DE1112586B - Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung - Google Patents
Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte HalbleiteranordnungInfo
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL255665D NL255665A (enExample) | 1959-09-22 | ||
| DES65034A DE1112586B (de) | 1959-09-22 | 1959-09-22 | Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung |
| CH1010660A CH455048A (de) | 1959-09-22 | 1960-09-07 | Verfahren zum Herstellen einer Maske für die Aufdampfung des Elektrodenmetalls auf einem Halbleiterkörper |
| FR839133A FR1268113A (fr) | 1959-09-22 | 1960-09-21 | Procédé de fabrication d'un dispositif à semi-conducteur |
| GB32592/60A GB921724A (en) | 1959-09-22 | 1960-09-22 | Photographically produced stencils and semi-conductor devices |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES65034A DE1112586B (de) | 1959-09-22 | 1959-09-22 | Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1112586B true DE1112586B (de) | 1961-08-10 |
Family
ID=7497691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DES65034A Pending DE1112586B (de) | 1959-09-22 | 1959-09-22 | Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH455048A (enExample) |
| DE (1) | DE1112586B (enExample) |
| GB (1) | GB921724A (enExample) |
| NL (1) | NL255665A (enExample) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1206090B (de) * | 1962-04-16 | 1965-12-02 | Telefunken Patent | Verfahren zum AEtzen eines Mesatransistors |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE823470C (de) * | 1950-09-12 | 1951-12-03 | Siemens Ag | Verfahren zum AEtzen eines Halbleiters |
| DE971583C (de) * | 1951-09-07 | 1959-02-19 | Siemens Ag | Trockengleichrichter |
| FR1185444A (fr) * | 1956-02-28 | 1959-07-31 | Philips Nv | Procédé de fabrication de systèmes d'électrodes semi-conducteurs |
-
0
- NL NL255665D patent/NL255665A/xx unknown
-
1959
- 1959-09-22 DE DES65034A patent/DE1112586B/de active Pending
-
1960
- 1960-09-07 CH CH1010660A patent/CH455048A/de unknown
- 1960-09-22 GB GB32592/60A patent/GB921724A/en not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE823470C (de) * | 1950-09-12 | 1951-12-03 | Siemens Ag | Verfahren zum AEtzen eines Halbleiters |
| DE971583C (de) * | 1951-09-07 | 1959-02-19 | Siemens Ag | Trockengleichrichter |
| FR1185444A (fr) * | 1956-02-28 | 1959-07-31 | Philips Nv | Procédé de fabrication de systèmes d'électrodes semi-conducteurs |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1206090B (de) * | 1962-04-16 | 1965-12-02 | Telefunken Patent | Verfahren zum AEtzen eines Mesatransistors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB921724A (en) | 1963-03-20 |
| CH455048A (de) | 1968-04-30 |
| NL255665A (enExample) |
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