DE102019205234A1 - Aufweitverfahren und Aufweitvorrichtung - Google Patents

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Abstract

Ein Aufweitverfahren beinhaltet einen Plattenkühlschritt des Kühlens einer Platte einer Kühl-/Erwärmungseinheit, welche die Platte zum Kontakt mit einem Werkstück und ein Peltierelement zum Kühlen oder Erwärmen der Platte beinhaltet, einen Werkstückkühlschritt des In-Kontakt-Bringens der Platte mit dem Werkstück über die Aufweitfolie, um das Werkstück zu kühlen, nachdem der Plattenkühlschritt durchgeführt worden ist, einen Aufweitschritt des Aufweitens der Aufweitfolie, nachdem der Werkstückkühlschritt durchgeführt worden ist, einen Plattenerwärmungsschritt des Erwärmens der Platte, nachdem der Aufweitschritt durchgeführt worden ist, und einen Werkstückerwärmungsschritt des In-Kontakt-Bringens der Platte mit dem Werkstück über die Aufweitfolie, um das Werkstück zu erwärmen, nachdem der Plattenerwärmungsschritt durchgeführt worden ist.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Aufweitverfahren und eine Aufweitvorrichtung.
  • BESCHREIBUNG DER VERWANDTEN TECHNIK
  • Zum Zeitpunkt eines Teilens eines Die-Attach-Films (DAF) durch ein Aufweiten einer Aufweitfolie wird die Aufweitung durchgeführt, während das Werkstück in einer Kühlkammer gekühlt wird, um die Teilbarkeit des DAFs, der ein duktiles Material ist, zu erhöhen (siehe beispielsweise die japanische Offenlegungsschrift Nr. 2009-64905 und die japanische Offenlegungsschrift Nr. 2007-189057 ).
  • DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • Allerdings weist das in der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 2009-64905 und der japanischen Offenlegungsschrift 2007 - 189057 das Problem auf, dass die Vorrichtung aufgrund der Anwesenheit der Kühlkammer vergrößert ist. In Anbetracht dessen kann darüber nachgedacht werden, das Werkstück zu kühlen, indem eine Kühlplatte in Kontakt mit dem Werkstück gebracht wird. Allerdings wird das Kühlen des Werkstücks durch ein Kühlen der Atmosphäre, die das Werkstück umgibt, begleitet, wodurch Frost oder Tau an der Oberfläche des Werkstücks erzeugt würden. Wenn Frost oder Tau an der Werkstückoberfläche erzeugt werden, kann ein Problem wie beispielsweise eine Unmöglichkeit des Aufhebens in einem späteren Aufhebeschritt oder dergleichen verursacht werden.
  • Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Aufweitverfahren und eine Aufweitvorrichtung bereitzustellen, in der ein Problem aufgrund von Frost oder Tau, die an der Oberfläche eines Werkstücks abgelagert werden, daran gehindert werden können, in einem späteren Schritt erzeugt zu werden.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Aufweitverfahren zum Aufweiten einer Aufweitfolie bereitgestellt, an der ein Werkstück, das mindestens ein duktiles Material enthält, haftet. Das Aufweitverfahren beinhaltet einen Plattenkühlschritt des Kühlens einer Platte eines Kühl-/Erwärmungsmittels, das die Platte, die eine Kontaktoberfläche zum Kontakt mit dem Werkstück aufweist und ein Peltierelement zum Kühlen oder Erwärmen der Platte auf eine Temperatur, auf die das Werkstück zu kühlen ist, enthält, einen Werkstückkühlschritt des In-Kontakt-Bringens der Platte mit dem Werkstück über die Aufweitfolie, um das Werkstück zu kühlen, nachdem der Plattenkühlschritt durchgeführt worden ist, einen Aufweitschritt des Aufweitens der Aufweitfolie, nachdem der Werkstückkühlschritt durchgeführt worden ist, einen Plattenerwärmungsschritt des Erwärmens der Platte, nachdem der Werkstückkühlschritt durchgeführt worden ist, und einen Werkstückerwärmungsschritt des In-Kontakt-Bringens der Platte mit dem Werkstück über die Aufweitfolie, um das Werkstück zu erwärmen, nachdem der Aufweitschritt und der Plattenerwärmungsschritt durchgeführt worden sind.
  • Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Aufweitverfahren zum Aufweiten einer Aufweitfolie bereitgestellt, an der ein Werkstück, das mindestens ein duktiles Material enthält, haftet. Die Aufweitvorrichtung beinhaltet ein Aufweitmittel, das die Aufweitfolie aufweitet, ein Kühl-/Erwärmungsmittel, das eine Platte beinhaltet, die eine Kontaktoberfläche zum Kontakt mit dem Werkstück aufweist und über die Aufweitfolie in Kontakt mit dem Werkstück gebracht worden ist, und ein Peltierelement zum Kühlen oder Erwärmen der Platte, und ein Polaritätswechselmittel, das die Polarität eines zum Peltierelement geleiteten Stroms umschaltet. Gemäß der vorliegenden Erfindung kann ein solcher Effekt, dass ein Problem aufgrund von an der Oberfläche eines Werkstücks abgelagertem Frost oder Tau auftritt, daran gehindert werden kann, in einem späteren Schritt erzeugt zu werden.
  • Die obigen und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung und die Weise ihrer Umsetzung werden durch ein Studium der folgenden Beschreibung und angehängten Ansprüche unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, die einige bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung zeigen, deutlicher, und die Erfindung wird hierdurch am besten verstanden.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine Perspektivansicht eines Werkstücks als ein von einem Aufweitverfahren gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zu bearbeitendes Objekt;
    • 2 ist eine Perspektivansicht, die ein Ausgestaltungsbeispiel einer Aufweitvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
    • 3 ist eine Seitenansicht, welche die Ausgestaltung einer Kühl-/Erwärmungseinheit der in 2 dargestellten Aufweitvorrichtung darstellt;
    • 4 ist ein Flussdiagramm, das die Abfolge des Aufweitverfahrens gemäß der Ausführungsform darstellt;
    • 5 ist eine Perspektivansicht, die einen Schleifschritt der hinteren Seite des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 6 ist eine Schnittansicht, die einen Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 7 ist eine Perspektivansicht, die eine Skizze eines Aufweitfolienanbringverfahrens des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 8 ist eine Schnittansicht, die ein Werkstück und dergleichen nach dem Aufweitfolienanbringschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 9 ist eine Seitenansicht der Kühl-/Erwärmungseinheit, das einen Plattenkühlschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 10 ist eine Seitenansicht, die, teilweise in Schnittansicht, einen Großteil der Aufweitvorrichtung vor einem Werkstückkühlschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 11 ist eine Seitenansicht, die, teilweise in Schnittansicht, einen Werkstückkühlschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 12 ist eine Seitenansicht, die, teilweise in Schnittansicht, einen Aufweitschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 13 ist eine Seitenansicht, die einen Plattenerwärmungsschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt;
    • 14 ist eine Seitenansicht, die, teilweise in Schnittansicht, einen Werkstückerwärmungsschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt; und
    • 15 ist eine Seitenansicht, die, teilweise in Schnittansicht, einen Rahmenanbringschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
  • Unten wird unter Bezugnahme auf die Zeichnungen eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben. Die Inhalte der folgenden Beschreibung der Ausführungsform sind für die vorliegende Erfindung nicht beschränkend. Zusätzlich beinhalten die unten beschriebenen Komponenten diejenigen, die für den Fachmann einfach erkennbar sind und diejenigen, die im Wesentlichen die gleichen sind. Ferner können die unten beschriebenen Ausgestaltungen wie benötigt kombiniert werden. Ferner sind verschiedene Auslassungen, Ersetzungen oder Modifikationen von Ausgestaltungen möglich, ohne vom Umfang des Grundgedankens der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
  • Ein Aufweitverfahren und eine Aufweitvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der folgenden Erfindung werden basierend auf den Zeichnungen beschrieben. 1 ist eine Perspektivansicht eines Werkstücks als ein vom Aufweitverfahren gemäß der Ausführungsform zu bearbeitendes Objekt. 2 ist eine Perspektivansicht, die ein Ausgestaltungsbeispiel der Aufweitvorrichtung gemäß der Ausführungsform darstellt. 3 ist eine Seitenansicht, welche die Ausgestaltung einer Kühl-/Erwärmungseinheit der in 2 dargestellten Aufweitvorrichtung darstellt. 4 ist ein Flussidagramm, das den Ablauf des Aufweitverfahrens gemäß der Ausführungsform darstellt.
