CZ226495A3 - Method of treating liquids and a system for making the same - Google Patents

Method of treating liquids and a system for making the same Download PDF

Info

Publication number
CZ226495A3
CZ226495A3 CZ952264A CZ226495A CZ226495A3 CZ 226495 A3 CZ226495 A3 CZ 226495A3 CZ 952264 A CZ952264 A CZ 952264A CZ 226495 A CZ226495 A CZ 226495A CZ 226495 A3 CZ226495 A3 CZ 226495A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
fluid
radiation source
cleaning
radiation
zone
Prior art date
Application number
CZ952264A
Other languages
English (en)
Inventor
Jan M Maarschalkerweerd
Original Assignee
Trojan Techn Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=21832576&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CZ226495(A3) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Trojan Techn Inc filed Critical Trojan Techn Inc
Publication of CZ226495A3 publication Critical patent/CZ226495A3/cs

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/123Ultra-violet light
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325Irradiation devices or lamp constructions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322Lamp arrangement
    • C02F2201/3227Units with two or more lamps
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/324Lamp cleaning installations, e.g. brushes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326Lamp control systems
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S422/00Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
    • Y10S422/906Plasma or ion generation means

Description

Vynález se zabývá způsobem zpracování tekutin zajištěním přívodu toku kapaliny spádem do ozařovací zóny, která obsahuje nejméně jeden zdroj záření a dále má uzavíratelný příčný řez, který uzavírá tok kapaliny v rozmezí předem definovaného maximálního odstupu od alespoň jednoho zdroje záření.
Vynález také zahrnuje nový způsob čištění sestavy zdroje záření umístěné v toku tekutiny, kde vnějšek zdroje je přejet čistícím členem obsahujícím vhodnou čistící tekutinu.
Popisovaný vynález také zahrnuje nový systém pro úpravu tekutiny ozařováním. Specifikem popisovaného vynálezu je zahrnutí nového systému spádového napájení pro zpracování tekutin, který zahrnuje zónu pro úpravu s ozařovací zónou utvářenou k zajištění stálé konfigurace tekutiny související se zdroji záření.
Popisovaný vynález se dále týká nového zdrojového modulu záření pro využití v systému zpracování tekutin. Modul především zahrnuje jeden či více sestav zdrojů záření napojených na nosný člen a nosný člen umožňuje vložení a vyjmutí modulu ze systému zpracování během činnosti systému. Modul je navržen tak, že zdrojová sestava záření je chráněna před kontaktem zdrojů v zóně' pro úpravu systému během instalace nebo odstraňování.
Popisovaný vynález se dále týká nové čistící aparatury pro systém zpracování tekutin. Především čistící aparatury obsahující jeden či více čistících členů, které mohou přejet přes vnějšek zdrojových sestav záření v systému zpracování tekutin, čistící členy obsahující vhodnou čistící tekutinu, která je ve styku s vnějškem zdrojové sestavy záření a uvolňuje a/nebo odstraňuje materiály zanášející vnějšek zdrojové sestavy záření.
Dosavadní stav techniky
Systémy zpracování tekutin jsou známy. Na příklad U.S patenty 4,482,809, 4,872,980 a 5,006,244 (postoupeno zplnomocněnému zástupci popisovaného vynálezu), jejichž obsahy jsou včleněny s odkazy, vše charakterizuje systémy zpracování tekutiny se spádovým přítokem toku užívající ultrafialové (UV) záření.
Takové systémy, včetně seskupení UV lamp, jejichž konstrukce zahrnuje několik UV lamp, z nichž každá je umístěna v obalech rozložených mezi dvěma podpůrnými rameny konstrukce. Konstrukce jsou ponořeny do tekutiny určené ke zpracování, která je pak ozařována jak je třeba. Míra ozáření, kterému je tekutina vystavena, je určena blízkostí tekutiny k lampě, výkonem lampy ve wattech a rychlostí toku tekutiny za lampy. Jeden či více UV senzorů může být využit ke sledování výstupu UV z lamp a hladina v tekutině je obvykle kontrolovánadole po proudu od zařízení pro úpravu pomocí prostředků jako úrovňový přívod apod. Tedy, v systémech se spádovým přívodem, při vyšším průtoku je přesná kontrola hladiny tekutiny obtížná, kolísání hladiny tekutiny je nevyhnutelné. Taková kolísání by mohla vést k nestejnoměrnému ozáření v upravované tekutině.
Ve výše popsaném systému však existují nedostatky. Závisí na kvalitě zpracovávané tekutiny, obaly obklopující UV lampy jsou opakovaně poškozovány cizorodými materiály snižujícími jejich schopnost vysílat UV záření do tekutiny. Po poškození , jehož rozmezí může být určeno z údaje o době provozu nebo měřeními z UV senzorů, obaly musí být ručně čištěny aby byl odstraněn škodlivý materiál.
Jestliže jsou konstrukce z UV lamp využity otevřené jako kanálový systém, jedna či více konstrukcí může být odstraněna zatímco systém pokračuje v operaci, a odstraněná konstrukce může být ponořena v lázni z vhodného kyselého čistícího roztoku, který je vířen vzduchem aby došlo k odstranění škodlivých materiálů. Musí být postaráno o nadbytečné nebo nevytížené zdroje UV záření (obvykle zahrnutím speciálních konstrukcí UV lamp) k zabezpečení přiměřeného ozařovaní zpracovávané tekutiny zatímco jedna či více konstrukcí je z důvodu čištění odstraněna. Samozřejmě, tyto nutné reservní UV kapacity zvyšují náklady na instalaci systému zpracování.
Dále, čistící nádoba obsahující čistící roztok, ve kterém mohou být umístěny konstrukce UV lamp, musí být také udržovaná. Podle množství konstrukcí určených k současnému čištění a četnosti opakování čištění, to vše může také zvyšovat náklady na instalaci, údržbu a provoz systému zpracování.
Jestliže jsou konstrukce v uzavřeném systému, odstranění konstrukcí z tekutiny z důvodu čištění je obvykle výstupních naplněním čistícím uzavřeného roztokem a nepraktické. V tomto případě, musí být obaly čištěny zastavením zpracovávání tekutiny, uzavřením vstupních a ventilů k uzavřenému zpracování, naprostým prostoru pro zpracování kyselým vířením tekutiny pro odstranění škodlivých látek pomocí vzduchu. Čištění takových uzavřených systémů je nevýhodné pro nutnost zastavit systém zpracování během čistících procesů a pro velké množství čistícího roztoku vynaloženého k naplnění uzavřeného prostoru pro zpracování. Existuje navazující problém spočívající v tom, že likvidace velkého množství kyselého čistícího roztoku má rizika a příprava velkého množství užívané čistící tekutiny je obtížná a/nebo drahá. Samozřejmě i otevřené průtokové systémy mají tyto dva problémy, i když menšího stupně.
Rozhodně je u zmíněného tvůrce očividné, že po instalaci je často jeden z nejvyšších udržovacích nákladů často cena čištění obalů na zdrojových zařízeních.
Další nevýhodou výše popsané myšlenky systémů je vyjmutí UV lamp. Bohužel, UV lampy ve zmíněných systémech museli mít okolo pěti stop délky k dosažení nutného výkonu UV záření ve wattech. Proto UV lampy byly relativně nepevné a vyžadovaly oporu na každém konci lampy. To zvyšovalo celkovou cenu systému.
Dále, vzhledem k poněkud omezenému výkonu UV lamp ve wattech ve zmíněných systémech, bylo často požadováno velké množství lamp. Např., předchozí systémy instalovaly jistě více než 9000 lamp.
Takové velké množství lamp zvyšuje cenu na čištění lamp na úroveň ceny údržby ( výměny)lamp.
Podstata vynálezu
Předmětem popisovaného vynálezu je zajistit nový způsob zpracování tekutin . ozářením, která odstraní nebo zmírní nejméně jednu z výše zmíněných nevýhod původního záměru.
Dalším předmětem popisovaného vynálezu je zajistit nový systém zpracování tekutiny, který odstraní nebo zmírní nejméně jednu z výše zmíněných nevýhod původního záměru.
Podle jednoho hlediska popisovaného vynálezu, je třeba zajistit způsob zpracování tekutiny sestávající z těchto kroků:
(i) zajištění přívodu toku kapaliny spádem do přítoku tekutiny, (ii) převedení toku kapaliny z přítoku tekutiny do ozařovací zóny obsahující nejméně jeden zdroj záření a mající uzavíratelný příčný řez, (iíi) uzavření toku tekutiny v mezích předem určené maximální vzdálenosti od alespoň jednoho zdroje záření,.
(iv) vystavení toku tekutiny ozáření ze zdroje záření, a
(v) přivedení toku tekutiny z kroku (iv) k odtoku kapaliny.
Podle dalšího hlediska popisovaného vynálezu je třeba zajistit metodu odstraňování škodlivých materiálů ze zdroje záření na místě v systému zpracování tekutiny, sestávající z těchto kroků:
(i) zajištění dodávky čistící tekutiny do čistící komory, (ii) přemístění čistící komory ke kontaktu alespoň s částí zdroje záření na předem vymezenou dobu, čistící komora udržuje čistící tekutinu v kontaktu s touto částí, a (iii) odstranění čistící komory z kontaktu s částí zdroje záření po uplynutí předem vymezené doby.
Podle dalšího hlediska popisovaného vynálezu je třeba se postarat o systém zpracování tekutiny se spádovým přívodem obsahujícím přítok tekutiny, odtok tekutiny a ozařovací zónu umístěnou mezi přítokem tekutiny a odtokem tekutiny , ozařovací zóna (i) obsahuje nejméně jeden zdroj záření a (ii) mající uzavíratelný příčný řez k uzavření tekutiny určené ke zpracování v mezích předem určené maximální vzdálenosti od alespoň jedné zdrojové soustavy záření.
