 °C niedriger ist als derselbe Schmelzpunkt, liegt.
  • Die obige Struktur reduziert die Maßänderungsrate der flexiblen Verbundfolienbahn 10, insbesondere die Maßänderungsrate zwischen vor und nach dem Erhitzungsprozess bei 250 °C. Wenn die flexible Verbundfolienbahn 10 als eine flexible gedruckte Leiterplatte verwendet wird, wird die flexible Verbundfolienbahn 10 einer hohen Temperatur von ungefähr 250 °C ausgesetzt, wenn ein Leiterschaltkreis gebildet oder Aufschmelzlötung durchgeführt wird, um verschiedene Elemente zu montieren. Die Reduktion der Maßänderungen bei der flexiblen Verbundfolienbahn 10 ist vom Standpunkt einer Montage mit hoher Dichte wichtig. Daher ist die flexible Verbundfolienbahn 10, bei der die Maßänderungsrate zwischen vor und nach dem Erhitzungsprozess, der bei 250 °C durchgeführt wird, als Material für eine flexible Leiterplatte effizient, die für eine Montage mit hoher Dichte benutzt wird.
  • Die obige Ausführungsform kann wie nachstehend beschrieben modifiziert werden.
    Bei der obigen Ausführungsform wird die Metallfolie 12 auf jede Oberfläche des Isolierfilms 11 gebondet. Die Metallfolie 12 kann jedoch nur auf eine Oberfläche des Isolierfilms mit Thermokompression gebondet werden, um eine flexible Verbundfolienbahn 10 zu bilden, bei der eine Metallschicht auf einer Seite einer Isolierschicht vorgesehen wird.
  • In diesem Fall kann zum Beispiel, wie in 2 gezeigt, die Zuführeinheit 30 eine Trennfilmrolle 33 umfassen, auf der ein langgestreckter Trennfilm 13 in eine Rolle gewickelt wird. Die Metallfolie 12, die von der Metallfolienrolle 32 zugeführt wird, kann auf eine Oberfläche des Isolierfilms 11 platziert werden, der von der Isolierfilmrolle 31 der Zuführeinheit 30 zugeführt wird. Der von der Trennfilmrolle 33 zugeführte Trennfilm 13 kann auf die entgegengesetzte Oberfläche des Isolierfilms 11 platziert werden. Der Isolierfilm 11, die Metallfolie 12 und der Trennfilm 13 können kontinuierlich der Doppelbandpressevorrichtung 20 zugeführt werden. Die aus der Doppelbandpressevorrichtung 20 transferierte flexible Verbundfolienbahn 10 wird von der Wickeleinheit 40 zurückgewonnen und in eine Rolle gewickelt mit dem Trennfilm 13 auf der flexiblen Verbundfolienbahn 10. Die Erhitzungs- und Pressbedingungen für das Thermokompressionsbonden des Isolierfilms 11 an die Metallfolie 12 können dieselben sein wie bei der obigen Ausführungsform.
  • Der Trennfilm 13 schränkt die Übertragung des erweichten Isolierfilms 11 auf die Doppelbandpressevorrichtung 20 während des Thermokompressionsbondens ein. Ein bekannter Trennfilm, der verwendet wird, um eine flexible Verbundfolienbahn herzustellen, kann als Trennfilm 13 verwendet werden. Insbesondere wird ein Trennfilm vorzugsweise verwendet, der aus einem Material mit ausgezeichneter Hitzebeständigkeit, Releasefähigkeit und Flexibilität besteht und zum Beispiel mindestens ein Material ist, das unter hitzebeständigem aromatischem Polyimid, Fluorharz und Silikonharz ausgewählt wird, die nicht durch Thermokompression gebondet werden können.
  • Der Trennfilm 13 wird entfernt, wenn die flexible Verbundfolienbahn 10 verwendet wird. Eine Recovery-Rolle, die den Trennfilm 13 zurückgewinnt, kann in der Wickeleinheit 40 angeordnet werden, um den Trennfilm 13 von der flexiblen Verbundfolienbahn 10 zu entfernen und getrennt die flexible Verbundfolienbahn 10 und den Trennfilm 13 rückzugewinnen, wenn sie aus der Doppelbandpressevorrichtung 20 transferiert werden.
  • Als nächstes wird die obige Ausführungsform nachstehend ausführlich unter Anwendung von Beispielen und Vergleichsbeispielen beschrieben.
  • Beispiele 101 bis 113 und Vergleichsbeispiele 101 bis 112
  • Eine Doppelbandpressevorrichtung wurde verwendet, um flexible Verbundfolienbahnen herzustellen, bei denen jeweils eine Metallschicht auf jeder Oberfläche oder auf einer Oberfläche einer Isolierschicht vorgesehen ist. Die Qualität von jeder der erhaltenen flexiblen Verbundfolienbahnen wurde bewertet. Tabelle 1 und 2 zeigen Erhitzungsbedingungen bei den Thermokompressionsbondingschritten mit den Beispielen 101 bis 113 und Vergleichsbeispielen 101 bis 112. Das heißt, bei Beispielen 101 bis 113 liegt die erste Temperatur T1 im Bereich von „mp – 45°C < T1 < mp – 5°C” (290°C < T1 < 330°C), und die zweite Temperatur T2 liegt im Bereich von „mp – 235°C < T2 < mp – 100°C” (100°C < T2 < 235°C). Bei Vergleichsbeispielen 101 bis 112 fällt erste Temperatur T1 oder zweite Temperatur T2 außerhalb der obigen Bereiche.
  • Die Herstellungsbedingungen außer den Erhitzungsbedingungen sind wie folgt.
    Metallfolie: gerollte Kupferfolie (hergestellt von JX Nikko Nisseki Co., Ltd., BHYX-92-HA).
    Isolierfilm: LCP-Film (hergestellt von Kuraray Co., Ltd., Vecstar CTZ, Schmelzpunkt 335°C).
  • Trennfilm: Polyimidfilm (Ube Industries, Ltd., Upilex S, Dicke 25 μm). Der Trennfilm wurde nach dem Thermokompressionsbondingschritt von der flexiblen Verbundfolienbahn getrennt.
    Druck: 4,0 MPa.
    Die Dicken der Metallfolie und des Isolierfilms, die verwendet wurden, werden in Tabelle 1 und 2 gezeigt.
  • Bewertung der Maßänderungsrate
  • Die Maßänderungsrate von jeder der flexiblen Verbundfolienbahnen, die auf Temperaturen von 150 °C und 250 °C erhitzt wurden, wurde nach einem Dimensionsbeständigkeitstest gemessen, der in japanischen Industrienormen (JIS) C 6471 definiert wird. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 und 2 gezeigt. In Tabelle 1 und 2 steht MD für Maschinenrichtung, das heißt, eine Längsrichtung, wenn die flexible Verbundfolienbahn kontinuierlich hergestellt wird, und TD steht für Querrichtung, das heißt, die Richtung senkrecht zur Längsrichtung, wenn die flexible Verbundfolienbahn kontinuierlich hergestellt wird.
