DE112008000234T5 - Vorgeformte Clip-Struktur - Google Patents
Vorgeformte Clip-Struktur Download PDFInfo
- Publication number
- DE112008000234T5 DE112008000234T5 DE112008000234T DE112008000234T DE112008000234T5 DE 112008000234 T5 DE112008000234 T5 DE 112008000234T5 DE 112008000234 T DE112008000234 T DE 112008000234T DE 112008000234 T DE112008000234 T DE 112008000234T DE 112008000234 T5 DE112008000234 T5 DE 112008000234T5
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- clip
- potting material
- preformed
- semiconductor chip
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49517—Additional leads
- H01L23/49524—Additional leads the additional leads being a tape carrier or flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L24/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/41—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of a plurality of strap connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/03—Manufacturing methods
- H01L2224/039—Methods of manufacturing bonding areas involving a specific sequence of method steps
- H01L2224/03912—Methods of manufacturing bonding areas involving a specific sequence of method steps the bump being used as a mask for patterning the bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37099—Material
- H01L2224/371—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/37138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/37147—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/40247—Connecting the strap to a bond pad of the item
- H01L2224/40249—Connecting the strap to a bond pad of the item the bond pad protruding from the surface of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/41—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of a plurality of strap connectors
- H01L2224/4101—Structure
- H01L2224/4103—Connectors having different sizes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/84801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/8485—Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19043—Component type being a resistor
Abstract
Verfahren mit folgenden Schritten:
Bereitstellen eines ersten Clips und eines zweiten Clips,
Formen eines Vergussmaterials um den ersten Clip, der eine erste Fläche aufweist, und um den zweiten Clip, der eine zweite Fläche aufweist,
wobei die erste Fläche der ersten Clipstruktur und die zweite Fläche der zweiten Clipstruktur durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen und wobei danach eine vorgeformte Clipstruktur gebildet wird.
Bereitstellen eines ersten Clips und eines zweiten Clips,
Formen eines Vergussmaterials um den ersten Clip, der eine erste Fläche aufweist, und um den zweiten Clip, der eine zweite Fläche aufweist,
wobei die erste Fläche der ersten Clipstruktur und die zweite Fläche der zweiten Clipstruktur durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen und wobei danach eine vorgeformte Clipstruktur gebildet wird.
Description
- Querbeziehungen auf verwandte Anmeldungen:
-
- Nicht zutreffend.
- Hintergrund der Erfindung
- Einige Halbleiterchip-Pakete benutzen Clips (Kontaktclips), um Verbindungen zwischen elektrischen Anschlüssen eines Halbleiterrohchips und einer Leitungsrahmenstruktur, die externe Verbindungen für solche Pakete darstellt, herzustellen. Clips werden in vielen Halbleiterchip-Paketen benutzt, die Leistungstransistoren wie Leistungs-MOSFETs enthalten.
- Beim Paketieren eines Halbleiterrohchips, der ein Leistungs-MOSFET enthält, kann der Halbleiterrohchip an einer Leitungsrahmenstruktur befestigt werden. Es kann ein Aufnahme- und Einsetzwerkzeug dazu verwendet werden, einen Source-Clip an einer Source-Region und einen Gate-Clip an einer Gate-Region des MOSFETs in dem Halbleiterrohchip zu befestigen. Ein übliches Aufnahme- und Einsetzwerkzeug ist so konstruiert, dass es zwei Vakuumöffnungen aufweist, von denen eine Vakuumöffnung dazu vorgesehen ist, den Source-Clip zu halten, und eine weitere Vakuumöffnung, um den Gate-Clip zu halten. Das Paket wird dann mit einem Vergussmaterial vergossen.
- Obgleich ein konventionelles Paketierverfahren wie dieses zum Paketieren eines Halbleiterrohchips angewendet werden könnte, können Verbesserungen vorgenommen werden. Beispielsweise wäre es wünschenswert, das oben beschriebene Verfahren dahingehend zu verbessern, dass die Verarbeitungseffizienz verbessert und die Kosten für die Verarbeitung reduziert werden. Werden zwei getrennte Clips an einem Rohchip angebracht, kann es außerdem beim Ausrichten der Clips gegenüber den Source- und Gate-Regionen im Halbleiterchip an der Übereinstimmung fehlen.
- Ausführungsformen der Erfindung richten sich einzeln und gemeinsam an diese und andere Probleme.
- Zusammenfassung der Erfindung
- Ausführungen der Erfindung sind auf vorgeformte Clip-Strukturen, Halbleiterchip-Pakete mit vorgeformten Clip-Strukturen und Verfahren zur Herstellung derselben gerichtet.
- Eine Ausführung der Erfindung ist auf ein Verfahren mit folgenden Schritten gerichtet: Bereitstellen eines ersten Clips und eines zweiten Clips, Formen eines Vergussmaterials um den ersten Clip, der eine erste Fläche aufweist, und um den zweiten Clip, der eine zweite Fläche aufweist, wobei die erste Fläche der ersten Clipstruktur und die zweite Fläche der zweiten Clipstruktur durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen und wobei danach eine vorgeformte Clipstruktur gebildet wird.
- Eine weitere Ausführung der Erfindung ist auf eine vorgeformte Clipstruktur mit folgenden Merkmalen gerichtet: einen ersten Clip mit einer ersten Fläche, einen zweiten Clip mit einer zweiten Fläche und ein mit dem ersten Clip und dem zweiten Clip verbundenes Vergussmaterial, wobei die erste Fläche und die zweite Fläche durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen.
- Eine weitere Ausführung der Erfindung ist auf ein Halbleiterchip-Paket mit folgenden Merkmalen gerichtet: eine vorgeformte Clipstruktur mit einem ersten Clip, der eine erste Fläche enthält, mit einem zweiten Clip, der eine zweite Fläche enthält, und mit einem mit dem ersten Clip und dem zweiten Clip verbundenen Vergussmaterial, wobei die erste Fläche und die zweite Fläche durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen; und ein Halbleiterrohchip, der eine erste Chipfläche und eine zweite Chipfläche sowie einen ersten elektrischen Anschluss und einen zweiten elektrischen Anschluss auf der ersten Chipfläche aufweist, wobei die erste Fläche elektrisch mit dem ersten Anschluss und die zweite Fläche elektrisch mit dem zweiten Anschluss verbunden ist.
- Diese und andere Ausführungsformen der Erfindung werden mit weiteren Details nachfolgend beschrieben.
- Kurzbeschreibung der Zeichnungen
-
1 zeigt einen Seitenquerschnitt eines Halbleiterchip-Pakets. -
2(a) zeigt eine Perspektivansicht einer vorgeformten Clipstruktur. -
2(b) zeigt eine schematisierte Seitenansicht eines Halbleiterrohchips mit einem Vertikal-MOSFET. -
3 zeigt eine Perspektivansicht eines Halbleiterchip-Pakets mit zwei Rohchips. -
4 zeigt eine Sicht von oben auf das Chip-Paket der3 . -
5 zeigt einen Abschnitt des Chip-Pakets der3 ohne eine Clipstruktur. -
6 –7 zeigen als Beispiel dienende Prozessabläufe. -
8 –9 zeigen Abschnitte einer Clipstruktur, die teilweise geätzt sein kann. -
10 zeigt ein Halbleiterchip-Paket gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung. - In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche Teile.
