DE112014007000B4 - Operationsverstärkerschaltung - Google Patents
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Abstract
Operationsverstärkerschaltung (200-1), die eine Ausgangsverstärkerstufe (202-1) aufweist, welche eine erste Spannung einer Differenzverstärkerstufe verstärkt, die die erste Spannung ausgibt, und die eine Spannung ausgibt, die verstärkt ist, und zwar von einem Ausgangsanschluss, wobei die Ausgangsverstärkerstufe (202-1) Folgendes aufweist:
- einen ersten n-MOSFET (109), in welchem eine erste p-Wanne (PW1) ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem ersten Knoten (N(1)) verbunden sind, und eine Source mit einem zweiten Knoten (N(2)) verbunden ist;
- einen zweiten n-MOSFET (110), in welchem eine zweite p-Wanne (PW2) ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem ersten Knoten (N(1)) verbunden ist, ein Drain mit einem ersten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist;
- einen ersten p-MOSFET (107), in welchem eine erste n-Wanne (NW1) ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem dritten Knoten (N(3)) verbunden sind, und eine Source mit dem zweiten Knoten (N(2)) verbunden ist; und
- einen zweiten p-MOSFET (108), in welchem eine zweite n-Wanne (NW2) ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem dritten Knoten (N(3)) verbunden ist, ein Drain mit einem zweiten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist, wobei die erste p-Wanne (PW1) und die zweite p-Wanne (PW2) mit einem vierten Knoten (N(4)) verbunden sind,
wobei die erste n-Wanne (NW1) und die zweite n-Wanne (NW2) mit einem fünften Knoten (N(5)) verbunden sind,
und wobei zumindest einer von dem vierten Knoten (N(4)) und dem fünften Knoten (N(5)) mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist.
- einen ersten n-MOSFET (109), in welchem eine erste p-Wanne (PW1) ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem ersten Knoten (N(1)) verbunden sind, und eine Source mit einem zweiten Knoten (N(2)) verbunden ist;
- einen zweiten n-MOSFET (110), in welchem eine zweite p-Wanne (PW2) ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem ersten Knoten (N(1)) verbunden ist, ein Drain mit einem ersten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist;
- einen ersten p-MOSFET (107), in welchem eine erste n-Wanne (NW1) ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem dritten Knoten (N(3)) verbunden sind, und eine Source mit dem zweiten Knoten (N(2)) verbunden ist; und
- einen zweiten p-MOSFET (108), in welchem eine zweite n-Wanne (NW2) ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem dritten Knoten (N(3)) verbunden ist, ein Drain mit einem zweiten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist, wobei die erste p-Wanne (PW1) und die zweite p-Wanne (PW2) mit einem vierten Knoten (N(4)) verbunden sind,
wobei die erste n-Wanne (NW1) und die zweite n-Wanne (NW2) mit einem fünften Knoten (N(5)) verbunden sind,
und wobei zumindest einer von dem vierten Knoten (N(4)) und dem fünften Knoten (N(5)) mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist.
Description
- Technisches Gebiet
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Operationsverstärkerschaltung, insbesondere eine Operationsverstärkerschaltung mit einer Gegentakt-Sourcefolger-Schaltung der Klasse AB als eine Ausgangsverstärkerstufe.
- Stand der Technik
- Als eine Technik, die dazu imstande ist, den Stromverbrauch in einem Vorspannungszustand zu verringern und den maximalen Ausgangsstrom zu einem Zeitpunkt zu erhöhen, wenn eine Last in einer Operationsverstärkerschaltung betrieben wird, hat man eine Technik zur praktischen Verwendung in Betrieb genommen, welche dafür sorgt, dass eine Ausgangsverstärkerstufe in einer Operationsverstärkerschaltung in einem Klasse-AB-Modus arbeitet (z. B. Nicht-Patentliteratur 1).
- Als Operationsverstärkerschaltung mit einem Klasse-AB-Ausgang gibt es eine Operationsverstärkerschaltung, die eine Gegentakt-Sourcefolger-Schaltung verwendet. Die Operationsverstärkerschaltung, die die herkömmliche Gegentakt-Sourcefolger-Schaltung verwendet, hat ein dahingehendes Problem, dass der Ausgangsspannungs-Bereich schmal ist und dass sich die Frequenzeigenschaften verschlechtern.
- Die
EP 2 472 723 A1 und dieEP 1 518 322 B1 betreffen beispielsweise konventionelle Operationsverstärkerschaltungen, die eine Ausgangsverstärkerstufe mit einem ersten n-MOSFET, einem zweiten n-MOSFET, einem ersten p-MOSFET und einem zweiten p-MOSFET aufweisen, welche eine erste Spannung einer Differenzverstärkerstufe verstärkt, die die erste Spannung ausgibt, und die eine Spannung ausgibt, die verstärkt ist, und zwar von einem Ausgangsanschluss. - Stand der Technik
- Nicht-Patentliteratur
- Nicht-Patentliteratur 1: „CMOS Analog Circuit Design Second Edition“, S. 224, P. E. Allen, D. R. Holberg, Oxford.
- Zusammenfassung der Erfindung
- Technisches Problem
- Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, eine Operationsverstärkerschaltung anzugeben, welche die Verschlechterung von Frequenzeigenschaften unterbindet und es verhindert, dass der Bereich einer Ausgangsspannung schmaler gemacht wird.
