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Technisches Gebiet
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein technisches Gebiet eines
organischen Dünnfilms und insbesondere auf eine Technologie
zum Herstellen eines organischen Dünnfilms, der eine gute
Qualität hat.
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Hintergrundtechnik
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Organische
EL-Elemente sind Anzeigeelemente, die in diesen Jahren höchste
Aufmerksamkeit auf sich ziehen und haben solch ausgezeichnete Eigenschaften
wie eine hohe Helligkeit und eine schnelle Ansprechgeschwindigkeit.
Bei organischen EL-Elementen sind Licht emittierende Bereiche, die drei
unterschiedliche Farben Rot, Grün und Blau emittieren,
auf einem Glassubstrat angeordnet. Der Licht emittierende Bereich
ist durch Stapeln eines Anodenelektrodenfilms, einer Löcherinjektionsschicht,
einer Löchertransportschicht, einer Licht emittierenden
Schicht, einer Elektronentransportschicht, einer Elektroneninjektionsschicht
und eines Kathodenelektrodenfilms in dieser Reihenfolge gebildet
und bildet durch ein farbbildendes Mittel, das der Licht emittierenden
Schicht hinzugefügt ist, eine Farbe Rot, Grün
oder Blau.
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Die
Löchertransportschicht, die Licht emittierende Schicht,
die Elektronentransportschicht und dergleichen sind allgemein aus
einem organischen Material aufgebaut, und zum Bilden dieser Filme
aus einem organischen Material wird eine Dampfabscheidungsvorrichtung
weit verbreitet verwendet.
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In 4 bezeichnet
eine Bezugsziffer 203 eine Dampfabscheidungsvorrichtung
einer bekannten Technik, bei der ein Dampfabscheidungsbehälter 212 innerhalb
einer Vakuumkammer 211 angeordnet ist. Der Dampfabscheidungsbehälter 212 hat
einen Behälterhauptkörper 221, und der
höher gelegene Abschnitt des Behälterhauptkörpers 221 ist
mit einem Deckelabschnitt 222, der eines bis mehrere Ausstoßtore 224,
die darin gebildet sind, hat, bedeckt.
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Innerhalb
des Dampfabscheidungsbehälters 212 ist ein pulverförmiges
organisches Dampfabscheidungsmaterial 200 angeordnet.
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An
der Seite und dem Boden des Dampfabscheidungsbehälters 212 ist
ein Wärmeerzeuger 223 angeordnet, und wenn das
Innere der Vakuumkammer 211 evakuiert wird und der Wärmeerzeuger 223 Wärme
erzeugt, steigt die Temperatur des Dampfabscheidungsbehälters 212 an,
um das organische Dampfabscheidungsmaterial 200 in dem
Dampfabscheidungsbehälter 212 zu wärmen.
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Wenn
das organische Dampfabscheidungsmaterial 200 auf eine Temperatur
der Verdampfungstemperatur oder mehr gewärmt wird, füllt
der Dampf des organischen Materials den Dampfabscheidungsbehälter 212 und
wird aus dem Ausstoßtor 224 in die Vakuumkammer 211 ausgestoßen.
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Oberhalb
des Ausstoßtores 224 ist eine Substratbeförderungsvorrichtung 214 angeordnet,
und wenn ein Halter 210 ein Substrat 205 hält
und eine Substratbeförderungsvorrichtung 214 betrieben
wird, geht das Substrat 205 an einer Position genau oberhalb
des Ausstoßtores 224 vorbei, und der Dampf des
organischen Materials, der aus dem Ausstoßtor 224 ausgestoßen
wird, erreicht die Oberfläche des Substrats 205,
um einen organischen Dünnfilm, wie zum Beispiel die Löcherinjektionsschicht
oder die Löchertransportschicht, zu bilden.
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Wenn
die Substrate
205 einzeln nacheinander oberhalb des Ausstoßtors
224 vorbeigehen,
während der Dampf des organischen Materials ausgestoßen
wird, wird es möglich, einen organischen Dünnfilm
für die mehreren Substrate
200 aufeinanderfolgend
zu bilden.
Patentdokument 1:
JP-A 2003-96557 -
Offenbarung der Erfindung
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Durch die Erfindung zu lösende
Probleme
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Um
einen Film für mehrere Substrate 205, wie im Vorhergehenden
beschrieben ist, zu bilden, ist es jedoch notwendig, eine große
Menge eines organischen Dampfabscheidungsmaterials 200 in
dem Dampfabscheidungsbehälter 212 anzuordnen.
In tatsächlichen Erzeugungsgebieten wird eine Filmabscheidungsbehandlung
kontinuierlich für 120 Stunden oder mehr durchgeführt,
während das Dampfabscheidungsmaterial bei 350 bis 450°C
gewärmt wird, und daher wird das organische Dampfabscheidungsmaterial 200 in
dem Dampfabscheidungsbehälter 212 für
eine lange Zeit einer hohen Temperatur und als das Resultat einer
Reaktion mit Feuchtigkeit in dem Dampfabscheidungsbehälter Änderungen
der Qualität ausgesetzt oder zersetzt sich durch das Wärmen.
Das organische Dampfabscheidungsmaterial 200 verschlechtert
sich verglichen mit demselben unter der Anfangsbedingung des Wärmens.
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Die
Verschlechterung des organischen Dampfabscheidungsmaterials 200 wird
durch Erhöhen der Zuführfrequenz und Verringern
der Menge beim Einzelzuführen verhindert, wenn jedoch die Menge
beim Einzelzuführen klein ist, wird die kontinuierlich
bearbeitbare Zeit kurz. Wenn sich ferner eine Verdampfungsrate des
organischen Dampfabscheidungsmaterials 200 verursacht durch
eine Störung eines Wärmeerzeugers und dergleichen
erhöht, oder wenn die Beförderungsgeschwindigkeit
des Substrats 200 langsam wird, geht das organische Dampfabscheidungsmaterial 200,
während ein Film für das Substrat 205 gebildet
wird, aus, um minderwertige Guter zu ergeben.