- Detaillierte Beschreibung
- Ausführungsformen der Erfindung sind auf vorgeformte Clipstrukturen, auf Verfahren zum Herstellen von vorgeformten Clipstrukturen, von Halbleiterchip- Paketen mit den vorgeformten Clipstrukturen und auf Verfahren zum Herstellen von Halbleiterchip-Paketen gerichtet.
- Die den Ausführungsformen der Erfindung entsprechenden vorgeformten Clipstrukturen ermöglichen es, dass simultan Gate- und Source-Verbindungen mit elektrischen Anschlüssen in einem einzigen Rohchip oder in mehreren Rohchips hergestellt werden können (z. B. mit einem Source-Anschluss und einem Gate-Anschluss), da Clips, die mit solchen Anschlüssen verbinden, mit einem Vergussmaterial zusammen vorgeformt werden. Das kann zu einheitlicheren Lötverbindungen führen, da die relative Position solcher Clips festgelegt wird und konsistent sein kann, bevor sie an dem Halbleiterrohchip befestigt werden.
- Bei einigen Ausführungsformen der Erfindung kann eine vorgeformte Clipstruktur mit lötfähigen Kontaktflächen hergestellt werden, die mit Hilfe eines Vergussprozesses oder mit Hilfe einer Kombination aus Vergießen und einem Prozess zum teilweisen Ätzen (z. B. Halbätzen) definiert werden, um eine Kompatibilität mit gestanzten Clipoptionen zu ermöglichen. Anders ausgedrückt, ein Teil- oder Halbätzprozess kann lötfähige Verbindungsstellen an vorbestimmten Orten definieren. Das kann zu einer optimalen RDS-Performance führen und kann den Fluss eines Vergussmaterials unter eine Clipverbindung erleichtern und dabei den Clipverbund innerhalb des Chip-Pakets verbessern. Prozesse zum Bonden von Clips, die die vorgeformte Clipstruktur verwenden, können vorteilhafterweise einen Aufnahme-und-Einsetz-Schritt vorsehen, um Verbindungen für einen einzelnen Rohchip oder für mehrere Rohchips zu schaffen.
- In einigen Ausführungsformen kann für die vorgeformte Clipstruktur ein Metallblech (z. B. aus Kupfer) von 0,203 mm (oder größer) verwendet werden, das entsprechend einem gewünschten Muster des lötfähigen Teils geätzt oder gestanzt sein kann, und dann kann ein Vergießen vorgenommen werden. In einigen Ausführungsformen kann die Gesamtdicke der vorgeformten Clipstruktur (einschließlich eines Vergussmaterials und von Clipstrukturen) bei etwa 0,3 mm oder mehr liegen. Eine einer Ausführungsform der Erfindung entsprechende vorgeformte Clipstruktur kann in jeder geeigneten Art von Halbleiterchip-Paket verwendet werden, eingeschlossen eine drahtlose MLP-Struktur (Microlead Package).
- Es ist auch möglich, für ein drahtloses MLP-Paket einen Cliprahmen zu konstruieren, so dass ein Matrixrahmen hoher Dichte entsteht (~ 400 Einheiten pro Streifen bei einer Rahmenbreite von 70 mm). Es ist also möglich, die Kosten für einen Cliprahmen zu senken und damit mögliche zusätzliche Kosten zu kompensieren, die durch zusätzliche Clipverguss- und Sägeprozesse entstehen. Ein weiterer Vorteil dieses Konzeptes besteht darin, dass es zum Erzeugen von Mehrfach-Chipmodulen (MCM) angepasst werden kann.
- Bei der Anwendung des Konzepts des vorgeformten Clips können außerdem Source- und Gate-Clipverbindungen auf einem Rahmen mit Hilfe eines Vergussprozesses definiert werden statt über das Auslegen von komplizierten Clipkonstruktionen.
- Konventionelle Clipkonstruktionen sind einzig für eine oder mehrere Vorrichtungen ausgelegt, und zwar mit nur dafür vorgesehenen Stanz- und Clipvereinzelungswerkzeugen. Bei Verwendung einer Vorform-Clipstruktur können jedoch hochdicht geätzte Rahmen entsprechend den gewünschten Anordnungsanforderungen gestaltet werden, wobei derselbe Vorformaufbau und dieselbe Sägevereinzelungsausrüstung benutzt werden.
- Bei konventionellen Clipkonstruktionen kann es schwierig sein, simultan Verbindungen an einem Rohchip herzustellen, und die Schwierigkeiten nehmen zu, wenn eine Mehrzahl von Chips bearbeitet wird. Bei vorgeformten Clipstrukturen können zwei oder mehr Chips in einem einzigen Schritt mit Clips verbunden werden.
- In
1 ist eine seitliche Ansicht als Querschnitt eines Halbleiterchip-Pakets100 gemäß einer Ausführungsform der Erfindung gezeigt. Das Paket100 umfasst einen Halbleiterrohchip110 , der an einer Leitungsrahmenstruktur124 befestigt ist, sowie ein drahtloses MLP-Paket. - Die Leitungsrahmenstruktur
124 umfasst einen Rohchip-Befestigungsabschnitt124(a) (bei dem es sich um eine Drain-Leitungsstruktur handeln kann), der eine Rohchip-Befestigungsfläche124(a)-1 nahe dem Rohchip110 enthält. Er ist elektrisch mit einem Drain in einem MOSFET im Rohchip110 gekoppelt. Eine äußere Leitungsrahmenfläche124(a)-2 kann gegenüber der Rohchip-Befestigungsfläche124(a)-1 angeordnet sein. Die Leitungsrahmenstruktur124 umfasst ebenso eine Source-Leitungsstruktur124(b) , die einen ersten Endabschnitt124(b)-1 , einen mittleren Abschnitt124(b)-2 und einen zweiten Endabschnitt124(b)-3 enthält. Die Abschnitte124(b)-1 ,124(b)-2 und124(b)-3 sind in einer Stufenkonfiguration angeordnet. - Die Leitungsrahmenstrukturen
124 können aus jedem geeigneten leitenden Material hergestellt sein, eingeschlossen beschichtete und unbeschichtete Metalle. Zu den geeigneten Materialien kann Kupfer gehören. - Das Halbleiterchip-Paket
100 enthält ebenfalls eine vorgeformte Clipstruktur130 . Die vorgeformte Clipstruktur130 umfasst einen ersten Clip118 und ein erstes Vergussmaterial128 um mindestens einen Abschnitt des ersten Clips118 . Das erste Vergussmaterial128 kann jedes geeignete Material enthalten, eingeschlossen ein Epoxidharz-Vergussmaterial. Der erste Clip118 und alle anderen Clips können aus jedem geeigneten Material hergestellt sein, eingeschlossen Kupfer. Der erste Clip118 und alle anderen Clips können beschichtet oder unbeschichtet ausgeführt sein. - Bei dem ersten Clip