  • Bewertung der Dickenvariation
  • Eine Probe von 50 mm × 520 mm Breite wurde der flexiblen Verbundfolienbahn von jedem der Beispiele 101 bis 113 und Vergleichsbeispiele 101 bis 112 entnommen, und die Metallschicht wurde von dieser Probe durch einen Ätzprozess entfernt. Die Dicke der verbleibenden Isolierschicht wurde mit einem intermittierenden Dicken-Messgerät mit zweiundfünfzig Punkten bei 10 mm Intervallen in der Breitenrichtung gemessen, und die Standardabweichung wurde errechnet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 und 2 gezeigt.
  • Bewertung der Schälfestigkeit
  • Die Schälfestigkeit der Metallschicht der flexiblen Verbundfolienbahn von jedem der Beispiele 101 bis 113 und Vergleichsbeispiele 101 bis 112 wurde nach einem Schälfestigkeitstest der Kupferfolie gemessen, der in japanischen Industrienormen (JIS) C 6471 definiert wird. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 und 2 gezeigt.
    Figure DE112016000328T5_0002
    Figure DE112016000328T5_0003
    Wie in der mit „Verfügbarkeit eines kontinuierlichen Betriebs“ bezeichneten Spalte in Tabelle 2 angegeben, trat bei den Vergleichsbeispielen 101, 103, 105, 107 und 109, bei denen die zweite Temperatur T2 niedriger als „mp – 235 °C” (100 °C) war, ein Defekt bei der Rotation der Doppelbandpressevorrichtung auf, wenn eine flexible Verbundfolienbahn mit einer vorgegebenen Länge hergestellt wurde. Daher konnte die Doppelbandpressevorrichtung nicht kontinuierlich betrieben werden. So wurde angenommen, dass diese flexiblen Verbundfolienbahnen eine extrem niedrige Masseproduktivität hatten. Deshalb wurden Maßänderungsrate, Dickenvariation und Schälfestigkeit nicht bewertet. Ein solches Problem trat nicht bei den anderen Beispielen und Vergleichsbeispielen auf, bei denen die Temperatur T2 höher oder gleich „mp – 235°C” (100°C) war.
  • Ein Vergleich der Ergebnisse zwischen den Beispielen 102, 104, 106, 108 und 110 und Vergleichsbeispielen 102, 104, 106, 108 und 110 zeigt, dass die Maßänderungsrate bei jedem der Tests von 150 °C und 250 °C mindestens zweimal höher war, wenn die zweite Temperatur T2 „mp – 100°C” (235°C) oder höher war.
  • Ein Vergleich der Ergebnisse zwischen Beispiel 101 und Vergleichsbeispielen 111 und 112 zeigt, dass die Maßänderungsrate in jedem der Tests von 150 °C und 250 °C mindestens zweimal größer war, wenn die erste Temperatur T1 „mp – 5°C” (330°C) oder höher war.
  • Wie in Tabelle 1 gezeigt, war bei jedem der Beispiele 101 bis 113 die Dickenvariation ein kleiner Wert von weniger als oder gleich 1,2 µm, und die Schälfestigkeit war ein hoher Wert von 0,6 N/m oder höher.
  • Diese Ergebnisse bestätigen, dass, wenn die erste Temperatur T1 und die zweite Temperatur T2 in den obigen Bereichen lagen, die Maßänderungsrate zwischen vor und nach Erhitzen bei 250 °C abnahm, während die Qualität wie Dickenvariation und Schälfestigkeit gesichert waren. Diese Ergebnisse bestätigen ebenfalls, das kein Problem hinsichtlich der Masseproduktivität der flexiblen Verbundfolienbahnen auftrat. Solche vorteilhaften Auswirkungen waren dieselben, wenn die Dicke des Isolierfilms geändert wurde (Beispiele 111 und 112) und wenn die flexible Verbundfolienbahn, bei der nur eine Metallschicht vorgesehen war, verwendet wurde (Beispiel 113). Obgleich die Detaildaten nicht gezeigt werden, wurden ähnliche Ergebnisse erhalten, als eine elektrolytische Kupferfolie als Metallfolie verwendet wurde, die eine Dicke von 12 µm hatte (hergestellt von Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., 3EC-VLP) und andere LCP-Filme als Isolierfilm benutzt wurden (hergestellt von Primatec Inc., BIAC-BC, Schmelzpunkt 315°C, Dicke 50 μm).
  • <Zweite Ausführungsform>
  • Eine Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung einer Verbundfolienbahn der vorliegenden Erfindung wird nun ausführlich beschrieben.
  • Ein Verfahren zur Herstellung einer Verbundfolienbahn der vorliegenden Erfindung umfasst einen Trocknungsschritt zum Trocknen eines Isolierfilms und einen Thermokompressionsbondingschritt zum Bonden einer Metallfolie auf den Isolierfilm durch Thermokompression nach dem Trocknungsschritt. Die Verbundfolienbahn wird durch den Trocknungsschritt und den Thermokompressionsbondingschritt hergestellt.
  • Zuerst werden der Isolierfilm und die Metallfolie beschrieben, die zur Herstellung der Verbundfolienbahn verwendet werden. Der Isolierfilm bildet eine Isolierschicht der Verbundfolienbahn. Ein Isolierfilm, der aus einem Polymer der 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure und 4-Hydroxybenzoesäure gebildet wird (nachstehend als Typ II Flüssigkristallpolymer bezeichnet), wird als Isolierfilm verwendet. Der Schmelzpunkt des Typ II Flüssigkristallpolymers liegt vorzugsweise im Bereich von 280 °C bis 360 °C und mehr bevorzugt im Bereich von 300 °C bis 345 °C. Die Dicke des Isolierfilms ist nicht besonders eingeschränkt. Die Dicke des Isolierfilms 11 liegt jedoch vorzugsweise im Bereich von 5 µm bis 200 µm, mehr bevorzugt im Bereich von 12 µm bis 150 µm und noch mehr bevorzugt im Bereich von 25 µm bis 100 µm.
  • Die Metallfolie bildet eine Metallschicht der Verbundfolienbahn. Eine Metallfolie wie eine Kupferfolie, eine Aluminiumfolie, eine rostfreie Stahlfolie und eine Folie, die aus einer Legierung von Kupfer und Aluminium gebildet ist, können als die Metallfolie verwendet werden. Insbesondere wird bevorzugt, dass mindestens eine Folie, die unter gerollter Kupferfolie, elektrolytischer Kupferfolie und Aluminiumfolie ausgewählt wird, als die Metallfolie verwendet wird. Die Dicke der Metallfolie ist nicht besonders begrenzt. Die Dicke der Metallfolie liegt jedoch vorzugsweise im Bereich von 3 µm bis 40 µm, mehr bevorzugt im Bereich von 3 µm bis 35 µm und noch mehr bevorzugt im Bereich von 8 µm bis 35 µm.