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Mittel zum Lösen der Probleme
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Um
das Problem zu lösen, ist die vorliegende Erfindung eine
Dampfabscheidungsquelle, mit: einem Dampfabscheidungsbehälter,
der mit einem Ausstoßtor versehen ist; einer Verdampfungskammer,
die über ein Verbindungstor mit dem Dampfabscheidungsbehälter
verbunden ist; einer Schale, die innerhalb der Verdampfungskammer
angeordnet ist; einer Zuführungsvorrichtung zum Anordnen
des Dampfabscheidungsmaterials auf der Schale; und einem Massenmesser,
an den die Last der Schale angelegt ist.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Dampfabscheidungsquelle, mit bei
der Zuführungsvorrichtung ferner: einer Zuführungskammer,
in der das Dampfabscheidungsmaterial angeordnet ist; einem Zuführungsrohr,
das mit der Zuführungskammer an einem Ende und mit der
Verdampfungskammer an dem anderen Ende bei einer Position oberhalb
der Schale verbunden ist; einer Drehungsachse, die in das Zuführungsrohr
eingeführt ist; einer wendelförmigen Nut, die
an der Seitenfläche der Drehungsachse gebildet ist; und
einem Dreher zum Drehen der Drehungsachse um eine mittige Achsenlinie.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Dampfabscheidungsquelle, mit ferner
einem Wärmeerzeuger zum Wärmen des Dampfabscheidungsmaterials,
das auf der Schale angeordnet ist.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Dampfabscheidungsquelle, bei der
der Wärmeerzeuger ein Lasergenerator ist, und der Lasergenerator
konfiguriert ist, um fähig zu sein, einen Laserstrahl zu
dem Dampfabscheidungsmaterial, das auf der Schale angeordnet ist,
zu strahlen.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Dampfabscheidungsquelle, mit ferner
einer Steuerung, die mit dem Massenmesser bzw. der Zuführungsvorrichtung verbunden
ist, wobei der Massenmesser ein Signal, das der Last der Schale
entspricht, zu der Steuerung überträgt, und die
Steuerung die Drehungsmenge der Drehungsachse ansprechend auf das
Signal, das von dem Massenmesser übertragen wird, steuert.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Dampfabscheidungsvorrichtung, die
eine Vakuumkammer und eine Dampfabscheidungsquelle hat, mit bei
der Dampfabscheidungsquelle: einem Dampfabscheidungsbehälter,
der mit einem Ausstoßtor versehen ist; einer Verdampfungskammer,
die über ein Verbindungstor mit dem Dampfabscheidungsbehälter
verbunden ist; einer Schale, die in der Verdampfungskammer angeordnet
ist; einer Zuführungsvorrichtung zum Anordnen eines Dampfabscheidungsmaterials auf
der Schale; und einem Massenmesser, an den die Last der Schale angelegt
ist, wobei der innere Raum des Dampfabscheidungsbehälters
und der innere Raum der Vakuumkammer über das Ausstoßtor miteinander
verbunden sind.
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Die
vorliegende Erfindung ist ein Filmbildungsverfahren, mit folgenden
Schritten: Zuführen eines Dampfabscheidungsmaterials von
einer Zuführungsvorrichtung zu dem Inneren einer Verdampfungskammer,
Verdampfen des Dampfabscheidungsmaterials innerhalb der Verdampfungskammer, und
Ausstoßen des Dampfes des Dampfabscheidungsmaterials von
einem oder einer Mehrzahl von Ausstoßtoren, die mit der
Verdampfungskammer verbunden sind, in das Innere einer Vakuumkammer, und
kontinuierliches Bewegen einer Mehrzahl von Substraten, um an einer
Position genau oberhalb des Ausstoßtors vorbeizugehen,
während die Substrate von einer Beförderungsquelle
zu einem Beförderungsbestimmungsort bewegt werden, um einen Dünnfilm
an der Oberfläche der jeweiligen Substrate zu bilden, wobei
das Verfahren ferner folgende Schritte aufweist: Zählen
der Zahl der Substrate, die oberhalb des Ausstoßtors vorbeigehen,
und Messen der Masse des Dampfabscheidungsmaterials innerhalb der
Verdampfungskammer, nachdem die Substrate in einer vorbestimmten
Zahl bei einer Position oberhalb des Ausstoßtors, die zu
dem Beförderungsbestimmungsort am nächsten ist,
vorbeigegangen sind, und bevor das anschließende Substrat
eine Position oberhalb des Ausstoßtors erreicht, die am nächsten
zu der Beförderungsquelle ist, und Vergleichen des gemessenen
Werts mit einem vorbestimmten Bezugswert, um das Dampfabscheidungsmaterial
zu der Verdampfungskammer nachzufüllen.
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Die
vorliegende Erfindung ist ein Filmbildungsverfahren mit ferner folgenden
Schritten: Einstellen einer Masse, die größer
als eine Masse, die zum Bilden von Filmen für die Substrate
in einer vorbestimmten Zahl notwendig ist, ist, als der Bezugswert;
und Nachfüllen des Verdampfungsmaterials in der Verdampfungskammer,
derart, dass dasselbe den Bezugswert haben kann.
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Die
vorliegende Erfindung ist ein Filmbildungsverfahren, mit ferner
folgenden Schritten: Einstellen einer Masse, die größer
als eine Masse, die zum Bilden von Filmen für die Substrate
in einer vorbestimmten Zahl notwendig ist, ist, als der Bezugswert;
und Nachfüllen des Dampfabscheidungsmaterials, wenn der
gemessene Wert nicht höher als der Bezugswert wird.
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Die
vorliegende Erfindung ist wie im Vorhergehenden beschrieben ist
aufgebaut, und die Dampfabscheidungsquelle der vorliegenden Erfindung kann
das Dampfabscheidungsmaterial in der notwendigen Menge, wenn benötigt,
zuführen, und daher gibt es keine Tendenz, dass eine Verschlechterung
des Dampfabscheidungsmaterials auftritt.
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Durch
Vergleichen eines tatsächlich gemessenen Werts mit dem
Bezugswert kann eine beabsichtigte Menge eines Dampfabscheidungsmaterials innerhalb
der Verdampfungskammer genau angeordnet werden.
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Ein
Verfahren zum Strahlen eines Laserstrahls, um das Dampfabscheidungsmaterial
zu verdampfen, verursacht verglichen mit anderen Wärmeverfahren,
wie zum Beispiel einem Widerstandswärmen, kaum einen chemischen
Zerfall des Dampfabscheidungsmaterials.
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Organische
EL-Materialien (wie zum Beispiel Ladungsbeförderungsmaterialien,
Licht emittierende Materialien oder Elektronenbeförderungsmaterialien) erzeugen
ohne weiteres durch Wärmen einen chemischen Verfall, die
Verwendung eines Laserstrahls zum Wärmen des Dampfabscheidungsmaterials macht
es jedoch möglich, organische EL-Vorrichtungen herzustellen,
die ein organisches EL-Material eines reduzierten Zerfalls haben,
um eine hohe Licht emittierende Menge zu ergeben.