118 kann es sich um einen Source-Clip handeln und er kann einen ersten Abschnitt118(a) enthalten, der elektrisch und mechanisch mit einer Source-Region des Halbleiterrohchips110 unter Verwendung eines leitenden Materials122 (z. B. eines leitenden Adhäsionsmaterials) wie Lötmittel oder leitendes Epoxidharz gekoppelt ist, sowie einen zweiten Abschnitt118(b) und einen mittleren Abschnitt118(c) . Der erste Abschnitt118(a) kann eine Rohchip-Befestigungsfläche118(a)-1 und eine gegenüberliegende Fläche118(a)-2 enthalten. Der zweite Abschnitt118(b) ist mechanisch und elektrisch mit der Source-Leitungsstruktur124 gekoppelt, wozu ein leitendes Adhäsionsmaterial129 wie Lötmittel oder ein leitendes Epoxidharz verwendet wird. Der zweite Abschnitt118(b) kann eine Leitungsbefestigungsfläche118(b)-1 und eine gegenüberliegende Fläche118(b)-2 enthalten. - Der mittlere Abschnitt
118(c) ist zwischen dem ersten Abschnitt118(a) und dem zweiten Abschnitt118(b) des ersten Clips118 angeordnet. Der mittlere Abschnitt118(c) kann mit Hilfe eines Ätzprozesses ausgebildet worden sein und ist darum dünner als der erste Abschnitt118(a) und der zweite Abschnitt118(b) des ersten Clips118 . Der erste Clip118 weist mehrere teilweise abgeätzte Bereiche118(d) auf (die manchmal als „Halbätzung” bezeichnet werden, wenn etwa die Hälfte der Dicke des Clips weggeätzt wurde). Wie in1 dargestellt ist, füllt das Vergussmaterial128 die Bereiche aus, die weggeätzt wurden, um den ersten Clip118 in das Vergussmaterial128 fest einzubinden. - Ein zweites Vergussmaterial
114 , bei dem es sich um das gleiche Material wie bei dem Vergussmaterial128 der vorgeformten Clipstruktur130 oder um ein anderes Vergussmaterial handeln kann, kann einen Teil oder die gesamte vorgeformte Clipstruktur130 sowie den Halbleiterrohchip110 abdecken. Das zweite Vergussmaterial114 kann ebenfalls einen Abschnitt der Leitungsrahmenstruktur124 abdecken. Da das zweite Vergussmaterial114 und das erste Vergussmaterial128 in getrennten Prozessen geformt werden, kann in einigen Ausführungsformen zwischen dem ersten Vergussmaterial128 und dem zweiten Vergussmaterial114 eine Schnittstelle gebildet werden. - Wie in
1 gezeigt ist, erstreckt sich in diesem Beispiel das zweite Vergussmaterial114 nicht über die seitlichen Ränder der Drain-Leitungsstruktur124(a) und der Source-Leitungsstruktur124 hinaus. (In anderen Ausführungsformen könnten die Pakete Leitungen enthalten, die sich über die seitlichen Ränder des zweiten Vergussmaterials114 hinaus erstrecken.) Ebenso sind die Fläche124(a)-2 und die äußere Fläche, die dem zweiten Endabschnitt124(b)-3 entspricht, frei von dem zweiten Vergussmaterial114 . Die exponierten Flächen können mit leitenden Anschlussflächen eines Schaltkreissubstrats (nicht gezeigt) wie einer Schaltungsplatine verbunden werden. -
2(a) zeigt die Unterseite der vorgeformten Clipstruktur130 . Die Querschnittansicht des vorgeformten Clips in1 kann als entlang der Linie P-P gesehen angenommen werden. Wie in2(a) dargestellt, sind die Clip-Befestigungsfläche118(a)-1 des ersten Clips118 und die Leitungsbefestigungsfläche118(b)-1 des ersten Clips durch das Vergussmaterial128 hindurch offenliegend. -
2(a) zeigt ebenfalls eine Clip-Befestigungsfläche136(a)-1 und eine Leitungsbefestigungsfläche136(b)-1 , die einem zweiten Clip136 entsprechen, bei dem es sich um einen Gate-Clip handeln kann. Der zweite Clip136 kann eine Gate-Leitung in der bereits beschriebenen Leitungsrahmenstruktur und eine Gate-Region in dem bereits beschriebenen Rohchip elektrisch verbinden, wozu ein leitendes Adhäsionsmaterial wie Lötmittel oder ein leitendes Epoxidharz verwendet wird. Wie der erste Clip118 kann auch der zweite Clip136 einen ersten Abschnitt enthalten, der die Rohchip-Befestigungsfläche136(a)-1 umfasst, einen zweiten Abschnitt, der die Leitungsbefestigungsfläche136(b)-1 umfasst, und einen mittleren Abschnitt (bedeckt vom Vergussmaterial128 ), der dünner ist als der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt. - Im vorgeformten Clip
130 sind der erste Clip118 und der zweite Clip136 durch das Vergussmaterial128 voneinander getrennt und elektrisch isoliert. Das Vergussmaterial128 hält den ersten Clip118 und den zweiten Clip136 zusammen, so dass der erste Clip118 und der zweite Clip136 in einem Schritt und unter Verwendung eines Vakuumwerkzeugelements mit einer Vakuumöffnung auf einer entsprechenden Source-Region und einer entsprechenden Gate-Region eines Halbleiterrohchips angebracht werden können. Das unterscheidet sich von konventionellen Prozessen, bei denen getrennte Vakuumöffnungen für einen einzelnen ersten Clip und einen davon getrennten zweiten Clip erforderlich wären. Daraus folgt, dass Ausführungsformen der Erfindung eine effizientere Verarbeitung bieten und ebenfalls eine genauere Ausrichtung von erstem und zweitem Clip118 ,136 bei der Befestigung an einem Halbleiterrohchip, weil sie während des Bondens bereits in ihrer relativen Position zueinander festgelegt sind. -
2(b) zeigt einen schematisierten Querschnitt eines Rohchips mit einem Vertikal-Leistungs-MOSFET. Der Rohchip110 enthält eine Source-Region S und eine Gate-Region G an einer Fläche des Rohchips118 sowie eine Drain-Region D an der gegenüberliegenden Fläche des Rohchips110 . - Vertikale Leistungstransistoren schließen VDMOS-Transistoren und vertikale bipolare Transistoren ein. Ein VDMOS-Transistor ist ein MOSFET, der zwei oder mehr Halbleiterregionen hat, die durch Diffusion gebildet werden. Er hat eine Source-Region, eine Drain-Region und ein Gate. Das Bauelement ist insofern vertikal, als die Source-Region und die Drain-Region auf einander gegenüberliegenden Flächen des Halbleiterrohchips angeordnet sind. Bei dem Gate kann es sich um eine Trench-Gate-Struktur handeln oder um eine plane Gate-Struktur, und sie ist an derselben Fläche wie die Source-Region ausgebildet. Trench-Gate-Strukturen werden bevorzugt, weil Trench-Gate-Strukturen schmäler sind und weniger Raum einnehmen als plane Gate-Strukturen. Im Betrieb verläuft der Stromfluss von der Source-Region zur Drain-Region in einem VDMOS-Bauelement im Wesentlichen senkrecht zu den Chipoberflächen. In Ausführungsformen der Erfindung könnten die Halbleiterrohchips alternativ andere vertikale Bauelemente wie Widerstände und auch bipolare Flächentransistoren enthalten.