- Lösung des Problems
- Insbesondere wird die der vorliegenden Erfindung zugrundeliegende Aufgabe durch eine Operationsverstärkerschaltung gemäß dem Gegenstand des unabhängigen Patentanspruchs 1 gelöst. Weitere vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen 2 bis 8 angegeben.
- Eine Operationsverstärkerschaltung der vorliegenden Erfindung weist eine Ausgangsverstärkerstufe auf, die eine erste Spannung einer Differenzverstärkerstufe verstärkt, die die erste Spannung ausgibt, und die eine Spannung ausgibt, die verstärkt ist, und zwar von einem Ausgangsanschluss.
- Die Ausgangsverstärkerstufe weist Folgendes auf:
- einen ersten n-MOSFET, in welchem eine erste p-Wanne ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem ersten Knoten verbunden sind, und eine Source mit einem zweiten Knoten verbunden ist;
- einen zweiten n-MOSFET, in welchem eine zweite p-Wanne ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem ersten Knoten verbunden ist, ein Drain mit einem ersten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist;
- einen ersten p-MOSFET, in welchem eine erste n-Wanne ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem dritten Knoten verbunden sind, und eine Source mit dem zweiten Knoten verbunden ist; und
- einen zweiten p-MOSFET, in welchem eine zweite n-Wanne ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem dritten Knoten verbunden ist, ein Drain mit einem zweiten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist.
- Die erste p-Wanne und die zweite p-Wanne sind mit einem vierten Knoten verbunden,
die erste n-Wanne und die zweite n-Wanne sind mit einem fünften Knoten verbunden,
und zumindest einer von dem vierten Knoten und dem fünften Knoten ist mit dem Ausgangsanschluss verbunden. - Vorteilhafte Wirkung der Erfindung
- Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Operationsverstärkerschaltung anzugeben, welche die Verschlechterung von Frequenzeigenschaften unterbindet und es verhindert, dass der Bereich einer Ausgangsspannung schmaler wird.
- Figurenliste
-
-
1 ist ein Diagramm einer ersten Ausführungsform, welches ein Schaltungsdiagramm einer Operationsverstärkerschaltung200 ist. -
2 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, welches ein Schaltungsdiagramm einer Operationsverstärkerschaltung210 ist. -
3 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, welches ein Schaltungsdiagramm einer Operationsverstärkerschaltung200-1 ist. -
4 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, welches ein Grund-Schaltungsdiagramm inklusive der Konfiguration einer Ausgangsverstärkerstufe202-1 ist. -
5 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, das ein Diagramm ist, welches ein Beispiel einer Layout-Form des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 der Operationsverstärkerschaltung200-1 zeigt. -
6 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, welches ein Diagramm ist, das ein weiteres Beispiel der Layout-Form des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 der Operationsverstärkerschaltung200-1 zeigt. -
7 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, das ein Diagramm ist, welches ein Beispiel einer Layout-Form des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 der Operationsverstärkerschaltung200-1 zeigt. -
8 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, welches ein Diagramm ist, das ein weiteres Beispiel der Layout-Form des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 der Operationsverstärkerschaltung200-1 zeigt. -
9 ist ein Diagramm der ersten Ausführungsform, welches ein Schaltungsdiagramm einer Operationsverstärkerschaltung200-2 ist. - Beschreibung der Ausführungsformen
- Erste Ausführungsform
- Nachfolgend werden eine Operationsverstärkerschaltung
200 und eine Operationsverstärkerschaltung200-1 beschrieben. In der folgenden Erläuterung wird eine Spannung als eine Spannung <VOUT > bezeichnet, und ein entsprechender Anschluss wird als ein AnschlussVOUT bezeichnet. Die Spannung <VOUT > stellt eine Spannung am AnschlussVOUT dar. Ferner hat die Spannung an einem Anschluss die gleiche Bedeutung wie das elektrische Potential des Anschlusses. - Beschreibung einer Konfiguration der Operationsverstärkerschaltung 200
-
1 zeigt eine Schaltungskonfiguration der Operationsverstärkerschaltung200 mit einer Gegentakt-Sourcefolger-Schaltung als eine Voraussetzung der Operationsverstärkerschaltung200-1 der ersten Ausführungsform. Die Gegentakt-Sourcefolger-Schaltung korrespondiert mit einem Bereich 202A einer Ausgangsverstärkerstufe202 in1 . Die Operationsverstärkerschaltung200 weist einen Differenz-EingangsanschlussVIP als einen nicht-invertierenden Eingangsanschluss, einen Differenz-EingangsanschlussVIM als einen invertierenden Eingangsanschluss, einen Vorspannungs-EingangsanschlussVBIAS und den AusgangsanschlussVOUT auf. - Die Operationsverstärkerschaltung