  • Als nächstes wird der Trocknungsschritt des Herstellungsverfahrens der vorliegenden Erfindung beschrieben. Der Trocknungsschritt ist ein Schritt des Trocknens des Isolierfilms, um Feuchtigkeit zu entfernen, die im Isolierfilm enthalten ist. Beim Trocknungsschritt wird der Isolierfilm mit einer Trocknungsvorrichtung einem bestimmten Temperaturumfeld für eine bestimmte Zeit ausgesetzt.
  • Die Temperatur (Trocknungstemperatur) des Trocknungsschritts liegt im Bereich von 120 °C bis 250 °C und vorzugsweise im Bereich von 150 °C bis 220 °C. Wenn die Trocknungstemperatur niedriger als 120 °C ist, wird die im Isolierfilm enthaltene Flüssigkeit unter Umständen nicht ausreichend entfernt. Wenn die Trocknungstemperatur 250 °C übersteigt, kann das Flüssigkristallpolymer des Isolierfilms aufgeweicht werden.
  • Die Zeit (Trocknungszeit) des Trocknungsschritts ist länger als oder gleich 20 Sekunden. Wenn die Trocknungszeit kürzer als 20 Sekunden ist, wird die im Isolierfilm enthaltene Feuchtigkeit unter Umständen nicht genügend entfernt. Obwohl die obere Grenze der Trocknungszeit nicht besonders eingeschränkt ist, wird bevorzugt, dass die Trocknungszeit zum Beispiel kürzer als oder gleich 600 Sekunden ist, wenn man die Produktionseffizienz berücksichtigt.
  • Die im Trocknungsschritt eingesetzte Trocknungsvorrichtung ist nicht besonders begrenzt, solange die obigen Bedingungen erfüllt sind. Beispiele für die Trocknungsvorrichtung umfassen ein Infrarot-Heizgerät, einen Luftbeheizungsofen, einen elektrischen Ofen und eine dielektrische Heizwalze.
  • Der Trocknungsschritt kann kontinuierlich für den Isolierfilm durchgeführt werden, der kontinuierlich, zum Beispiel von einer Filmrolle, zugeführt wird, oder schubweise in vorgegebenen Einheiten durchgeführt werden. Als nächstes wird der Thermokompressionsschritt des Herstellungsverfahrens der vorliegenden Ausführungsform beschrieben.
  • Der Thermokompressionsbondingschritt ist ein Schritt zur Ausbildung der Verbundfolienbahn durch Thermokompressionsbonden der Metallfolie auf den getrockneten Isolierfilm nach dem Trocknungsschritt. Beim Thermokompressionsbondingschritt wird eine Heiz- und Pressvorrichtung verwendet, um den Isolierfilm und die Metallfolie zu erhitzen und einen vorgegebenen Druck auf den Isolierfilm und die Metallfolie in einer Situation auszuüben, in der die Metallfolie auf eine Oberfläche oder jede Oberfläche des Isolierfilms platziert wird.
  • Der direkt nach dem Trocknungsschritt unter einer hohen Temperatur stehende Isolierfilm kann für den Thermokompressionsbondingschritt verwendet werden. Alternativ kann der Isolierschritt nach dem Trocknungsschritt für den Thermokompressionsbondingschritt verwendet werden, nachdem die Temperatur des Isolierschritts auf eine vorgegebene Temperatur (zum Beispiel Raumtemperatur) gesenkt worden ist. Wenn der Isolierfilm, dessen Temperatur gesenkt wurde, verwendet wird, wird jedoch bevorzugt, dass der Isolierfilm nach dem Trocknungsschritt abgekühlt und in einer entfeuchteten Umwelt gelagert wird, sodass die Feuchtigkeit nicht absorbiert wird.
  • Beim Thermokompressionsbondingschritt werden der Isolierfilm und die Metallfolie auf eine Temperatur im Bereich von 250 °C bis 330 °C und vorzugsweise im Bereich von 300 °C bis 320 °C erhitzt. Wenn die Erhitzungstemperatur niedriger als 250 °C ist, werden der Isolierfilm und die Metallfolie unter Umständen nicht genügend gebondet. Wenn die Erhitzungstemperatur 330 °C übersteigt, kann die Kristallstruktur des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms gebrochen werden, wodurch eine Abnahme der Viskoelastizität des Isolierfilms verursacht wird.
  • Beim Thermokompressionsbondingschritt liegt der auf den Isolierfilm und die Metallfolie ausgeübte Druck im Bereich von 0,5 MPa bis 10 MPa und vorzugsweise im Bereich von 2 MPa bis 6 MPa. Wenn der Druck niedriger als 0,5 MPa ist, werden der Isolierfilm und die Metallfolie unter Umständen nicht genügend gebondet. Ein Druck über 10 MPa ist zum Bonden von Isolierfilm und Metallschicht zu hoch, da durch ihn die Produktivität gemindert wird.
  • Die Erhitzungs- und Presszeit im Thermokompressionsbondingschritt liegt im Bereich von 10 Sekunden bis 600 Sekunden und bevorzugt im Bereich von 30 Sekunden bis 500 Sekunden. Wenn die Erhitzungs- und Presszeit kürzer als 10 Sekunden ist, werden der Isolierfilm und die Metallfolie unter Umständen nicht genügend gebondet. Eine Erhitzungs- und Presszeit, die 600 Sekunden übersteigt, ist zum Bonden des Isolierfilms und der Metallfolie zu lang, da sie die Produktivität mindert.
  • Die Heiz- und Pressvorrichtung, die für den Thermokompressionsbondingschritt verwendet wird, ist nicht besonders begrenzt, solange die obigen Bedingungen erfüllt werden. Beispiele einer Heiz- und Pressvorrichtung umfassen eine Heizpresse, eine Vakuumchargenpresse, eine mehrstufige Presse und eine Heizwalzenpresse, von denen jede eine flache Heiz- und Presseinheit aufweist. Beispiele der Heiz- und Pressvorrichtung umfassen ebenfalls eine Doppelbandpressvorrichtung, die Erhitzen und Pressen zwischen Bändern durchführt.