  • Das Aufweitverfahren gemäß der Ausführungsform ist ein Verfahren des Aufweitens einer Aufweitfolie 11 (in 7 dargestellt), an der ein in 1 dargestelltes Werkstück 1 haftet, um das Werkstück 1 in einzelne Bauelemente zu teilen.
  • Das Werkstück 1 als ein vom Aufweitverfahren gemäß der Ausführungsform zu bearbeitendes Objekt beinhaltet mindestens einen Wafer 3, wie beispielsweise einen scheibenförmigen Halbleiterwafer oder einen Optikbauelementwafer mit einem Substrat aus Silizium, Saphir, Galliumarsenid oder SiC (Siliziumcarbid) und einen am Wafer 3 haftenden DAF 4. Wie in 1 dargestellt, weist der Wafer 3 eine vordere Oberfläche 6, die in Bereichen, die durch mehrere sich kreuzende Straßen (Teilungslinien) 5 geteilt sind, jeweils mit Bauelementen 2 ausgebildet ist, auf. Der DAF 4 dient dem Befestigen der einzeln vom Wafer 3 geteilten Bauelemente 2 an einem Substrat oder dergleichen und ist ein elastisches duktiles Material. In der Ausführungsform ist der DAF 4 in einer Scheibenform ausgebildet, die einen größeren Durchmesser als der Wafer 3 aufweist, und wird an einer hinteren Oberfläche 7 an der Hinterseite der vorderen Oberfläche 6 des Wafers 3 angehaftet. Beachte, dass, während der DAF 4 in der Ausführungsform als ein vom Werkstück beinhaltetes duktiles Material dargestellt ist, das duktile Material in der vorliegenden Erfindung nicht auf den DAF 4 beschränkt ist und eine Metallschicht (eine Elektrode oder eine Wärmesenke oder dergleichen), die an der hinteren Oberfläche 7 des Wafers 3 ausgebildet ist, ein Testelementgruppen (TEG)-Muster, das an den Straßen 5 angeordnet ist, oder dergleichen sein kann.
  • Die in 2 dargestellte Aufweitvorrichtung 20 gemäß der Ausführungsform ist eine Vorrichtung, die eine Aufweitfolie 11 mit dem daran haftenden Werkstück 1 in einer ersten Richtung 21 und einer zweiten Richtung 22 senkrecht zur ersten Richtung 21 aufweitet, um das Werkstück 1 in einzelne Bauelemente 2 zu teilen. Die Aufweitvorrichtung 20 ist auch eine Vorrichtung, die einen ringförmigen Rahmen 10 an der Aufweitfolie 11 anhaftet, an der das in die einzelnen Bauelemente 2 geteilte Werkstück 1 haftet, um das Werkstück 1 an einer Öffnung 12 des Rahmens 10 zu tragen. Beachte, dass die Aufweitfolie 11 eine elastische Folie ist und dass sie eine Basismaterialschicht beinhaltet, die unter Verwendung eines synthetischen Kunststoffs ausgestaltet ist, und eine adhäsive Schicht, die auf der Basismaterialschicht aufgebracht ist und an der hinteren Oberfläche 7 des Werkstücks 1 und des Rahmens 10 haftet. Die Form der Öffnung 12 und des Rahmens 10 ist ein Kreis, der einen größeren Durchmesser als der Wafer 3 und der DAF 4 aufweist.
  • Wie in 2 dargestellt, beinhaltet die Aufweitvorrichtung 20 eine ebene, plattenförmige stationäre Basis 23, eine Kühl-/Erwärmungseinheit 30 als ein Kühl-/Erwärmungsmittel, das in der Mitte der stationären Basis 23 vorgesehen ist, eine polaritätswechselnde Leistungsquelleneinheit 40 (in 3 dargestellt), als ein Polaritätswechselmittel, eine Aufweitfolienbefestigungseinheit 50, eine Rahmentrageinheit 60, eine Werkstücktrageinheit (nicht dargestellt), eine Folienschneideinheit 70 (in 15 dargestellt) und eine Steuerungseinheit 100.
  • Die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 ist beispielsweise in einer scheibenförmigen Form ausgebildet. Beachte, dass, während die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 in der Ausführungsform in einer scheibenartigen Form ausgebildet ist, die Form in der vorliegenden Erfindung nicht auf die scheibenartige Form beschränkt ist und beispielsweise eine rechteckige Form sein kann. Wie in 3 dargestellt, beinhaltet die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 eine Platte 31, eine Peltierelementschicht 32 und eine Wärmestrahlungsplatte 33.
  • Wie in 3 dargestellt, ist eine obere Oberfläche 34 der Platte 31 eine Kontaktoberfläche, die so ausgebildet ist, dass sie entlang horizontaler Richtungen eben ist und Kontakt mit dem Werkstück 1 aufnimmt. An der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 ist das Werkstück 1 angeordnet, wobei die Aufweitfolie 11 dazwischen angeordnet ist, und die Platte 31 steht über die Aufweitfolie 11 mit dem Werkstück 1 in Kontakt. In der Ausführungsform haftet, wie in 7 dargestellt, die an der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 angeordnete Aufweitfolie 11 an der hinteren Oberfläche 7 des Werkstücks 1 und an seiner Mitte ist das Werkstück 1 angeordnet. Die Aufweitfolie 11 ist so ausgebildet, dass sie in einer Draufsicht eine rechteckige Form aufweist, und ist größer als der Rahmen 10.