200 besitzt eine Differenzverstärkerstufe201 und die Ausgangsverstärkerstufe202 . Die Differenzverstärkerstufe201 verstärkt die Potentialdifferenz zwischen dem Differenz-EingangsanschlussVIP und dem Differenz-EingangsanschlussVIM , und sie gibt die erste Spannung <VA> ab. Die Ausgangsverstärkerstufe202 verstärkt die erste Spannung <VA>, die von der Differenzverstärkerstufe201 ausgegeben worden ist, und sie gibt die verstärkte Spannung von dem AusgangsanschlussVOUT als eine Ausgangsspannung <VOUT > ab, die die zweite Spannung ist. - Die Differenzverstärkerstufe
201 besitzt einen n-MOSFET100 , ein Differenzialpaar211 und eine aktive Last oder Wirklast221 . Der n-MOSFET100 empfängt an dem Gate eine Vorspannung von dem Vorspannungs-EingangsanschlussVBIAS , und er erzeugt einen Bias-Strom. Das Differenzialpaar211 besitzt einen n-MOSFET101 und einen n-MOSFET102 . Die aktive Last221 besitzt einen p-MOSFET103 und einen p-MOSFET104 . -
- (1) Die Ausgangsverstärkerstufe
202 weist den ersten n-MOSFET109 , den zweiten n-MOSFET110 , den ersten p-MOSFET107 , den zweiten p-MOSFET108 , den dritten n-MOSFET105 und den dritten p-MOSFET106 auf. - (2) Die Sources des zweiten n-MOSFETs
110 und des zweiten p-MOSFETs108 sind mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. - (3) Der erste n-MOSFET
109 ist eine Nachbildung des zweiten n-MOSFETs110 . - (4) Der erste p-MOSFET
107 ist eine Nachbildung des zweiten p-MOSFETs108 . - (5) Der dritte p-MOSFET
106 empfängt am Gate die von der Differenzverstärkerstufe201 ausgegebene erste Spannung <VA> und verstärkt sie. - (6) Der dritte n-MOSFET
105 empfängt an dem Gate eine Vorspannung von dem Vorspannungs-EingangsanschlussVBIAS , und er erzeugt einen Bias-Strom. -
- (1) In der Ausgangsverstärkerstufe
202 ist ein Gate-AnschlussVGN des ersten n-MOSFETs109 mit dem Drain des ersten n-MOSFETs109 und dem Drain des dritten p-OSFETs106 verbunden. - (2) Ein Gate-Anschluss
VGP des ersten p-MOSFETs107 ist mit dem Drain des ersten p-MOSFETs107 und dem Drain des dritten n-MOSFETs105 verbunden. - (3) Die Sources des ersten n-MOSFETs
109 und des ersten p-MOSFETs107 sind miteinander verbunden. - (4) In dem zweiten n-MOSFET
110 und dem zweiten p-MOSFET108 sind die Sources mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden, die Gates sind mit dem Gate-AnschlussVGN und dem Gate-AnschlussVGP verbunden, und die Drains sind mit einem EnergieversorgungsanschlussVDD bzw. einem ErdungsanschlussVSS verbunden. - (5) Ferner werden die Wannenpotentiale des ersten n-MOSFETs
109 und des zweiten n-MOSFETs110 von den ErdungsanschlüssenVSS zugeführt. - (6) Die Wannenpotentiale des ersten p-MOSFETs
107 und des zweiten p-MOSFETs108 werden von den EnergieversorgungsanschlüssenVDD zugeführt. - In
1 erzeugen der erste n-MOSFET109 und der erste p-MOSFET107 eine Potentialdifferenz <VG> in Gleichung (1) wie folgt, korrespondierend zu dem Bias-Strom, der von dem dritten n-MOSFET105 zwischen dem Gate-AnschlussVGN und dem Gate-AnschlussVGP zugeführt wird, und sie spannen den zweiten n-MOSFET110 und den zweiten p-MOSFET108 vor. - Das heißt, der erste n-MOSFET
109 und der erste p-MOSFET107 wirken als Nachbildungen des zweiten n-MOSFETs110 und des zweiten p-MOSFETs108 , und sie realisieren dadurch einen Klasse-AB-Betrieb. Hier haben die Gate-Breiten des ersten p-MOSFETs107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 jeweils die Werte W107, W108, W109 bzw. W110, und deren Gate-Längen sind jeweils L107, L108, L109 bzw. L110. Wenn die Gleichung (2) wie folgt aufgestellt wird, ist ferner der elektrische Strom, der durch den zweiten n-MOSFET110 und den zweiten p-MOSFET108 in einem Vorspannungszustand fließt, N-mal so groß wie der elektrische Strom, der durch den ersten n-MOSFET109 und den ersten p-MOSFET107 fließt. - Gemäß der in
1 dargestellten Konfiguration sind in der Ausgangsverstärkerstufe202 die Wannenpotentiale des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 mit dem EnergieversorgungsanschlussVDD verbunden, und die Wannenpotentiale des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 sind mit den ErdungsanschlüssenVSS verbunden, die auf einem Erdungspotential liegen. Andererseits liegen die Werte der Source-Potentiale des ersten p-MOSFETs107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 zwischen dem Erdungspotential und dem Potential der Energieversorgung. Da die p-n-Übergänge zwischen den Sources und den Wannen des ersten p-MOSFETs107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 in der umgekehrten Richtung vorgespannt sind, nimmt der Absolutwert der Schwellenspannung infolge eines Substrat-Vorspannungseffekts zu, und zwar im Vergleich zu dem Fall einer Null-Vorspannung, d. h. wenn die Source-Wannen-Spannung Null ist. - Damit der Operationsverstärkerschaltung
