DE971583C - Trockengleichrichter - Google Patents
TrockengleichrichterInfo
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- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
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Description
Die Erfindung geht aus den bekannten Flächengleichrichtern,
wie sie z. B. als Selengleichrichter und Kupferoxydulgleichrichter in die Praxis eingeführt
sind. Diese Gleichrichter bestehen, wenn von gewissen Zwischenschichten abgesehen wird, im wesentlichen
aus der Grundelektrode, der Halbleiterschicht und der Gegenelektrode, die bei Selengleichrichtern auch
als Sperrelektrode bezeichnet wird. Mit Rücksicht auf die weite Verbreitung von Selengleichrichtern sei im
ίο folgenden der Anschaulichkeit halber auf Selengleichrichter
Bezug genommen, wenngleich die Erfindung auch bei Verwendung von anderen Halbleiterschichten
anwendbar ist.
Bei den vorerwähnten Flächengleichrichtern, insbesondere Selengleichrichtern, ist es bekannt, eine dünne Zwischenschicht, z. B. Lackschicht, zwischen der Halbleiterschicht und der Sperrelektrode anzubringen. Bei dem neuen Gleichrichter befindet sich zwischen der Halbleiterschicht und der Sperrelektrode ebenfalls eine Zwischenschicht oder, in anderer Bezeichnung, eine Trennschicht. Erfindungsgemäß ist diese Trennschicht im Wirkungsbereich der Sperrelektrode siebförmig durchlöchert oder von leitenden Teilchen durchsetzt, im Sinne der Bildung einer Fülle von feinsten Durchgreifstellen für die Sperrelektrode, bei solcher Verteilung dieser Durchgreifstellen, daß ihr gegenseitiger Abstand im Mittel etwa die Hälfte, vorzugsweise höchstens ein Zehntel der Dicke der Halbleiterschicht ist, während zugleich der Durchmesser der Durchgreifstellen klein ist (etwa ein Fünftel oder weniger, vorzugsweise höchstens ein Zehntel) zu ihrem gegenseitigen Abstand.
Bei den vorerwähnten Flächengleichrichtern, insbesondere Selengleichrichtern, ist es bekannt, eine dünne Zwischenschicht, z. B. Lackschicht, zwischen der Halbleiterschicht und der Sperrelektrode anzubringen. Bei dem neuen Gleichrichter befindet sich zwischen der Halbleiterschicht und der Sperrelektrode ebenfalls eine Zwischenschicht oder, in anderer Bezeichnung, eine Trennschicht. Erfindungsgemäß ist diese Trennschicht im Wirkungsbereich der Sperrelektrode siebförmig durchlöchert oder von leitenden Teilchen durchsetzt, im Sinne der Bildung einer Fülle von feinsten Durchgreifstellen für die Sperrelektrode, bei solcher Verteilung dieser Durchgreifstellen, daß ihr gegenseitiger Abstand im Mittel etwa die Hälfte, vorzugsweise höchstens ein Zehntel der Dicke der Halbleiterschicht ist, während zugleich der Durchmesser der Durchgreifstellen klein ist (etwa ein Fünftel oder weniger, vorzugsweise höchstens ein Zehntel) zu ihrem gegenseitigen Abstand.
Es wird auf diese Weise erreicht, daß der neue Gleichrichter, obgleich er, äußerlich gesehen, ein
Flächengleichrichter ist, zu einem Spitzengleichrichter wird oder, genauer gesagt, zu einem Vielfach-Spitzengleichrichter.
Von den schon bekannten Spitzengleichrichtern unterscheidet er sich jedoch dadurch,
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daß die Zahl der Spitzen weitaus größer ist, als man
sie auf mechanischem Wege erreichen kann. Zum näheren Verständnis der Wirkungsweise des neuen
Gleichrichters ist davon auszugehen, daß bei einem Spitzengleichrichter bekanntlich das sogenannte Gleichrichterverhältnis,
d. h. das Verhältnis von Sperrwiderstand zu Flußwiderstand, weitaus besser ist als
bei einem Flächengleichrichter. Der Grund hierfür liegt, wie bekannt, darin, daß in der Flußrichtung
ίο der Widerstand zwischen Spitze und Grundelektrode gegeben ist durch den sogenannten Ausbreitungswiderstand.