  • Der Thermokompressionsbondingschritt kann kontinuierlich für den Isolierfilm und die Metallfolie durchgeführt werden, die zum Beispiel von Filmrollen kontinuierlich zugeführt werden, oder er kann chargenweise an jeder vorgegebenen Einheit durchgeführt werden. Die Verbundfolienbahn, die mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Ausführungsform hergestellt wird, wird als Material zur Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte verwendet. Das heißt, ein Musterfilm wird durch Ausbilden eines Schaltkreises auf dem Metallschichtteil der Verbundfolienbahn geformt. Eine Gitterlücke wird in dem Isolierschichtteil des Musterfilms ausgebildet und mit einem Durchkontaktierungsmaterial gefüllt. Mehrere Musterfilme, die so aus der Verbundfolienbahn geformt werden, werden laminiert und durch eine Heizpresse in eine Mehrfachschicht gebondet. Als Ergebnis erhält man eine mehrschichtige Leiterplatte.
  • Ein bekanntes Herstellungsverfahren (zum Beispiel das in Patentdokument 2 offenbarte Verfahren) kann zur Herstellung der mehrschichtigen Leiterplatte verwendet werden. Es wird jedoch bevorzugt, dass die Erhitzungstemperatur der Heizpresse im Bereich von 250 °C bis 330 °C liegt. Ferner wird bevorzugt, dass der Druck der Heizpresse im Bereich von 1 MPa bis 10 MPa liegt.
  • Die mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Ausführungsform hergestellte Verbundfolienbahn hat bei dem aus dem Isolierfilm gebildeten Isolierschichtteil eine geringe dynamische thermale Verformung. Zum Beispiel ist die maximale Verformungsrate kleiner als oder gleich 0,85 % bei 250 °C bis 300 °C, wenn sie mit einer dynamischen Viskoelastizitätsmessvorrichtung unter Bedingungen gemessen wird, bei denen die dynamische Belastung 15 g, die Frequenz 1 Hz und die Temperaturanstiegsrate 5 °C/min ist, während der dynamische Stress und die statische Belastung in einem dynamischen Stressmodus und einem automatischen statischen Belastungsmodus kontrolliert werden.
  • Beim Herstellungsverfahren der vorliegenden Ausführungsform wird der Thermokompressionsbondingschritt mit dem getrockneten Isolierfilm nach dem Trocknungsschritt durchgeführt. Daher ist bei der hergestellten Verbundfolienbahn eine geringe Menge Feuchtigkeit im Typ II Flüssigkristallpolymer der Isolierschicht enthalten. Infolgedessen wird angenommen, dass eine Verbundfolienbahn mit einem geringen Grad dynamischer thermaler Verformung erhalten wird.
  • Genauer hat das Typ II Flüssigkristallpolymer eine Esterbindung. Deshalb wird das Typ II Flüssigkristallpolymer hydrolysiert, wenn es mit Wasser erhitzt wird. Ein Typ II Flüssigkristallpolymer mit niedrigem Molekulargewicht, das durch die Hydrolyse erzeugt wird, hat die Tendenz zu fließen. Daher erhöht die Erzeugung des Typ II Flüssigkristallpolymers mit niedrigem Molekulargewicht den Grad der dynamischen thermalen Verformung an dem Isolierschichtteil. Bei der mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Ausführungsform hergestellten Verbundfolienbahn enthält das Typ II Flüssigkristallpolymer der Isolierschicht eine geringe Menge Feuchtigkeit. Dies schränkt die Hydrolyse des Typ II Flüssigkristallpolymers ein, wenn es erhitzt wird, und begrenzt die durch Hydrolyse verursachten Abnahmen im Molekulargewicht. Infolgedessen wird angenommen, dass eine Verbundfolienbahn erhalten wird, die einen geringen Grad an dynamischer thermaler Verformung am Isolierschichtteil aufweist.
  • Die mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Ausführungsform hergestellte Verbundfolienbahn hat am Isolierschichtteil einen geringen Grad dynamischer thermaler Verformung. Dies schränkt das Auftreten eines starken Fließens, das durch das Aufweichen des Typ II Flüssigkristallpolymers der Isolierschicht in der Heizpresse zur Herstellung der mehrschichtigen Leiterplatte verursacht wird, ein. Das Fließen des Typ II Flüssigkristallpolymers in die Gitterlücke wird auf diese Weist reduziert. Infolgedessen wird der Leitungsausfall zwischen den Schichten der mehrschichtigen Leiterplatte herabgesetzt.
  • Die Vorteile der vorliegenden Ausführungsform werden nun beschrieben. Die Verbundfolienbahn, die durch Laminieren eines Isolierfilms eines Typ II Flüssigkristallpolymers und einer Metallfolie gebildet wird und verwendet wird, um eine mehrschichtige Leiterplatte herzustellen, wird durch einen Trocknungsschritt, bei dem die Isolierschicht durch Erhitzen des Isolierfilms bei einer Temperatur von 120 °C bis 250 °C für 20 Sekunden oder länger getrocknet wird, und einen Thermokompressionsbondingschritt produziert, bei dem der getrocknete Isolierfilm auf die Metallfolie durch Thermokompression gebondet wird, indem der getrocknete Isolierfilm und die Metallfolie bei einem Druck von 0,5 MPa bis 10 MPa für 10 Sekunden bis 600 Sekunden gegeneinander gedrückt werden, während der getrocknete Isolierfilm und die Metallfolie bei einer Temperatur von 250 °C bis 330 °C erhitzt werden.
  • Die obige Struktur ermöglicht die Herstellung einer Verbundfolienbahn mit einem geringen Grad dynamischer thermaler Verformung, bei der die maximale Verformungsrate kleiner als oder gleich 0,85 % bei 250 °C bis 300 °C ist, wenn sie mit einer dynamischen Viskoelastizitätsmessvorrichtung unter Bedingungen gemessen wird, bei denen die dynamische Belastung 15 g, die Frequenz 1 Hz und die Raumtemperaturanstiegsrate 5 °C/min ist, während der dynamische Stress und die statische Belastung in einem °dynamischen Stressmodus und einem automatischen statischen Belastungsmodus kontrolliert werden.
  • Als nächstes wird die obige Ausführungsform nachstehend ausführlich anhand von Beispielen und Vergleichsbeispielen beschrieben.
  • Beispiele 201 bis 205 und Vergleichsbeispiele 201 bis 206
  • Verbundfolienbahnen wurden unter verschiedenen Bedingungen des Trocknungsschritts und des Thermokompressionsbondingschritts durchgeführt. Das heißt, beim Bilden einer jeden Verbundfolienbahn wurde zuerst ein Isolierfilm, der von einer Filmrolle zugeführt wurde, kontinuierlich an eine Trocknungsvorrichtung geliefert, und der Isolierfilm wurde getrocknet, indem er für eine vorgegebene Zeit durch die Trocknungsvorrichtung geführt wurde, die auf eine vorgegebene Temperatur erhitzt wurde (Trocknungsschritt). Dann wurden Metallfolien, die von einem Paar Metallfolienrollen zugeführt wurden, auf beide Oberflächen des Isolierfilms platziert, der durch die Trocknungsvorrichtung gegangen war, um in einem getrockneten Zustand zu sein, die Metallfolien wurden kontinuierlich einer Doppelbandpressevorrichtung zugeführt, und die Doppelbandpressevorrichtung führte das Thermokompressionsbonding für die Metallfolien und den Isolierfilm durch, um eine Verbundfolienbahn zu erhalten (Thermokompressionsbondingschritt).