200 , wie in1 dargestellt, korrekt arbeitet, ist es hier notwendig, dass alle MOSFETs, die den Operationsverstärkerschaltung200 bilden, in einem gesättigten Bereich mit starker Inversion arbeiten. Das heißt, es ist notwendig, den Betrieb in einem Zustand vorzunehmen, in welchem die Gate-Source-Spannung größer ist als die Schwellenspannung, und in welchem die Drain-Source-Spannung größer ist als ein Spannungswert, der erhalten wird, indem die Schwellenspannung von der Gate-Source-Spannung subtrahiert wird. - Wenn die Schwellenspannungen des MOSFETs zunehmen, wird daher der Bereich der Spannung kleiner, die von dem Ausgangsanschluss
VOUT der Operationsverstärkerschaltung200 ausgegeben wird, und die Beschränkungen zur Benutzung der Operationsverstärkerschaltung200 werden größer. Um den Bereich der Ausgangsspannung der Operationsverstärkerschaltung200 zu vergrößern, ist es notwendig, die Schwellenspannungen der MOSFETs zu verringern. -
2 ist ein Schaltungsdiagramm der Operationsverstärkerschaltung210 . Bei der Operationsverstärkerschaltung210 unterscheidet sich die Konfiguration der Ausgangsverstärkerstufe203 von derjenigen der Ausgangsverstärkerstufe202 gemäß1 . Um die Schwellenspannungen zu verringern, wie in der Ausgangsverstärkerstufe203 gemäß2 dargestellt, ist es wirksam, jede der Sourcen und Wannen des ersten p-MOSFETs107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 zu verbinden, so dass die Potentialdifferenzen zwischen Source und Wanne zu Null gemacht werden. - Wie in der Ausgangsverstärkerstufe
203 gemäß2 gilt, wenn die Source und die Wanne verbunden sind, andererseits Folgendes: Da die parasitäre Kapazität eines p-n-Übergangsbereichs einer unteren Fläche und eines peripheren Bereichs der Wanne mit dem Source-Anschluss verbunden ist, verschlechtern sich die Frequenzeigenschaften. Insbesondere verursacht eine Zunahme der parasitären Kapazität der Source-Anschlüsse des ersten p-MOSFETs107 und des ersten n-MOSFETs109 eine Verschlechterung der Frequenzeigenschaften der Ausgangsverstärkerstufe203 . - Daher ist eine Konfiguration der Operationsverstärkerschaltung
200-1 in3 dargestellt, welche es verhindert, dass der Bereich der Ausgangsspannung, die in der Operationsverstärkerschaltung200 in1 erzeugt wird, schmaler wird, und welche eine Verschlechterung der Frequenzeigenschaften unterbindet, die in der Operationsverstärkerschaltung210 in2 erzeugt werden. - Erläuterung der Konfiguration der Operationsverstärkerschaltung 200-1
-
3 ist ein Schaltungsdiagramm der Operationsverstärkerschaltung200-1 . Die Operationsverstärkerschaltung200-1 besitzt eine Ausgangsverstärkerstufe202-1 , die die erste Spannung <VA> der Differenzverstärkerstufe201 verstärkt, welche die erste Spannung <VA> ausgibt, und die die verstärkte Spannung als die zweiten Spannung von dem AusgangsanschlussVOUT ausgibt. In der Operationsverstärkerschaltung200-1 in3 korrespondiert ein Bereich 202A-1 der Ausgangsverstärkerstufe202-1 mit einer Gegentakt-Sourcefolger- Schaltung. - In
3 sind den Komponenten und Elementen, die äquivalent sind zu denjenigen der Operationsverstärkerschaltung200 in1 , die gleichen Bezugszeichen zugewiesen. In der Operationsverstärkerschaltung200-1 unterscheidet sich die Konfiguration der Ausgangsverstärkerstufe202-1 von derjenigen in der Operationsverstärkerschaltung200 gemäß1 . In3 ist der Verbindungszustand von Wannen als eine Eigenschaft der Ausgangsverstärkerstufe202-1 mit einer dicken Linie dargestellt. Die Ausgangsverstärkerstufe202-1 ist durch eine Konfiguration gekennzeichnet, bei welcher die n-Wannen des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden sind, und die p-Wannen des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden sind, so dass die elektrischen Potentiale den n-Wannen und den p-Wannen zugeführt werden. - Die Ausgangsverstärkerstufe
202-1 , wie in3 dargestellt, ist ein konkretes Beispiel, und eine Grund-Schaltungskonfiguration inklusive der Konfiguration der Ausgangsverstärkerstufe202-1 gemäß3 ist in4 dargestellt. -
4 ist die Grund-Schaltungskonfiguration inklusive der Konfiguration der Ausgangsverstärkerstufe202-1 .4 ist ein Diagramm, das ein Zuführungsverfahren der Wannenpotentiale veranschaulicht. Die Konfiguration der Ausgangsverstärkerstufe202-1 wird unter Verwendung von4 beschrieben. In4 sind der erste p-MOSFET107 , der zweite p-MOSFET108 , der erste n-MOSFET109 , der zweiten n-MOSFET110 , der dritte n-MOSFET105 und der dritte p-MOSFET106 mit durchgezogenen Linien dargestellt, und die Verdrahtung ist mit einer gepunkteten Linie dargestellt. - Die Ausgangsverstärkerstufe