Diese Erscheinung ergibt sich daraus, daß die Stromfäden des von der Spitze ausgehenden
Stromes sich in der darunterliegenden Halbleiterschicht im wesentlichen halbkugelförmig verteilen.
Daraus ergibt sich, daß der Bahnwiderstand, Spitze gegen Grundelektrode, auf die Einheit der kontaktierten
Fläche bezogen, wesentlich kleiner ist als der Bahnwiderstand bei flächenhafter Kontaktierung,
ao wiederum auf die Flächeneinheit bezogen. Der Sperrwiderstand hingegen wächst oder fällt verhältnisgleich
mit der kontaktierten Fläche. Er ist nämlich gegeben durch den Widerstand der sehr dünnen Sperrschicht,
hier kann praktisch von einem Ausbreitungswiderstand wegen der geringen Stärke der Sperrschicht nicht die
Rede sein. Somit ist für den Widerstand in der Sperrrichtung im wesentlichen die kleine Fläche der Spitze
maßgebend. Aus diesen Erscheinungen folgt das günstige Gleichrichterverhältnis bei einem Spitzengleichrichter.
Bei dem neuen Gleichrichter ist die bisherige wirksame Fläche der Gegenelektrode gleichsam aufgelöst
in eine Fülle von Spitzen, deren Flächen und Entfernungen voneinander so klein sind, daß die
Ausbreitungswiderstände der einzelnen Spitzen wegen der gegenseitigen Einengung sich nur in eine geringe
Teilschicht der Halbleiterschicht hinein erstrecken. Es sei dies noch verdeutlicht durch die Zeichnung. In
dieser ist bei 1 die Grundelektrode, bei 2 die Halbleiterschicht, bei 3 die Trennschicht angedeutet. Bei 4 sind
die Durchgreifstellen und damit zugleich die Spitzen der Gegenelektrode 6 angedeutet. Zu der Zeichnung
sei noch erwähnt, daß es sich nur um eine schematische Darstellung handelt und daß die Größenverhältnisse
in der Zeichnung nur annähernd wiedergegeben sind. Die einzelnen Durchgreifstellen, die also zugleich die
Spitzen der Gegenelektrode bilden, haben jeweils einen Ausbreitungswiderstand, der im Schnitt sich als Halbkreis
darstellt. Diese betreffenden Halbkreise sind bei 5 gezeigt. Wie man sieht, reichen diese Halbkreise bzw.,
in räumlicher Darstellung, diese Halbkugeln nur in eine Teilschicht der Halbleiterschicht 2 hinein. Diese
Teilschicht ist durch die gestrichelte Linie 2 a kenntlich gemacht.