  • Tabellen 3 und 4 zeigen die Bedingungen des Trocknungsschritts (Trocknungstemperatur und Trocknungszeit) und die Bedingungen des Thermokompressionsbondingschritts (Erhitzungstemperatur, Druck und Erhitzungs- und Presszeit) bei Beispielen 201 bis 205 und Vergleichsbeispielen 201 bis 206. Die übrigen Herstellungsbedingungen sind wie folgt.
  • Isolierfilm: Typ II Flüssigkristallpolymerfilm (hergestellt von Kuraray Co., Ltd., Vecstar CTZ, Schmelzpunkt 335°C).
    Metallfolie: Kupferfolie (hergestellt von Furukawa Electric Co., Ltd., F2-WS) oder rostfreie Stahlfolie (hergestellt von Toyo Seihaku Co., Ltd., SUS304H-TA)
  • Beispiel 206
  • Ein auf eine vorgegebene Größe geschnittener Isolierfilm wurde in eine Trocknungsvorrichtung gegeben, und der Isolierfilm wurde getrocknet, indem Heißluft mit einer vorgegebenen Temperatur beim Isolierfilm angewandt wurde (Trocknungsschritt). Anschließend wurde eine Metallfolie auf jede Oberfläche des getrockneten Isolierfilms platziert, und der Isolierfilm und die Metallfolien wurden durch Thermokompression in einer Heizpresse gebondet (Thermokompressionsbondingschritt).
  • Bewertung der dynamischen thermalen Verformung
  • Die Metallschichten von beiden Oberflächen der bei jedem der Beispiele 201 bis 206 und Vergleichsbeispiele 201 bis 206 erhaltenen Verbundfolienbahn wurden durch einen Ätzprozess mit einer Eisenchloridlösung entfernt. Eine Probe von 10 mm Länge × 5 mm Breite wurde aus dem verbleibenden Isolierfilm (Isolierschicht) ausgeschnitten und für eine dynamische Viskoelastizitätsmessvorrichtung vorbereitet (hergestellt von UBM, Rheogel-E4000). Die dynamische Viskoelastizitätsmessvorrichtung stellte die dynamische Belastung auf 15 g und die Frequenz auf 1 Hz in einem dynamischen Stresskontrollmodus als ein dynamisches Stresskontrollverfahren und in einem automatischen statischen Belastungsmodus als ein statisches Belastungskontrollverfahren ein. Die dynamische Verformung von jeder Probe wurde gemessen, während die Temperatur bei einer Rate von 5 °C/min erhöht wurde. Die in Tabelle 3 und 4 mit „Grad dynamischer thermaler Verformung” bezeichnete Spalte zeigt den Höchstwert des Grades der dynamischen Verformung in der Längsrichtung von jeder Probe bei 250 °C bis 300 °C. Die in Tabelle 3 und 4 als „maximale Verformungsrate“ bezeichnete Spalte zeigt in Prozent ausgedrückt einen Wert, der durch Teilen des Höchstwerts des Grads der dynamischen Verformung durch die ursprüngliche Länge derselben Probe (10 mm) erhalten wird.
  • Bewertung der Haftfestigkeit
  • In Übereinstimmung mit einem Schälfestigkeitstest der Kupferfolie, der in japanischen Industrienormen (JIS) C 6471 definiert wird, wurde die Schälfestigkeit der Metallschicht der flexiblen Verbundfolienbahn gemessen, die bei jedem der Beispiele 201 bis 206 und Vergleichsbeispiele 201 bis 206 erhalten wurde, und die Haftfestigkeit der Verbundfolienbahn wurde auf der Basis der Messwerte bewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 3 und 4 gezeigt. Die Bewertung der Haftfestigkeit wurde auf der Basis durchgeführt, dass die Schälfestigkeit, die größer als oder gleich 0,3 N/m ist, „gut” ist und die Schälfestigkeit, die kleiner als 0,3 N/m ist, „nicht annehmbar” ist.
  • Herstellung der mehrschichtigen Leiterplatte
  • Musterfilme wurden durch Herstellen von Verbundfolienbahnensätze, die dieselben waren wie die oben beschriebenen Verbundfolienbahnen der Beispiele 201 bis 206 und Vergleichsbeispiele 201 bis 203, durch Bilden eines Schaltkreises auf einer oder zwei Metallschichten von jeder Verbundfolienbahn und Entfernen der anderen Metallschicht durch einen Ätzprozess produziert. Gitterlücken wurden in einigen der Musterfilme, die aus denselben Verbundfolienbahnen gebildet wurden, geformt, und die Gitterlücken wurden mit Durchkontaktierungsmaterialien gefüllt. Eine mehrschichtige Leiterplatte wurde durch Laminieren von acht Musterfilmen mit Gitterlücken und einem Musterfilm ohne Gitterlücke unter den Musterfilmen, die aus denselben Verbundfolienbahnen gebildet waren, und durch Drücken der Musterfilme bei 4 MP mit einer Vakuumheizpresse während des Erhitzens der Musterfilme auf 280 °C erhalten.
  • Bewertung der Leitfähigkeit
  • Ein Flüssigphasenwärmeimpakttest (–40 °C bis 125 °C, 300 Zyklen) wurde an der erhaltenen mehrschichtigen Leiterplatte ausgeführt, und die Schaltkreiswiderstandswerte der mehrschichtigen Leiterplatte vor und nach dem Test wurden mit einer Widerstandsmessvorrichtung gemessen. Die Änderungsrate des Schaltkreiswiderstandswerts vor dem Flüssigphasenwärmeimpakttest auf den Schaltkreiswiderstandswert nach dem Flüssigphasenwärmeimpakttest wurde berechnet, und die Leitfähigkeit der mehrschichtigen Leiterplatte wurde auf der Basis der Änderungsrate bewertet. Die Bewertung der Leitfähigkeit wurde auf der Basis durchgeführt, dass die Änderungsrate des Widerstandswerts, die kleiner als 20 % ist, „gut” ist und die Änderungsrate eines Widerstandswerts, der größer oder gleich 20 % is ist, „nicht annehmbar“ ist. Die Bewertung der Leitfähigkeit wird nicht für Vergleichsbeispiele 204 bis 206 gezeigt, bei denen die Bewertung der Haftfestigkeit nicht annehmbar war.