  • Die Platte 31 ist unter Benutzung eines Metalls, das eine hohe thermische Leitfähigkeit aufweist, wie beispielsweise Edelstahl (beispielsweise SUS30 (JIS)) oder einer Aluminiumlegierung (beispielsweise AL052 (JIS)) ausgestaltet. Die Platte 31 ist in einer solchen Dicke ausgebildet, dass sie durch Unebenheiten (Vorsprünge und Ausnehmungen) der Peltierelementschicht 32, in der mehrere Peltierelemente angeordnet sind, nicht beeinflusst wird, und dass ein Wölben der Platte 31 selbst verhindert wird; in der Ausführungsform beträgt die Dicke der Platte 31 1 bis 3 mm, bevorzugt 3 mm.
  • Die Peltierelementschicht 32 ist auf einer unteren Fläche der Platte 31 aufgebracht. Mit anderen Worten ist eine obere Oberfläche der Peltierelementschicht 32 auf der unteren Oberfläche der Platte 31 aufgebracht. Die Peltierelementschicht 32 beinhaltet die mehreren Peltierelemente zum Kühlen oder Erwärmen der Platte 31.
  • Die Wärmestrahlungsplatte 33 ist an einer unteren Oberfläche der Peltierelementschicht 32 aufgebracht und in der Ausführungsform ist sie in einer plattenartigen Form unter Benutzung eines Metalls ausgebildet. Die Wärmestrahlungsschicht 33 ist so ausgebildet, dass sie eine hohe Wärmekapazität aufweist, indem ein Metall wie beispielsweise eine Aluminiumlegierung, das eine große spezifische Wärme aufweist, oder Edelstahl benutzt wird, der eine hohe Masse aufweist. Die Wärmestrahlungsplatte 33 ist bevorzugt in einer Größe und einer Dicke festgelegt, die einen Konvektionswärmeverlust und einen Strahlungswärmeverlust berücksichtigen; dort, wo die Wärmestrahlungsplatte so ausgebildet ist, dass sie unter Benutzung einer Aluminiumlegierung beispielsweise 360 Quadratmillimeter aufweist, beträgt ihre Dicke bevorzugt nicht weniger als 5 mm, und dort, wo die Strahlungsplatte unter Benutzung von Edelstahl ähnlich ausgestaltet ist, beträgt ihre Dicke bevorzugt nicht weniger als 3 mm. Zusätzlich ist es dort, wo die Wärmestrahlungsplatte 33 unter Benutzung von Edelstahl ausgestaltet ist, zum Verbessern der Kühlrate des Werkstücks 1 durch die Platte 31 beispielsweise bevorzugt, dass die Dicke der Wärmestrahlungsplatte ungefähr 20 mm beträgt. Wenn die Wärmestrahlungsplatte 33 so ausgebildet ist, dass sie eine hohe Wärmekapazität aufweist, sodass sie in der Lage ist, die Wärme zu speichern, die erzeugt wird, wenn die Platte 31 gekühlt wird, ist nicht notwendig, dass die Kühl-Erwärmungseinheit 30, mit einem Mechanismus wie beispielsweise einem Ventilator versehen ist, durch den die zur Seite der Wärmestrahlungsplatte 33 übertragene Wärme nach außerhalb der Wärmestrahlungsplatte 33 entlassen wird.
  • Die Polaritätswechsel-Leistungsquelleneinheit 40 leitet einen Strom zu den Peltierelementen in der Peltierelementschicht 32 und wechselt die Polarität des zu den Peltierelementen in der Peltierelementschicht 32 geleiteten Stroms. Die Polaritätswechsel-Leistungsquelleneinheit 40 weist zwei Leistungsquelleneinheiten 43 auf, von denen jede eine Gleichstrom (DC)-Leistungsquelle 41 und einen Schalter 42 aufweist, die miteinander in Reihe verbunden sind. Die zwei Leistungsquelleneinheiten 43 sind parallel miteinander verbunden und sind mit der Peltierelementschicht 32 verbunden. Wenn der Schalter 42 der Leistungsquelleneinheit 43 auf einer Seite, in 3 der oberen Seite, der Polaritätswechsel-Leistungsquelleneinheit 40 (diese Leistungsquelleneinheit 43 wird im Folgenden mit den Bezugszeichen 43-1 bezeichnet) geschlossen wird, sodass sie auf die eine Seite der Peltierelemente in der Peltierelementschicht 42 eine Spannung von der Gleichstromleistungsquelle 41 der Leistungsquelleneinheit 43-1 aufprägt, tritt eine Wärmeabsorption an der oberen Oberflächenseite der Peltierelementschicht 32 auf, sodass die Platte 31 gekühlt wird, wohingegen an der unteren Oberflächenseite der Peltierelementschicht 32 eine Wärmeabgabe auftritt, sodass die Wärmestrahlungsplatte 33 erwärmt wird. Auf der anderen Seite tritt, wenn der Schalter 42 der Leistungsquelleneinheit 43 auf der anderen Seite, in 3 der unteren Seite, der Polaritätswechsel-Leistungsquelleneinheit 40 (diese Leistungsquelleneinheit 43 wird im Folgenden mit dem Bezugszeichen 43-2 bezeichnet) geschlossen wird, um auf die andere Seite der Peltierelemente in der Peltierelementschicht 32 eine Spannung von der Gleichstromleistungsquelle 41 der Leistungsquelleneinheit 43-2 aufzuprägen, eine Wärmeabsorption an der unteren Oberflächenseite der Peltierelementschicht 32 auf, sodass die Wärmestrahlungsplatte 33 gekühlt wird, wohingegen an der oberen Oberflächenseite der Peltierelementschicht 32 eine Wärmeabgabe auftritt, sodass die Platte 31 erwärmt wird. Auf diese Weise beinhaltet die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 die Peltierelemente, welche die Platte 31 kühlen oder erwärmen.
  • Die Aufweitfolienbefestigungseinheit 50 ist zum Halten der Aufweitfolie 11 mit dem daran haftenden Werkstück 1. Die Aufweitfolienbefestigungseinheit 50 beinhaltet eine erste Halteeinheit 51-1, eine zweite Halteeinheit 51-2, eine dritte Halteeinheit 51-3 und eine vierte Halteeinheit 51-4. Die erste Halteeinheit 51-1 und die zweite Halteeinheit 51-2 sind einander entlang der ersten Richtung 21 zugewandt, wobei die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 dazwischen angeordnet ist. Die dritte Halteeinheit 51-3 und die vierte Halteeinheit 51-4 sind einander entlang der zweiten Richtung 22 zugewandt, wobei die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 dazwischen angeordnet ist.
  • Die erste Halteeinheit 51-1, die zweite Halteeinheit 51-2, die dritte Halteeinheit 51-3 und die vierte Halteeinheit 51-4 klemmen und halten jeweils denjenigen Abschnitt der Aufweitfolie 11, der sich relativ zum Werkstück 1 an der äußeren Umfangsseite befindet. Die erste Halteeinheit 51-1, die zweite Halteeinheit 51-2, die dritte Halteeinheit 51-3 und die vierte Halteeinheit 51-4 sind jeweils Haltemittel zum jeweiligen Halten jeder Kante der Aufweitfolie. Da die erste Halteeinheit 51-1, die zweite Halteeinheit 51-2, die dritte Halteeinheit 51-3 und die vierte Halteeinheit 51-4 einander im Wesentlichen hinsichtlich ihrer Ausgestaltung identisch sind, werden die äquivalenten Abschnitte beschrieben, während sie mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet werden.