Der Strom in der Flußrichtung verläuft von der Linie 2 a an in parallelen Stromfäden durch die übrige
Halbleiterschicht 2 hindurch zur Grundelektrode 1. Mit anderen Worten, in dieser letztgenannten Teilschicht
ist für den Stromfluß nicht der Ausbreitungswiderstand, sondern der gewöhnliche Querschnittswiderstand
wirksam. Das bedeutet, wie leicht zu ersehen ist, daß bei dem neuen Gleichrichter der
Widerstand in der Flußrichtung gegenüber einer flächenhaften Kontaktierung nur um den Unterschied
erhöht ist, der sich in der Teilschicht 2 a zwischen dem Querschnittswiderstand und der Summe der Ausbreitungswiderstände
(s. bei 5) ergibt. Diese Widerstandserhöhung wird um so geringer, je dichter die
Durchgreifstellen 4 der Deckelektrode liegen. Dabei müssen naturgemäß bei dichter liegenden Durchgreifstellen
die Spitzen entsprechend feiner sein, anders ausgedrückt, das Verhältnis zwischen der Fläche einer
Durchgreifstelle und ihres Wirkungsbereiches muß auch bei dichter liegenden Durchgreifstellen etwa das
gleiche bleiben, um optimale Verhältnisse zu erzielen. Aus der vorstehenden Erläuterung ist zu ersehen, daß
die Zunahme des Widerstandes in der Flußrichtung gegenüber einem Gleichrichter mit flächenhafter Kontaktierung
verhältnismäßig gering ist und gegebenenfalls praktisch verschwindet. In der Sperrichtung
gilt für jede einzelne Spitze bzw. Durchgreifstelle 4 das, was oben bezüglich eines Spitzengleichrichters
angegeben ist, nämlich, daß der Widerstand im wesentlichen gegeben ist durch die Fläche der Spitze
und den Widerstand der Sperrschicht, der, spezifisch gesehen,, der gleiche bleibt wie bei flächenhafter
Kontaktierung. Gegenüber der flächenhaften Kontaktierung ist aber die Fläche bei dem neuen Gleichrichter
auf einen sehr kleinen Bruchteil vermindert worden, was also bedeutet, daß der Widerstand in der
Sperrichtung gegenüber einer flächenhaften Kontaktierung sehr viel größer geworden ist. Theoretisch
können, wie verständlich wird, auf diese Weise beliebig erhöhte Gleichrichterverhältnisse erzielt werden,
wenn es gelingt, die Fülle der Löcher oder Durchgreifstellen beliebig groß zu machen.
Die Verhältnisse lassen sich auch verdeutlichen durch eine Gleichung, auf deren Ableitung hier nicht
näher eingegangen zu werden braucht, die aber doch angeführt sei:
R1n= J^ [1+β (α-I)]
Es bedeutet Rpi den Bahnwiderstand des neuen
Gleichrichters in der Flußrichtung, S die Stärke der gesamten Halbleiterschicht (s. Zeichnung), K die
spezifische Leitfähigkeit des verwendeten Halbleiterstoffes, F die Oberfläche der Halbleiterschicht, β das
Verhältnis der Teilschichtstärke s zur Gesamtschichtstärke S des Halbleiters (s. Zeichnung), α das Verhältnis
der Teilschichtstärke s des Halbleiters zum Radius der einzelnen Durchgreifstelle.
Man ersieht aus der Gleichung folgendes:
Der Widerstand in der Flußrichtung wird gleich
5
dem Ausdruck j=-=, wenn die Gegenelektrode ohne Zwischenschicht mit dem Halbleiter kontaktiert ist. Die Forderung, daß sich dieser Widerstand Rm = ^^
dem Ausdruck j=-=, wenn die Gegenelektrode ohne Zwischenschicht mit dem Halbleiter kontaktiert ist. Die Forderung, daß sich dieser Widerstand Rm = ^^
ÄP
nicht wesentlich ändert, wenn eine Zwischenschicht mit Durchgreifstellen eingefügt wird, ist dann erfüllt,
wenn der Klammerausdruck nicht wesentlich von 1 abweicht. Wird beispielsweise der Faktor α = 10
(dies bedeutet eine Vergrößerung des Sperrwiderstandes um den Faktor 100) und erreicht der Faktor β den
Wert
so erhält der Klammerausdruck den
Wert 1,09; der Flußwiderstand ist in diesem Falle um 9°/0 größer geworden, als er es ohne Zwischenschicht
sein würde; der Sperrwiderstand ist dagegen auf das ioofache des Wertes beim Flächengleichrichter
gestiegen. Das Gleichrichterverhältnis hat sich also wesentlich verbessert.