    Figure DE112016000328T5_0004
    Figure DE112016000328T5_0005
    Wie in Tabelle 3 und 4 gezeigt, war die Bewertung der Leitfähigkeit bei Beispielen 201 bis 206 „gut”, bei denen der Grad der dynamischen Wärmeverformung kleiner als oder gleich 85 µm war (maximale Verformungsrate war kleiner oder gleich 0,85 %), und die Bewertung der Leitfähigkeit bei den Vergleichsbeispielen 201 bis 203 war „nicht annehmbar“, bei denen die dynamische Wärmeverformung 85 µm überstieg (maximale Verformungsrate überschreitet 0,85 %). Dieses Ergebnis bestätigt, dass Rückgänge beim Grad der dynamischen thermalen Verformung (maximale Verformungsrate) den Leitungsausfall der mehrschichtigen Leiterplatte einschränkte.
  • Das Ergebnis von Vergleichsbeispiel 201 bestätigt, dass, wenn die Trocknungstemperatur im Trocknungsschritt niedriger war als der Bereich von 120 °C bis 250 °C, der Grad der dynamischen thermalen Verformung und die maximale Verformungsrate hoch waren. Das Ergebnis von Vergleichsbeispiel 202 bestätigt, dass, wenn die Trocknungszeit im Trocknungsschritt kürzer als 20 Sekunden war, der Grad der dynamischen thermalen Verformung und die maximale Verformungsrate hoch waren. Das Ergebnis von Vergleichsbeispiel 3 bestätigt, dass, wenn die Erhitzungstemperatur im Thermokompressionsbondingschritt höher war als der Bereich von 250 °C bis 330 °C, der Grad der dynamischen thermalen Verformung und die maximale Verformungsrate hoch waren. Diese Ergebnisse bestätigen, dass die Trocknungstemperatur und die Trocknungszeit im Trocknungsschritt und die Erhitzungstemperatur im Thermokompressionsbondingschritt wichtig sind, um den Grad der dynamischen thermalen Verformung und die maximale Verformungsrate einzuregeln.
  • Ferner bestätigen die Ergebnisse von Vergleichsbeispielen 204 bis 206, dass eine ausreichende Haftfestigkeit nicht erreicht wurde, wenn die Erhitzungstemperatur im Thermokompressionsbondingschritt niedriger war als der Bereich von 250 °C bis 330 °C, wenn der Druck im Thermokompressionsbondingschritt kleiner war als der Bereich von 0,5 MPa bis 10 MPa, und wenn die Erhitzungs- und Presszeit im Thermokompressionsbondingschritt kürzer war als der Bereich von 10 Sekunden bis 600 Sekunden. Diese Ergebnisse bestätigen, dass die Erhitzungstemperatur, der Druck und die Erhitzungs- und Presszeit im Thermokompressionsbondingschritt wichtig sind, um eine ausreichende Haftfestigkeit der Verbundfolienbahn sicherzustellen.
  • Die Ausführungsformen und die modifizierten Ausführungsformen können kombiniert oder ersetzt werden. Ferner können die veranschaulichten Merkmale kombiniert werden. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die veranschaulichten Merkmale beschränkt. Zum Beispiel sollten alle Merkmale der offenbarten speziellen Ausführungsformen nicht als für die vorliegende Erfindung wesentlich interpretiert werden, und der Gegenstand der vorliegenden Erfindung kann aus weniger Merkmalen als allen Merkmalen der offenbarten speziellen Ausführungsformen bestehen.
  • BESCHREIBUNG VON REFERENZZEICHEN
    • 10...flexible Verbundfolienbahn, 11...Isolierfilm, 12...Metallfolie, 13...Trennfilm, 20...Doppelbandpressevorrichtung, 21...obere Trommel, 22...untere Trommel, 23 und 24...Endlosbänder, 25...Thermokompressionsvorrichtung, 30...Zuführeinheit, 31...Isolierfilmrolle, 32...Metallfolienrolle, 33...Trennfilmrolle, 40...Wickeleinheit.

Claims (6)

  1. Eine flexible Verbundfolienbahn, umfassend: eine Isolierschicht, die aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, und eine Metallschicht, die auf einer Oberfläche oder jeder von beiden Oberflächen der Isolierschicht ausgebildet ist, wobei das Flüssigkristallpolymer einen Schmelzpunkt von über 250 °C hat, die flexible Verbundfolienbahn eine Maßänderungsrate im Bereich von ±0,05 % aufweist, wenn eine Erhitzungstemperatur in einem Dimensionsbeständigkeitstest, der in japanischen Industrienormen JIS C 6471 definiert wird, 250 °C beträgt, und die Isolierschicht eine Standardabweichung der Dicke von weniger als oder gleich 1,2 µm in einer Breitenrichtung der Isolierschicht aufweist.
  2. Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst: kontinuierliches Zuführen eines Isolierfilms zwischen ein Paar Endlosbänder, der aus einem Flüssigkristallpolymer und einer Metallfolie gebildet wird, und Thermokompressionsbonden des Isolierfilms auf die Metallfolie zwischen den Endlosbändern, um eine flexible Verbundfolienbahn zu bilden, wobei der Thermokompressionsbondingschritt Erhitzen der flexiblen Verbundfolienbahn umfasst, sodass die Höchsttemperatur der flexiblen Verbundfolienbahn in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 45 °C niedriger als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms ist, bis zu einer Temperatur, die 5 °C niedriger ist als der Schmelzpunkt, liegt, und langsames Abkühlen der flexiblen Verbundfolienbahn, sodass eine Ausgangstemperatur, die eine Temperatur der flexiblen Verbundfolienbahn ist, wenn diese aus den Endlosbändern transferiert wird, in einem Temperaturbereich von einer Temperatur, die 235 °C niedriger ist als der Schmelzpunkt des Flüssigkristallpolymers des Isolierfilms, bis zu einer Temperatur, die 100 °C niedriger ist, liegt.
  3. Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn nach Anspruch 2, wobei der Isolierfilm aus einem Flüssigkristallpolymer gebildet ist, das als Bestandteile 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure und Parahydroxybenzoesäure umfasst und einen Schmelzpunkt von über 250 °C hat.
  4. Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn nach Anspruch 2 oder 3, wobei die Metallfolie mindestens eine Folie ist, die aus einer Gruppe, bestehend aus einer Kupferfolie, einer Aluminiumfolie, einer rostfreien Stahlfolie und einer aus einer Legierung von Kupfer und Aluminium gebildeten Folie, ausgewählt wird.