  • Die erste Halteeinheit 51-1, die zweite Halteeinheit 51-2, die dritte Halteeinheit 51-3 und die vierte Halteeinheit 51-4 beinhalten jeweils ein Paar Klemmelemente 53, die vertikal beweglich an einer säulenartigen beweglichen Basis 52, die an der stationären Basis 23 vorgesehen ist, vorgesehen sind, und eine Bandbewegungseinheit 54, die das Paar Klemmelemente 53 in Richtung aufeinander zu und voneinander weg bewegt. Das Paar Klemmelemente 53 ist mit einem vertikalen Abstand dazwischen angeordnet und wird durch die Bandbewegungseinheit 54 aufeinander zu und voneinander weg bewegt, um die Aufweitfolie 11 dazwischen zu klemmen und zu halten. Die Bandbewegungseinheit 54 ist an der beweglichen Basis 52 vorgesehen.
  • Die Bandbewegungseinheit 54 beinhaltet: einen Motor 55, durch den das Paar Klemmelemente 53 vertikal beweglich ist, eine Kugelgewindespindel 56, die vom Motor 55 um eine Achse gedreht wird, und Muttern 58, die mit der Kugelgewindespindel 56 einen Schraubeingriff eingehen und jeweils über ein Armelement 57 mit dem Klemmelement 53 verbunden sind. Wenn der Motor 55 die Kugelgewindespindel 56 um die Achse dreht, bewegt die Bandbewegungseinheit 54 die Mutter 58, die Armelemente 57 und die Klemmelemente 53 vertikal.
  • Zusätzlich kann die Bandbewegungseinheit 54, wenn die Kugelgewindespindel 56 vom Motor 55 um die Achse gedreht wird, auch das Paar Klemmelemente 53 vertikal in der gleichen Richtung bewegen. Deswegen kann die Bandbewegungseinheit 54 die Aufweitfolie 11 vertikal in der Richtung bewegen, dass sie von der Kühl-/Erwärmungseinheit 30 wegbewegt wird, indem sie das Paar Klemmelemente 53 mit der dazwischen geklemmten Aufweitfolie 11 nach oben bewegt.
  • Daneben ist die mit dem Paar Klemmelemente 53 und der Bandbewegungseinheit 54 der ersten Halteeinheit 51-1 versehene bewegliche Basis 52 so auf der stationären Basis 23 vorgesehen, dass sie von einer ersten Bewegungseinheit 58-1 in der ersten Richtung 21 beweglich ist. Die mit dem Paar Klemmelemente 53 und der Bandbewegungseinheit 54 der zweiten Halteeinheit 51-2 versehene bewegliche Basis 52 ist so an der stationären Basis 23 vorgesehen, dass sie von einer zweiten Bewegungseinheit 58-2 in der ersten Richtung 21 beweglich ist. Die mit dem Paar Klemmelemente 53 und der Bandbewegungseinheit 54 der dritten Halteeinheit 51-3 versehene bewegliche Basis 52 ist so an der stationären Basis 23 vorgesehen, dass sie durch eine dritte Bewegungseinheit 58-3 in der zweiten Richtung 22 beweglich ist. Die mit dem Paar Klemmelemente 53 und der Bandbewegungseinheit 54 der vierten Halteeinheit 51-4 versehene bewegliche Basis 52 ist so an der stationären Basis 23 vorgesehen, dass sie von einer vierten Bewegungseinheit 58-4 in der zweiten Richtung 22 beweglich ist.
  • Da die erste Bewegungseinheit 58-1, die zweite Bewegungseinheit 58-2, die dritte Bewegungseinheit 58-3 und die vierte Bewegungseinheit 58-4 hinsichtlich ihrer Ausgestaltung im Wesentlichen zueinander identisch sind, werden die äquivalenten Abschnitte beschrieben, während sie mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind.
  • Die erste Bewegungseinheit 58-1, die zweite Bewegungseinheit 58-2, die dritte Bewegungseinheit 58-3 und die vierte Bewegungseinheit 58-4 beinhalten jeweils einen Motor 59-1, von dem die jeweiligen Halteeinheiten 51-1, 51-2, 51-3 und 51-4 in der ersten Richtung 21 oder der zweiten Richtung 22 bewegt werden können, und eine Kugelgewindespindel 59-2, die vom Motor 59-1 um eine Achse gedreht wird und die bewegliche Basis 52 in der ersten Richtung 21 oder der zweiten Richtung 22 bewegt.
  • Die erste Bewegungseinheit 58-1, die zweite Bewegungseinheit 58-2, die dritte Bewegungseinheit 58-3 und die vierte Bewegungseinheit 58-4 bilden ein Aufweitmittel zum Aufweiten der von den Halteeinheiten 51-1, 51-2, 51-3 und 51-4 gehaltenen Aufweitfolie 11, indem sie die Halteeinheiten 51-1 ,51-2, 51-3 und 51-4 in den Richtungen zum voneinander Wegbewegen in der ersten Richtung 21 oder der zweiten Richtung 22 bewegen.
  • In der Ausführungsform ist die Rahmentrageinheit 60 an der oberen Seite der Aufweitfolienbefestigungseinheit 50 angeordnet, ist in einer dicken ebenen plattenartigen Form ausgebildet und hält den Rahmen 10 an ihrer unteren Oberfläche 61. Die Rahmentrageinheit 60 ist so vorgesehen, dass sie in der vertikalen Richtung durch eine Anhebeinheit 62 beweglich ist und dass sie in horizontalen Richtungen durch eine (nicht dargestellte) Horizontalrichtungsbewegungseinheit beweglich ist. Die Rahmentrageinheit 60 wird von der Horizontalrichtungsbewegungseinheit an einer solchen Position angeordnet, dass die Öffnung 12 des an ihrer unteren Oberfläche 61 gehaltenen Rahmens 10 koaxial mit der Platte 31 ist, wodurch der Rahmen 10 an einer solchen Position positioniert wird, dass die Öffnung 12 des Rahmens 10 und das an der Aufweitfolie 11 haftende Werkstück 1, das an der Platte 31 platziert ist, in der vertikalen Richtung zueinander zeigen. Zusätzlich haftet die Rahmentrageinheit 60 den Rahmen 10 an die Aufweitfolie 11 an, indem sie von der Anhebeinheit 62 abgesenkt wird.
  • Die Werkstücktrageinheit ist an der oberen Seite der Aufweitfolienbefestigungseinheit 50 angeordnet und hält das Werkstück 1 an ihrer unteren Oberfläche. Die Werkstücktrageinheit ist so vorgesehen, dass sie in der vertikalen Richtung durch eine Anhebeinheit beweglich ist und in horizontalen Richtungen durch eine Horizontalrichtungsbewegungseinheit bewegbar ist. Die Werkstücktrageinheit wird von der Horizontalrichtungsbewegungseinheit an einer solchen Position angeordnet, dass das an ihrer unteren Oberfläche gehaltene Werkstück 1 koaxial mit der Platte 31 ist, wodurch das Werkstück 1 an einer solchen Position positioniert wird, dass es in der vertikalen Richtung zur Platte 31 zeigt. Zusätzlich haftet die Werkstücktrageinheit das Werkstück 1 an die Aufweitfolie 11 an, indem sie von der Anhebeinheit abgesenkt wird.