Die Trennschicht zwischen der Halbleiterschicht und der Deckelektrode kann in der Weise hergestellt werden, daß sie als gesonderte Schicht auf die Halbleiteroberfläche aufgetragen wird. Für diese gesonderte Schicht wird ein geeigneter Isolierstoff, z. B. Lack, benutzt. In den Stoff, aus dem die Trennschicht hergestellt wird, werden vor dem Auftragen feinste Deckelektrodenmetallteilchen in Fein verteilung, z. B. in kolloidarer Verteilung, eingebracht. Handelt es sich um einen Trockengleichrichter mit Selen als Halbleiterschicht, so werden z. B. Zinn-Cadmium-Teilchen in der genannten Weise in den Isolierstoff eingebracht und entsprechend verteilt, z. B. durch Beschallung mit Ultraschallwellen. Alsdann wird dieser Isolierstoff ganz dünn auf die Halbleiterschicht, also z. B. auf die Selenschicht, aufgetragen. Anschließend oder später, je nach der sonstigen Durchführung des Herstellungsverfahrens, wird dann die Gegenelektrode aufgebracht. Das Herstellungsverfahren des gesamten Gleichrichters kann, abgesehen von der Zwischenschicht, in gleicher Weise durchgeführt werden, wie es bei Trockengleichrichtern bekannt ist.
Die Trennschicht zwischen der Halbleiterschicht und der Deckelektrode kann in der Weise hergestellt werden, daß sie als gesonderte Schicht auf die Halbleiteroberfläche aufgetragen wird. Für diese gesonderte Schicht wird ein geeigneter Isolierstoff, z. B. Lack, benutzt. In den Stoff, aus dem die Trennschicht hergestellt wird, werden vor dem Auftragen feinste Deckelektrodenmetallteilchen in Fein verteilung, z. B. in kolloidarer Verteilung, eingebracht. Handelt es sich um einen Trockengleichrichter mit Selen als Halbleiterschicht, so werden z. B. Zinn-Cadmium-Teilchen in der genannten Weise in den Isolierstoff eingebracht und entsprechend verteilt, z. B. durch Beschallung mit Ultraschallwellen. Alsdann wird dieser Isolierstoff ganz dünn auf die Halbleiterschicht, also z. B. auf die Selenschicht, aufgetragen. Anschließend oder später, je nach der sonstigen Durchführung des Herstellungsverfahrens, wird dann die Gegenelektrode aufgebracht. Das Herstellungsverfahren des gesamten Gleichrichters kann, abgesehen von der Zwischenschicht, in gleicher Weise durchgeführt werden, wie es bei Trockengleichrichtern bekannt ist.
Wird die Trennschicht als gesonderte Schicht aufgetragen, so kann man auch auf das Einbringen
feinster Metallteilchen verzichten und statt dessen durch geeignete Maßnahmen die Trennschicht siebartig
durchlöchern. Dies kann in der Weise durchgeführt • werfen, daß in an sich bekannter Art mit Hilfe eines
fotochemischen Verfahrens die hinsichtlich ihrer Zusammensetzung geeignet gewählte Trennschicht mit
einer Kreuzrasterung od. dgl. versehen und darauf durch Ätzen die Trennschicht an den frei gelassenen
Stellen durchlöchert wird. Es besteht auch die Möglichkeit, die Trennschicht aus Schrumpflack oder
ähnlichen Stoffen herzustellen, die beim Trocknen schrumpfen und in annähernd regelmäßiger Form zerreißen,
derart, daß sich viele feinverteilte Löcher bilden. Es ist zur Verwirklichung der Erfindung nicht
notwendig, die Trennschicht als gesonderte Schicht aufzubringen. Es ist auch möglich, eine Zwischenschicht
oder Trennschicht dadurch herzustellen, daß die Gegenelektrode unmittelbar auf die Selenschicht
aufgebracht und im übrigen dafür gesorgt wird, daß eine chemische Reaktion zwischen der Gegenelektrode
und der Selenschicht eintritt, im Sinne der Bildung einer sehr dünnen Zwischenschicht.