202-1 , wie in4 dargestellt, weist den ersten p-MOSFET107 , den zweiten p-MOSFET108 , den ersten n-MOSFET109 , den zweiten n-MOSFET110 , den dritten n-MOSFET105 und den dritten p-MOSFET106 auf, wie es auch der Fall bei der Ausgangsverstärkerstufe202 ist. - (1) Die erste p-Wanne
PW1 ist in dem ersten n-MOSFET109 ausgebildet. In dem ersten n-MOSFET109 sind das Gate und das Drain, die kurzgeschlossen sind, mit dem ersten KnotenN(1) verbunden, und die Source ist mit dem zweiten KnotenN(2) verbunden. In3 korrespondiert der Gate-AnschlussVGN des ersten n-MOSFETs109 mit dem ersten KnotenN(1) , und beispielsweise der Source-Anschluss des ersten n-MOSFETs109 korrespondiert mit dem zweiten KnotenN(2) . - (2) Die zweite p-Wanne
PW2 ist in dem zweiten n-MOSFET110 ausgebildet. In dem zweiten n-MOSFET110 ist das Gate mit dem ersten KnotenN(1) verbunden, das Drain ist mit dem ersten Referenzanschluss231 verbunden, und die Source ist mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. In3 korrespondiert der EnergieversorgungsanschlussVDD mit dem ersten Referenzanschluss231 . - (3) Die erste n-Wanne
NW1 ist in dem ersten p-MOSFET107 ausgebildet. In dem ersten p-MOSFET107 sind das Gate und das Drain, die kurzgeschlossen sind, mit dem dritten KnotenN(3) verbunden, und die Source ist mit dem zweiten KnotenN(2) verbunden. In3 korrespondiert der Gate-AnschlussVGP des ersten p-MOSFETs107 mit dem dritten KnotenN(3) . - (4) Die zweite n-Wanne
NW2 ist in dem zweiten p-MOSFET108 ausgebildet. In dem zweiten p-MOSFET108 ist das Gate mit dem dritten KnotenN(3) verbunden, das Drain ist mit dem zweiten Referenzanschluss232 verbunden, und die Source ist mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. In3 , korrespondiert der ErdungsanschlussVSS mit dem zweiten Referenzanschluss232 . In3 korrespondieren die AusgangsanschlüsseVOUT mit dem vierten KnotenN(4) und dem fünften KnotenN(5) . - (5) Die erste p-Wanne
PW1 und die zweiten p-WannePW2 sind mit dem vierten KnotenN(4) verbunden, und die erste n-WanneNW1 und die zweiten n-WanneNW2 sind mit dem fünften KnotenN(5) verbunden. - (6) Zumindest einer von viertem Knoten
N(4) und dem fünften KnotenN(5) ist mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. Das heißt, in dem Fall gemäß3 sind der vierte KnotenN(4) und der fünfte KnotenN(5) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. Diese Verbindung ist jedoch nur ein Beispiel, und es ist ausreichend, dass zumindest einer von dem vierten KnotenN(4) und dem fünften KnotenN(5) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden ist. Wenn nur der vierte KnotenN(4) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden ist, kann der fünfte KnotenN(5) mit dem EnergieversorgungsanschlussVDD verbunden sein, wie in1 . Wenn hingegen nur der fünfte KnotenN(5) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden ist, kann der vierte KnotenN(4) mit dem ErdungsanschlussVSS verbunden sein, wie in1 . - (7) In dem dritten p-MOSFET
106 ist das Gate mit dem sechsten KnotenN(6) verbunden, das Drain ist mit dem ersten KnotenN(1) verbunden, und die Source ist mit dem ersten Referenzanschluss231 verbunden. - In
3 korrespondiert beispielsweise ein Drain-Anschluss des p-MOSFET103 mit dem sechsten KnotenN(6) . - (8) In dem dritten n-MOSFET
105 ist das Gate mit dem siebten KnotenN(7) verbunden, das Drain ist mit dem dritten KnotenN(3) verbunden, und die Source ist mit dem zweiten Referenzanschluss232 verbunden. In3 korrespondiert der Vorspannungs-EingangsanschlussVBIAS mit dem siebten KnotenN(7) . - (9) Die erste Spannung <VA> wird einem von dem sechsten Knoten
N(6) und dem siebten KnotenN(7) zugeführt, und eine Vorspannung <VBIAS > wird dem anderen von dem sechsten KnotenN(6) und dem siebten KnotenN(7) zugeführt. In3 wird die erste Spannung <VA> dem sechsten KnotenN(6) zugeführt, und die Vorspannung <VBIAS > wird dem siebten KnotenN(7) zugeführt. Dieses Zuführen ist jedoch nur ein Beispiel. Die Vorspannung <VBIAS > kann auch dem sechsten KnotenN(6) zugeführt werden, und die erste Spannung <VA> kann dem siebten KnotenN(7) zugeführt werden. Diese Konfiguration wird nachstehend für9 beschrieben. - Erläuterung eines Verstärkungsverfahrens der Operationsverstärkerschaltung 200-1
- Wenn die Gleichung (2) für jede der Gate-Breiten und der Gate-Längen des ersten p-MOSFETs
107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 in der Operationsverstärkerschaltung200-1 aufgestellt wird, wie in3 gezeigt, werden die folgende Gleichung (3) und Gleichung (4) erhalten. - Hier sind <VGS107> bis einschließlich <VGS110> die Gate-Source-Spannungen des ersten p-MOSFETs