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Da
ein Laserstrahl ferner ein Polymer ohne einen chemischen Zerfall
verdampfen kann, können Polymerdünnfilme, die
herkömmlicherweise durch ein Tintenstrahlverfahren, ein
Siebdruckverfahren oder ein Schleuderbeschichtungsverfahren gebildet wurden,
durch ein Verdampfungsverfahren gebildet werden.
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Effekte der Erfindung
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Die
Dampfabscheidungsquelle der vorliegenden Erfindung kann für
eine lange Zeit betrieben werden, und da ein Dampfabscheidungsmaterial
keiner hohen Temperatur für eine lange Zeit ausgesetzt wird,
zersetzt sich das Dampfabscheidungsmaterial nicht oder zerfällt
nicht. Ein Dünnfilm, der die gleiche chemische Zusammensetzung
wie derselbe des Dampfabscheidungsmaterials hat, kann gebildet werden.
Die Verwendung der Dampfabscheidungsquelle der vorliegenden Erfindung
zum Bilden einer organischen Schicht von organischen EL-Vorrichtungen
ermöglicht, dass organische EL-Vorrichtungen, die eine
große Licht emittierende Menge haben, hergestellt werden.
Da das Dampfabscheidungsmaterial während der Filmbildung
nicht ausgeht, werden keine minderwertigen Güter erzeugt.
Dünnfilme, die eine gleichmäßige Dickenverteilung
haben, werden gebildet.
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Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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1 ist
eine perspektivische Ansicht zum Darstellen einer Dampfabscheidungsvorrichtung
eines ersten Beispiels der vorliegenden Erfindung.
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2 ist
eine schematische Querschnittsansicht zum Darstellen des Inneren
der Dampfabscheidungsvorrichtung.
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3 ist
eine schematische Querschnittsansicht zum Darstellen einer Dampfabscheidungsvorrichtung
eines zweiten Beispiels der vorliegenden Erfindung.
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4 ist
eine Querschnittsansicht zum Darstellen einer Dampfabscheidungsvorrichtung
einer bekannten Technik.
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- 1,
50
- Dampfabscheidungsvorrichtung
- 2
- Lasergenerator
- 6
- Substrat
- 11
- Vakuumkammer
- 15
- Verdampfungskammer
- 21
- Dampfabscheidungsbehälter
- 30
- Zuführungsvorrichtung
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Beste Modi zum Ausführen
der Erfindung
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In 1,
der perspektivischen Ansicht, und 2, der schematischen
Querschnittsansicht, bezeichnet Bezugsziffer 1 eine Dampfabscheidungsvorrichtung,
die ein Beispiel der vorliegenden Erfindung und ein erstes Beispiel
ist. Die Dampfabscheidungsvorrichtung 1 weist eine Vakuumkammer 11 und
eine Dampfabscheidungsquelle 3 (in 1 ist die
Vakuumkammer 11 weggelassen) auf.
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Mit
der Vakuumkammer 11 ist ein Evakuierungssystem 9 verbunden,
und durch Betreiben des Evakuierungssystems 9 wird das
Innere der Vakuumkammer 11 evakuiert.
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Die
Dampfabscheidungsquelle 43 weist einen Dampfabscheidungsbehälter 21,
eine Verdampfungskammer 15, eine Zuführungsvorrichtung 30, eine
Schale 41, einen Massenmesser 49 und eine Steuerung 45 auf.
Der Dampfabscheidungsbehälter 21 ist in der Vakuumkammer 11 angeordnet.
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Für
den Dampfabscheidungsbehälter 21 ist eines oder
sind eine Mehrzahl von Ausstoßtoren gebildet, und derselbe
ist, wie später beschrieben ist, so aufgebaut, dass, wenn
das Dampfabscheidungsmaterial 16, das von der Zuführungsvorrichtung 30 zugeführt
wird, in der Verdampfungskammer 15 verdampft, der Dampf
in das Innere des Dampfabscheidungsbehälters 21 eingeführt
wird, und dass der Dampf des Dampfabscheidungsmaterials von jeweiligen
Ausstoßtoren 24 zu dem Inneren der Vakuumkammer
ausgestoßen wird.
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Innerhalb
der Vakuumkammer 11 sind eine Beförderungsquelle
und ein Beförderungsbestimmungsort vorgesehen, die nicht
gezeigt sind, und von der Beförderungsquelle zu dem Beförderungsbestimmungsort
erstreckt sich eine Substratbeförderungseinrichtung 14.
An der Substratbeförderungseinrichtung 14 ist
eine Mehrzahl von Halter 10 angebracht, und an jeweiligen
Halter 10 ist ein Substrat 6 als ein Filmbildungsobjekt
angebracht.
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Dieselbe
ist so aufgebaut, dass das Substrat 6 von der Beförderungsquelle
zu dem Beförderungsbestimmungsort einzeln nacheinander
oder in mehreren Zahlen in einen Zustand angebracht an dem Halter 10 befördert
wird.
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Die
jeweiligen Ausstoßtore 24 liegen jeweils unterhalb
der Mitte des Beförderungswegs, entlang dem das Substrat
befördert wird, und während des Zeitraums von
der Ankunft der Substratkante bei der Kante des Ausstoßtors 24,
das der Beförderungsquelle am nächsten ist, zu
dem Moment, wenn die Substratkante an der Kante des Ausstoßtors 24,
das dem Beförderungsbestimmungsort am nächsten
ist, vorbeigegangen ist, wird ein Dünnfilm des Dampfabscheidungsmaterials
an der Substratoberfläche gebildet. Unterdessen kann eine
Maske zwischen dem Substrat und dem Ausstoßtor 24 angeordnet
sein, um einen Dünnfilm lediglich in einem vorgeschriebenen
Bereich der Substratoberfläche zu bilden.
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Die
Dampfabscheidungsquelle 3 wird als Nächstes im
Detail beschrieben. Die Zuführungsvorrichtung 30 weist
eine Zuführungskammer 31, ein Zuführungsrohr 32 und
eine Drehungsachse 35 auf. Die Zuführungskammer 31 ist
oberhalb der Verdampfungskammer 15 angeordnet.
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Die
Bodenfläche der Zuführungskammer 31 ist
mit einer Öffnung versehen, und das Führungsrohr 32 ist
an einem Ende mit dem Inneren der Zuführungskammer 31 verbunden
und an dem anderen Ende in das Innere der Verdampfungskammer 15 von der
Decke luftdicht eingeführt.