přechodové tekutinu z
Nejvhodnější je, když je ozařovací zóna umístěna v zóně pro úpravu včetně vstupní přechodové oblasti a výstupní oblasti. Výstupní přechodová oblast získá přítoku tekutiny a zvýší její rychlost před vstupem do ozařovací zóny. Výstupní přechodová oblast získá tok tekutiny z ozařovací zóny a sníží rychlost toku tekutiny před jejím vstupem do odtoku tekutiny. Takto, rychlost toku tekutiny je zvýšena pouze v ozařovací zóně z důvodu omezení hydraulické tlakové ztráty ztracené průtokem skrze systém. Hodnota myšlenky se zvýší tím, že jedna nebo dvě přechodové oblasti (vstupní a výstupní) mohou obsahovat zúženou část (znázorněno podrobněji dále v textu). Je také možné využít zvonovitě tvarované vstupní a výstupní ústí. V každém případě zásadní výsledek je redukce hydraulické tlakové ztráty.
Podle dalšího hlediska popisovaného vynálezu je třeba zajistit zdrojový modul záření pro užití v systému zpracování tekutin obsahující nosný člen, nejméně jednu sestavu zdrojů záření rozvinutou ze zmíněného nosného členu, upevňovací prostředky k připojení zdrojového modulu záření v systému zpracování tekutiny.
Podle dalšího hlediska popisovaného vynálezu je třeba zajistit čistící aparaturu pro zdrojovou sestavu záření v systému zpracování tekutin obsahující: čistící objímku nasazenou na vnější část zdrojové sestavy záření a schopnou pohybu mezi vtaženou polohou, kde první část zmíněného zdroje záření je odkryta na tok tekutiny, která má být zpracovávána a odtaženou polohou, kde zmíněná první část zdrojové sestavy záření je úplně nebo částečně přikryta zmíněnou čistící objímkou, tato čistící objímka zahrnuje komoru kontaktující se se zmíněnou první částí zdrojové sestavy záření a je vyplněna čistícím roztokem vhodným k odstranění nežádoucích materiálů z první části.
Podle dalšího hlediska -tohoto vynálezu je třeba zajistit sestavu čidla záření obsahující: kryt čidla, prostředky přenosu záření v krytu a zahrnující část určenou k ozáření zdrojem záření, čidlo záření zachycující záření ze zmíněných prostředků přenosu a prostředky k odstranění škodlivých materiálů zvýše uvedené části.
Jak je zde naznačeno, termín přívod spádem zahrnuje systémy, kde hydraulická tlaková ztráta je způsobena změnami ve výšce tekutiny. Bude to chápáno tak, že takové systémy představují oba následující systémy: s přirozeným přívodem se spádem a systémy, kde výška kapaliny je nahrazena pomocí
- 8 pump či jiných mechanických prostředků k zajištění spádového napáj ení.
Přehled obrázků na výkresech
Začlenění popisovaného vynálezu bude zřejmé z popisu doprovodných obrázků na kterých představuje:
obr. 1 vedlejší část původní techniky zpracování tekutin, obr. 2 znázorňuje koncovou část původní techniky zpracování tekutin z obrázku 1, obr. 3 vedlejší část prvního začlenění horizontálního systému zpracování tekutin ve shodě s popisovaným vynálezem, obr. 4 zdrojový modul záření pro užití v systému z obrázku 3, obr. 5 podrobněji pohled na oblast označenou na A na obrázku 4, obr. 6 část dalšího začlenění zdrojového modulu záření pro užití v systému z obrázku 3, obr. 7 podrobněji pohled na oblast označenou B na obrázku 6, obr. 8 vedlejší část druhého začlenění vertikálního systému zpracování tekutin ve shodě s popisovaným vynálezem a obr. 9 zdrojovou sestavu záření.
Příklady provedení vynálezu
Pro přehlednost bude uveden krátký popis předchozí techniky před pojednáním o popisovaném vynálezu. Obrázky 1 a 2 ukazují předchozí myšlenku technik zpracování jak je popsáno v US patentu 4 482 809. Myšlenka zahrnuje množství zdrojových modulů záření 20, každý obsahuje pár ramen 2 4 rámu se sestavami 2 8 UV lamp rozloženými mezi nimi. Jak nejlépe ukazuje obrázek 2 množství lampových modulů 20 je umístěno napříč upravovacího kanálu 32 s maximálním odstupem mezi lampovými moduly 20, který je navržen k zabezpečení toho, že zpracovávaná tekutina je ozářena nejméně předem určenou minimální dávkou UV záření.
I když, jak bylo řečeno výše, byl tento systém úspěšný, trpěl nevýhodami spočívajícími v aranžování lampových modulů 20 což dělá z rozvíjení myšlenky relativně namáhavou záležitost. Především přemístění lamp nebo čištění obalů kolem lamp je zdlouhavé a nákladné. Také to, že zpracování pokračuje i při odstranění lampového modulu 20 a proto je nezbytné zajistit náhradní lampové moduly 20 pro zaručení dostatku předem určeného minimálního množství záření do tekutiny, zvyšuje náklady systému. Ty dále závisí na kvalitě tekutiny a rychlosti jejího toku, významný může být počet lamp a obalů na jednotku zpracovávané tekutiny. Další nevýhodou tohoto systému je obtížnost kontroly hladiny tekutiny ve vztahu k lampovým modulům 20 při vyšších rychlostech toku.
Proto, zatímco výše popsaný původní systém byl úspěšný, jeho tvůrce usiloval o zdokonalení systémů zpracování tekutin a o odstranění některých těchto nevýhod. Popisovaný vynález bude nyní popsán s odkazy na doprovodné obrázky.
K obrázku 3 se vztahuje systém zpracování tekutin ve shodě s popisovaným vynálezem, který je obecně označen 100. Systém 100 obsahuje hlavní těleso 104 instalované napříč otevřené trubice 108 pro tekutinu tak, že celý tok tekutiny je průtokem trubice 108 nasměrován přes zónu 112 pro úpravu. Hlavní těleso 104 může být například odlitý beton, nerezavějící ocel nebo jiný materiál vhodný pro užití ke zpracování tekutiny a který je odolný vůči užitému typu záření.
Nižší plocha hlavního tělesa 104 zahrnuje střední část 116, která pokračuje šikmo dolů nakloněnými částmi 120 resp. 124. Odpovídající vznik střední části 132 je umístěn na základně 128 trubice 108 pod střední částí 116 a zahrnuje nakloněné části 136 resp.140. Střední část 132 může být částí hlavního tělesa 108 nebo může být částí základny 128 (viz obrázek).
Jak je zřejmé z obrázku 3, části 116 a 132 utvářejí úzkou ozařovací zónu 144 zatímco části 120 a 136 utvářejí zúženou vstupní přechodovou oblast a části 124 a 140 utvářejí zúženou výstupní přechodovou oblast.
Jak je zřejmé, ozařovací zóna 144 ukazuje uzavíratelný příčný řez zpracovávané tekutiny. To zajišťuje stálou souměrnost mezi tekutinou a zdroji záření (popsáno v následujícím textu) k zabezpečení ozáření tekutiny předem určeným minimem záření ze zdrojů ozáření. Tyto předpoklady ocení, že vnitřní stěna ozařovací zóny 144 může být navržena a utvářena k důkladnému sledování obrysů částí zdrojových modulů 148 záření tam umístěných k maximalizaci efektivity zpracování i v nejodlehlejších bodech od zdroje záření.
Nejméně jeden z horního či dolního (vzhledem ke směru toku) povrchu hlavního tělesa 104 zahrnuje jeden či více zdrojových modulů 148 záření tam umístěných. Počet modulů 148 může být variabilní podle zpracovávané tekutiny od jediného horního modulu 148 ke dvěma či více modulů 148 napříč oběma povrchům (hornímu a dolnímu) hlavního tělesa 104 .
Především hlavní těleso 104 dále zahrnuje čidlo 152 záření, které zasahuje do ozařovací zóny 144 a hladinové čidlo 154 tekutiny, které kontroluje hladinu tekutiny u vstupní strany zóny 112 pro úpravu. Podle těchto předpokladů, jestliže hladina tekutiny v systému poklesne pod tekutinové hladinové čidlo 156, dojde ke spuštění alarmu nebo k uzavření zdroje záření, je-li to vhodné. Normální hladinová propust 150 tekutiny je také zajištěna v dolní části (směru toku) hlavního tělesa 104 k udržení minimální hladiny tekutiny v zóně 112 pro úpravu.
Jak nejlépe ukazují obrázky 4 a 5, každý zdrojový modul 148 záření zahrnuje nosné rameno 160 zdroje záření, horizontální nosník a nosný člen 164 (nepovinný), spojovací box 172 a jednu či více zdrojových soustav 176 záření sousedící s nižším koncem nosného ramena 160 . Každá zdrojová soustava 176 záření obsahuje vysoce účinný zdroj 180 záření, který je namontován v dutině objímky 184 pomocí dvou prstencových vložek 188. Samozřejmě,je z tohoto předpokladu zřejmé, že v některých situacích zdrojové sestavy 176 záření nebudou vyžadovat objímku a zdroj 180 záření může být umístěn přímo ve zpracovávané tekutině.
Každá objímka 184 je uzavřena u koncového distálního nosného ramena 160 a je hermeticky připevněna k objíkové trubce 192 spojené k nosnému ramenu 160. Hermetické těsnění mezi objímkou 184 a objímkovou trubkou 192 je dokonalý složením otevřeného konce objímky 184 do krytu 196 , který je hermeticky upnut ke konci objímkové trubky 192. Třecí těsnící zátka 200 je zajištěna při základním krytu 196 k ochraně objímky 184 před zlomením vzhledem k jeho přímému kontaktu s krytem 196, pokud je vložen. Dvě kroužková těsnění tvaru O jsou umístěny okolo vnějšku objímky 184 s prstencovou rozpěrkou mezi nimi..
Po objímce 184, kroužkovém těsnění 204, 208 tvaru 0 a prstencové rozpěrce 206 je vložena do krytu 196 prstencová šroubová rozpěrka 212 umístěná kolem vnějšku objímky 184 a je tlačena do styku s krytem 196. Šrouby na rozpěrce 212 vzájemně doplňují činnost se šrouby na vnitřku krytu 196 a rozpěrka 212 je upnuta, aby tlačila třecí těsnící zátku 200 a kroužkové těsnění 204 tvaru 0, což zabezpečí žádoucí hermetické utěsnění.