107 des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 bzw. des zweiten n-MOSFETs110 . Wenn das elektrische Potential eines Knotens, mit welchem die Sourcen des ersten p-MOSFETs107 als einer Nachbildung und des ersten n-MOSFETs109 als einer Nachbildung verbunden sind,<VS> ist, dann wird die Gleichung (5) aus der Gleichung (3) und der Gleichung (4) erhalten. Hierbei ist <VOUT > die Spannung des AusgangsanschlussesVOUT . - Mit anderen Worten: Jedes Source-Potential des ersten p-MOSFETs
107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 ist gleich der Spannung des AusgangsanschlussesVOUT . - Erklärung der Wirkung
- Wenn ein elektrisches Potential zugeführt wird, indem die n-Wannen des ersten p-MOSFETs
107 und des zweiten p-MOSFETs108 und die p-Wannen des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden werden, dann sind die Potentialdifferenzen zwischen Source und Wanne Null. Daher wird die Zunahme der Schwellenspannung infolge eines Substrat-Vorspannungseffekts unterbunden. Aus diesem Grund hat die Operationsverstärkerschaltung200-1 der ersten Ausführungsform, wie in3 dargestellt, einen breiteren Bereich der Ausgangsspannung als die Operationsverstärkerschaltung200 gemäß1 . - Bei der vorliegenden Konfiguration gilt außerdem Folgendes: Da die parasitäre Kapazität, die in den p-n-Übergangsteilen der unteren Flächen und der peripheren Teile der Wannen des ersten p-MOSFETs
107 und des ersten n-MOSFETs109 nicht mit den Source-Anschlüssen des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs109 , verbunden sind, können gute Frequenzeigenschaften erzielt werden. Gemäß der Konfiguration der Operationsverstärkerschaltung200-1 , wie in3 gezeigt, hat die Ausgangsverstärkerstufe202-1 eine Konfiguration, bei welcher die n-Wanne des ersten p-MOSFETs107 und die p-Wanne des ersten n-MOSFETs109 mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden sind, und die parasitäre Kapazität ist nicht mit den Source-Anschlüssen des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten n-MOSFETs109 verbunden. - Mit dieser Konfiguration ist es möglich, den Bereich der Ausgangsspannung zu verbreitern, indem die Source-Wannen-Spannungen des ersten p-MOSFETs
107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 sowie des zweiten n-MOSFETs110 zu Null gemacht werden, sowie die Schwellenspannung ohne Verschlechterung der Frequenzeigenschaften zu verringern. - Wirkung des Konfigurationsverfahrens des Layouts der Wannen
- Nachfolgend wird das Konfigurationsverfahren des Layouts der Wannen des ersten p-MOSFETs
107 , des zweiten p-MOSFETs108 , des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 erläutert. Zunächst wird eine Erklärung gegeben für den Fall des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 . -
5 veranschaulicht ein Konfigurationsverfahren des Layouts der Wannen in dem ersten p-MOSFET107 und dem zweiten p-MOSFET108 . Wie in5 dargestellt, sind die erste n-WanneNW1 und die zweiten n-WanneNW2 , die in einem p-Typ-Substrat ausgebildet sind, voneinander getrennt, und sie sind mit dem fünften KnotenN(5) mittels einer Verdrahtungsschicht240 verbunden. Hierbei ist der fünfte KnotenN(5) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. Wie in5 gezeigt, gilt Folgendes: Wenn der erste p-MOSFET107 und der zweite p-MOSFET108 auf der ersten n-WanneNW1 und der zweiten n-WanneNW2 ausgebildet werden, welche voneinander elektrisch getrennt sind, können der erste p-MOSFET107 und der zweiten p-MOSFET108 realisiert werden. - In diesem Fall werden die elektrischen Potentiale der ersten n-Wanne
NW1 und der zweiten n-WanneNW2 von dem Ausgangsanschluss zugeführt, und zwar weil die erste n-WanneNW1 und die zweite n-WanneNW2 beide mit dem AusgangsanschlussVOUT unter Verwendung der Verdrahtungsschicht240 verbunden sind.6 veranschaulicht ein Konfigurationsverfahren, bei welchem die n-Wannen vereint sind. - Wie in
6 dargestellt, sind die erste n-WanneNW1 und die zweiten n-WaneNW2 , die in5 veranschaulicht sind, als ein einziger Bereich mit einer einzigen n-Wanne NW ausgebildet, welche mit dem fünften KnotenN(5) mittels der Verdrahtungsschicht240 verbunden ist. In6 ist der fünfte KnotenN(5) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. - Wie in
6 gezeigt, können der erste p-MOSFET107 und der zweite p-MOSFET108 auf der einzigen n-Wanne NW ausgebildet sein, und das elektrische Potential der Wanne kann von dem AusgangsanschlussVOUT zugeführt werden, indem die einzige n-Wanne NW mit dem AusgangsanschlussVOUT unter Verwendung der Verdrahtungsschicht240 verbunden wird. - Die Layout-Formen der p-MOSFETs sind für