-
3 zeigt eine Perspektivansicht eines Halbleiterchip-Pakets200 mit zwei Rohchips210 in einem einzigen Paket. Das Halbleiterchip-Paket200 enthält zwei erste Clips218 und zwei zweite Clips236 . Bei den beiden ersten Clips kann es sich um Source-Clips handeln, die mit Source-Regionen in den Halbleiterrohchips210 gekoppelt sind. Die beiden zweiten Clips236 können Gate-Clips sein, die mit den Gate-Regionen in den Halbleiterrohchips210 gekoppelt sind. Die Halbleiterrohchips210 können auf einer Leitungsrahmenstruktur224 angebracht sein. - Ein erstes Vergussmaterial
228 kann die ersten Clips218 und die zweiten Clips236 zusammenkoppeln, und sie können eine vorgeformte Clipstruktur230 bilden. Aus Gründen der Übersichtlichkeit der Darstellung ist in3 kein zweites Vergussmaterial gezeigt. Obgleich in diesem Beispiel zwei Rohchips und zwei Clips pro Rohchip gezeigt sind, sind selbstverständlich auch Ausführungsformen der Erfindung möglich, die mehr als zwei Rohchips und/oder mehr als zwei Clips pro Rohchip enthalten. -
4 zeigt eine Ansicht von oben auf das Chip-Paket200 der3 . -
5 zeigt eine Perspektivansicht des Halbleiterchip-Pakets nach3 ohne die vorgeformte Clipstruktur230 auf den Rohchips210 . In5 sind leitende Adhäsionsmaterialien228 ,222(g) und222(s) dargestellt. Sie können ein leitendes Adhäsionsmaterial222(g) auf einer Gate-Region und einen leitendes Adhä sionsmaterial222(s) auf einer Source-Region des Halbleiterrohchips210 enthalten. -
6 zeigt ein Flussdiagramm, das ein einer Ausführungsform der Erfindung entsprechendes Verfahren illustriert. In einem Rohchip-Befestigungsprozess kann zum Befestigen eines Halbleiterrohchips an einer Leitungsrahmenstruktur Lötpaste (oder Lötdraht) verwendet werden (Schritt502 ). Dann kann Lötpaste auf die der Leitungsrahmenstruktur gegenüber liegenden Fläche des Halbleiterrohchips aufgebracht oder im Siebdruck aufgetragen werden (Schritt504 ). Danach kann die bereits beschriebene vorgeformte Clipstruktur an dem Halbleiterrohchip befestigt werden (Schritt506 ). - In einem getrennten Prozess kann der Vorformprozess des Clips (Schritt
501 ) unter Verwendung des bereits beschriebenen ersten Vergussmaterials und des ersten und zweiten Clips durchgeführt werden. Der erste und zweite Clip können sich in einer Anordnung von Clips befinden. Nach dem Formen der vorgeformten Clipstrukturen zu einer Anordnung können die vorgeformten Clipstrukturen durch Sägen oder auf andere Weise voneinander getrennt werden (Schritt503 ). - Nachdem eine abgetrennte vorgeformte Clipstruktur an dem Halbleiterrohchip befestigt ist, kann ein Reflow-Prozess und wahlweise ein Reinigungsprozess mit einem Flussmittel durchgeführt werden (Schritte
508 ,510 ). Danach wird unter Verwendung eines Formwerkzeugs ein Blockvergussprozess durchgeführt (Schritt512 ). Während dieses Schrittes wird ein zweites Vergussmaterial um mindestens einen Abschnitt des Rohchips, der Leitungsrahmenstruktur und die vorgeformte Clipstruktur geformt (Schritt512 ). Danach werden eine Streifenmarkierung, das Zersägen des Pakets und Testprozesse durchgeführt (Schritte514 ,516 ,518 ). -
7 zeigt ein weiteres Flussdiagramm, das ein weiteres, einer Ausführungsform der Erfindung entsprechendes Verfahren illustriert. Die Schritte in7 und6 sind gleich, außer dass ein zusätzlicher Schritt des partiellen Abätzens von exponiertem Kupfer gezeigt wird (Schritt507 ). Dieser zusätzliche Schritt kann weitergehend mit Bezug auf die8 und9 beschrieben werden. - In den
8 und9 wird gezeigt, wie Kupferclips in vorgeformten Clipstrukturen330 , die ein erstes Vergussmaterial328 enthalten, wahlweise mit metallischen Materialien354 wie Edelmetallen oder Edelmetalle enthaltenden Kompositschichten (z. B. NiPdAu) beschichtet werden können. Die exponierten nackten Kupferflächen352 werden später teilweise oder als Halbätzung abgeätzt, um spezifische Lötflächen (wie in8 ) oder spezifische Lötsockel auf dem Clip (wie in9 ) zu schaffen. Die nackten Kupferflächen352 werden nach dem Ätzen vertieft. Die beschichteten NiPdAu-Flächen354 ragen nach dem Ätzen aus den nackten Kupferflächen352 vor. Die geätzten Kupferflächen352 können einen Fluss der Vergusszusammensetzung unter die Clipstrukturen330 verbessern und den Clipeinschluss während des zweiten, des Blockvergussprozesses mit dem zweiten Vergussmaterial, verbessern (Schritt512 in6 –7 ). Die8 und9 zeigen auch Verbindungsstücke (tie bars)350 , die Pfade für flüchtige Stoffe bilden und die Gasabgabe aus der Lötpaste während des Lötprozesses erleichtern können. -
10 zeigt eine Querschnittansicht von der Seite auf ein Halbleiterchip-Paket wie es in1 gezeigt ist. In10 erstreckt sich jedoch das zweite Vergussmaterial114 nicht über die Oberfläche hinaus (einschließlich Oberflächen118(a)-2 ,118(b)-2 ) des ersten Clips118 sowie eines zweiten Clips (nicht gezeigt). Die Option mit exponierter Oberseite kann für den Vergussprozess einen Film oder ein klebendes Band zur Hilfe nehmen, die oben und unten auf Flächen angebracht werden, die nicht mit Vergussmaterial versehen werden sollen. Mit dem Vergussprozess kann sichergestellt werden, dass sich kein Vergussmaterial auf exponierte Stellen ausbreitet. Im Vergleich zu dem in1 dargestellten Paket ist das in10 gezeigte Paket dünner und es kann ein Wärmeableiter oben auf der vorgeformten Clipstruktur130 angeordnet sein, um eine verbesserte Wärmeableitung zu bieten. - Die oben beschriebenen vorgeformten Clipstrukturen und Halbleiterchip-Pakete können in größeren Modulen und Systemen verwendet werden. Zu solchen Systemen können Mobiltelefone, Computer, Server usw. gehören.
- Jede der oben beschriebenen Ausführungsformen und/oder alle Merkmale daraus können mit jeder anderen Ausführungsform bzw. allen anderen Ausführungs formen und/oder jedem anderen Merkmal bzw. allen anderen Merkmalen kombiniert werden, ohne sich vom Geist der Erfindung zu entfernen.
- Die obige Beschreibung dient der Illustration und ist nicht einschränkend. Fachleuten auf diesem Gebiet werden bei der Durchsicht der Beschreibung viele Variationsmöglichkeiten der Erfindung auffallen. Der Bereich der Erfindung sollte darum nicht durch Bezug auf die obige Beschreibung, sondern stattdessen durch Bezug auf die schwebenden Ansprüche in ihrem vollen Bereich oder äquivalente Bereiche bestimmt werden.
- Die Angabe von „ein”, „eine” oder „der, die das” soll „ein oder mehr” bedeuten, wenn nicht ausdrücklich das Gegenteil angegeben ist.
- Zusammenfassung
- Ein Verfahren zur Herstellung einer vorgeformten Clipstruktur wird offenbart. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen eines ersten Clips und eines zweiten Clips und ein Formen eines Vergussmaterials um den ersten Clip, der eine erste Fläche aufweist, und um den zweiten Clip, der eine zweite Fläche aufweist. Die erste Fläche der ersten Clipstruktur und die zweite Fläche der zweiten Clipstruktur liegen durch das Vergussmaterial hindurch offen, wobei anschließend eine vorgeformte Clipstruktur gebildet wird.