  • Die Folienschneideeinheit 70 ist zum Schneiden der am Rahmen 10 haftenden Aufweitfolie 11 entlang des Rahmens 10. Wie in 15 dargestellt, beinhaltet die Folienschneideinheit 70 einen Schneider 71 zum Schneiden der Aufweitfolie 11.
  • Die Steuerungseinheit 100 ist zum Steuern der Bestandteile der Aufweitvorrichtung 20, wodurch sie bewirkt, dass die Aufweitvorrichtung 20 einen Vorgang des Aufweitens der Aufweitfolie 11 und einen Vorgang des Anhaftens des Aufweitrahmens 11 am Rahmen 10 durchführt. Beachte, dass die Steuerungseinheit 100 ein Computer ist, der eine arithmetische Verarbeitungsvorrichtung mit einem Mikroprozessor wie beispielsweise einer zentralen Recheneinheit (CPU), einer Speichervorrichtung, die einen Speicher wie beispielsweise einen Read Only Memory (ROM) oder einen Random Access Memory (RAM) aufweist, und eine Eingabe-Ausgabe-Schnittstellenvorrichtung beinhaltet. Die arithmetische Verarbeitungsvorrichtung der Steuerungseinheit 100 führt ein arithmetisches Verarbeiten gemäß einem in der Speichervorrichtung gespeicherten Computerprogramm durch und gibt über die Eingabe-Ausgabe-Schnittstellenvorrichtung Steuersignale zum Steuern der Aufweitvorrichtung 20 zu den Bestandteilen der Aufweitvorrichtung 20 aus. Zusätzlich ist die Steuerungseinheit 100 mit einer Anzeigeeinheit (nicht dargestellt), die unter Benutzung eines Flüssigkristalldisplays oder dergleichen ausgestaltet ist, die verschiedene Arten von Informationen und Bildern und dergleichen anzeigt, und einer Eingabeeinheit (nicht dargestellt) zur Benutzung durch einen Bediener verbunden, der Informationen über die Inhalte der Bearbeitung oder dergleichen registriert. Die Eingabeeinheit ist unter Benutzung eines an der Anzeigeeinheit vorgesehenen Touchpanels und/oder einer externen Eingabevorrichtung wie beispielsweise einer Tastatur ausgestaltet.
  • Beachte, dass die Aufweitvorrichtung 20 in der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den oben erwähnten Bestandteilen eine Folienhalteeinheit, die die Aufweitfolie 11 in einer gerollten Form hält, eine Zuführeinheit, welche die Aufweitfolie 11 von der Folienhalteeinheit zu den Halteeinheiten 51-1, 51-2, 51-3 und 51-4 liefert, und eine Schneideinheit, welche die von der Zuführeinheit zugeführte Aufweitfolie 11 schneidet, beinhalten kann.
  • Wie in 4 dargestellt, beinhaltet das Aufweitverfahren gemäß der Ausführungsform einen Schleifschritt der hinteren Oberfläche ST1, einen Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten ST2, einen Aufweitfolienanhaftschritt ST3, einen Plattenkühlschritt ST4, einen Werkstückkühlschritt ST5, einen Aufweitschritt ST6, einen Plattenerwärmschritt ST7, einen Werkstückerwärmschritt ST8 und einen Rahmenanbringschritt ST9.
  • <Schleifschritt der hinteren Oberfläche>
  • 5 ist eine Perspektivansicht, die einen Schleifschritt der hinteren Oberfläche des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Schleifschritt der hinteren Oberfläche ST1 ist ein Schritt des Schleifens der hinteren Oberfläche 7 des Wafers 3 des Werkstücks 1, um den Wafer 3 mit einer gewünschten Enddicke dünn auszugestalten.
  • Im Schleifschritt der hinteren Oberfläche ST1 wird als erstes ein Schutzband 13 an der vorderen Oberfläche 6 des Wafers 3 angebracht. In der Ausführungsform wird das Schutzband 13, das den gleichen Durchmesser wie der Wafer 3 aufweist, benutzt. Im Schleifschritt der hinteren Oberfläche ST1 hält, wie in 5 dargestellt, eine Schleifvorrichtung 80 die vordere Oberfläche 6 des Wafers 3 mit dem dazwischen angeordneten Schutzband 13 unter Ansaugung an einem Einspanntisch 81 und während sich der Einspanntisch 81 um eine Achse dreht, werden Schleifsteine 83 einer Schleifeinheit 82 um eine Achse gedreht und in Kontakt mit der hinteren Oberfläche 7 des Wafers 3 gebracht, um die hintere Oberfläche 7 zu schleifen. Nach dem Schleifschritt der hinteren Oberfläche ST1 schreitet das Aufweitverfahren zum Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten ST2 fort.
  • <Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten>
  • 6 ist eine Schnittansicht, die den Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten ST2 ist ein Schritt des Ausbildens des Wafers 3 des Werkstücks 1 mit modifizierten Schichten 14 als Teilungsstartpunkte entlang der Straßen.
  • Im Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten ST2 hält, wie in 6 dargestellt, eine Laserbearbeitungsvorrichtung 90 die vordere Oberfläche 6 des Wafers 3 mit dem dazwischen angeordneten Schutzband 3 an einem Einspanntisch 91 unter Ansaugung und ein Laserstrahl einer solchen Wellenlänge, dass er durch das Werkstücks 1 transmittiert wird, wird von der Seite der hinteren Oberfläche 7 des Werkstücks 1 entlang der Straßen 5 aufgebracht. Im Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten ST2 wird ein Brennpunkt 93 des Laserstrahls 92 im Inneren des Wafers 3 angeordnet und der Laserstrahl 92 wird auf das Werkstück 1 aufgebracht, während sich das Werkstück 1 und eine Laserstrahlaufbringeinheit 94 entlang der Straßen relativ zueinander bewegen. Im Ausbildungsschritt von Teilungsstartpunkten ST2 werden die modifizierten Schichten 14 entlang der Straßen 5 als Teilungsstartpunkte im Inneren des Wafers 3 ausgebildet.