5 und6 erklärt. Ein n-MOSFET kann realisiert werden, indem eine Einbettungsschicht oder eine Epitaxialschicht ausgebildet werden, und indem darauf eine p-Wanne ausgebildet wird, die elektrisch von einem Substrat vom p-Typ getrennt ist. Folglich können n und p durch p und n für die Symbole n und p in5 und6 ersetzt werden, und für die Symbole n und p in der Beschreibung von5 und6 . -
7 ist ein Diagramm, das ein Konfigurationsverfahren des Layouts der Wannen in dem ersten n-MOSFET109 und dem zweiten n-MOSFET110 zeigt, das mit5 korrespondiert, wobei in dem Diagramm n und p durch p und n ersetzt sind. Wie in7 gezeigt, sind die erste p-WannePW1 und die zweite p-WannePW2 voneinander mittels der dritten n-Wane NW3 getrennt. Ferner sind die erste p-WannePW1 und die zweite p-WannePW2 von einem Substrat vom p-Typ mittels der dritten n-Wanne NW3 getrennt. Die erste p-WannePW1 und die zweite p-WannePW2 sind mit dem vierten KnotenN(4) mittels der Verdrahtungsschicht240 verbunden. Hierbei ist der vierte KnotenN(4) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. - In Bezug auf das Konfigurationsverfahren des Layouts der Wannen in dem ersten n-MOSFET
109 und dem zweiten n-MOSFET110 zeigt8 ein Diagramm, das den Fall veranschaulicht, in welchem der erste n-MOSFET109 und der zweite n-MOSFET110 auf einer einzigen p-Wanne PW ausgebildet sind, entsprechend der6 . - Wie in
8 dargestellt, sind die erste p-WannePW1 und die zweite p-WannePW2 , die in7 dargestellt sind, als ein einziger Bereich mit der einzigen p-Wanne PW ausgebildet. Die einzige p-Wanne PW ist von dem Substrat vom p-Typ durch die dritte n-Wanne NW3 getrennt. Die einzige p-Wanne PW ist mit dem vierten KnotenN(4) mittels der Verdrahtungsschicht240 verbunden. In8 ist der vierte KnotenN(4) mit dem AusgangsanschlussVOUT verbunden. - Wie in
3 dargestellt, ist die erste Ausführungsform mit einer Konfiguration erläutert, bei der beide Wannenpotentiale des ersten n-MOSFETs109 und des zweiten n-MOSFETs110 und des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 von dem Ausgangsanschluss zugeführt werden; sie ist jedoch nicht auf diese Konfiguration beschränkt. - Beispielsweise kann ein elektrisches Potential auch nur einer der Wannen der n-MOSFETs oder der p-MOSFETs von dem Ausgangsanschluss
VOUT in einem solchen Fall zugeführt werden, in welchem eine Einbettungsschicht oder eine Epitaxialschicht nicht verwendet werden kann und die Wannen der nMOSFETs nicht von einem Siliciumsubstrat getrennt werden können usw. Diese Konfiguration ist bei der Erläuterung für4 diskutiert. - Ferner kann ein Paar von dem ersten n-MOSFET
109 und dem zweiten n-MOSFET110 als n-MOSFETs und des ersten p-MOSFETs107 und des zweiten p-MOSFETs108 als p-MOSFETs durch Bipolartransistoren ersetzt werden, und ein elektrisches Potential kann den Wannen der MOSFETs des anderen Paars von dem AusgangsanschlussVOUT zugeführt werden. - Ferner gilt bei der Operationsverstärkerschaltung
200-1 Folgendes: - Da n-MOSFETs für das Differenzialpaar
211 in der Differenzverstärkerstufe201 verwendet werden, ist der dritte p-MOSFET106 der Ausgangsverstärkerstufe202-1 ein Verstärker-MOSFET, und der dritte n-MOSFET105 ist ein Stromquellen-MOSFET. Das heißt, in3 hat die Differenzverstärkerstufe201 das Differenzialpaar211 inklusive zweier n-MOSFETs; sie ist jedoch nicht auf diese Konfiguration beschränkt. -
9 ist ein Schaltungsdiagramm einer Operationsverstärkerschaltung200-2 . Das heißt, bei der Operationsverstärkerschaltung200-2 , wie in9 dargestellt, hat eine Differenz-verstärkerstufe 201-1 ein Differenzialpaar211-1 inklusive zweier p-MOSFETs. Demzu-folge ist die Polarität der MOSFETs in der Differenzverstärkerstufe201-1 umgekehrt zu derjenigen der Differenzverstärkerstufe201 in3 . Beispielsweise ist der p-MOSFET 9, der mit dem n-MOSFET100 der Differenzverstärkerstufe201 in3 korrespondiert, der p-MOSFET 100-1. - Auf diese Weise hat in Bezug auf die Differenzverstärkerstufe
201 in3 die Differenzverstärkerstufe201-1 die Konfiguration, bei welcher die n-MOSFETs durch p-MOSFETs ersetzt sind und die p-MOSFET durch n-MOSFETs ersetzt sind, und welche auf dem Kopf stehend umgedreht angeordnet ist. - Die Konfiguration, die auf dem Kopf stehend umgedreht ist, heißt - mit anderen Worten - dass die Verbindung in Bezug auf den Energieversorgungsanschluss
VDD und den ErdungsanschlussVSS auf dem Kopf stehend vorgenommen ist. Wie in9 dargestellt, kann das Gate des dritten n-MOSFETs105 die Ausgangsspannung <VA> empfangen, und das Gate des dritten p-MOSFETs106 kann die Vorspannung <VBIAS > empfangen. - Bezugszeichenliste
-
- N(1)
- erster Knoten
- N(2)
- zweiter Knoten
- N(3)
- dritter Knoten
- N(4)
- vierter Knoten
- N(5)
- fünfter Knoten
- N(6)
- sechster Knoten
- N(7)
- siebter Knoten
- NW1
- erste n-Wanne
- NW2
- zweite n-Wanne
- PW1
- erste p-Wanne
- PW2
- zweite p-Wanne
- VBIAS
- Vorspannungs-Eingangsanschluss