Claims (20)
- Verfahren mit folgenden Schritten: Bereitstellen eines ersten Clips und eines zweiten Clips, Formen eines Vergussmaterials um den ersten Clip, der eine erste Fläche aufweist, und um den zweiten Clip, der eine zweite Fläche aufweist, wobei die erste Fläche der ersten Clipstruktur und die zweite Fläche der zweiten Clipstruktur durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen und wobei danach eine vorgeformte Clipstruktur gebildet wird.
- Verfahren nach Anspruch 1, weiter gekennzeichnet durch Befestigen der vorgeformten Clipstruktur an einem Halbleiterrohchip.
- Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Halbleiterrohchip eine Source-Region und eine Gate-Region aufweist, dass der erste Clip ein Source-Clip ist, der elektrisch mit der Source-Region gekoppelt ist, und der zweite Clip ein Gate-Clip ist, der elektrisch mit der Gate-Region gekoppelt ist.
- Vorgeformte Clipstruktur, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 1.
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Clipstruktur eine dritte Fläche hat, die der ersten Fläche gegenüber liegt, dass die zweite Clipstruktur eine vierte Fläche hat, die der zweiten Fläche gegenüber liegt, und dass die dritte Fläche und die vierte Fläche ebenfalls durch das Vergussmaterial offenliegen.
- Verfahren nach Anspruch 1, weiter gekennzeichnet durch Befestigen der vorgeformten Clipstruktur an einem Halbleiterrohchip und Befestigen des Halbleiterrohchips an einer Leitungsrahmenstruktur.
- Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Vergussmaterial ein erstes Vergussmaterial ist und das Verfahren weiter das Vergießen eines zweiten Vergussmaterials um die Leitungsrahmenstruktur, die vorgeformte Clipstruktur und den Halbleiterrohchip einschließt, um ein Halbleiterchip-Paket zu bilden.
- Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Halbleiterchip-Paket ein MLP-Paket ist.
- Halbleiterchip-Paket, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 7.
- Halbleiterchip-Paket, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 8.
- Vorgeformte Clipstruktur mit folgenden Merkmalen: einen ersten Clip mit einer ersten Fläche, einen zweiten Clip mit einer zweiten Fläche und ein mit dem ersten Clip und dem zweiten Clip verbundenes Vergussmaterial, wobei die erste Fläche und die zweite Fläche durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen.
- Vorgeformte Clipstruktur nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Clip ein Source-Clip ist und der zweite Clip ein Gate-Clip ist.
- Halbleiterchip-Paket mit folgenden Merkmalen: eine vorgeformte Clipstruktur mit einem ersten Clip, der eine erste Fläche enthält, mit einem zweiten Clip, der eine zweite Fläche enthält und mit einem mit dem ersten Clip und dem zweiten Clip verbundenen Vergussmaterial, wobei die erste Fläche und die zweite Fläche durch das Vergussmaterial hindurch offenliegen; und einem Halbleiterrohchip, der eine erste Chipfläche und eine zweite Chipfläche sowie einen ersten elektrischen Anschluss und einen zweiten elektrischen Anschluss auf der ersten Chipfläche aufweist, wobei die erste Fläche elektrisch mit dem ersten Anschluss und die zweite Fläche elektrisch mit dem zweiten Anschluss verbunden ist.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 13, weiter gekennzeichnet durch eine Leitungsrahmenstruktur, wobei sich der Rohchip auf der Leitungsrahmenstruktur befindet.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Paket ein MLP-Paket ist.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Halbleiterrohchip ein Vertikal-MOSFET ist.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Vergussmaterial ein erstes Vergussmaterial ist und das Halbleiterchip-Paket weiter ein zweites Vergussmaterial um mindestens einen Teil des Halbleiterrohchips, die vorgeformte Clipstruktur und die Leitungsrahmenstruktur einschließt.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Vergussmaterial die gleiche Art von Vergussmaterial ist wie das erste Vergussmaterial.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Leitungsrahmenstruktur Kupfer enthält.
- Halbleiterchip-Paket nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Halbleiterchip-Paket ein MLP-Paket ist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/626,503 | 2007-01-24 | ||
US11/626,503 US7768105B2 (en) | 2007-01-24 | 2007-01-24 | Pre-molded clip structure |
PCT/US2008/050753 WO2008091742A2 (en) | 2007-01-24 | 2008-01-10 | Pre-molded clip structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE112008000234T5 true DE112008000234T5 (de) | 2010-01-07 |
Family
ID=39640437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE112008000234T Withdrawn DE112008000234T5 (de) | 2007-01-24 | 2008-01-10 | Vorgeformte Clip-Struktur |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US7768105B2 (de) |
CN (1) | CN101595560B (de) |
DE (1) | DE112008000234T5 (de) |
MY (2) | MY163758A (de) |
TW (1) | TWI441299B (de) |
WO (1) | WO2008091742A2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112015002815B4 (de) | 2014-06-13 | 2022-06-15 | Rohm Co., Ltd. | Leistungsmodul und Herstellungsverfahren dafür |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8106501B2 (en) * | 2008-12-12 | 2012-01-31 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package including low stress configuration |
US7768105B2 (en) | 2007-01-24 | 2010-08-03 | Fairchild Semiconductor Corporation | Pre-molded clip structure |
US7683463B2 (en) * | 2007-04-19 | 2010-03-23 | Fairchild Semiconductor Corporation | Etched leadframe structure including recesses |
US7972906B2 (en) * | 2008-03-07 | 2011-07-05 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package including exposed connections |
US7969018B2 (en) * | 2008-07-15 | 2011-06-28 | Infineon Technologies Ag | Stacked semiconductor chips with separate encapsulations |
US7898067B2 (en) * | 2008-10-31 | 2011-03-01 | Fairchild Semiconductor Corporaton | Pre-molded, clip-bonded multi-die semiconductor package |
US8193618B2 (en) | 2008-12-12 | 2012-06-05 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package with clip interconnection |
US7816784B2 (en) * | 2008-12-17 | 2010-10-19 | Fairchild Semiconductor Corporation | Power quad flat no-lead semiconductor die packages with isolated heat sink for high-voltage, high-power applications, systems using the same, and methods of making the same |
US20100164078A1 (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Ruben Madrid | Package assembly for semiconductor devices |
EP2242094A1 (de) * | 2009-04-17 | 2010-10-20 | Nxp B.V. | Folie und Verfahren für eine Verbindung auf Basis dieser Folie sowie ein daraus resultierendes Gehäuse |
US8354303B2 (en) * | 2009-09-29 | 2013-01-15 | Texas Instruments Incorporated | Thermally enhanced low parasitic power semiconductor package |
US20110084332A1 (en) * | 2009-10-08 | 2011-04-14 | Vishay General Semiconductor, Llc. | Trench termination structure |