Opačný konec každé objímkové trubky 192 je také přišroubován a je spojen s šroubovým upevněním 216, které je otočně spojeno s nosným ramenem.160. Spojení mezi objímkovou trubkou 192 a šroubovým upevněním 216 a mezi šroubovým upevněním 216 a nosným ramenem 160 jsou také hermetická, čímž se brání přístupu tekutiny do vnitřní dutiny objímkové trubky 192 nebo nosného ramene 160.
Každý zdroj 180 záření je spojen mezi párem elektrických přívodních vodičů 220, které běží ze spojovacího boxu 172 ke zdroji 180 záření skrze vnitřek nosného ramene 160 a objímkové trubky 192.
Jak je nejlépe znázorněno na obrázcích 4 a 5, čistící soustava 224 je také zahrnuta v každé zdrojové soustavě 176 záření a objímkové trubce 192. Každá čistící sestava 224 obsahuje válcovou objímku 228, která působí jako válec dvojího účinku. Válcová objímka 228 zahrnuje prstencové uzavření 232, 234 na každém svém konci. Uzavření 232, které sousedí s nosným 'ramenem 160 obepímá vnější povrch objímkové trubky 192 zatímco uzavření 234, které je distální nosnému ramenu 160 obepímá vnější povrch zdrojové sestavy 176 záření.
Vnějšek krytu 196 obsahuje·drážku, ve které je umístěno kroužkové těsnění 236 tvaru 0. Kroužkové těsnění 236 tvaru O přijímá vnitřek povrchu válcové objímky 228 a dělí vnitřek válcové objímky 22 8 do dvou komor 240 a 244. Komora 240 je napojena na vedení 248 a komora 244 je napojena na vedení 252. Každé z vedení 248 a 252 běží ze spojovacího boxu 172, přes vnitřek nosného ramene 160 a přes vnitřek objímkové trubky 192 do krytu 196, kde spojují komory 240 resp. 244.
Dodáním stlačeného hydraulického oleje, vzduchu nebo jiné vhodné tekutiny do komory 240 skrze vedení 248, bude válcovou objímkou 228 uvedeno do chodu nosné rameno 160 a vytlačí tekutinu ven z komory 244 a do vedení 252. Podobně, dodáním stlačené tekutiny do komory 244 skrze vedení 2 52, válcovou objímkou 228 bude uvedena do chodu objímka 184 a vytlačí tekutinu ven z komory 240 a do vedení 248.
Vedení 252 je napojeno pro dodání vhodného čistícího roztoku, jako kyselý roztok, a vedení 248 je napojeno pro dodání libovolné vhodné látky, jako vzduch. Když je potřeba čistit vnějšek objímky 184, stlačený čistící roztok je dodán do komory 244, zatímco tekutina' je odstraněna z komory 240. Válcová objímka 228 je tak tlačena do odtažené distální polohy od nosného ramena 160 a jakmile se válcová objímka 228 přemístí do odtažené polohy, prstencový uzávěr 234 může také odstranit cizorodé materiály z objímky 184.
Když je válcová objímka 228 ve své odtažené poloze, čistící roztok v komoře je přiveden do styku s vnějškem zdrojové sestavy 176 záření, která upravuje vnitřní stěnu komory 244, a chemický roztok chemicky rozloží a/nebo odstraní zbývající cizorodý materiál, který poškozuje zdrojovou sestavu 176 záření. Po uskutečnění čistícího období, je tekutina vtlačena do komory 240, tlak na čistící roztok je z komory 244 odstraněn což tlačí válcovou objímku 228 do vtažené polohy sousedící s nosným ramenem 160. Když je válcová objímka 228 vtažena, prstencový uzávěr 234 opět může odmetat cizorodé materiály z povrchu zdrojové sestavy 176 záření.
Popsaná čistící sestava 224 může být obsluhována v pravidelném časovém intervalu, např. jednou denně nebo, když se kvalita zpracování tekutiny mění, podle změn vyčtených z čidla 152 záření.
Každý zdrojový modul 148 záření může být připevněn k hlavnímu tělesu 104 horizontálním nosným členem 164, který má předem určený tvar příčného řezu a který je přijímán do komplementárně tvarovaného vývrtu 256 v hlavním tělese 104. Předem vymezený tvar je vybrán k usnadnění vsunutí horizontálního nosného členu 164 do vývrtu 256 a zároveň k zabránění rotaci horizontálního nosného členu 164 ve vývrtu 256.
Jak je možno vidět na obrázcích 3 a 4, délka horizontálního nosného členu 164 je vybrána tak, že horizontální nosný člen 164 je natažen od nosného ramena 160 do většího natažení než je dosah zdrojové soustavy 176 záření. V tomto případě je zdrojová sestava 176 záření udržována velmi jasně od vstupní či výstupní přechodové oblasti jako instalovaný zdrojový modul 148 záření. Toto uspořádání minimalizuje možnost poškození zdrojové sestavy 176 záření nárazem do dalších předmětů během instalace zdrojového modulu 148 záření a je především spolehlivé, když tekutina teče skrz systém 100. Přiměřeně výsledné požadované délce horizontálního nosného členu 164 jsou na opačném.čele hlavního tělesa 104 horizontálně umístěny vývrty 256. Když je horizontální nosný člen 164 plně umístěn ve vývrtu 256, přípojka 264 elektrického vedení, přípojka 268 čistícího roztoku a přípojka 272 tekutiny' jsou ve spojovacím boxu 172 propojeny s komplementárními přípojkami na kryt 276. Propojení přípojek 264 a 272 s komplementárními přípojkami na kryt 276 také slouží k udržení horizontálního nosného členu 164 ve vývrtu 256. Kryt 27 6 může pohodlně obsahovat zátěž pro dodávání elektrické energie pro zdroj 180 zářeni, pumpy a skladovací nádoby pro čistící tekutinu a stlačenou tekutinu pro čistící sestavu 224.
Současná zdokonalení v technologiích zdrojů záření vytvořila zdroje záření vyšší dostupné intenzity a plány, které nejsou přehnané, ale dosažitelné. Pro srovnání, původní UV lampy využívané v systémech zpracování tekutin měly výstup okolo jednoho wattu na palec a byly pět stop dlouhé.
Jestliže tyto intenzivnější zdroje záření uvolňují více záření, je zapotřebí méně zdrojů záření k úpravě dodaného množství tekutiny. Jak je známo, dávka záření, kterou tekutina získá je úměrná intenzitě záření a času záření. Intenzita záření se mění s druhou mocninou vzdálenosti,skrze kterou záření proniká, ale čas ozáření se mění lineárně s rychlostí toku tekutiny. V souhladu s tím je snaha o udržení zavřené zpracovávané tekutiny u zdroje záření jak jen je to možné. Toto vyžaduje mnoho málo intenzivních zdrojů záření umístěných na velké oblasti zpracovávání nebo méně vysoce intenzivních zdrojů umístěných v menší oblasti zpracování.Pro výslednou účinnost, minimalizaci nákladů a pro zmírnění výše popsaných požadavků na přesnou kontrolu hladiny tekutiny, byla uzpůsobena popisovanému vynálezu další alternativa, jak je psáno výše. Ozařovací zóna 144 je navržena k současnému uzavření příčného řezu toku tekutiny, aby bylo zaručeno, že zpracovávaná tekutina uvnitř dostane předem určenou maximální vzdálenost od minimálního počtu vysoce intenzivních zdrojů 180 záření. Rychlost toku tekutiny přes ozařovací zónu 144 může být zvýšena, takže přijatelná rychlost zpracovávání tekutiny je navržena s minimálním počtem vysoce intenzivních zdrojů záření.
Takto, popisovaný systém byl navržen k minimalizaci počtu ozařovacích zón 144 při zvýšení rychlosti toku tekutiny a k získání žádoucí rychlosti zpracování. Tedy, průtok tekutiny přes ozařovací zónu 144 je vyšší než v prvotních technikách zpracování, které jsou většinou navrhovány k činnosti při průtoku 2 stopy za sekundu nebo méně. Naopak, popisovaný systém může být obsluhován při průtoku přes ozařovací zónu 144 až 12 stop za sekundu.
Jak je známo, ztráta výšky tlaku v potrubí je funkcí druhé mocniny rychlosti toku tekutiny. Takto vysoké rychlosti toku mají za následek zvýšení ztráty výšky tlaku a mohou způsobit nežádoucí kolísání hladiny tekutiny v systému zpracování. Popisovaný systém může být proto zajištěn vstupy a výstupy majícími velké příčné řezy k minimalizaci ztráty tlaku a k ulehčení vkládání a odstraňování zdrojových modulů záření popsaných níže. Současná ozařovací zóna 144 je relativně krátké délky se zmenšeným příčným řezem a je napojena na přítoky a odtoky pomocí vlastních přechodových oblastí. V tomto případě může být požadavek na vysoký průtok přes ozařovací zónu 144 dosažen a hydraulická ztráta vysokého tlaku minimalizována.
Další výhody zajištěné popisovaným vynálezem zahrnují zjednodušení údržby tím, že sestavy zdrojů záření mohou být čištěny od škodlivých materiálů na místě a je relativně snadné odstranění zdrojových modulů záření kvůli údržbě nebo přemístění zdroje záření. Dále, schopnost čištění na místě minimalizuje nebo vylučuje nároky na jiné náhradní zdroje záření, které by byly třeba k zabezpečení výměny za ty odstraněné k čištění, a předpokládá se, že zvýšení rychlosti tekutiny protékající ozařovací zónou snižují množství škodlivých látek ulpívajících na zdrojích záření.
Další uspořádání zdrojového modulu 148B záření a čistící sestavy 300 je znázorněno na obrázcích 6 a 7, kde jsou složky z předchozího uspořádání popsány stejnými vztahovými značkami. Jak je nej zřejmější z obrázku 7, objímka 184 je hermeticky utěsněna k objímkové trubce 192 u krytu 196 způsobem velmi podobným uspořádání znázorněném na obrázku 5, ale v tomto uspořádání čistící sestava 300 obsahuje výztužné žebro 304 čistících okruhů 308 a pár válců 312, 314. Každý čistící okruh 308 obsahuje prstencovitou komoru 316 přilehlou k povrchu objímky 184 a čistícím okruhům 308 ometajícím objímky 184 pohybem válců 312, 314 mezi vtaženou a odtaženou polohou.