  • Beachte, dass die modifizierte Schicht 14 einen Bereich bezeichnet, in dem sich eine Dichte, ein Brechungsindex, eine mechanische Festigkeit oder eine andere physikalische Eigenschaft von derjenigen in der Umgebung unterscheidet und Beispiele dafür beinhalten einen Schmelzbehandlungsbereich, einen Risskunststoff, einen Bereich eines dielektrischen Durchschlags, einen Bereich mit geändertem Brechungsindex und einen Bereich, in dem diese Bereiche gemischt vorliegen. Daneben ist in der Ausführungsform das Werkstück 1 mit den modifizierten Schichten 14 als die Teilungsstartpunkte ausgebildet, jedoch können geschnittene Nuten durch ein Schneiden von der Seite der vorderen Oberfläche 6 als Teilungsstartpunkte ausgebildet sein oder laserbearbeitete Nuten können durch eine Laserablationsbearbeitung von der Seite der vorderen Oberfläche 6 als Teilungsstartpunkte ausgebildet sein. Nach dem Ausbildungsschritt der Teilungsstartpunkte ST2 schreitet das Aufweitverfahren zum Aufweitfolienanbringschritt ST3 fort.
  • <Aufweitfolienanbringschritt>
  • 7 ist eine Perspektivansicht, die eine Darstellung des Aufweitfolieanbringschritts des in 4 genannten Aufweitverfahrens zeigt. 8 ist eine Schnittansicht, die das Werkstück und dergleichen nach dem Aufweitfolieanbringschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Aufweitfolienanbringschritt ST3 ist ein Schritt des Anbringens des DAF 4 an der hinteren Oberfläche 7 des Wafers 3 und des Anbringens der Aufweitfolie 11 am DAF 4 des Werkstücks 1.
  • In der Ausführungsform positioniert, wie in 7 dargestellt, die Aufweitvorrichtung 20 im Aufweitfolienanbringschritt ST3 die Aufweitfolie 11 mit dem an ihrer Mitte angebrachten DAF 4 an einer Position, die von der Platte 31 entfernt ist, und hält die Aufweitfolie 11 durch das Paar Klemmelemente 53 der Halteeinheiten 51-1, 51-2, 51-3 und 51-4. Im Aufweitfolienanbringschritt ST3 bewirkt die Aufweitvorrichtung 20, dass die an der Werkstücktrageinheit gehaltene hintere Oberfläche 7 des Wafers 3 zum DAF 4 zeigt und senkt die Werkstücktrageinheit ab, um die hintere Oberfläche 7 des Wafers 3 am DAF 4 anzubringen, wie in 8 gezeigt. In der vorliegenden Erfindung kann der an der Aufweitfolie 11 haftende DAF 4 durch eine (nicht dargestellte) Anbringrolle von unterhalb der Aufweitfolie 11 an der hinteren Oberfläche 7 des Wafers 3 angehaftet werden. Im Aufweitfolienanbringschritt ST3 wird das Schutzband 13 abgezogen.
  • Beachte, dass in der Ausführungsform die hintere Oberfläche 7 des Wafers 3 am im Aufweitfolienanbringschritt ST3 an der Aufweitfolie 11 angehafteten DAF 4 haftet, aber der DAF 4 und die Aufweitfolie 11 in der vorliegenden Erfindung nacheinander an der hinteren Oberfläche 7 des Wafers 3 angehaftet werden können. Insbesondere kann in der vorliegenden Erfindung der Wafer 3 mit dem hauptsächlich an seiner hinteren Oberfläche 7 angebrachten DAF 4 von der Werkstücktrageinheit gehalten werden und kann an der von den Klemmelementen 53 gehaltenen Aufweitfolie 11 haften. Nach dem Aufweitfolienanbringschritt ST3 schreitet das Verfahren zum Plattenkühlschritt ST4 fort.
  • <Plattenkühlschritt>
  • 9 ist eine Seitenansicht der Kühl/Erwärmeinheit, welche den Plattenkühlschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Plattenkühlschritt ST4 ist ein Schritt des Kühlens der Platte 31 der Kühl-/Erwärmeinheit 30 auf eine Temperatur, auf die das Werkstück 1 zu kühlen ist.
  • In der Ausführungsform schließt die Aufweitvorrichtung 20 im Plattenkühlschritt ST4, wie in 9 dargestellt, den Schalter 42 der Leistungsquelleneinheit 43-1 auf einer Seite der Polarisierungswechsel-Leistungsquelleneinheit 40 und hält den Schalter 42 der Leistungsquelleneinheit 43-2 auf der anderen Seiten offen, um die Platte 31 durch die Peltierelemente in der Peltierelementschicht 32 zu kühlen. In der Ausführungsform wird die Platte 31 im Plattenkühlschritt ST4 gekühlt, bis die Temperatur an ihrer oberen Oberfläche 34 auf eine gewünschte Kühltemperatur gebracht worden ist, nämlich eine Temperatur von -20°C bis -15°C. Nach dem Plattenkühlschritt ST4 schreitet das Aufweitverfahren zum Werkstückkühlschritt ST5 fort.
  • <Werkstückkühlschritt>
  • 10 ist eine Seitenansicht, die, teilweise im Schnitt, einen großen Teil der Aufweitvorrichtung vor dem Werkstückkühlschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. 11 ist eine Seitenansicht, die, teilweise im Schnitt, den Werkstückkühlschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt.
  • Der Werkstückkühlschritt ST5 ist ein Schritt des In-Kontakt Bringens der Platte 31 mit dem Werkstück 1 über die Aufweitfolie 11, um das Werkstück 1 zu kühlen, nachdem der Plattenkühlschritt ST4 durchgeführt worden ist. In der Ausführungsform bewirkt die Aufweitvorrichtung 20, dass Bandbewegungseinheit 54 im Werkstückkühlschritt ST5, ausgehend von dem Zustand, in dem die Aufweitfolie 11 von der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 wie in 10 beabstandet ist, die Aufweitfolie 11 absenkt, um die Aufweitfolie 11, wie in 11 gezeigt, in Kontakt mit der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 zu bringen. In der Ausführungsform hält die Aufweitvorrichtung 20 im Werkstückkühlschritt ST5 die Aufweitfolie 11 für 20 bis 60 Sekunden in Kontakt mit der oberen Oberfläche 34 der Platte 31, um dadurch den Wafer 3 und den DAF 4 des Werkstücks 1 zu kühlen. Nach dem Werkstückkühlschritt ST5 schreitet das Aufweitverfahren zum Aufweitschritt ST6 und dem Plattenkühlschritt ST7 fort.
  • <Aufweitschritt>
  • 12 ist eine Seitenansicht, die, teilweise im Schnitt, den Aufweitschritt im in 4 dargestellten Aufweitverfahren darstellt. Der Aufweitschritt ST6 ist ein Schritt des Aufweitens der Aufweitfolie 11, nachdem der Werkstückkühlschritt ST5 durchgeführt worden ist.
  • In der Ausführungsform bewirkt die Aufweitvorrichtung 20 im Aufweitschritt ST6, dass die Bandbewegungseinheit 54 die Aufweitfolie 11 nach oben bewegt, um die Aufweitfolie 11 von der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 zu trennen, wonach die Aufweitvorrichtung 20 bewirkt, dass die Bewegungseinheiten 58-1, 58-2, 58-3 und 58-4 die Halteeinheiten 51-1, 51-2, 51-3 und 51-4 in der ersten Richtung 21 oder der zweiten Richtung 22 bewegt, um sie voneinander zu entfernen. Als ein Ergebnis wird die Aufweitfolie 11 zusammen mit den Bewegungen der Halteeinheiten 51-1, 51-2, 51-3 und 51-4 sowohl in der ersten Richtung 21 als auch in der zweiten Richtung 22 aufgeweitet. Als ein Ergebnis der Aufweitung der Aufweitfolie 11 wirken Zugkräfte in der ersten Richtung 21 und der zweiten Richtung 22 auf die Aufweitfolie 11.