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In
der Zuführungskammer 31 hat die Deckenseite einen
größeren Durchmesser als die Bodenseite, und die
Seitenwand des Bodenabschnitts ist geneigt. Das Dampfabscheidungsmaterial 16 zur Verwendung
bei der Dampfabscheidungsvorrichtung 1 ist pulverförmig,
und wenn das Dampfabscheidungsmaterial 16 in der Zuführungskammer 31 untergebracht
ist, gleitet das Dampfabscheidungsmaterial 16 die Neigung,
die für den Bodenabschnitt gebildet ist, herunter, um hin
zu der Öffnung, die der Verbindungsabschnitt zu dem Zuführungsrohr 32 ist,
herunterzufallen.
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Die
Drehungsachse 35 ist in das Zuführungsrohr 32 derart
eingeführt, dass die Oberkante von der Öffnung
aufwärts vorsteht, und das Dampfabscheidungsmaterial 16,
das hin zu der Öffnung heruntergefallen ist, sammelt sich
um die Drehungsachse 35 an.
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Für
den höher als die Bodenkante des Zuführungsrohrs 32 gelegenen
Abschnitt in der Seitenoberfläche der Drehungsachse 35 ist
eine wendelförmige Nut bis mindestens hoch zu der höher
als der Verbindungsabschnitt der Zuführungskammer 31 und
des Zuführungsrohrs 32 gelegenen Position gebildet,
und das Dampfabscheidungsmaterial 16, das um die Drehungsachse 35 angesammelt
ist, berührt die Nut.
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Der
konvexe Abschnitt zwischen den Nuten der Drehungsachse 35 berührt
die Innenwandoberfläche des Zuführungsrohrs 32,
oder der Zwischenraum zwischen dem konvexen Abschnitt und der Innenwandoberfläche
ist auf nicht mehr als der Durchmesser von Partikeln des Dampfabscheidungsmaterials 16 eingestellt,
derart, dass das Dampfabscheidungsmaterial 16 nicht durch
die Öffnung der Bodenfläche der Zuführungskammer 31 in
die Verdampfungskammer 15 fällt, wenn die Drehungsachse 35 in einem
stationären Zustand ist.
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Außerhalb
der Vakuumkammer 11 ist ein Dreher 37 angeordnet.
Derselbe ist so aufgebaut, dass die Drehungsachse 35 mit
dem Dreher 37 verbunden ist, und dass, wenn die Treibleistung
des Drehers 37 zu der Drehungsachse 35 übertragen wird,
sich die Drehungsachse 35 um die mittige Achsenline C ohne
einen Anstieg oder ein Fallen dreht, während der Zustand
eingeführt in das Zuführungsrohr 32 beibehalten
wird.
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Hier
ist kein Schraubengewinde für die Innenwandfläche
des Zuführungsrohrs 32 gebildet, und wenn sich
die Drehungsachse 35 in einem stationären Zustand
in Auf- und Abrichtungen dreht, wird das Dampfabscheidungsmaterial 16,
das die Nut der Drehungsachse 35 berührt, abwärts
extrudiert.
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Die
Bodenkante der Nut ist mit dem inneren Raum der Verdampfungskammer 15 verbunden,
und wenn das Dampfabscheidungsmaterial 16 abwärts extrudiert
wird, fällt dasselbe in die Verdampfungskammer 15.
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Die
Schale 41 ist genau unter der Bodenkante des Zuführungsrohrs 32 innerhalb
der Verdampfungskammer 15 angeordnet, und das gefallene Dampfabscheidungsmaterial 16 wird
auf der Schale 41 angeordnet.
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Für
die Bodenwand der Verdampfungskammer 15 wird ein Durchgangsloch
gebildet, und in das Durchgangsloch wird die Oberkante einer höher
gelegenen Achse 46 eingeführt, und die Schale 41 wird an
der höher gelegenen Achse 46 angebracht.
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Die
Bodenkante der höher gelegenen Achse 46 ist an
der Oberkante einer tiefer gelegenen Achse 47 über
eine Trägerplatte 43 befestigt. Die Bodenkante
der unteren Achse 47 ist auf einen Massenmesser 49 gesetzt,
und entsprechend ist die Schale 41 über die höher
gelegene Achse 46, die Trägerplatte 43 und
die höher gelegene Achse 47 auf den Massenmesser 49 gesetzt,
und die Last der Schale 41 und des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf
der Schale 41 ist an den Massenmesser 49 angelegt.
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Um
das Durchgangsloch der Bodenwand der Verdampfungskammer 15 ist
hier ein Ende eines Balgs 42 luftdicht befestigt, und ein
zweites Ende des Balgs 42 ist an der Trägerplatte 43 um
die höher gelegene Achse 46 luftdicht befestigt,
um den inneren Raum der Verdampfungskammer 15 von einer äußeren
Atmosphäre zu trennen.
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Der
Balg 42 ist ausdehnbar, und wenn das Dampfabscheidungsmaterial 16 herunterfällt,
um die Gesamtmasse der Schale 41 und des Dampfabscheidungsmaterials 16 zu
erhöhen, dehnt sich der Balg 42 aus, während
die Verdampfungskammer 15 von einer äußeren
Atmosphäre getrennt ist, um die Last einer erhöhten
Masse zu dem Massenmesser 49 zu übertragen, ohne
durch den Balg 42 blockiert zu sein.
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Der
Massenmesser 49 und der Dreher 37 sind jeweils
mit der Steuerung 45 verbunden. Der Massenmesser 49 ist
beispielsweise ein Dehnungsmessfühler und überträgt
ein Signal, das der Gesamtlast der Schale 41 und des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf
der Schale 41 entspricht, zu der Steuerung 45.
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Die
Masse der Schale 41 ist vorher bekannt, und die Steuerung 45 berechnet
die Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16, das auf der
Schale 41 angeordnet ist, aus dem Signal, das von dem Massenmesser 49 übertragen
wird, und der Masse der Schale 41.
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Die
Beziehung zwischen der Drehungsmenge der Drehungsachse 35 und
der Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16, das auf die
Schale 41 herunterfällt, ist vorher bekannt (beispielsweise 0,01
g pro eine Umdrehung), und daher ist es durch Berechnen der Drehungsmenge
der Drehungsachse 35 zum Zuführen einer notwendigen
Menge des Dampfabscheidungsmaterials 16 und durch Drehen der
Drehungsachse 35 um die erhaltene Drehungsmenge möglich,
das Dampfabscheidungsmaterial 16 in einer notwendigen Menge
innerhalb der Verdampfungskammer nachzufüllen.