Jako v uspořádání znázorněném na obrázku 4 potrubí 320 a 324 vedou ze spojovacího boxu (není znázorněno) přes nosné rameno 160 do válců 312, resp. 314. Když je tekutina dodávána pod tlakem přes potrubí 320 do válce 312, jehož pístní táhlo 328 je tlačeno ven do své odtažené polohy. Jak bude zřejmé, když je pístní táhlo 328 odtaženo dodávkou tekutiny do komory 332 na jedné straně pístu 336, tekutina je tlačena ven z komory 340 na druhé straně pístu 336 a posunována skrze spojovací přípojku 344 do komory 348 válce 314 tlačením tohoto pístního táhla 328 také do odtažení a tekutina v komoře 352 je tlačena do potrubí 324.
Krokem k zajištění synchronizovaného pohybu pístních táhel 328 je takový návrh válců 312 a 314, aby hladina tekutiny umístěné na jednotku zdvihu pístu 336 ve válci 312 byla stejná jako hladina tekutiny přijatá na jednotku zdvihu pístu 336 ve válci 314. Jak je zřejmé, toto je zabezpečeno výběrem přiměřených průměrů pro každý z obou válců nebo válcových výztuh. Jak bude dále zřejmé, jednocestný vyrovnávací ventil 356 je využit u konce odtaženého zdvihu pistů 336 k dalšímu vyrovnávání každého rozdílu v celkové hladině tekutiny, který může vzniknout mezi komorami 332 a 352 a mezi komorami 348 a 340.
V podobném případě, vtažením pístních táhel 328 je stlačená tekutina dodávána do potrubí 324 a druhý vyrovnávací ventil 356 je využit k vyrovnání každého rozdílu v celkové hladině tekutiny, který může vzniknout mezi komorami 332 a 352 a mezi komorami 348 a 340 u konce vtaženého zdvihu.
Je zamýšleno, že prstencovité komory budou plněny předem určeným množstvím vhodné čistící kapaliny, která může být vyměněna ve vhodných intervalech údržby, jako je obsluha zdrojů záření. Možností je, že prstencovité komory 316 mohou být plněny čistícím roztokem směrem vedení potrubí přes dutý střed pístních táhel 328. Jiná možnost je zajistit prstencovité komory 316 v uzavřeném uspořádání k uzavření tekutiny, která může být přemístěna, když je třeba. Dále, čistící roztok může cirkulovat skrz duté pístní táhlo 328, komorou 332 a prstencovítou komorou 316. Zajištění vhodných odrážecích prostředků (není znázorněno) v prstencovité komoře 316, může čistící tekutina vstoupit skrz nejnižší duté táhlo 328, obíhat přes čistící okruh 308 a odtéci skrz nejvyšší duté pístní táhlo 328.
Zatímco obrázky 4, 5 a 6 znázorňují specifická uspořádání náhledů na vynález čistící aparatury na sestavy zdrojů záření, další návrhy budou na rozdíl od nich bez odboček od podstaty vynálezu.
Například, je možné využít samotný válec dvojího účinku v kombinaci s dutým válcovým táhlem, které je velmi stabilně namontováno skrz válcová táhla na většině (tj . 2 nebo 4) z čistících okruhů 308. Dále, je možné pumpovat čistící tekutinu (tj . vodu) přes duté táhlo k a do prstencovitých komor 316 zatímco je válec přemístěn zpět a vpřed. Jestliže prstencovité komory 316 byly vybaveny vhodnými tryskami nebo podobně, bude možné použít roztřikovač nebo tryskající proud napříč přes povrch ozařovací komory čímž se usnadní čištění objímky 184 zdroje záření.
Jinak upravená modifikace se týká přeplňovacích prstencových komor 316 s vhodnou čistící tekutinou a upravuje komory k zajištění uzavřené uklizeči sestavy, tato počítá s užitím různých prvků pro prstencovitých komor 316 zpět a vpřed po objímce 184 zdroje záření. Např., je možné využít dvojčinný, jednotlivý válec jenž pouze přemístí prstencovité komory 316 zpět a vpřed po objímce 184 zdroje záření. Samozřejmě, že prstencovité komory mohou být umístěny pevně k prvkům pro přemístění k vyvarování se uváznutí celé sestavy způsobující škodu objímce 184.
Jak bude dále zřejmé, v uspořádáních popsaných výše, je možné vrátit vzájemnou polohu mezi zdrojem záření a čistícím mechanismem. Takže, čistící mechanismus může být instalován pevně v přítomnosti zóny pro úpravu nebo jiného systému, a zdroj záření by mohl být se zřetelem k tomu překládán zpět a v před
Další uspořádání popisovaného vynálezu je znázorněno na obrázku 8. V tomto členění systém 400 zpracování zahrnuje hlavní těleso 404 s menším povrchem, který spodní stěnou 406 definuje zóna 408 pro úpravu. Zóna 408 pro úpravu obsahuje vstupní přechodovou oblast 412, první ozařovací zónu 416, střední zónu 420, druhou ozařovací zónu 424 a zúženou odtokovou zónu 426. Jak je patrno z obrázku, odtoková zóna
426 je menší než přechodová zóna 412 k zajištění určitého dalšího hydraulického tlaku ve zpracovávané tekutině ke kompenzaci ztraceného tlakem tekutiny skrze systém zpracování. Bude zřejmé, že v této konfiguraci je požadavek na kontrolu vstupní hladiny a podobně odstraněn, jelikož zóna 4 08 pro úpravu také plní tuto funkci skrze umístění svého vstupu a výstupu.
Hlavní těleso 404 může také obsahovat vývrty 430 k zachycení vertikálních nosných členů 434 ze zdrojových modulů 438 záření. Zdrojové moduly 438 záření jsou podobné výše uvedeným zdrojovým modulům 148 záření, ale jsou upraveny pro vertikální polohu soustavy 442 zdrojů záření. Soustava 442 zdrojů záření obsahuje objímky 446, které jsou napojeny k čepům 450. Samozřejmě, jak bylo uvedeno, je pochopitelné,že při některých okolnostech u soustavy 442 zdrojů záření nebudou zapotřebí objímky a mohou místo toho být umístěny přímo ve zpracovávané tekutině.
Když jsou čepy 450 situovány nad maximální hladinu tekutiny v systému zpracování 400, potrubí v objímkách 446 nepotřebuje být hermeticky utěsněné a může být provedeno libovolným příhodným způsobem. Samozřejmě, když spojovací bod mezi obaly a čepy 450 je nad hladinou tekutiny v systému, vnitřek objímek 446 nebude vystaven tekutině.
Čepy 450 jsou v otočném spojení s nosnými rameny 454, která jsou připojena k vertikálním nosným členům 434. Zdroje 458 záření jsou situovány uvnitř objímek 446 a jsou spojeny mezi elektrickým dodávacím vedením ( není znázorněno), které je taženo z přípojky 462, přes dutá nosná ramena 454 a čepy 450 a do objímky 446. Přípojky 462 se spojují s doplňkovými přípojkami na uzávěru 466, který může zahrnovat vhodný zdroj energie a/nebo prvky kontroly pro vlastní provoz zdrojů 180 záření a čistícího dodávkového systému, je- li instalován.
V tomto uspořádání je služba zdrojových modulů 438 záření dokončena vertikálním zdvihnutím zdrojových modulů 438 záření, aby byly odstraněny z toku tekutiny. Přestože není znázorněno na obrázku 8, je zamýšleno, že za některých okolností čistící sestavy zmíněné výše budou požadovány a bude patrné, že další z možností uspořádání čistících sestav zde uvedených nebo jejich obdoby, mohou být úspěšně využity s tímto členěním popisovaného vynálezu. Počítá se s možností, že když objímky 446 vyžadují čištění, zdrojový modul záření může být jednoduše odstraněn vertikálním zdvižením.
Jak je popsáno výše, systémy zpracování obvykle zahrnují čidlo 152 záření ke sledování intenzity záření uvnitř ozařovací zóny. Tato čidla obsahují okénko přenosu záření,v jehož pozadí je vmontováno vhodné čidlo a okénko je vloženo do toku tekutiny. Samozřejmě, stejně jako zdrojová sestava 176 (442) záření se toto okénko časem zanese.
Obrázek 9 znázorňuje sestavu 500 čidla záření ve shodě s ostatními stránkami popisovaného vynálezu. Sestava 500 čidla obsahuje válcové těleso 502, ve kterém je vytvořen vývrt 504. Snímací prvek 508 je umístěn na vnitřní stěně vývrtu 504 sousedícím s tyčí 512, která je vodičem záření a která sahá od čelní lícní desky 514 připojené k tělesu 502. Snímací prvek 502 je hermeticky utěsněn od tekutiny pomocí kroužku 516 tvaru O, který přiléhá k snímacímu prvku 508 a pomocí kroužku 520 tvaru O , který obklopuje tyč 512 ve styčném bodě mezi čelní upínací deskou 514 a tělesem 502.
Elektrické vedení 524 ze snímacího prvku 508 vychází zadní částí tělesa 502 skrz vývrt 528.
Protože se začne ozařovaný konec tyče 512 průběhem času zanášet, lícní deska 514 také obsahuje čistící trysku 532. Čistící tryska 532 je hermeticky napojena k vývrtu 536 pomocí kroužku 538 tvaru O skrze těleso 502, které je otočně spojené k plnění stlačenou čistící tekutinou (není znázorněno)jako kyselý roztok, voda či vzduch.
Když je čistící tekutina pumpou dopravena do vývrtu, čistící tryska 532 namíří čistící tekutinu na odkryté plochy tyče 512 k odstranění škodlivých materiálů. K ochraně před škodami na čistící trysce 532, tyči 512 a ke zlepšení toku tekutiny , je také zajištěn ochranný plášť.
Sestava 500 čidel záření může být namontována v obímce napojeném k zóně pro úpravu v systému zpracování tekutiny. Sestava 500 čidel záření může být udržována uvnitř takové objímky pomocí stavěcího šroubu (není znázorněno), který je obvykle v drážce 540. Samozřejmě, pro přesné výsledky je třeba, aby tyč 512 byla orientována v podstatě kolmo ke sledovaným zdrojům 180 záření.
Předpokládá se, že při normálním užívání bude sestava 500 čidel záření čištěna dodáváním předem určeného množství čistícího roztoku nebo vody v předem vymezeném časovém intervalu do čistící trysky 532.
Je pochopitelné, že zde naznačená uspořádání popisovaného vynálezu uvedenými příklady provedení tento vynález nevymezují a že mohou být uvažovány další alternativy aniž by bylo odbočeno od určeného záměru tohoto vynálezu jak je vymezeno v připojených patentových nárocích.