  • Wenn die Zugkräfte in der ersten Richtung 21 und der zweiten Richtung 22 somit auf die Aufweitfolie 11 mit dem daran haftenden Werkstück 1 wirken, wird das Werkstück 1, das entlang der Straßen 5 mit den modifizierten Schichten 14 ausgebildet worden ist, entlang der Straßen 5 mit den modifizierten Schichten 14 als Startpunkte in die einzelnen Bauelemente 2 geteilt und der DAF 4 wird auf der Basis der Bauelemente 2 geteilt. Beachte, dass die Aufweitfolie 11 in der Ausführungsform aufgeweitet wird, nachdem sie im Aufweitschritt ST6 nach oben bewegt worden ist, damit sie von der oberen Oberfläche 34 des Platte 31 getrennt wird, aber in der vorliegenden Erfindung kann die Aufweitfolie 11 aufgeweitet werden, während sie in Kontakt mit der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 gehalten wird, ohne, dass sie nach oben bewegt wird. Nach dem Aufweitschritt ST6 schreitet das Aufweitverfahren zum Werkstückerwärmungsschritt ST8 fort.
  • <Plattenerwärmungsschritt>
  • 13 ist eine Seitenansicht, die den Plattenerwärmungsschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Plattenerwärmungsschritt ST7 ist ein Schritt des Erwärmens der Platte 31, nachdem der Werkstückkühlschritt ST5 durchgeführt worden ist.
  • In der Ausführungsform öffnet die Aufweitvorrichtung 20, wie in 13 dargestellt, im Plattenerwärmungsschritt ST7 den Schalter 42 der Leistungsquelleneinheit 43-1 auf einer Seite der Polaritätswechsel-Leistungsquelleneinheit 40 und schließt den Schalter 42 der Leistungsquelleneinheit 43-2 auf der anderen Seite, um die Platte 31 durch die Peltierelemente in der Peltierelementschicht 32 zu erwärmen. In der Ausführungsform wird die Platte 31 im Plattenerwärmungsschritt ST7 erwärmt, bis die Temperatur an ihrer oberen Oberfläche 34 auf eine Erwärmungstemperatur von 20°C bis 30°C gebracht worden ist. Beachte, dass die Kühl/Erwärmeinrichtung 30 in der Ausführungsform damit fortfährt, die Platte 31 auf eine Temperatur in der Größenordnung von 20°C bis 30°C zu erwärmen, indem sie im in 13 dargestellten Zustand einen Strom führt, was normalerweise die Stand-By-Periode beinhaltet, die sich von den Perioden des Kühlens des Werkstücks 1, nämlich dem Plattenkühlschritt ST4 und dem Werkstückkühlungsschritt ST5, unterscheidet. Dadurch fährt die Aufweitvorrichtung 20 selbst in der Stand-By-Periode damit fort, die Platte 31 ungefähr auf eine normale Temperatur zu erwärmen, wodurch die in der Wärmestrahlungsplatte 33 akkumulierte Wärme abgeführt wird, was den Effekt hervorruft, dass die Platte 31 in einer kurzen Zeit gekühlt werden kann. Nach dem Plattenerwärmungsschritt ST7 schreitet das Aufweitverfahren zum Werkstückerwärmungsschritt ST8 fort.
  • <Werkstückerwärmungsschritt>
  • 14 ist eine Seitenansicht, die, teilweise im Schnitt, den Werkstückerwärmungsschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Werkstückerwärmungsschritt ST8 ist ein Schritt des In-Kontakt-Bringens der Platte 31 mit dem Werkstück 1 über die Aufweitfolie 11, um das Werkstück 1 zu erwärmen, nachdem der Aufweitschritt ST6 und der Plattenerwärmungsschritt ST7 durchgeführt worden sind.
  • In der Ausführungsform bewirkt die Aufweitvorrichtung 20 im Werkstückerwärmungsschritt ST8, dass die Bandbewegungseinheit 54 die Aufweitfolie 11 absenkt, um die Aufweitfolie 11 in Kontakt mit der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 zu bringen, wie in 14 dargestellt. In der Ausführungsform bringt die Aufweitvorrichtung 20 die Aufweitfolie 11 im Werkstückerwärmungsschritt ST8 in Kontakt mit der oberen Oberfläche 34 der Platte 31, um den Wafer 3 und den DAF 4 des Werkstücks 1 zu erwärmen, um dadurch an der vorderen Oberfläche 6 des Wafers 3 erzeugten Frost oder Tau zu entfernen. Nach dem Werkstückerwärmungsschritt ST8 schreitet das Aufweitverfahren zum Rahmenanbringschritt ST9 fort.
  • <Rahmenanbringschritt>
  • 15 ist eine Seitenansicht, die, teilweise im Schnitt, den Rahmenanbringschritt des in 4 dargestellten Aufweitverfahrens darstellt. Der Rahmenanbringschritt ST9 ist ein Schritt des Anbringens des Rahmens 10 an der Aufweitfolie 11, nachdem der Werkstückerwärmungsschritt ST8 durchgeführt worden ist.
  • In der Ausführungsform bewirkt die Aufweitvorrichtung 20 im Rahmenanbringschritt ST9, dass die Bandbewegungseinheit 54 die Aufweitfolie 11 nach oben bewegt, um die Aufweitfolie 11 von der oberen Oberfläche 34 der Platte 31 zu trennen, wonach der Rahmen 10 an einer solchen Position positioniert wird, dass die Öffnung des Rahmens 10 und das an der Aufweitfolie 11 angebrachte Werkstück 10 zueinander zeigen und dass der Rahmen 10 von der Aufweitfolie 11 beabstandet ist. Im Rahmenanbringschritt ST9 senkt die Aufweitvorrichtung 20, wie in 15 dargestellt, die Rahmentrageinheit 60 ab, wodurch der von der Rahmentrageinheit 60 gehaltene Rahmen 10 an der Aufweitfolie 11 angebracht wird, und die Aufweitvorrichtung 20 bewirkt, dass der Schneider 71 der Folienschneideinheit 70 die Aufweitfolie 11 entlang des Rahmens 10 schneidet. Nach dem Rahmenanbringschritt ST9 wird das Aufweitverfahren beendet.