  5. Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Verbundfolienbahn, die durch Laminieren eines Isolierfilms, der aus einem Polymer von 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure und 4-Hydroxybenzoesäure gebildet ist, und einer Metallfolie geformt wird und angewandt wird, um eine mehrschichtige Leiterplatte herzustellen, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: Trocknen des Isolierfilms durch Erhitzen des Isolierfilms bei einer Temperatur von 120 °C bis 250 °C für 20 Sekunden oder länger; und Thermokompressionsbonden des getrockneten Isolierfilms auf die Metallfolie, um eine Verbundfolienbahn durch Gegeneinanderdrücken des getrockneten Isolierfilms und der Metallfolie bei einem Druck von 0,5 MPa bis 10 MPa für 10 Sekunden bis 600 Sekunden, während der getrocknete Isolierfilm und die Metallfolie bei einer Temperatur von 250 °C bis 330 °C erhitzt werden, wobei der Isolierfilm, der durch Entfernen der Metallfolie von der Verbundfolienbahn nach dem Schritt des Thermokompressionsbondens erhalten wird, eine maximale Verformungsrate von weniger als oder gleich 0,85 % bei 250 °C bis 300 °C aufweist, die mit einer dynamischen Viskoelastizitätsmessvorrichtung unter Bedingungen durchgeführt wird, bei denen die dynamische Belastung 15 g, die Frequenz 1 Hz und die Temperaturanstiegsrate 5 °C/min ist, während der dynamische Stress und die statische Belastung in einem dynamischen Stresskontrollmodus und einem automatischen statischen Belastungsmodus kontrolliert werden.
  6. Mehrschichtige Leiterplatte, die durch Laminieren von mehreren Musterfilmen zu einer Mehrfachschicht gebildet wird, wobei jeder Musterfilm durch Schaltkreisbearbeitung der Verbundfolienbahn geformt wird, die mit dem Verfahren zur Herstellung einer Verbundfolienbahn nach Anspruch 5 erhalten wird, und wobei der in jedem der Musterfilme enthaltene Isolierfilm eine Gitterlücke aufweist, die mit einem Durchkontaktierungsmaterial gefüllt ist.
DE112016000328.5T 2015-01-13 2016-01-12 Flexible Verbundplatte und mehrschichtige Leiterplatte Pending DE112016000328T5 (de)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-004337 2015-01-13
JP2015-004338 2015-01-13
JP2015004338A JP6475020B2 (ja) 2015-01-13 2015-01-13 積層板の製造方法
JP2015004337A JP6518445B2 (ja) 2015-01-13 2015-01-13 フレキシブル積層板、及びフレキシブル積層板の製造方法
PCT/JP2016/050709 WO2016114262A1 (ja) 2015-01-13 2016-01-12 フレキシブル積層板及び多層回路基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE112016000328T5 true DE112016000328T5 (de) 2017-10-19

Family

ID=56405806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE112016000328.5T Pending DE112016000328T5 (de) 2015-01-13 2016-01-12 Flexible Verbundplatte und mehrschichtige Leiterplatte

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20170318670A1 (de)
KR (1) KR102469672B1 (de)
CN (1) CN107107555B (de)
DE (1) DE112016000328T5 (de)
TW (1) TWI699145B (de)
WO (1) WO2016114262A1 (de)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3427926B1 (de) * 2016-03-08 2022-09-21 Kuraray Co., Ltd. Verfahren zur herstellung eines metallkaschierten laminats und metallkaschiertes laminat
WO2018186223A1 (ja) * 2017-04-07 2018-10-11 株式会社クラレ 金属張積層板およびその製造方法
JP2019214138A (ja) * 2018-06-11 2019-12-19 日鉄ステンレス株式会社 複層ステンレス鋼箔
KR20210084475A (ko) * 2018-10-29 2021-07-07 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 금속장 적층판 및 금속장 적층판의 제조 방법
TWI705995B (zh) * 2018-11-16 2020-10-01 佳勝科技股份有限公司 液晶聚合物薄膜的加工方法及其裝置
CN111196050B (zh) 2018-11-16 2021-09-14 佳胜科技股份有限公司 液晶聚合物薄膜的加工方法及其装置
TWI756536B (zh) * 2019-04-12 2022-03-01 佳勝科技股份有限公司 改質液晶高分子的製作方法、液晶高分子組合物及改變液晶高分子之熔點的方法
CN111808616A (zh) * 2019-04-12 2020-10-23 佳胜科技股份有限公司 改质液晶高分子的制作方法、液晶高分子组合物及改变液晶高分子的熔点的方法
JP6850320B2 (ja) * 2019-06-27 2021-03-31 デンカ株式会社 Lcptダイ押出未延伸フィルム、並びにこれを用いたフレキシブル積層体及びその製造方法
JP7238648B2 (ja) * 2019-07-08 2023-03-14 Tdk株式会社 プリント配線板、多層プリント配線板、およびプリント配線板の製造方法
KR102487885B1 (ko) * 2019-12-23 2023-01-11 창 춘 플라스틱스 컴퍼니, 리미티드 액정 폴리머 필름 및 이를 포함하는 라미네이트
TWI740515B (zh) 2019-12-23 2021-09-21 長春人造樹脂廠股份有限公司 液晶高分子膜及包含其之積層板
CN111251692A (zh) * 2020-01-21 2020-06-09 上海联净电子科技有限公司 一种高频高速lcp覆铜板的生产工艺及设备
JP2021145098A (ja) * 2020-03-13 2021-09-24 キオクシア株式会社 半導体製造装置
CN112566364B (zh) * 2020-11-24 2022-12-30 中国科学技术大学 无胶粘层热塑性液晶聚合物高频基板及其制备方法和应用
CN114361463A (zh) * 2021-12-17 2022-04-15 合肥国轩高科动力能源有限公司 一种复合集流体的制备方法
WO2023141053A1 (en) * 2022-01-19 2023-07-27 Carlisle Construction Materials, LLC Double belt press laminating machine with edge strip bands for manufacturing waterproofing membranes

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4909886A (en) * 1987-12-02 1990-03-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Process for producing copper-clad laminate
JPH03287260A (ja) * 1990-04-03 1991-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
JP3245437B2 (ja) * 1991-04-05 2002-01-15 株式会社クラレ 積層体の製造方法
US5529740A (en) * 1994-09-16 1996-06-25 Jester; Randy D. Process for treating liquid crystal polymer film
JP2000044797A (ja) * 1998-04-06 2000-02-15 Kuraray Co Ltd 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板
JP4162321B2 (ja) * 1999-03-18 2008-10-08 株式会社クラレ 金属箔積層板の製造方法
JP4216433B2 (ja) * 1999-03-29 2009-01-28 株式会社クラレ 回路基板用金属張積層板の製造方法
JP2001090424A (ja) * 1999-09-20 2001-04-03 Shin Nikkei Co Ltd ヒンジ装置