Durch Beigabe von geeignet gewählten Stoffen in feinster Verteilung in die Selenschicht und/oder in das
Metall der Gegenelektrode kann erreicht werden, daß bei der Bildung der chemischen Zwischenschicht in
dieser Löcher in feinster Verteilung oder Stellen, ebenfalls in feinster Verteilung, verbleiben, in denen
die Reaktion nicht eintritt, in denen also die Gegenelektrode unmittelbar mit der Selenschicht kontaktiert
ist. An diesen Stellen bzw. an den vorerwähnten Löchern bildet sich zwischen der Deckelektrode und
der Selenschicht die Sperrschicht.
Es war schon oben erwähnt, daß das sonstige Herstellungsverfahren des Gleichrichters, insbesondere
Selengleichrichters, das sonst übliche sein kann. Es wird also durch einen ein- oder mehrstufigen Temperprozeß
die Selenschicht in die gutleitende kristalline Modifikation übergeführt. Ebenso kann der übliche
Formierprozeß vorgesehen sein. Dieser elektrische Formierprozeß ist bei dem neuen Gleichrichter aus
dem Grunde besonders wirksam, weil der zum Formieren verwendete elektrische Strom (in Sperrichtung)
lediglich seinen Weg durch die Durchgreifstellen der Gegenelektrode nimmt und infolgedessen hier eine
erhöhte Stromdichte aufweist, was den Formierprozeß beschleunigt und in seiner Wirkung verstärkt.
Claims (5)
1. Trockengleichrichter mit einer zwischen dem Halbleiter und der Sperrelektrode angeordneten
dünnen Trennschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Trennschicht im Wirkungsbereich der Sperrelektrode
siebförmig durchlöchert oder von leitenden Teilchen durchsetzt ist, im Sinne der
Bildung einer Fülle von feinsten Durchgreifstellen für die Sperrelektrode, bei solcher Verteilung dieser
Durchgreif stellen, daß ihr gegenseitiger Abstand im Mittel etwa die Hälfte, vorzugsweise höchstens
ein Zehntel der Dicke der Halbleiterschicht ist, während zugleich der Durchmesser der Durchgreifstellen
klein ist (etwa ein Fünftel oder weniger, vorzugsweise höchstens ein Zehntel) zu ihrem
gegenseitigen Abstand.
2. Trockengleichrichter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Trennschicht eine Isolierstoffschicht,
ζ. B. in an sich bekannter Weise eine Lackschicht, verwendet ist und daß der Trennschicht
in Feinverteilung, z. B. kolloidaler Verteilung, Deckelektrodenmetallteilchen, z. B. bei
Selengleichrichtern Teilchen aus einer Zinn-Cadmium-Legierung, beigegeben sind, in solcher Menge,
daß eine Fülle von feinsten Brücken zwischen der eigentlichen Deckelektrode und der Halbleiterschicht
vorhanden ist.
3. Verfahren zur Herstellung eines Trockengleichrichters nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Trennschicht als gesonderte Schicht aufgetragen und durch eine fotochemische Kreuzrasterung
od. dgl. siebförmig durchlöchert wird.
4. Verfahren zur Herstellung eines Gleichrichters nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Trennschicht als gesonderte Schicht aufgetragen wird, und zwar aus einem Stoff, der im
Zuge einer weiteren Verfahrensstufe — z. B. bei Verwendung von Schrumpflack durch Trocknung
— siebförmig durchlöchert wird.
5. Verfahren zur Herstellung eines Trockengleichrichters nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Erzeugung der Trennschicht in an sich bekannter Weise eine Zwischenschicht
durch chemische Reaktion der Sperrelektrode mit der Halbleiterschicht gebildet wird und daß durch
Beimischung eines oder mehrerer feinverteilter Zusatzstoffe zur Halbleiterschicht und/oder zur
Deckelektrode die chemisch erzeugte Zwischenschicht durchlöchert oder mit leitenden Teilchen
durchsetzt wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 600410;
USA.-Patentschrift Nr. 2 046 686; »Wissenschaftliche Veröffentlichungen aus den Sie- 10 mens-Werken«, Bd. 18, 1939, Heft 3, S. 66;
Deutsche Patentschrift Nr. 600410;
USA.-Patentschrift Nr. 2 046 686; »Wissenschaftliche Veröffentlichungen aus den Sie- 10 mens-Werken«, Bd. 18, 1939, Heft 3, S. 66;
Zeitschrift für Physik, Bd. 113, 1939, S. 402, 403
und 45;
deutsche Patentanmeldung ρ 39396 VIIIc / 2ig D
(bekanntgemacht am 16. 8. 1951). 15
In Betracht gezogene ältere Patente: Deutsche Patente Nr. 847 466, 939 220.