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Die
Beziehung zwischen der Drehungsmenge der Drehungsachse 35 und
der Menge, die auf die Schale 41 herunterfällt,
ist nicht notwendigerweise zu allen Zeiten konstant, sondern wenn
beispielsweise ein Teil des Dampfabscheidungsmaterials 16 verklebt,
um einen Klumpen zu bilden, und der Klumpen fällt, fällt
eine Menge des Dampfabscheidungsmaterials 16, die größer
als dieselbe ist, die der Drehungsmenge entspricht, auf die Schale 41.
Lediglich das Drehen der Drehungsachse 35 um die Drehungsmenge,
die aus der notwendigen Menge berechnet wird, kann dementsprechend
einen Fehler erzeugen.
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Wie
im Vorhergehenden beschrieben ist, ist es, da die Steuerung 45 die
Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf der Schale 41 messen kann,
durch Drehen der Drehungsachse 35, während die
Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf der Schale 41 gemessen
wird, und dann Stoppen der Drehung vor dem Ende der Drehungsmenge,
die aus der notwendigen Menge berechnet wird, wenn ein gemessener
Wert die notwendige Menge erreicht, oder Erhöhen der Drehungsmenge,
wenn ein gemessener Wert die notwendige Menge selbst nach dem Ende
der Drehungsmenge, die der notwendigen Menge entspricht, nicht erreicht,
möglich, die notwendige Menge des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf
der Schale 41 exakt anzuordnen.
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Die
Verdampfungskammer 15 ist mit einem transparenten Fensterabschnitt 19 versehen.
Bei dieser Gelegenheit liegt die Verdampfungskammer 15 innerhalb
der Vakuumkammer 11, und ein Fensterabschnitt 4 ist
ferner an der Seitenwand der Vakuumkammer 11 bei einer
Position vorgesehen, die zu dem Fensterabschnitt 19 gewandt
ist, wenn jedoch mindestens ein Abschnitt, bei dem der Fensterabschnitt 19 gebildet
ist, außerhalb der Vakuumkammer 11 in der Verdampfungskammer 15 angeordnet
ist, ist es nicht notwendig, den Fensterabschnitt 4 bei
der Vakuumkammer 11 vorzusehen.
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Außerhalb
der Vakuumkammer 11 ist ein Lasergenerator 2,
der ein Wärmeerzeuger ist, angeordnet, und derselbe ist
derart aufgebaut, dass der Laserstrahl, der von dem Lasergenerator 2 emittiert wird,
durch die Fensterabschnitte 4, 19 geht, um das Dampfabscheidungsmaterial 16 auf
der Schale 41 zu bestrahlen und die Temperatur anzuheben.
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Zwischen
der Verdampfungskammer 15 und dem Dampfabscheidungsbehälter 21 ist
ein verbindendes Rohr 26 vorgesehen, und das verbindende Rohr 26 verbindet
innere Räume der Verdampfungskammer 15 und des
Dampfabscheidungsbehälters 21.
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Das
Ausstoßtor 24 ist an der Decke des Dampfabscheidungsbehälters 21 vorgesehen,
und dementsprechend ist der innere Raum der Verdampfungskammer 15 über
das verbindende Rohr 26, den Dampfabscheidungsbehälter 21 und
das Ausstoßtor 24 mit dem inneren Raum der Vakuumkammer 11 verbunden.
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Mit
der Vakuumkammer 11, der Verdampfungskammer 15 und
dem Dampfabscheidungsbehälter 21 ist das Evakuierungssystem 9 jeweils
verbunden, wobei das Evakuierungssystem 9 betrieben wird,
um den inneren Raum der Vakuumkammer 11, der Verdampfungskammer 15 und
des Dampfabscheidungsbehälters 21 zu evakuieren,
und, wenn eine Vakuumatmosphäre eines vorgeschriebenen Drucks
gebildet ist, wird die Evakuierung der Vakuumkammer 11 fortgesetzt,
die Evakuierung der Verdampfungskammer 15 und des Dampfabscheidungsbehälters 21 wird
jedoch gestoppt.
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Ein
organisches Material für eine organische EL-Schicht (wie
zum Beispiel ein Ladungsbeförderungsmaterial, ein Ladungserzeugungsmaterial
oder ein Elektronenbeförderungsmaterial) ist in der Zuführungskammer 31 als
das Dampfabscheidungsmaterial 16 angeordnet, und das Dampfabscheidungsmaterial 16 ist
auf der Schale 41 angeordnet.
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Während
die Evakuierung der Vakuumkammer 11 fortgesetzt wird, wird
ein Laserstrahl, der einer Absorptionswellenlänge des Dampfabscheidungsmaterials 16 entspricht,
von dem Lasergenerator 2 gestrahlt, um den Dampf des Dampfabscheidungsmaterials 16 zu
erzeugen.
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Für
den inneren Raum des verbindenden Rohrs 26 wird, da ein
Abschnitt (Verbindungstor) 38, der den kleinsten Durchmesser
hat, kleiner als die Querschnittsfigur der Verdampfungskammer 15 und des
Dampfabscheidungsbehälters 21 ist, ein Druckunterschied
zwischen der Verdampfungskammer 15 und dem Dampfabscheidungsbehälter 21 erzeugt, und
der Dampf, der die Verdampfungskammer 15 füllt,
wird durch den Dampfabscheidungsbehälter 21 gestrahlt.
Das verbindende Rohr 26 hat hier einen gleichmäßigen
inneren Durchmesser (wie zum Beispiel ein rostfreies Stahlrohr,
das einen inneren Durchmesser von 1 mm hat), und ein willkürlicher
Abschnitt in dem verbindenden Rohr 26 arbeitet als das Verbindungstor 38.
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Der
Dampf, der in den Dampfabscheidungsbehälter durch das Verbindungstor 38 eintritt,
wird in die Vakuumkammer durch das Ausstoßtor 24,
das an der Decke des Dampfabscheidungsbehälters 21 vorgesehen
ist, ausgestoßen, wenn derselbe in den Dampfabscheidungsbehälter 21 gefüllt
wird.
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Nach
der Stabilisierung des inneren Drucks des Dampfabscheidungsbehälters 21 und
der Stabilisierung der Dampfausstoßmenge von dem Ausstoßtor 24 werden
Substrate 6 kontinuierlich von der Beförderungsquelle
zu dem Beförderungsbestimmungsort befördert, und
dann wird ein Dünnfilm des organischen Materials während
eines Vorbeigehens oberhalb des Ausstoßtors 24 für
jeweilige Substrate 6 gebildet.
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Durch
Fortsetzen der Evakuierung der Vakuumkammer 11 und des
Wärmens des Dampfabscheidungsmaterials 16, während
kontinuierlich mehrere Substrate 6 von der Beförderungsquelle
zu dem Beförderungsbestimmungsort gesendet werden, wird ein
Dünnfilm kontinuierlich für mehrere Substrate 6 gebildet.