  • Im Aufweitverfahren und der Aufweitvorrichtung 20 gemäß der Ausführungsform wird, nachdem der Werkstückkühlschritt ST5 durchgeführt worden ist, der Aufweitschritt ST6 ausgeführt und dann wird der Werkstückerwärmungsschritt ST8 ausgeführt. Deswegen kann der im Werkstückkühlschritt ST5 erzeugte Tau oder Frost durch ein Erwärmen entfernt werden und es kann verhindert werden, dass Probleme aufgrund des Taus oder des Frosts in den späteren Schritten erzeugt werden. Zusätzlich beinhaltet die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 zum Kühlen des Werkstücks 1 im Aufweitverfahren und der Aufweitvorrichtung 20 die Platte 31, die Kontakt mit dem Werkstück 1 aufnimmt, um das Werkstück 1 zu kühlen, und die Peltierelementschicht 32 zum Kühlen der Platte 31. Deswegen ist es nicht notwendig, eine Kühlkammer zum Unterbringen und Kühlen des Werkstücks 1 vorzusehen und demgemäß kann vermieden werden, dass die Aufweitvorrichtung 20 vergrößert wird. Als ein Ergebnis kann das Werkstück 1 mit dem DAF 4 im Aufweitverfahren und der Aufweitvorrichtung 20 gemäß der Ausführungsform in einzelne Bauelemente 2 geteilt werden, während eine Vergrößerung der Vorrichtung vermieden wird, und Probleme aufgrund des an der vorderen Oberfläche 6 des Werkstücks 1 abgelagerten Taus oder Frosts können daran gehindert werden, in späteren Schritten aufzutreten.
  • Daneben beinhaltet die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 im Aufweitverfahren und der Aufweitvorrichtung gemäß der Ausführungsform die Peltierelementschicht 32 und kühlt und erwärmt das Werkstück 1. Deswegen kann ein Anstieg der Anzahl an Bestandteilen der Aufweitvorrichtung 20 vermieden werden und eine Vergrößerung der Vorrichtung selbst kann vermieden werden.
  • Zusätzlich beinhaltet die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 im Aufweitverfahren und der Aufweitvorrichtung 20 gemäß der Ausführungsform die Peltierelementschicht 32 und kühlt und erwärmt das Werkstück 1; deswegen ist es nicht notwendig, die gesamte Aufweitvorrichtung 20, welche die Kanten der Aufweitfolie 11 hält und die Aufweitfolie 11 aufweitet, mit einer Kühlkammer abzudecken. Als ein Ergebnis kann eine Vergrößerung der Aufweitvorrichtung 20, welche die Kanten der Aufweitfolie 11 hält und die Aufweitfolie 11 aufweitet, im Aufweitverfahren und der Aufweitvorrichtung 20 gemäß der Ausführungsform vermieden werden. Der Effekt, dass eine Vergrößerung der Aufweitvorrichtung selbst vermieden werden kann, ist insbesondere im Fall, in dem die Vorrichtung die oben erwähnte Bandhalteeinheit, Liefereinheit und Schneideinheit enthält, auffällig.
  • Beachte, dass die vorliegende Erfindung nicht auf die oben beschriebene Ausführungsform beschränkt ist. Die vorliegende Erfindung kann mit verschiedenen Modifikationen ausgeführt werden, ohne vom Umfang des Grundgedankens der Erfindung abzuweichen. Beispielsweise bewirkt in der Ausführungsform die Aufweitvorrichtung 20, dass die Bandbewegungseinheit 54 die Aufweitfolie 11 im Werkstückkühlschritt ST5 absenkt, die Aufweitfolie 11 im Aufweitschritt ST6 nach oben bewegt, die Aufweitfolie 11 im Werkstückerwärmungsschritt ST8 absenkt, und die Aufweitfolie 11 im Rahmenanbringschritt ST9 nach oben bewegt. In der vorliegenden Erfindung kann jedoch die Aufweitvorrichtung 20 die Kühl-/Erwärmungseinheit 30 im Werkstückkühlschritt ST5, im Aufweitschritt ST6, im Werkstückerwärmungsschritt ST8 und im Rahmenanbringschritt ST9 nach oben oder nach unten bewegen. In diesem Fall kann es sein, dass die Aufweitfolie 11 im Rahmenanbringschritt ST9 nicht nach oben bewegt wird, es kann sein, dass die Kühl-/Erwärmungseinheit abgesenkt und zurückgezogen wird und es kann sein, dass die Rahmentrageinheit 60 abgesenkt wird, um den Rahmen 10 anzubringen.
  • Zusätzlich werden in der Ausführungsform der Wafer 3 und der DAF 4 gemeinsam geteilt (das zu bearbeitende Ziel sind nämlich der Wafer und das duktile Material). Allerdings ist die vorliegende Erfindung auch im Fall eines ausschließlichen Teilens des am Wafer 3 haftenden DAFs 4 bevorzugt, der durch ein Schleifen, das nach einem Halbschneiden oder einer Ausbildung einer modifizierten Schicht entlang der Straßen 5 in die Bauelemente 2 durchgeführt wird, vereinzelt worden ist (mit anderen Worten, im Fall, in dem das zu bearbeitende Objekt nur das duktile Material ist).
  • Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die Details der oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsform beschränkt. Der Schutzbereich der Erfindung wird durch die angehängten Ansprüche definiert und sämtliche Änderungen und Abwandlungen, die in den äquivalenten Schutzbereich der Ansprüche fallen, sind folglich durch die Erfindung einbezogen.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
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    • JP 2007189057 [0002]
    • JP 2007 [0003]
    • JP 189057 [0003]

Claims (2)

  1. Aufweitverfahren zum Aufweiten einer Aufweitfolie, an der ein Werkstück, das mindestens ein duktiles Material beinhaltet, haftet, wobei das Aufweitverfahren umfasst: einen Plattenkühlschritt des Kühlens einer Platte eines Kühl-/Erwärmungsmittels, das die Platte aufweist, die eine Kontaktoberfläche zum Kontakt mit dem Werkstück, und ein Peltierelement zum Kühlen oder Erwärmen der Platte auf eine Temperatur aufweist, auf die das Werkstück zu kühlen ist; einen Werkstückkühlschritt des In-Kontakt-Bringens der Platte mit dem Werkstück über die Aufweitfolie, um das Werkstück zu kühlen, nachdem der Plattenkühlschritt durchgeführt worden ist; einen Aufweitschritt des Aufweitens der Aufweitfolie, nachdem der Werkstückkühlschritt durchgeführt worden ist; einen Plattenerwärmungsschritt des Erwärmens der Platte, nachdem der Werkstückkühlschritt durchgeführt worden ist; und einen Werkstückerwärmungsschritt des In-Kontakt-Bringens der Platte mit dem Werkstück über die Aufweitfolie, um das Werkstück zu erwärmen, nachdem der Aufweitschritt und der Plattenerwärmungsschritt durchgeführt worden sind.
  2. Aufweitvorrichtung zum Aufweiten einer Aufweitfolie, an dem ein Werkstück, das mindestens ein duktiles Material aufweist, haftet, wobei die Aufweitvorrichtung aufweist: ein Aufweitmittel, welches die Aufweitfolie aufweitet; ein Kühl-/Erwärmungsmittel, das eine Platte, die eine Kontaktoberfläche zum Kontakt mit dem Werkstück aufweist und über die Aufweitfolie in Kontakt mit dem Werkstück steht, und ein Peltierelement zum Kühlen oder Erwärmen der Platte aufweist; und ein Polaritätswechselmittel, das die Polarität eines zum Peltierelement geleiteten Stroms wechselt.
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