Claims (38)

1. Způsob zpracování tekutiny přiváděné spádemf· obsahující přítok tekutiny, odtok tekutiny, a ozařovací zónu umístěnou mezi přítokem tekutiny a odtokem tekutiny, ozařovací zónu (i) obsahující nejméně jeden zdroj záření a (ii) mající uzavíratelný příčný průřez k uzavření zpracovávané tekutiny uvnitř v předem určené maximální vzdálenosti od nejméně jedné sestavy zdrojů záření.
2. Způsob zpracování tekutin podle nároku 1, vyznačující se tím, že nejméně jeden zdroj záření je protažen a má podélnou osu vždy paralelní ke směru průtoku tekutiny řečené ozařovací zóny.
3. Způsob zpracování tekutin podle nároku 1, vyznačující se tím, že oblast příčného řezu ozařovací zóny je menší než alespoň jedna z oblastí příčného řezu přítoku tekutiny a než oblast příčného řezu odtoku tekutiny.
4. Způsob zpracování tekutin podle nároku 3, vyznačující se tím, že oblast příčného řezu ozařovací zóny je menší než oblast příčného řezu přítoku tekutiny a tato ozařovací zóna je umístěna v zóně pro úpravu obsahující přechodovou oblast spojující přítok tekutiny s ozařovací zónou, tato přechodová oblast snižuje ztrátu tlaku v kapalině mezi zmíněným přítokem a ozařovací zónou.
5. Způsob zpracování tekutin podle nároku 3, vyznačující se tím, že oblast příčného řezu ozařovací zóny je menší než oblast příčného řezu odtoku tekutiny a tato ozařovací zóna je umístěna v zóně pro úpravu obsahující přechodovou oblast spojující odtok tekutiny s ozařovací zónou, tato přechodová oblast snižuje ztrátu tlaku v tekutině mezi zmíněným odtokem a ozařovací zónou.
6. Způsob zpracování tekutin podle nároku 2, vyznačující se tím, že oblast příčného řezu ozařovací zóny je menší než oblast příčného řezu přítoku tekutiny a odtoku tekutiny, ozařovací zóna je situována v zóně pro úpravy včetně první a druhé přechodové oblasti, první přechodová oblast spojuje přítok tekutiny a ozařovací zónu a druhá přechodová oblast spojuje ozařovací zónu s odtokem tekutiny, první i druhá přechodová oblast snižuje ztrátu tlaku v tekutině mezi přítokem tekutiny a ozařovací zónou, resp. mezi ozařovací zónou a odtokem tekutiny.
7 . Způsob zpracování tekutin podle nároku 6, v y z n a č u j ící se tím, že nejméně jedna sestava lampu a zdrojů proto i záření obsahuje alespoň jednu nosník. ultrafialovou 8 . Způsob zpracování tekutin podle nároku 7, v y z n a č u j ící se tím, že sestava zdrojů záření zahrnuj e objímku okolo části vnějšku každé z nejméně
jedné ultrafialové lampy.
9. Způsob zpracování tekutin podle nároku 6, vyznačující se tím, že podélná osa je v podstatě vertikální a první přechodová oblast mění v podstatě horizontální tok tekutiny skrze přítok tekutiny na v podstatě vertikální tok tekutiny skrze zónu ozařování.
10. Způsob zpracování tekutin podle nároku 9, vyznačující se tím, že druhá přechodová oblast mění v podstatě vertikální tok tekutiny skrze ozařovací zónu na v podstatě horizontální tok tekutiny skrze odtok tekutiny.
11. Způsob zpracování tekutin podle nároku 7, vyznačující se tím, že podélná osa je v podstatě horizontální.
12. Způsob zpracování tekutin podle nároku 1, vyznačující se tím, že zahrnuje čistící prvky k odstranění nežádoucích materiálů ze vnějšku nejméně jedné sestavy zdrojů záření.
13. Způsob zpracování tekutin podle nároku 12, vyznačující se tím, že čistící prvky zahrnují čistící objímky obklopující nejméně jednu sestavu zdrojů záření, tyto čistící obaly jsou mobilní mezi vtaženou polohou, kdy první část zmíněné nejméně jedné sestavy zdrojů záření je obrácena k toku tekutiny a odtaženou polohou, kdy tato první část nejméně jednoho zdroje záření je zakryta čistícím objímkou.
14. Způsob zpracování tekutin podle nároku 13, vyznačující se tím, že čistící objímky obsahují komoru obklopující a dotýkající se vnějšku alespoň jedné sestavy zdrojů záření, tato komora je naplněna čistícím roztokem vhodným k odstranění nežádoucích materiálů z vnějšku této alespoň jedné sestavy zdrojů záření.
15. Způsob zpracování tekutin podle nároku 14, vyznačující se tím, že čistící objímka zahrnuje těsnění mezi vnějškem povrchu alespoň jedné sestavy zdroje záření a čistící objímkou, tento uzávěr odstraňuje část nežádoucích materiálů z povrchu alespoň jedné sestavy zdrojů záření, kde tato čistící objímka je pohyblivá mezi vtaženou a odtaženou polohou.
16. Způsob zpracování tekutin podle nároku 14, vyznačující se tím, že dodávka čistícího roztoku je stlačena v této čistící objímce a čistící objímka je zvýšena do řečené odtažené polohy tímto tlakem.
17. Způsob zpracování tekutin podle nároku 16, vyznačující se tím, že čistící objínka je vtažena do vtažené polohy odstraněním stlačeného
čistícího roztoku z čistícího obalu. 18 . Způsob zpracování tekutin podle nároku 6, vyzná č u j í c í se tím, ž e obsahuje první sestavu zdroj e záření umístěnou výše proti proudu a
dosahující do ozařovací zóny a druhou sestavu zdrojů záření umístěnou dole po proudu a dosahující do ozařovací zóny.
19. Zdrojový modul záření pro užití v systémech zpracování tekutin obsahuje:
nosný člen;
alespoň jednu sestavu zdrojů záření sestavenou na tomto nosném členu; a upevňující prvky k připojení zdrojového modulu záření v systému zpracování tekutin.
20. Zdrojový modul záření vyznačující se tím, člen dosahuje od tohoto nosného prostranství než zmíněný nejméně jeden podle nároku 19, ž e úvodní a nosný členu do většího zdroj záření.
v y z n sestava
Zdroj ový a č u j ící zdrojů záření modul s e obsahuj e záření podle nároku tím, že alespoň ultrafialový zdroj.
19, j edna
22. Zdrojový modul záření podle nároku 20, vyznačující se tím, že sestava zdrojů záření dále obsahuje objímku okolo ultrafialového zdroje k zajištění izolační mezery mezi ultrafialovým zdrojem a tekutinou.
podle nároku 19, ž e nosný člen je zajištěna dodávka záření.
23. Zdrojový modul záření vyznačující se tím, zahrnuje trubkové prvky skrze něž elektrické energie do sestavy zdrojů
24. Zdrojový modul záření podle nároku 21, vyznačující se tím, že do každého nosného členu jsou napojeny alespoň dva z ultrafialových zdrojů.
25. Čistící zařízení na sestavu zdrojů záření v systému zpracování tekutin obsahující: čistící objímku činnou na části vnějšku sestavy zdrojů záření a pohyblivou mezi vtaženou polohou, ve které první část zdroje záření je vystavena toku zpracovávané tekutiny, a odtaženou polohou, ve které tato první část sestavy zdrojů záření je celkově nebo částečně zakryta touto čistící objímkou, která obsahuje komoru stýkající se s touto první částí sestavy zdrojů záření a naplněnou čistícím roztokem vhodným k odstranění nežádoucích materiálů ze zmíněné první části.
26. Čistící zařízení podle nároku 25, vyznačující se tím, že obsahuje alespoň jedeno těsnění mezi vnějškem povrchu sestavy zdrojů záření a čistící objímkou, tato nejméně jedna objímka odstraňuje část z nežádoucích materiálů ze vnějšku sestavy zdrojů záření pohyblivém mezi vtaženou a odtaženou polohou.
27. Čistící zařízení podle nároku 25, vyznačující se tím, že dodávaný čistící roztok je stlačen do čistící objímky a čistící objímka je zvýšena tímto tlakem do odtažené polohy.
28. Čistící zařízení podle nároku 26, vyznačující se tím, že čistící objímka je posunuta do vtažené polohy odstraněním zmíněného stlačeného čistícího roztoku z čistící objímky.
29. Čistící zařízení podle nároku 25, vyzná č u j í c í se t í m, že čistící obj ímka je vázána k části vnějšku alespoň dvou sestav zdrojů záření. 30. Čistící zařízení podle nároku 29, vyzná č u j í c í se t í m, že čistící obj ímka
je napojena k nejméně jednomu prvku pohybu čistící objímky mezi vtaženou a odtaženou polohou.
31. Čistící zařízení podle nároku 30, vyznačující se tím, že alespoň jeden prvek pohybu je hydraulicky obsluhován.
32. Čistící zařízení podle nároku 30, vyznačující se tím, že alespoň jeden prvek pohybu je obsluhován pneumaticky.
33. Způsob zpracování tekutiny obsahující tyto kroky:
(i) zajištění přívodu toku kapaliny spádem do přítoku tekutiny;
(ii) převedení toku kapaliny z přítoku tekutiny do ozařovací zóny obsahující nejméně jeden zdroj záření a mající uzavíratelný příčný řez;
(iii) uzavření toku tekutiny v mezích předem určené maximální vzdálenosti od alespoň jednoho zdroje záření;
(iv) vystavení toku tekutiny ozáření ze zdroje záření;
a (v) přivedení toku tekutiny z kroku (iv) k odtoku kapaliny.
34. Způsob podle nároku 33, vyznačuj ící se tím, že tok tekutiny má první rychlost při přítoku tekutiny, druhou rychlost v ozařovací zóně a třetí rychlost při odtoku tekutiny.
35. Způsob podle nároku 34, vyznačuj ící se tím, že druhá rychlost je větší než nejméně jedna z prvních rychlostí a než třetí rychlost.
36. Způsob podle nároku 34, vyznačuj ící se tím, že druhá rychlost je větší než obě první rychlosti a než třetí rychlost.
37. Způsob podle nároku 36, vyznačující s e tím, že třetí rychlost je v podstatě stejná j ako první rychlost. 38. Způsob podle nároku 36, vyznačující s e tím, že kroku (ii) předchází přijmutí toku tekutiny do přechodové zóny, která zvýší rychlost na svém
odtoku.
39. Způsob podle nároku 36, vyznačuj ící se tím, ž e kroku (v) předchází přijmutí toku
tekutiny do přechodové zóny, která sníží rychlost na svém odtoku.
40. Způsob k odstranění škodlivých materiálů ze zdroje záření na místě v systému zpracování tekutiny obsahující tyto kroky:
(i) zajištění dodávky čistící tekutiny do čistící komory;
(ii) přemístění čistící komory ke kontaktu alespoň s částí zdroje záření na předem vymezenou dobu, čistící komora udržuje čistící tekutinu v kontaktu s touto částí;
(iii) odstranění čistící komory z kontaktu s částí zdroje záření po uplynutí předem vymezené doby.
41. Metoda podle nároku 40, vyznačuj í cí se tím, že čistící komora zahrnuje těsnící člen v kluzném styku s výše zmíněnou částí a ometá tuto část k dalšímu odstranění škodlivých materiálů, přičemž zmíněná čistící komora se pohybuje ke styku s touto částí naopak od něj .
42. Metoda podle nároku 40, vyznačuj ící se tím, že čistící komora se zároveň stýká s obdobnou částí nejméně dvou zdrojů záření.
43. Metoda podle nároku 40, vyznačující se tím, že čistící komora je v podstatě souvisle tlakována čistící tekutinou a obsahuje vnitřní tryskové prvky k odstranění škodlivých materiálů ze zdroje záření.
44. Metoda podle nároku 40, vyznačující se tím, že čistící komora je držena nehybně a zdroj záření se pohybuje přiměřeně k dosažení odstranění škodlivých materiálů ze zdroje záření.
45. Metoda podle nároku 40, vyznačující se tím, že čistící komora dále obsahuje drhnoucí prvky ke zvýšení tření se zdrojem záření během styku s čistící komorou.
46. Sestava čidel záření obsahující: kryt čidla;
prostředky přenosu záření uvnitř tohoto krytu včetně části určené k ozáření zdroji záření;
čidlo záření zachycující ' záření ze zmíněných prvků přenosu; a prostředky k odstranění materiálů poškozujících zmíněnou část.
47. Sestava čidel záření podle nároku 46, vyznačující se tím, že tyto prvky k odstranění materiálů obsahují trysku k nasměrování na zmíněnou část.
Seznam vztahových značek
20 zdrojový modul záření 24 ramena rámu 28 sestava UV lamp 32 trubice 100 systém 104 hlavní těleso 108 trubice 112 zóna pro úpravu 116 střední část 120 nakloněná část 124 nakloněná část 128 základna 132 střední část 136 nakloněná část 140 nakloněná část 144 ozařovací zóna 148 zdrojový modul záření 150 hladinová propust 152 čidlo záření 156 hladinové čidlo 160 nosné rameno 164 nosný člen 172 spojovací box 176 zdrojová sestava záře 180 zdroj záření 184 obj ímka 188 prstencová vložka 192 objímková trubka 196 kryt
CZ952264A 1993-03-05 1994-03-04 Method of treating liquids and a system for making the same CZ226495A3 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/026,572 US5418370A (en) 1993-03-05 1993-03-05 Fluid treatment system and process