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Wenn
das Wärmen des Dampfabscheidungsmaterials 16 ohne
eine Nachfüllung des Dampfabscheidungsmaterials 16 und
ein Bilden eines Films für mehrere Substrate 6 fortgesetzt
wird, verringert sich das Dampfabscheidungsmaterial 16 auf
der Schale 41, und das Dampfabscheidungsmaterial 16 geht
aus, während ein Film für das Substrat 6 gebildet
wird, um das Substrat 6 als ein minderwertiges Erzeugnis
zu hinterlassen.
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Bei
der vorliegenden Erfindung wird, bevor das Dampfabscheidungsmaterial 16 ausgeht,
das Dampfabscheidungsmaterial 16 in einem Zustand nachgefüllt,
bei dem kein Substrat oberhalb der jeweiligen Ausstoßtore 24 existiert.
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Wenn
insbesondere die Position genau oberhalb des Ausstoßtors 24,
die am nächsten zu der Beförderungsquelle ist,
oder eine Position auf der Beförderungsquellenseite, die
von der Position genau oberhalb um meinen vorgeschriebenen Abstand
entfernt ist, als die Position eines Startens des Filmbildens eingestellt
wird, und die Position genau oberhalb des Ausstoßtors 24,
die am nächsten zu dem Beförderungsbestimmungsort
ist, oder eine Position auf der Beförderungszielseite,
die von der Position genau oberhalb um einen vorgeschriebenen Abstand entfernt
ist, als die Position eines Endens des Filmbildens eingestellt wird,
und durch Einstellen des Beförderungsintervalls zwischen
einem Substrat 6 und einem Substrat 6, um länger
als der Abstand zwischen der Position eines Startens des Filmbildens
und der Position eines Endens des Filmbildens zu sein, tritt ein
Zustand, bei dem kein Substrat 6 existiert, zwischen dem
Moment, wenn der hinterste Teil eines vorhergehenden Substrats in
der Beförderungsrichtung an der Position eines Endens der
Dünnfilmbildens vorbeigeht, und dem Moment, wenn der Kopf eines
anschließenden Substrats 6 in der Beförderungsrichtung
die Position eines Startens des Filmbildens erreicht, mindestens
zwischen der Position genau oberhalb des Ausstoßtors 24 auf
der äußersten Beförderungsquellenseite
und der Position genau oberhalb des Ausstoßtors 24 auf
der äußersten Beförderungsbestimmungsortseite,
auf.
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Wenn
das Dampfabscheidungsmaterial 16 nachgefüllt wird,
während das Dampfabscheidungsmaterial 16 auf der
Schale 41 gewärmt wird, erhöht sich die
Verdampfungsmenge in dem Moment der Nachfüllung, um die
Ausstoßmenge von dem Ausstoßtor 24 für
einen kurzen Zeitraum zu erhöhen, jedoch existiert durch
Nachfüllen des Dampfabscheidungsmaterials 16 zwischen
dem Moment, wenn der hinterste Teil eines vorhergehenden Substrats
in der Beförderungsrichtung an der Position eines Endens des
Filmbildens vorbeigeht, und dem Moment, wenn der Kopf eines anschließenden
Substrats 6 in der Beförderungsrichtung die Position
eines Startens des Filmbildens erreicht, kein Substrat 6 oberhalb
jeweiliger Ausstoßtore 24 während des
Nachfüllens des Dampfabscheidungsmaterials 16,
und daher tritt keine Unebenheit der Dickenverteilung zwischen den Substraten 6 auf.
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Eine
spezifischere Erläuterung des Verfahrens zum Nachfüllen
des Dampfabscheidungsmaterials 16 ist wie folgt: vorher
Bestimmen der Zahl von Substraten 6, die dem Filmbilden
bei einer Nachfüllung zu unterwerfen sind, Berechnen der
Menge des Dampfabscheidungsmaterials 16, das zum Bilden von
Filmen für die Substrate 6 in dieser Zahl notwendig
ist, Bestimmen eines größeren Werts als die Menge
als den Bezugswert, vorangehendes Eingeben der Zahl von Substraten 6,
die dem Filmbilden zu unterwerfen sind, bei einer Nachfüllung
und des Bezugswerts zu der Steuerung 45.
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Die
Steuerung 45 zählt die Zahl von Substraten 6,
die an der Position eines Endens des Filmbildens vorbeigehen, und
misst die Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf der
Schale 41, um den gemessenen Wert mit dem Bezugswert bei
einem Zustand zu vergleichen, bei dem kein Substrat 6 oberhalb
jeweiliger Ausstoßtore 24 existiert, nachdem eine
vorangehend bestimmte Zahl von Substraten 6 an der Position
eines Endens des Filmbildens vorbeigegangen ist, und bevor ein anschließendes Substrat 6 die
Position eines Startens des Filmbildens erreicht.
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Bei
einem ersten Verfahren der vorliegenden Erfindung wird der gemessene
Wert mit dem Bezugswert verglichen, um den Unterschied zwischen
dem Bezugswert und dem gemessenen Wert zu erhalten, und das Dampfabscheidungsmaterial 16,
das dem Unterschied entspricht, wird nachgefüllt, bevor
ein anschließendes Substrat 6 die Position eines
Startens des Filmbildens erreicht, um die Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf
der Schale 41 bis hoch zu dem Bezugswert zu erhöhen.
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Bei
einem zweiten Verfahren der vorliegenden Erfindung wird der gemessene
Wert mit dem Bezugswert verglichen, und wenn der gemessene Wert nicht
kleiner als der Bezugswert ist, wird keine Nachfüllung
durchgeführt, selbst wenn eine vorbestimmte Zahl von Substraten 6 an
der Position eines Endens des Filmbildens vorbeigegangen ist, um
das Filmbilden für Substrate 6 einer anschließend
bestimmten Zahl durchzuführen. Der gemessene Wert wird
mit dem Bezugswert jeder vorbestimmten Zahl verglichen, und wenn
der gemessene Wert kleiner als der Bezugswert wird, wird das Dampfabscheidungsmaterial 16 derart
nachgefüllt, dass der gemessene Wert nicht kleiner als
der Bezugswert wird.
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In
beiden Fällen geht, da das Dampfabscheidungsmaterial 16 in
einer Menge angeordnet wird, die zum Bilden einer vorbestimmten
Zahl von Filmen notwendig ist, bevor das anschließende
Substrat 6 die Position eines Startens des Filmbildens
erreicht, ein Dampfabscheidungsmaterial 16 nicht aus, während
ein Film für ein Substrat 6 gebildet wird.