US20110095410A1 (en) * | 2009-10-28 | 2011-04-28 | Fairchild Semiconductor Corporation | Wafer level semiconductor device connector |
US20110095417A1 (en) * | 2009-10-28 | 2011-04-28 | Fairchild Semiconductor Corporation | Leadless semiconductor device terminal |
CN102842549B (zh) * | 2012-08-23 | 2015-12-16 | 苏州固锝电子股份有限公司 | 四方扁平无引脚的功率mosfet封装体 |
CN102842550B (zh) * | 2012-08-23 | 2015-12-16 | 苏州固锝电子股份有限公司 | 功率mosfet芯片的dfn封装结构 |
CN102842548A (zh) * | 2012-08-23 | 2012-12-26 | 苏州固锝电子股份有限公司 | 四方扁平型功率mos芯片封装结构 |
JP5970316B2 (ja) | 2012-09-26 | 2016-08-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US9478484B2 (en) | 2012-10-19 | 2016-10-25 | Infineon Technologies Austria Ag | Semiconductor packages and methods of formation thereof |
US9070721B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-06-30 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor devices and methods of making the same |
CN103208474A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-07-17 | 苏州固锝电子股份有限公司 | 四方扁平型高功率芯片封装结构 |
US9041170B2 (en) * | 2013-04-02 | 2015-05-26 | Infineon Technologies Austria Ag | Multi-level semiconductor package |
US9214415B2 (en) | 2013-04-11 | 2015-12-15 | Texas Instruments Incorporated | Integrating multi-output power converters having vertically stacked semiconductor chips |
JP6147588B2 (ja) * | 2013-07-01 | 2017-06-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
WO2015076960A1 (en) * | 2013-11-21 | 2015-05-28 | United Technologies Corporation | Method to integrate multiple electric circuits into organic matrix composite |
US9385111B2 (en) * | 2013-11-22 | 2016-07-05 | Infineon Technologies Austria Ag | Electronic component with electronic chip between redistribution structure and mounting structure |
JP2015142072A (ja) | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US9171788B1 (en) * | 2014-09-30 | 2015-10-27 | Alpha And Omega Semiconductor Incorporated | Semiconductor package with small gate clip and assembly method |
US10796986B2 (en) * | 2016-03-21 | 2020-10-06 | Infineon Technologies Ag | Leadframe leads having fully plated end faces |
TWM544108U (zh) * | 2017-01-20 | 2017-06-21 | Taiwan Semiconductor Co Ltd | 集成式封裝結構 |
US10121742B2 (en) * | 2017-03-15 | 2018-11-06 | Amkor Technology, Inc. | Method of forming a packaged semiconductor device using ganged conductive connective assembly and structure |
DE212018000086U1 (de) * | 2017-03-28 | 2019-06-17 | Rohm Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung |
US10727151B2 (en) * | 2017-05-25 | 2020-07-28 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor chip package having a cooling surface and method of manufacturing a semiconductor package |
KR20190071111A (ko) * | 2017-12-14 | 2019-06-24 | 삼성전자주식회사 | 엑스선 검사 장비 및 이를 이용하는 반도체 장치 제조 방법 |
US11088046B2 (en) * | 2018-06-25 | 2021-08-10 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor device package with clip interconnect and dual side cooling |
IT201800020998A1 (it) | 2018-12-24 | 2020-06-24 | St Microelectronics Srl | Procedimento per fabbricare dispositivi a semiconduttore e dispositivo a semiconduttore corrispondente |
US10964629B2 (en) | 2019-01-18 | 2021-03-30 | Texas Instruments Incorporated | Siderail with mold compound relief |
CN110190004A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-30 | 山东海声尼克微电子有限公司 | 一种用于大电流电源模块键合的焊接工艺 |
CN110211887A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-09-06 | 山东海声尼克微电子有限公司 | 一种用于大电流电源模块引线键合的锁料孔铜片焊接工艺 |
CN110416101A (zh) * | 2019-08-07 | 2019-11-05 | 深圳市顺益微电子有限公司 | 用烧结银浆作为粘接剂的电源模块铜片焊接工艺 |
US11158567B2 (en) | 2019-08-09 | 2021-10-26 | Texas Instruments Incorporated | Package with stacked power stage and integrated control die |
US11715679B2 (en) | 2019-10-09 | 2023-08-01 | Texas Instruments Incorporated | Power stage package including flexible circuit and stacked die |
US11302615B2 (en) | 2019-12-30 | 2022-04-12 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor package with isolated heat spreader |
US11239127B2 (en) * | 2020-06-19 | 2022-02-01 | Infineon Technologies Ag | Topside-cooled semiconductor package with molded standoff |
TWI727861B (zh) * | 2020-07-23 | 2021-05-11 | 朋程科技股份有限公司 | 晶片封裝結構及其製造方法 |
US11652078B2 (en) | 2021-04-20 | 2023-05-16 | Infineon Technologies Ag | High voltage semiconductor package with pin fit leads |
KR20230131024A (ko) * | 2022-03-04 | 2023-09-12 | 현대자동차주식회사 | 차량용 파워 모듈 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (89)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2256493A (en) * | 1934-04-13 | 1941-09-23 | Budd Edward G Mfg Co | Rail car front end construction |
US2108203A (en) * | 1935-09-26 | 1938-02-15 | New York Central Railroad Co | Streamlined locomotive and tender and vestibule curtain structure therefor |
US2148078A (en) * | 1935-09-26 | 1939-02-21 | New York Central Railroad Co | Streamline locomotive and tender |
US3934922A (en) * | 1974-09-05 | 1976-01-27 | Aerovironment Inc. | Aerodynamic drag reduction devices for surface vehicles |
US4257640A (en) * | 1975-12-16 | 1981-03-24 | Rudkin-Wiley Corporation | Drag reducer for land vehicles |
US4030779A (en) * | 1976-03-18 | 1977-06-21 | Johnson David W | Inflatable streamlining structure for vehicles |
US4210354A (en) * | 1978-02-06 | 1980-07-01 | Canning Robert B | Aerodynamic drag-reducing shield for mounting on the front of a cargo carrying compartment of a road vehicle |
FR2467132B1 (fr) * | 1979-10-08 | 1985-08-16 | Levassor Jean | Dispositif antiremous pour vehicule tracteur |
US4441751A (en) * | 1980-11-24 | 1984-04-10 | Wesley William M | Collapsible high speed extension for motor vehicles |
US4738203A (en) * | 1984-02-27 | 1988-04-19 | Pullman Standard, Inc. | Aerodynamically structured railway car with corner, air flow guides |
US4746160A (en) * | 1986-06-30 | 1988-05-24 | Wiesemeyer Robert L | Streamlined truck with semitrailer |
US4756256A (en) * | 1986-07-30 | 1988-07-12 | Gunderson, Inc. | Aerodynamic drag reduction for railcars |
US4909154A (en) * | 1989-02-27 | 1990-03-20 | Aero Transportation Products, Inc. | Aerodynamic end closures for railway hopper cars |
US5222438A (en) * | 1992-07-17 | 1993-06-29 | Grumman Aerospace Corporation | Aerodynamic fairing/brake for high-speed trains |
KR100214463B1 (ko) | 1995-12-06 | 1999-08-02 | 구본준 | 클립형 리드프레임과 이를 사용한 패키지의 제조방법 |
US6423623B1 (en) * | 1998-06-09 | 2002-07-23 | Fairchild Semiconductor Corporation | Low Resistance package for semiconductor devices |
US6133634A (en) | 1998-08-05 | 2000-10-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | High performance flip chip package |
US6473852B1 (en) | 1998-10-30 | 2002-10-29 | Fairchild Semiconductor Corporation | Method and circuit for performing automatic power on reset of an integrated circuit |
US6424035B1 (en) | 1998-11-05 | 2002-07-23 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor bilateral switch |
US6307755B1 (en) | 1999-05-27 | 2001-10-23 | Richard K. Williams | Surface mount semiconductor package, die-leadframe combination and leadframe therefor and method of mounting leadframes to surfaces of semiconductor die |