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ226495A3 true CZ226495A3 (en) 1996-04-17

Family

ID=21832576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ952264A CZ226495A3 (en) 1993-03-05 1994-03-04 Method of treating liquids and a system for making the same

Country Status (28)

Country Link
US (3) US5418370A (cs)
EP (3) EP1094035B1 (cs)
JP (1) JPH08509905A (cs)
KR (3) KR100330268B1 (cs)
CN (1) CN1081947C (cs)
AT (3) ATE247603T1 (cs)
AU (1) AU6153194A (cs)
BR (1) BR9406347A (cs)
CA (1) CA2117040C (cs)
CO (3) CO4910176A1 (cs)
CZ (1) CZ226495A3 (cs)
DE (3) DE69427834T2 (cs)
DK (1) DK0687201T3 (cs)
ES (3) ES2115937T3 (cs)
FI (1) FI954134A (cs)
HU (1) HU215737B (cs)
IL (1) IL108709A (cs)
MY (1) MY112388A (cs)
NO (1) NO310139B1 (cs)
NZ (1) NZ262088A (cs)
PH (1) PH31690A (cs)
PL (3) PL177744B1 (cs)
PT (1) PT1094035E (cs)
RO (1) RO114754B1 (cs)
SK (1) SK109195A3 (cs)
TW (2) TW360619B (cs)
WO (1) WO1994020208A1 (cs)
ZA (1) ZA941096B (cs)