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Der
gemessene Wert kann unterdessen mit dem Bezugswert bei jeder gleichen
Zahl oder jeder unterschiedlichen Zahl verglichen werden. Wenn der Vergleich
bei jeder unterschiedlichen Zahl von Substraten durchgeführt
wird, wird ein Bezugswert bei jeder Zahl gefunden, und ein Wert,
der größer als eine für eine Zahl eines
Filmbildens ohne die Nachfüllung bei einem anschließenden
kontinuierlichen Filmbilden notwendige Menge ist, wird als der Bezugswert bestimmt.
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Die
Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf der Schale 41 kann
ferner gemessen werden, nachdem das Substrat 6 bei der
Position eines Endens des Filmbildens vorbeigegangen ist, oder bevor
das Substrat 6 bei der Position eines Endens des Filmbildens
vorbeigegangen ist, um durch eine Spekulation die Masse zu berechnen,
wenn das Substrat 6 an der Position eines Endens des Filmbildens
vorbeigeht.
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Die
vorliegende Erfindung misst schließlich die Masse des Dampfabscheidungsmaterials 16 auf der
Schale 41 in dem Zustand, bei dem kein Substrat 6 oberhalb
der jeweiligen Ausstoßtore existiert, und füllt
auf der Basis des gemessenen Werts das Dampfabscheidungsmaterial 16 in
dem Zustand nach, bei dem kein Substrat oberhalb der jeweiligen Ausstoßtore 24 existiert.
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Die
Nachfüllung des Dampfabscheidungsmaterials 16 kann
in einem Zustand durchgeführt werden, bei dem ein anschließendes
Substrat 6 auf einer Beförderungsquellenseite
von der Position eines Startens des Filmbildens gestoppt wird, um
die Position eines Startens des Filmbildens nicht zu erreichen,
oder, wenn das Intervall eines Beförderns des Substrats 6 lang
ist und die Nachfüllung des Dampfabscheidungsmaterials 16 endet,
bevor ein anschließendes Substrat 6 die Position
eines Startens des Filmbildens erreicht, wobei das Dampfabscheidungsmaterial 16 nachgefüllt
werden kann, während die Substrate 6 befördert
werden.
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Die
im Vorhergehenden erwähnte Beschreibung bezieht sich auf
den Fall, bei dem der Lasergenerator 2 zum Wärmen
des Dampfabscheidungsmaterials 16 verwendet ist, die vorliegende
Erfindung ist jedoch nicht darauf begrenzt, und als eine Wärmevorrichtung
kann eine Vorrichtung zum Wärmen des Dampfabscheidungsbehälters 21 durch
ein Widerstandswärmeelement, das durch eine Leistungsversorgung
oder eine elektromagnetische Induktion Wärme erzeugt, eine
Vorrichtung zum Wärmen des Dampfabscheidungsbehälters 21 durch
Strahlen von Infrarotstrahlen, eine Vorrichtung zum Wärmen
des Dampfabscheidungsbehälters 21 durch eine Wärmeleitung
von einem Wärmemedium, das eine angehobene Temperatur hat,
eine Vorrichtung zum Wärmen durch einen Peltier-Effekt
und dergleichen verwendet sein.
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Da
jedoch der Laserstrahl nicht nur anorganische Materialien, sondern
ferner organische Materialien, wie zum Beispiel ein Monomer, Oligomer
oder Polymer, verdampfen kann, und zusätzlich Dampfabscheidungsmaterialien
mit einer kleinen Änderung der chemischen Zusammensetzung
verdampfen kann, ist derselbe besonders vorzuziehen.
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Da
ferner zerfallene Erzeugnisse des Dampfabscheidungsmaterials 16 und
Verunreinigungen unterschiedliche Absorptionswellenlängen
zu denselben einer Zielverbindung vor dem Zerfall haben, ist es
durch Auswählen eines Laserstrahls, der eine Wellenlänge
hat, die durch die Zielverbindung ohne Weiteres absorbiert wird,
möglich, lediglich die Zielverbindung selektiv zu verdampfen
und einen Dünnfilm zu bilden, der eine kleine gemischte
Menge von zerfallenen Erzeugnissen oder Verunreinigungen hat, selbst
wenn ein Teil des Dampfabscheidungsmaterials 16 zerfällt
oder Verunreinigungen gemischt werden.
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Durch
Nutzen eines Lasergenerators, der fähig ist, Laserstrahlen
von variabler Wellenlänge als der Lasergenerator 2 oszillieren
zu lassen, kann die Wellenlänge eines Laserstrahls, der
zu emittieren ist, entsprechend der Absorptionswellenlänge
des Dampfabscheidungsmaterials 16 ausgewählt sein, und
daher kann die Dampfabscheidungsvorrichtung 1 der vorliegenden
Erfindung zum Bilden von Filmen aus verschiedenen Dampfabscheidungsmaterialien 16 verwendet
werden.
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Die
Wellenlänge eines Laserstrahls ist nicht besonders begrenzt,
wenn jedoch das Dampfabscheidungsmaterial 16 beispielsweise
Polymer ist, liegt diese von 680 nm bis 10,6 μm. Ein Beispiel
des Lasergenerators 2 ist ein CO2-Laser,
der eine Apertur von 10 bis 20 μm hat.
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Bei
dem vorhergehenden Beispiel wird ein organischer Dünnfilm
durch die Dampfabscheidungsvorrichtung der vorliegenden Erfindung
gebildet, die Dampfabscheidungsvorrichtung der vorliegenden Erfindung
ist jedoch für ein Erzeugungsverfahren eines Verdampfens
eines Dampfabscheidungsmaterials, das sich durch ein langes Wärmen verschlechtert,
in einer Vakuumatmosphäre und eines allmählichen
Bildens eines Dünnfilms auf mehreren filmbildenden Objekten
geeignet, und ein Dampfabscheidungsmaterial, dessen Dampf in der
Verdampfungskammer 15 erzeugt wird, ist nicht auf eine organische
Verbindung begrenzt. Die Dampfabscheidungsvorrichtung der vorliegenden
Erfindung kann kurz gesagt zum Bilden von anorganischen Dünnfilmen
und Dünnfilmen aus zusammengesetzten Materialien zusätzlich
zu einem Bilden von Dünnfilmen aus organischen Verbindungen
verwendet sein.