Hierzu ι Blatt Zeichnungen
® 809 732/33 2.59
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES24702A DE971583C (de) | 1951-09-07 | 1951-09-07 | Trockengleichrichter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES24702A DE971583C (de) | 1951-09-07 | 1951-09-07 | Trockengleichrichter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE971583C true DE971583C (de) | 1959-02-19 |
Family
ID=7477992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DES24702A Expired DE971583C (de) | 1951-09-07 | 1951-09-07 | Trockengleichrichter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE971583C (de) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1112586B (de) * | 1959-09-22 | 1961-08-10 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung |
| DE1185297B (de) * | 1961-12-04 | 1965-01-14 | Tektronix Inc Eine Ges Nach De | Vielspitzen-Transistor mit mehreren gleichrichtenden UEbergaengen im Halbleiterkoerper |
| DE1295698B (de) * | 1963-06-24 | 1969-05-22 | Hitachi Ltd | Verfahren zur Formierung eines Feldeffekttransistors |
| DE1489052B1 (de) * | 1963-06-06 | 1971-04-15 | Hitachi Ltd | Verfahren zum behandeln von halbleiterbauelementen |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE600410C (de) * | 1930-12-02 | 1934-07-26 | Siemens & Halske Akt Ges | Kontaktgleichrichterelement |
| US2046686A (en) * | 1934-05-22 | 1936-07-07 | Bell Telephone Labor Inc | Asymmetrical electrical conductor |
| DE847466C (de) * | 1950-09-21 | 1952-08-25 | Sueddeutsche App Fabrik G M B | Selengleichrichter mit Lackzwischenschichten |
| DE939220C (de) * | 1949-04-08 | 1956-02-16 | Licentia Gmbh | Verfahren zum Herstellen von Trockengleichrichtern, insbesondere Selengleichrichtern mit Cadmiumelektrode |
-
1951
- 1951-09-07 DE DES24702A patent/DE971583C/de not_active Expired
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE600410C (de) * | 1930-12-02 | 1934-07-26 | Siemens & Halske Akt Ges | Kontaktgleichrichterelement |
| US2046686A (en) * | 1934-05-22 | 1936-07-07 | Bell Telephone Labor Inc | Asymmetrical electrical conductor |
| DE939220C (de) * | 1949-04-08 | 1956-02-16 | Licentia Gmbh | Verfahren zum Herstellen von Trockengleichrichtern, insbesondere Selengleichrichtern mit Cadmiumelektrode |
| DE847466C (de) * | 1950-09-21 | 1952-08-25 | Sueddeutsche App Fabrik G M B | Selengleichrichter mit Lackzwischenschichten |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1112586B (de) * | 1959-09-22 | 1961-08-10 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen der Elektroden einer Halbleiteranordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung |
| DE1185297B (de) * | 1961-12-04 | 1965-01-14 | Tektronix Inc Eine Ges Nach De | Vielspitzen-Transistor mit mehreren gleichrichtenden UEbergaengen im Halbleiterkoerper |
| DE1489052B1 (de) * | 1963-06-06 | 1971-04-15 | Hitachi Ltd | Verfahren zum behandeln von halbleiterbauelementen |
| DE1295698B (de) * | 1963-06-24 | 1969-05-22 | Hitachi Ltd | Verfahren zur Formierung eines Feldeffekttransistors |
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