WO2002049405A2 (en) * 2000-08-15 2002-06-20 World Properties, Inc. Multi-layer circuits and methods of manufacture thereof
JP2003023250A (ja) 2001-07-06 2003-01-24 Denso Corp 多層基板のおよびその製造方法
US20060151106A1 (en) * 2003-06-02 2006-07-13 Katsufumi Hiraishi Method for producing laminate
JP3968068B2 (ja) * 2003-09-30 2007-08-29 株式会社クラレ 液晶ポリマーフィルムの製造方法
JP2005105165A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Kuraray Co Ltd 低温積層可能な熱可塑性液晶ポリマーフィルム
KR101109947B1 (ko) * 2004-06-22 2012-02-15 도레이 카부시키가이샤 액정성 수지, 그의 제조 방법, 액정성 수지 조성물 및성형품
US7848624B1 (en) * 2004-10-25 2010-12-07 Alliant Techsystems Inc. Evaporator for use in a heat transfer system
US8771458B2 (en) * 2005-07-27 2014-07-08 Kuraray Co., Ltd. Method of making wiring boards covered by thermotropic liquid crystal polymer film
KR20080104029A (ko) * 2006-03-28 2008-11-28 후지필름 가부시키가이샤 도전막 및 그 제조방법, 그리고 투광성 전자파 차폐막
US8586131B2 (en) * 2006-10-10 2013-11-19 President And Fellows Of Harvard College Liquid films containing nanostructured materials
US20110120754A1 (en) * 2007-08-24 2011-05-26 Sumitomo Bakelite Company Limited Multilayer wiring board and semiconductor device
JP2009071021A (ja) 2007-09-13 2009-04-02 Kuraray Co Ltd 多層配線回路基板の製造方法
JP5411656B2 (ja) 2009-02-24 2014-02-12 パナソニック株式会社 フレキシブルプリント配線板用積層板の製造方法、フレキシブルプリント配線板用積層板及びフレキシブルプリント配線板
JP5639258B2 (ja) * 2011-03-01 2014-12-10 Jx日鉱日石金属株式会社 液晶ポリマーフィルムベース銅張積層板及びその製造方法
EP2774945B1 (de) * 2011-10-31 2016-12-28 Kuraray Co., Ltd. Thermoplastischer polymerfilm aus flüssigkristall sowie laminat und leiterplatte damit
TW201340807A (zh) * 2011-12-28 2013-10-01 Panasonic Corp 撓性配線基板與其製造方法、使用其之裝載製品、及撓性多層配線基板
CN104736672B (zh) * 2012-10-16 2017-10-24 提克纳有限责任公司 抗静电液晶聚合物组合物
KR101987280B1 (ko) * 2012-12-20 2019-06-10 삼성전기주식회사 인쇄회로기판용 수지 조성물, 절연필름, 프리프레그 및 인쇄회로기판
JP6031352B2 (ja) * 2012-12-28 2016-11-24 新日鉄住金化学株式会社 両面金属張積層体の製造方法
JP6119433B2 (ja) * 2013-05-31 2017-04-26 住友金属鉱山株式会社 めっき積層体およびその製造方法
JP6499584B2 (ja) * 2013-10-03 2019-04-10 株式会社クラレ 熱可塑性液晶ポリマーフィルム、回路基板、およびそれらの製造方法
JP6019012B2 (ja) * 2013-12-17 2016-11-02 株式会社クラレ 高周波回路基板
EP3876178A1 (de) * 2014-06-30 2021-09-08 Shaaban, Ahmed Verbessertes system und verfahren für automatisiertes einziehen von forderungen für unternehmen
WO2016072361A1 (ja) * 2014-11-07 2016-05-12 株式会社クラレ 回路基板およびその製造方法
US10987911B2 (en) * 2015-04-20 2021-04-27 Kuraray Co., Ltd. Metal-clad laminate sheet manufacturing method, and metal-clad laminate sheet using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170103835A (ko) 2017-09-13
TW201637535A (zh) 2016-10-16
US20210153348A1 (en) 2021-05-20
CN107107555A (zh) 2017-08-29
TWI699145B (zh) 2020-07-11
KR102469672B1 (ko) 2022-11-23
WO2016114262A1 (ja) 2016-07-21
CN107107555B (zh) 2019-06-28
US11985762B2 (en) 2024-05-14
US20170318670A1 (en) 2017-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112016000328T5 (de) Flexible Verbundplatte und mehrschichtige Leiterplatte
DE60020446T2 (de) Verbundstoff mit Metallschicht für eine Leiterplatte
DE3413434C2 (de)
DE3307057C2 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung kupferkaschierter Elektrolaminate
DE4000495C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Kaschieren einer ungereckten Folie mit einer gereckten Folie sowie mehrschichtige Folie
DE10309188B4 (de) Steif-flexible Leiterplatte und Verfahren zu deren Herstellung
DE102007058497B4 (de) Mehrschichtige Leiterplatte und Verfahren zum Herstellen einer mehrschichtigen Leiterplatte
DE3840704A1 (de) Verfahren zur erzeugung eines kupferplattierten schichtstoffs
DE2544128A1 (de) Vielfachleiterbandkabel und verfahren zu seiner herstellung
DE2214517A1 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen Ver binden oder zum Bedrucken mit Papier von Flachmatenalien
DE112006003305T5 (de) Mit Fluorharz laminiertes Substrat
EP0485895B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines mehrschichtigen Folienverbundes
DE3238160A1 (de) Verfahren zur kontinuierlichen herstellung eines kupferdeckschicht-laminats fuer leiterplatten
EP0546311A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines mehrschichtigen Folienverbundes
EP0485896A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines mehrschichtigen Folienverbundes
DE60030908T2 (de) Maskenfilm, Verfahren zu dessen Herstellung, und Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte unter Verwendung desselben
EP0291629A2 (de) Verfahren zum kontinuierlichen Herstellen von bandförmigem Basismaterial
WO2020153391A1 (ja) 両面金属張積層体とその製造方法、絶縁フィルムおよび電子回路基板
EP0225451A2 (de) Verfahren zur Herstellung von metallkaschiertem Leiterplatten-Basismaterial und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE102015108162B4 (de) Mehrschichtleiterplatte und Herstellungsverfahren für die Mehrschichtleiterplatte
AT411893B (de) Trennplatte zum herstellen von leiterplattenkomponenten
DE4103867C2 (de) Laminiermaschine
DE10301587A1 (de) Verfahren und Transporteinrichtung zum Vorfixieren von Toner auf einem Bedruckstoff
EP0157737A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Metall-Kunststoff-Verbundkörpers
EP0130312A2 (de) Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung metallkaschierter Schichtpressstoffe

Legal Events

Date Code Title Description
R082 Change of representative

Representative=s name: BALS & VOGEL PATENTANWAELTE PARTG MBB, DE

R012 Request for examination validly filed