Families Citing this family (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE36896E (en) * 1993-03-05 2000-10-03 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and process
US5418370A (en) * 1993-03-05 1995-05-23 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment system and process
US5539209A (en) * 1994-10-17 1996-07-23 Trojan Technologies Inc. Method of cleaning fouling materials from a radiation module
US5792433A (en) * 1995-03-13 1998-08-11 Photoscience Japan Corporation Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps
US5937266A (en) * 1996-03-08 1999-08-10 Photoscience Japan Corporation Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism
US5874740A (en) * 1996-03-14 1999-02-23 Photoscience Japan Corporation Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes
USRE39522E1 (en) * 1996-03-14 2007-03-20 Photoscience Japan Corporation Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes
DE19653083B4 (de) * 1996-12-19 2005-09-08 Wedeco Ag Water Technology Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung
US6013917A (en) * 1997-03-12 2000-01-11 Photoscience Japan Corporation UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes
WO1999010717A1 (en) 1997-08-22 1999-03-04 Morlock Richard C Sensor housing for uv curing chamber
EP1017631B1 (de) 1997-09-18 2001-10-24 WEDECO AG Water Technology Verfahren und vorrichtung zur uv-bestrahlung flüssiger medien, insbesondere von vorgereinigtem abwasser
US6015229A (en) * 1997-09-19 2000-01-18 Calgon Carbon Corporation Method and apparatus for improved mixing in fluids
FR2768718B1 (fr) * 1997-09-24 1999-12-10 Amenagement Urbain & Rural Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide
AUPP158098A0 (en) 1998-01-29 1998-02-26 Arnold, Geoffery Peter Laser alignment apparatus and method
AU691786B3 (en) * 1998-02-03 1998-05-21 Kenneth Ray Bryer An apparatus for treating a liquid
US6342188B1 (en) 1998-11-03 2002-01-29 Trojan Technologies, Inc. Radiation source module and cleaning apparatus therefor
DE59905515D1 (de) 1998-12-30 2003-06-18 Wedeco Ag Uv-bestrahlungsvorrichtung, insbesondere zur desinfektion von flüssigkeiten mit verminderter uv-transmission
US6193938B1 (en) * 1999-03-17 2001-02-27 Wedeco Ag Water Technology Device for treating liquids with UV-radiation
US6217834B1 (en) * 1999-04-19 2001-04-17 Trojan Technologies Inc. Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same
WO2000073213A1 (en) * 1999-05-28 2000-12-07 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
US6863078B1 (en) 1999-05-28 2005-03-08 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
PL195794B1 (pl) 1999-06-04 2007-10-31 Henry Kozlowski Zespół źródła promieniowania nadfioletowego do uzdatniania płynów
CN1157337C (zh) * 1999-08-13 2004-07-14 特洛伊人技术公司 液体处理系统及其清洗设备
US6830697B1 (en) * 1999-09-03 2004-12-14 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module
WO2001025153A1 (en) * 1999-10-01 2001-04-12 Trojan Technologies Inc. Optical radiation sensor system with cleaning device
CN100462691C (zh) 1999-12-06 2009-02-18 特洛伊人技术公司 一种在处理过程中预测至少一个液体流动参数的在线设备
WO2001043782A2 (en) * 1999-12-17 2001-06-21 Trojan Technologies Inc. Radiation source module
CA2394345C (en) 1999-12-17 2007-04-24 Trojan Technologies Inc. Optical radiation sensor system
WO2001055037A1 (en) * 2000-01-28 2001-08-02 Trojan Technologies Inc. Radiation source module
DE10010127B4 (de) * 2000-03-03 2007-12-13 Wedeco Ag Water Technology UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser
US6580019B1 (en) 2000-03-09 2003-06-17 Dekalb Genetics Corporation Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants
US6750379B2 (en) 2000-03-09 2004-06-15 Dekalb Genetics Corporation Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants
CA2306546C (en) 2000-04-20 2006-06-27 Photoscience Japan Corporation Tube scraper
AU2001267187A1 (en) * 2000-06-06 2001-12-17 Trojan Technologies Inc Fluid mixing device
FR2815271B1 (fr) * 2000-10-16 2003-01-17 Bordas Sarl Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv
EP1351890A2 (en) * 2000-12-15 2003-10-15 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and radiation source module for use therein
US6596542B1 (en) * 2001-01-08 2003-07-22 Christopher R. Schulz Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors
US6940075B2 (en) * 2001-03-15 2005-09-06 Christopher R. Schulz Ultraviolet-light-based disinfection reactor
US6649917B2 (en) * 2001-05-30 2003-11-18 Ondeo Degremont Cleaning system for UV disinfection module/reactor
DE10129178A1 (de) * 2001-06-19 2003-01-02 Wedeco Ag UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer
US6663318B2 (en) 2001-08-03 2003-12-16 Trojan Technologies, Inc. Fluid level control system
US6719491B2 (en) 2001-08-03 2004-04-13 Trojan Technologies Inc. Fluid level control system
US7419642B2 (en) * 2002-05-07 2008-09-02 Ultravation, Inc. Fluid disinfection apparatus
US20050069463A1 (en) * 2002-05-07 2005-03-31 Kurtz Mark E. Fluid disinfection apparatus
US20030230477A1 (en) * 2002-06-14 2003-12-18 Fink Ronald G. Environmental air sterilization system
GB2389848B (en) * 2002-06-17 2006-02-08 Hanovia Ltd UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus
CA2489358C (en) * 2002-06-19 2013-09-10 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and radiation source module for use therein
US6784440B2 (en) * 2002-07-26 2004-08-31 Boc, Inc. Food sanitizing cabinet
US20040056201A1 (en) * 2002-09-19 2004-03-25 Fink Ronald G. Food surface sanitation hood
US20040140812A1 (en) * 2003-01-21 2004-07-22 Ademir Scallante Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies
US7160566B2 (en) * 2003-02-07 2007-01-09 Boc, Inc. Food surface sanitation tunnel
WO2005031288A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-07 Trojan Technologies Inc. Radiation sensor device and radiation source module containing same
CN100571788C (zh) * 2004-03-12 2009-12-23 特洛伊人技术公司 流体处理系统
EP3111963B1 (en) 2004-03-12 2021-01-13 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system comprising elongate radiation source assemblies
US7476312B2 (en) * 2004-04-15 2009-01-13 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system
CA2563425A1 (en) * 2004-04-19 2005-10-27 Trojan Technologies Inc. Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid
US8038949B2 (en) * 2004-09-02 2011-10-18 Purgenix, Inc. Ultraviolet germicidal irradiation system
EP2336333A1 (en) 2004-10-21 2011-06-22 Venganza Inc. Methods and materials for conferring resistance to pests and pathogens of plants
US7159264B2 (en) 2004-12-10 2007-01-09 Calgon Carbon Corporation Scraper for cleaning tubular members
US20080274369A1 (en) * 2005-04-21 2008-11-06 Lee Eal H Novel Ruthenium-Based Materials and Ruthenium Alloys, Their Use in Vapor Deposition or Atomic Layer Deposition and Films Produced Therefrom
US7241380B2 (en) * 2005-06-15 2007-07-10 Reiling Dennis R Ultraviolet treatment unit and septic tank system
US8663575B2 (en) * 2005-08-19 2014-03-04 Canadian Blood Services Sample holder for dynamic light scattering
CN101253600B (zh) * 2005-08-31 2013-06-19 特洛伊科技有限公司 紫外射灯及放射源模组以及含有该紫外射灯的处理系统
US7985956B2 (en) * 2005-12-21 2011-07-26 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system
US8679416B2 (en) * 2006-08-17 2014-03-25 Trojan Technologies Fluid treatment system
US7507973B2 (en) * 2006-11-02 2009-03-24 Calgon Carbon Corporation UV treatment reactor
CN101568492B (zh) 2006-11-06 2012-06-13 特洛伊科技有限公司 流体处理系统
US7862728B2 (en) 2007-09-27 2011-01-04 Water Of Life, Llc. Ultraviolet water purification system
US8529770B2 (en) * 2007-09-27 2013-09-10 Water Of Life, Llc. Self-contained UV-C purification system
US8557050B1 (en) * 2008-10-31 2013-10-15 Genefluidics, Inc. System for washing a sensor structure
AU2009319794B2 (en) * 2008-11-26 2013-12-05 De Nora Water Technologies, LLC Method and apparatus for use of mixing elements in wastewater/ recycle water UV disinfection system
CA2757820A1 (en) * 2009-04-07 2010-10-14 Trojan Technologies Radiation source module and fluid treatment system
CN102473581A (zh) * 2009-07-02 2012-05-23 特洁安科技有限公司 辐射源组件
EP2456577B1 (en) * 2009-07-23 2017-11-15 Trojan Technologies Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system
US8182613B2 (en) * 2009-08-04 2012-05-22 University Corporation For Atmospheric Research Radiometer including a cleaning system
DE102009039655B3 (de) * 2009-09-02 2011-03-31 ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung
DE102009039654A1 (de) * 2009-09-02 2011-03-03 ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington UV-Desinfektionseinrichtung mit berührungsloser Reinigung
CN102596436A (zh) 2009-11-12 2012-07-18 特洁安科技有限公司 清洗设备,辐射源模块和流体处理系统
US20120043223A1 (en) * 2010-08-18 2012-02-23 David Sherzer Water treatment method
CN103298549B (zh) 2010-12-16 2015-10-14 特洁安技术公司 辐射源模块及流体处理系统
WO2013106914A1 (en) 2012-01-20 2013-07-25 Trojan Technologies Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same
CN104245160A (zh) 2012-02-23 2014-12-24 特洁安技术公司 辐射源清洁系统和包括辐射源清洁系统的模块
CA2894215A1 (en) 2012-12-07 2014-06-12 Trojan Technologies Cleaning apparatus
CN105473513B (zh) 2013-08-29 2018-09-21 晶体公司 紫外光均匀分布的流体处理的系统和方法
CA3057298A1 (en) 2017-03-21 2018-09-27 Hayward Industries, Inc. Systems and methods for sanitizing pool and spa water
US11472727B2 (en) 2017-06-09 2022-10-18 Hayward Industries, Inc. Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit
AU2021379292A1 (en) 2020-11-14 2023-06-08 Mark Anthony International Srl Methods for sterilizing fermented beverages