US6286894B1 (en) * | 1999-08-10 | 2001-09-11 | D. James Kingham | Reduced-drag trailer |
KR100335480B1 (ko) | 1999-08-24 | 2002-05-04 | 김덕중 | 칩 패드가 방열 통로로 사용되는 리드프레임 및 이를 포함하는반도체 패키지 |
KR100335481B1 (ko) | 1999-09-13 | 2002-05-04 | 김덕중 | 멀티 칩 패키지 구조의 전력소자 |
JP2001166162A (ja) | 1999-12-09 | 2001-06-22 | Hitachi Cable Ltd | アレイ導波路型グレーティング |
US6720642B1 (en) | 1999-12-16 | 2004-04-13 | Fairchild Semiconductor Corporation | Flip chip in leaded molded package and method of manufacture thereof |
US6989588B2 (en) | 2000-04-13 | 2006-01-24 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor device including molded wireless exposed drain packaging |
TW451392B (en) | 2000-05-18 | 2001-08-21 | Siliconix Taiwan Ltd | Leadframe connecting method of power transistor |
US6556750B2 (en) | 2000-05-26 | 2003-04-29 | Fairchild Semiconductor Corporation | Bi-directional optical coupler |
KR100370231B1 (ko) | 2000-06-13 | 2003-01-29 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 리드프레임의 배면에 직접 부착되는 절연방열판을구비하는 전력 모듈 패키지 |
US6661082B1 (en) | 2000-07-19 | 2003-12-09 | Fairchild Semiconductor Corporation | Flip chip substrate design |
KR100403608B1 (ko) | 2000-11-10 | 2003-11-01 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 스택구조의 인텔리젠트 파워 모듈 패키지 및 그 제조방법 |
US6580165B1 (en) | 2000-11-16 | 2003-06-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | Flip chip with solder pre-plated leadframe including locating holes |
US6798044B2 (en) | 2000-12-04 | 2004-09-28 | Fairchild Semiconductor Corporation | Flip chip in leaded molded package with two dies |
US6365942B1 (en) | 2000-12-06 | 2002-04-02 | Fairchild Semiconductor Corporation | MOS-gated power device with doped polysilicon body and process for forming same |
KR100374629B1 (ko) | 2000-12-19 | 2003-03-04 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 얇고 작은 크기의 전력용 반도체 패키지 |
US7345342B2 (en) | 2001-01-30 | 2008-03-18 | Fairchild Semiconductor Corporation | Power semiconductor devices and methods of manufacture |
US6469384B2 (en) | 2001-02-01 | 2002-10-22 | Fairchild Semiconductor Corporation | Unmolded package for a semiconductor device |
US6777786B2 (en) | 2001-03-12 | 2004-08-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor device including stacked dies mounted on a leadframe |
US6891257B2 (en) | 2001-03-30 | 2005-05-10 | Fairchild Semiconductor Corporation | Packaging system for die-up connection of a die-down oriented integrated circuit |
US6645791B2 (en) | 2001-04-23 | 2003-11-11 | Fairchild Semiconductor | Semiconductor die package including carrier with mask |
US6893901B2 (en) | 2001-05-14 | 2005-05-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | Carrier with metal bumps for semiconductor die packages |
US6646329B2 (en) | 2001-05-15 | 2003-11-11 | Fairchild Semiconductor, Inc. | Power chip scale package |
US7061080B2 (en) | 2001-06-11 | 2006-06-13 | Fairchild Korea Semiconductor Ltd. | Power module package having improved heat dissipating capability |
US6683375B2 (en) | 2001-06-15 | 2004-01-27 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die including conductive columns |
US7084488B2 (en) | 2001-08-01 | 2006-08-01 | Fairchild Semiconductor Corporation | Packaged semiconductor device and method of manufacture using shaped die |
US6449174B1 (en) | 2001-08-06 | 2002-09-10 | Fairchild Semiconductor Corporation | Current sharing in a multi-phase power supply by phase temperature control |
US6633030B2 (en) | 2001-08-31 | 2003-10-14 | Fiarchild Semiconductor | Surface mountable optocoupler package |
KR100442847B1 (ko) | 2001-09-17 | 2004-08-02 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 3차원 구조를 갖는 전력 반도체 모듈 및 그 제조방법 |
US6774465B2 (en) | 2001-10-05 | 2004-08-10 | Fairchild Korea Semiconductor, Ltd. | Semiconductor power package module |
US6891256B2 (en) | 2001-10-22 | 2005-05-10 | Fairchild Semiconductor Corporation | Thin, thermally enhanced flip chip in a leaded molded package |
US6674157B2 (en) | 2001-11-02 | 2004-01-06 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor package comprising vertical power transistor |
US6630726B1 (en) | 2001-11-07 | 2003-10-07 | Amkor Technology, Inc. | Power semiconductor package with strap |
US6566749B1 (en) * | 2002-01-15 | 2003-05-20 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package with improved thermal and electrical performance |
US6867489B1 (en) | 2002-01-22 | 2005-03-15 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package processable at the wafer level |
US6830959B2 (en) | 2002-01-22 | 2004-12-14 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package with semiconductor die having side electrical connection |
WO2003079407A2 (en) | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Fairchild Semiconductor Corporation | Wafer-level coated copper stud bumps |
TWI287282B (en) | 2002-03-14 | 2007-09-21 | Fairchild Kr Semiconductor Ltd | Semiconductor package having oxidation-free copper wire |
US7122884B2 (en) | 2002-04-16 | 2006-10-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | Robust leaded molded packages and methods for forming the same |
US6836023B2 (en) | 2002-04-17 | 2004-12-28 | Fairchild Semiconductor Corporation | Structure of integrated trace of chip package |
US6677672B2 (en) | 2002-04-26 | 2004-01-13 | Semiconductor Components Industries Llc | Structure and method of forming a multiple leadframe semiconductor device |
KR100843737B1 (ko) | 2002-05-10 | 2008-07-04 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 솔더 조인트의 신뢰성이 개선된 반도체 패키지 |
US7017508B2 (en) * | 2002-07-12 | 2006-03-28 | Arthur Vanmoor | Hydrodynamically and aerodynamically optimized leading and trailing edge configurations |
US7061077B2 (en) | 2002-08-30 | 2006-06-13 | Fairchild Semiconductor Corporation | Substrate based unmolded package including lead frame structure and semiconductor die |
US6777800B2 (en) * | 2002-09-30 | 2004-08-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package including drain clip |
US6943434B2 (en) | 2002-10-03 | 2005-09-13 | Fairchild Semiconductor Corporation | Method for maintaining solder thickness in flipchip attach packaging processes |
US6806580B2 (en) | 2002-12-26 | 2004-10-19 | Fairchild Semiconductor Corporation | Multichip module including substrate with an array of interconnect structures |
KR100958422B1 (ko) | 2003-01-21 | 2010-05-18 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 고전압 응용에 적합한 구조를 갖는 반도체 패키지 |
US7217594B2 (en) | 2003-02-11 | 2007-05-15 | Fairchild Semiconductor Corporation | Alternative flip chip in leaded molded package design and method for manufacture |
US7271497B2 (en) | 2003-03-10 | 2007-09-18 | Fairchild Semiconductor Corporation | Dual metal stud bumping for flip chip applications |
US6867481B2 (en) | 2003-04-11 | 2005-03-15 | Fairchild Semiconductor Corporation | Lead frame structure with aperture or groove for flip chip in a leaded molded package |