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Da
der Dampf des Abscheidungsmaterials 16 abgeschieden wird,
wenn der Dampf gekühlt wird, ist das Vorsehen eines Wärmeerzeugers 28 mindestens
um das Verbindungstor 38 (ein verbindendes Rohr 26)
wünschenswert. Hier ist der Wärmeerzeuger 28 ferner
an der Verdampfungskammer 15 und dem Dampfabscheidungsbehälter 21 befestigt,
und durch Versorgen des Wärmeerzeugers 28 mit
Leistung, um die Verdampfungskammer 15, den Dampfabscheidungsbehälter 21 und
das verbindende Rohr 26 auf eine Temperatur, bei der keine
Abscheidung des Dampfes auftritt, zu wärmen, wird der Dampf nicht
innerhalb der Verdampfungskammer 15, dem Dampfabscheidungsbehälter 21 oder
dem verbindenden Rohr 26 abgeschieden.
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Ein
Erhöhen oder Verringern der Verdampfungsmenge des Dampfabscheidungsmaterials 16 ist durch
Anordnen eines Vakuummessfühlers 5 in dem Dampfabscheidungsbehälter 21,
jeweils Verbinden des Vakuummessfühlers 5 und
des Lasergenerators 2 mit der gleichen Steuerung 45,
mit der der Massenmesser 49 verbunden ist, oder mit unterschiedlichen Steuerungen,
Erhalten des Drucks innerhalb des Dampfabscheidungsbehälters 21 basierend
auf dem Signal, das von dem Vakuummessfühler 5 gesendet wird,
und Ändern der Strahlungszeit, der Pulszahl oder dergleichen
des Lasergenerators 2, derart, dass der Druck ein anvisierter
Druck wird, möglich.
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Bei
dieser Gelegenheit wird die Dampfmenge, die von dem Ausstoßtor 24 ausgestoßen
wird, stabil, jedoch erhöht sich, selbst bei einer Gelegenheit,
bei der der Lasergenerator 2 gesteuert wird, die Dampfausstoßmenge
sofort bei einem Nachfüllen des Dampfabscheidungsmaterials 16,
und daher wird das Dampfabscheidungsmaterial 16 wünschenswert
in einem Zustand nachgefüllt, bei dem kein Substrat 6 oberhalb
des Ausstoßtors 24 existiert.
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Es
ist ferner möglich, die Verdampfungskammer 15 und
die Zuführungsvorrichtung 30 außerhalb der
Vakuumkammer 11 anzuordnen. Bei dieser Gelegenheit ist
die Anordnung des Fensterabschnitts 4 an der Vakuumkammer 11 nicht
notwendig. Keine spezielle Begrenzung ist der Zahl von Verdampfungskammern 15,
die mit einem Dampfabscheidungsbehälter 21 verbunden
sind, auferlegt, und mehrere Verdampfungskammern 15 können über
das Verbindungstor 38 mit einem Dampfabscheidungsbehälter 21 verbunden
sein, um Dampf von mehreren Verdampfungskammern 15 dem
Dampfabscheidungsbehälter 21 zuzuführen.
Bei dieser Gelegenheit können Dampfe der gleichen Dampfabscheidungsmaterialien 16 von
den jeweiligen Verdampfungskammern 15 zugeführt
werden, oder Dampfe von unterschiedlichen Dampfabscheidungsmaterialien 16 können
zugeführt werden. Durch gleichzeitiges Zuführen
von Dämpfen von unterschiedlichen Dampfabscheidungsmaterialien 16 wird
ein Dünnfilm, der aus zwei oder mehreren Arten von Dampfabscheidungsmaterialien 16 zusammengesetzt
ist, gebildet.
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Die
im Vorhergehenden erwähnte Beschreibung bezieht sich auf
den Fall, bei dem das Evakuierungssystem 9 mit ferner der
Verdampfungskammer 15 und dem Dampfabscheidungsbehälter 21 verbunden
ist, die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht darauf begrenzt.
Durch lediglich Verbinden des Evakuierungssystems 9 mit
der Vakuumkammer 11, um das Innere der Vakuumkammer zu
evakuieren, ist es ferner möglich, über das Ausstoßtor 24 das
Innere des Dampfabscheidungsbehälters 21 zu evakuieren,
und ferner über das Verbindungstor 38 das Innere
der Verdampfungskammer 15 zu evakuieren. Entweder die Verdampfungskammer 15 oder
der Dampfabscheidungsbehälter 21 können
ferner mit dem Evakuierungssystem verbunden sein.
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Die
im Vorhergehenden erwähnte Beschreibung bezieht sich auf
den Fall, bei dem ein Ausstoßtor 24 vertikal hin
zu der oberen Richtung zeigt und zugelassen ist, dass sich das Substrat 6 oberhalb des
Ausstoßtors 24 bewegt, die vorliegende Erfindung
ist jedoch nicht auf dies begrenzt, und es ist beispielsweise ferner
möglich, zuzulassen, dass der Dampf die Oberfläche
des Substrats 6 erreicht, indem ein langer und schmaler
Dampfabscheidungsbehälter 21 derart eingestellt
wird, dass die lange Seite in die vertikale Richtung zeigt, und
die Substrate 6, die durch die Halter 10 in einem
vertikalen Zustand getragen sind, befördert werden, um
an der Position, die dem Ausstoßtor 24 zugewandt
ist, vorbeizugehen.
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Die
im Vorhergehenden erwähnte Beschreibung bezieht sich auf
den Fall, bei dem die Substrate 6 in einer Linie bei einer
Position, die zu dem Ausstoßtor 24 gewandt ist,
vorbeigehen, die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf dies
begrenzt, und die Erfindung weist ferner einen Fall auf, bei dem
zwei oder mehrere Beförderungswege gebildet sind und Substrate 6 in
zwei oder mehreren Linien vorbeigehen.
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ZUSAMMENFASSUNG
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Um
eine Dampfabscheidungsvorrichtung zu schaffen, die fähig
ist, einen organischen Dünnfilm zu bilden, ist bei der
Dampfabscheidungsvorrichtung (1) der vorliegenden Erfindung
eine Schale (41) in einer Verdampfungskammer (15)
angeordnet, und eine Zuführungsvorrichtung (30)
führt ein Dampfabscheidungsmaterial (16) auf die
Schale (41) zu. Die Schale (41) ist auf einen
Massemesser (49) gesetzt, der die Masse des Dampfabscheidungsmaterials
(16), das auf der Schale (41) angeordnet ist,
misst, und eine Steuerung (45) vergleicht den gemessenen
Wert mit einem Bezugswert, um zu veranlassen, dass die Zuführungsvorrichtung
(30) das Dampfabscheidungsmaterial (16) in einer
notwendigen Menge zuführt.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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