- VIP, VIM
- Differenz-Eingangsanschluss
- VOUT
- Ausgangsanschluss
- VGP
- Gate-Anschluss
- VGN
- Gate-Anschluss
- VDD
- Energieversorgungsanschluss
- VSS
- Erdungsanschluss
- <VS>
- erste Ausgangsspannung
- 200, 200-1, 200-2, 210
- Operationsverstärkerschaltung
- 201, 201-1
- Differenzverstärkerstufe
- 202, 202-1, 203
- Ausgangsverstärkerstufe
- 211,211-1
- Differenzialpaar
- 221, 221-1
- Wirklast
- 231
- erster Referenzanschluss
- 232
- zweiter Referenzanschluss
- 240
- Verdrahtungsschicht
- 100, 101, 102
- n-MOSFET
- 103, 104
- p-MOSFET
- 105
- dritter n-MOSFET
- 106
- dritter p-MOSFET
- 107
- erster p-MOSFET
- 108
- zweiter p-MOSFET
- 109
- erster n-MOSFET
- 110
- zweiter n-MOSFET
Claims (8)
- Operationsverstärkerschaltung (200-1), die eine Ausgangsverstärkerstufe (202-1) aufweist, welche eine erste Spannung einer Differenzverstärkerstufe verstärkt, die die erste Spannung ausgibt, und die eine Spannung ausgibt, die verstärkt ist, und zwar von einem Ausgangsanschluss, wobei die Ausgangsverstärkerstufe (202-1) Folgendes aufweist: - einen ersten n-MOSFET (109), in welchem eine erste p-Wanne (PW1) ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem ersten Knoten (N(1)) verbunden sind, und eine Source mit einem zweiten Knoten (N(2)) verbunden ist; - einen zweiten n-MOSFET (110), in welchem eine zweite p-Wanne (PW2) ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem ersten Knoten (N(1)) verbunden ist, ein Drain mit einem ersten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist; - einen ersten p-MOSFET (107), in welchem eine erste n-Wanne (NW1) ausgebildet ist, wobei ein Gate und ein Drain, die kurzgeschlossen sind, mit einem dritten Knoten (N(3)) verbunden sind, und eine Source mit dem zweiten Knoten (N(2)) verbunden ist; und - einen zweiten p-MOSFET (108), in welchem eine zweite n-Wanne (NW2) ausgebildet ist, wobei ein Gate mit dem dritten Knoten (N(3)) verbunden ist, ein Drain mit einem zweiten Referenzanschluss verbunden ist, und eine Source mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist, wobei die erste p-Wanne (PW1) und die zweite p-Wanne (PW2) mit einem vierten Knoten (N(4)) verbunden sind, wobei die erste n-Wanne (NW1) und die zweite n-Wanne (NW2) mit einem fünften Knoten (N(5)) verbunden sind, und wobei zumindest einer von dem vierten Knoten (N(4)) und dem fünften Knoten (N(5)) mit dem Ausgangsanschluss verbunden ist.
- Operationsverstärkerschaltung (200-1) nach
Anspruch 1 , wobei die Ausgangsverstärkerstufe (202-1) ferner Folgendes aufweist: - einen dritten p-MOSFET, in welchem das Gate mit einem sechsten Knoten (N(6)) verbunden ist, wobei das Drain mit dem ersten Knoten (N(1)) verbunden ist und die Source mit dem ersten Referenzanschluss verbunden ist; und - einen dritten n-MOSFET, in welchem das Gate mit einem siebten Knoten (N(7)) verbunden ist, wobei das Drain mit dem dritten Knoten (N(3)) verbunden ist und die Source mit dem zweiten Referenzanschluss verbunden ist, wobei die erste Spannung einem von dem sechsten Knoten (N(6)) und dem siebten Knoten (N(7)) zugeführt wird, und wobei eine Vorspannung zu dem anderen von sechstem Knoten (N(6)) und siebtem Knoten (N(7)) zugeführt wird. - Operationsverstärkerschaltung (200-1) nach
Anspruch 1 oder2 , wobei die erste n-Wanne (NW1) und die zweite n-Wanne (NW2) voneinander getrennt sind, und wobei sie mit dem fünften Knoten (N(5)) mittels einer Verdrahtungsschicht verbunden sind. - Operationsverstärkerschaltung (200-1) nach
Anspruch 1 oder2 , wobei die erste n-Wanne (NW1) und die zweite n-Wanne (NW2) als ein einziger Bereich mit einer einzigen n-Wanne gebildet sind, und wobei sie mit dem fünften Knoten (N(5)) mittels einer Verdrahtungsschicht verbunden sind. - Operationsverstärkerschaltung (200-1) nach einem der
Ansprüche 1 bis4 , wobei die erste p-Wanne (PW1) und die zweite p-Wanne (PW2) voneinander mittels einer dritten n-Wanne (NW3) getrennt sind, und wobei sie mit dem vierten Knoten (N(4)) mittels einer Verdrahtungsschicht verbunden sind. - Operationsverstärkerschaltung (200-1) nach einem der
Ansprüche 1 bis4 , wobei die erste p-Wanne (PW1) und die zweite p-Wanne (PW2) als ein einziger Bereich mit einer einzigen p-Wanne gebildet sind, und wobei sie mit dem vierten Knoten (N(4)) mittels einer Verdrahtungsschicht verbunden sind. - Operationsverstärkerschaltung (200- 1) nach einem der
Ansprüche 1 bis6 , wobei die Differenzverstärkerstufe (201) ein Differenzialpaar (211) inklusive zweier n-MOSFETs besitzt. - Operationsverstärkerschaltung (200-2) nach einem der
Ansprüche 1 bis6 , wobei die Differenzverstärkerstufe (201-1) ein Differenzialpaar (211-1) inklusive zweier p-MOSFETs besitzt.
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