US6853064B2 (en) | 2003-05-12 | 2005-02-08 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor component having stacked, encapsulated dice |
US7073845B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-07-11 | The Regents Of The University Of California | Aerodynamic drag reduction apparatus for gap-divided bluff bodies such as tractor-trailers |
DE602004016930D1 (de) * | 2003-09-17 | 2008-11-20 | Ricoh Kk | Elekrographischer Photorezeptor, Herstellungsverfahren eines elektrophotographischen Photorezeptors, und elektrophotographische Apparat und Verfahrenskartusche worin der elektrophotographische Photorezeptor verwendet wird |
US6972913B2 (en) * | 2004-01-29 | 2005-12-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Two axis tip-tilt platform |
US7196313B2 (en) | 2004-04-02 | 2007-03-27 | Fairchild Semiconductor Corporation | Surface mount multi-channel optocoupler |
US7242076B2 (en) | 2004-05-18 | 2007-07-10 | Fairchild Semiconductor Corporation | Packaged integrated circuit with MLP leadframe and method of making same |
US7008005B1 (en) * | 2004-09-07 | 2006-03-07 | Freight Wing Inc. | Device for reducing vehicle aerodynamic resistance |
US7211887B2 (en) | 2004-11-30 | 2007-05-01 | M/A-Com, Inc. | connection arrangement for micro lead frame plastic packages |
US7256479B2 (en) | 2005-01-13 | 2007-08-14 | Fairchild Semiconductor Corporation | Method to manufacture a universal footprint for a package with exposed chip |
KR101146973B1 (ko) | 2005-06-27 | 2012-05-22 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 패키지 프레임 및 그를 이용한 반도체 패키지 |
US7772681B2 (en) * | 2005-06-30 | 2010-08-10 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package and method for making the same |
US7207620B2 (en) * | 2005-08-23 | 2007-04-24 | Cosgrove William E | Aerodynamic drag reducing system with retrofittable, selectively removable frame |
TW200733272A (en) * | 2005-11-01 | 2007-09-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Methods of packaging a semiconductor die and die package formed by the methods |
US7285849B2 (en) | 2005-11-18 | 2007-10-23 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package using leadframe and clip and method of manufacturing |
KR101221805B1 (ko) | 2006-03-03 | 2013-01-14 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 전력 소자용 패키지 및 패키지 어셈블리 |
US7768105B2 (en) * | 2007-01-24 | 2010-08-03 | Fairchild Semiconductor Corporation | Pre-molded clip structure |
US20090057855A1 (en) * | 2007-08-30 | 2009-03-05 | Maria Clemens Quinones | Semiconductor die package including stand off structures |
US7898067B2 (en) * | 2008-10-31 | 2011-03-01 | Fairchild Semiconductor Corporaton | Pre-molded, clip-bonded multi-die semiconductor package |
US8222718B2 (en) * | 2009-02-05 | 2012-07-17 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package and method for making the same |
-
2007
- 2007-01-24 US US11/626,503 patent/US7768105B2/en active Active
-
2008
- 2008-01-10 MY MYPI2012005163A patent/MY163758A/en unknown
- 2008-01-10 WO PCT/US2008/050753 patent/WO2008091742A2/en active Application Filing
- 2008-01-10 MY MYPI20093078A patent/MY149108A/en unknown
- 2008-01-10 CN CN2008800028902A patent/CN101595560B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-10 DE DE112008000234T patent/DE112008000234T5/de not_active Withdrawn
- 2008-01-18 TW TW097101986A patent/TWI441299B/zh active
-
2010
- 2010-06-24 US US12/822,932 patent/US8008759B2/en active Active
- 2010-06-24 US US12/822,675 patent/US7838340B2/en active Active
-
2011
- 2011-07-19 US US13/186,246 patent/US8513059B2/en active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112015002815B4 (de) | 2014-06-13 | 2022-06-15 | Rohm Co., Ltd. | Leistungsmodul und Herstellungsverfahren dafür |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200913198A (en) | 2009-03-16 |
WO2008091742A2 (en) | 2008-07-31 |
US20080173991A1 (en) | 2008-07-24 |
CN101595560B (zh) | 2012-07-04 |
CN101595560A (zh) | 2009-12-02 |
US8008759B2 (en) | 2011-08-30 |
MY149108A (en) | 2013-07-15 |
US8513059B2 (en) | 2013-08-20 |
WO2008091742A3 (en) | 2008-11-20 |
TWI441299B (zh) | 2014-06-11 |
MY163758A (en) | 2017-10-31 |
US20110272794A1 (en) | 2011-11-10 |
US20100258924A1 (en) | 2010-10-14 |
US20100258923A1 (en) | 2010-10-14 |
US7838340B2 (en) | 2010-11-23 |
US7768105B2 (en) | 2010-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE112008000234T5 (de) | Vorgeformte Clip-Struktur | |
DE19926128B4 (de) | Leistungs-Halbleiterbauteil-Gehäuse | |
DE102009032973B4 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE102007049481B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleiterbauelementes | |
DE102008051965B4 (de) | Bauelement mit mehreren Halbleiterchips | |
DE102011084803B4 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE10393232T5 (de) | Halbleiterchipgehäuse mit Drain-Klemme | |
DE102009055691B4 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE112006003036T5 (de) | Halbleiterchipgehäuse mit einem Leitungsrahmen und einem Clip sowie Verfahren zur Herstellung | |
DE102005050330A1 (de) | Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren dafür | |
DE112006003372T5 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Montage eines oben und unten freiliegenden eingehausten Halbleiters | |
DE102014104399B4 (de) | Halbleiterchipgehäuse umfassend einen Leadframe | |
DE102011085282A1 (de) | Korrosionsgeschütztes Halbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines korrosionsgeschützten Halbleitermoduls | |
DE112008001657T5 (de) | Integriertes Leistungsbauelementgehäuse und Modul mit zweiseitiger Kühlung und Verfahren zur Herstellung | |
DE102009010199B4 (de) | Halbleiterpackage mit Formschlossentlüftung und Verfahren zu dessen Hersstellung | |
DE112008000229T5 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE112008002338T5 (de) | Thermisch verbessertes dünnes Halbleiter-Package | |
DE102011113269A1 (de) | Halbleitermodul und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE102004021054B4 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE102008008141A1 (de) | Leistungshalbleitermodul und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2815776A1 (de) | Halbleiterbauelement mit einer elektrisch und thermisch leitenden tragplatte | |
DE102017205116B4 (de) | Halbleitervorrichtung und Fertigungsverfahren derselben | |
DE112006003633T5 (de) | Klemmenlose und drahtlose Halbleiterchipbaugruppe und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE102013219959B4 (de) | Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE102009035623B4 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung, Anordnung aus integrierten Leistungsgehäusen, integriertes Leistungshalbleitergehäuse und Verfahren zum Herstellen von Halbleitergehäusen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R005 | Application deemed withdrawn due to failure to request examination | ||
R005 | Application deemed withdrawn due to failure to request examination |
Effective date: 20150113 |