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR421296A (fr) * 1910-10-10 1910-12-17 Marius Paul Otto Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets
FR16443E (fr) * 1911-04-11 1913-01-31 Paul Gabriel Triquet Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau
US2413704A (en) * 1944-12-04 1947-01-07 Art Metal Company Ultraviolet sterilizer
US2670439A (en) * 1950-07-05 1954-02-23 Hanovia Chemical & Mfg Co Apparatus for irradiating liquids
DE855521C (de) * 1950-12-28 1952-11-13 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten
US3061721A (en) * 1960-01-19 1962-10-30 Brenner Al Automatic tube cleaning device
US3182193A (en) * 1962-01-03 1965-05-04 Ultra Dynamics Corp Electronically monitored liquid purification or sterilizing system
US3182191A (en) * 1963-02-14 1965-05-04 Puretest Water Purifier Co Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source
US3140054A (en) * 1963-04-25 1964-07-07 Oharenko Vladimir Safety inspection light
US3462597A (en) * 1966-07-29 1969-08-19 Ultra Dynamics Corp Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means
US3456107A (en) * 1967-05-16 1969-07-15 Aquacare Intern Ltd Water sterilizing apparatus
US3562520A (en) * 1968-11-04 1971-02-09 Puretest Water Purifying Co Fail-safe water purifying apparatus
US3637342A (en) * 1969-05-07 1972-01-25 Louis P Veloz Sterilization of fluids by ultraviolet radiation
US3837800A (en) * 1971-05-06 1974-09-24 Meltzer H Method and apparatus for purifying fluids
DE2300273C3 (de) * 1972-01-07 1982-05-06 Toray Industries, Inc., Tokyo Vorrichtung für Abwasserreinigung
DE2213658C3 (de) * 1972-03-21 1974-08-15 Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) Wasserentkeimungsanlage
CA951135A (en) * 1972-08-23 1974-07-16 Wolfgang Scherrelies Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer
US3948772A (en) * 1975-04-16 1976-04-06 Sidney Ellner Split stream ultraviolet purification device
US4103167A (en) * 1976-08-16 1978-07-25 Sidney Ellner Ultraviolet liquid purification system
US4255663A (en) * 1977-03-24 1981-03-10 Lewis James H Disposable liquid sterilizer unit
US4204956A (en) * 1978-10-02 1980-05-27 Flatow Robert E Water purification system
US4205956A (en) * 1979-05-21 1980-06-03 The International Nickel Company, Inc. Nickel carbonyl analyzer
US4367410A (en) * 1979-07-09 1983-01-04 Pure Water Systems, Inc. Waste purification apparatus and method
IT1123509B (it) * 1979-07-31 1986-04-30 Vighi Temistocle Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento
US4296328A (en) * 1980-02-11 1981-10-20 Regan Michael D Apparatus for producing high purity water
US4400270A (en) * 1980-04-18 1983-08-23 Adco Aerospace, Inc. Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
US4490777A (en) * 1981-06-25 1984-12-25 Tanner Stephen E Selective color illumination device for electronic drafting tables
DE3126127A1 (de) * 1981-07-02 1983-01-20 Christoph Dr. 6500 Mainz Franz Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes
US4435744A (en) * 1981-08-10 1984-03-06 Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. Explosion-proof fluorescent light fixture
US4471225A (en) * 1981-11-09 1984-09-11 Adco Aerospace Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
CA1163086A (en) * 1981-11-30 1984-03-06 Jan Maarschalkerweerd Ultraviolet fluid purifying device
US4467206A (en) * 1981-12-14 1984-08-21 Extracorporeal Medical Specialties, Inc. Method and apparatus for the irradiation of fluids
NL8300115A (nl) * 1983-01-13 1984-08-01 Philips Nv Bestralingsinrichting.
FI841491A (fi) * 1983-04-25 1984-10-26 Christian Lumpp Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning.
US4535247A (en) * 1983-07-11 1985-08-13 Kurtz Mark E Water sterilization system
DE3441535A1 (de) * 1984-11-14 1986-06-26 Erich 7632 Friesenheim Rasche Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung
US4700101A (en) * 1985-02-07 1987-10-13 Sidney Ellner Elongated tubular lamp construction
JPS61230203A (ja) * 1985-03-29 1986-10-14 東芝ライテック株式会社 ランプユニツト
US4757205A (en) * 1986-06-10 1988-07-12 Arlat Inc. Ultraviolet water treatment apparatus
US4755292A (en) * 1986-08-11 1988-07-05 Merriam Theodore D Portable ultraviolet water sterilizer
US4767932A (en) * 1986-09-26 1988-08-30 Ultraviolet Purification System, Inc. Ultraviolet purification device
JPS63153469U (cs) * 1987-03-30 1988-10-07
US4872980A (en) * 1988-09-13 1989-10-10 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US4952376A (en) * 1988-09-13 1990-08-28 Peroxidation Systems, Inc. Oxidation chamber
US4968489A (en) * 1988-09-13 1990-11-06 Peroxidation Systems, Inc. UV lamp enclosure sleeve
US4897246A (en) * 1988-09-13 1990-01-30 Peroxidation Systems, Inc. Oxidation chamber
US5006244A (en) * 1988-09-13 1991-04-09 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US4922114A (en) * 1989-06-01 1990-05-01 Hilary Boehme Wiper mechanism
US5227140A (en) * 1990-04-13 1993-07-13 Peroxidation Systems, Inc. Modular self-cleaning oxidation chamber
US5019256A (en) * 1990-10-19 1991-05-28 Fischer & Porter Company Ultraviolet lamp rack assembly
JPH04190887A (ja) * 1990-11-26 1992-07-09 Mitsubishi Petrochem Co Ltd 紫外線殺菌装置およびその浄化方法
US5124131A (en) * 1990-12-10 1992-06-23 Ultraviolet Energy Generators, Inc. Compact high-throughput ultraviolet processing chamber
JPH0663533A (ja) * 1992-08-10 1994-03-08 Gastar Corp 温水殺菌方法および殺菌装置
US5418370A (en) * 1993-03-05 1995-05-23 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment system and process
US5266215A (en) * 1993-04-27 1993-11-30 Rolf Engelhard Water purification unit

Also Published As

Publication number Publication date
ZA941096B (en) 1994-09-16
NO310139B1 (no) 2001-05-28
EP1094035A2 (en) 2001-04-25
PL177739B1 (pl) 2000-01-31
EP1094035B1 (en) 2003-08-20
DE69427834D1 (de) 2001-08-30
PL177782B1 (pl) 2000-01-31
DK0687201T3 (da) 1998-09-23
ATE247603T1 (de) 2003-09-15
NO953451L (no) 1995-09-01
DE69433069T2 (de) 2004-06-17
IL108709A (en) 1998-01-04
EP1094035A3 (en) 2001-10-31
PT1094035E (pt) 2003-12-31
HU9502580D0 (en) 1995-10-30
DE69408441D1 (de) 1998-03-12
DE69433069D1 (de) 2003-09-25
EP0811579B1 (en) 2001-07-25
US5418370A (en) 1995-05-23
NZ262088A (en) 1997-12-19
PH31690A (en) 1999-01-18
FI954134A0 (fi) 1995-09-04
HU215737B (hu) 1999-02-01
EP0811579A2 (en) 1997-12-10
CO4910176A1 (es) 2000-04-24
KR100330268B1 (ko) 2002-08-08
HUT76196A (en) 1997-07-28
CN1121320A (zh) 1996-04-24
DE69427834T2 (de) 2002-04-04
ES2206355T3 (es) 2004-05-16
PL310528A1 (en) 1995-12-27
CO4180401A1 (es) 1995-06-07
RO114754B1 (ro) 1999-07-30
MY112388A (en) 2001-06-30
TW317558B (cs) 1997-10-11
DE69408441T2 (de) 1998-09-17
AU6153194A (en) 1994-09-26
ATE203492T1 (de) 2001-08-15
TW360619B (en) 1999-06-11
FI954134A (fi) 1995-09-04
EP0687201B1 (en) 1998-02-04
BR9406347A (pt) 1996-02-13
IL108709A0 (en) 1994-05-30
KR100418308B1 (ko) 2004-02-14
ATE162956T1 (de) 1998-02-15
US5590390A (en) 1996-12-31
ES2115937T3 (es) 1998-07-01
EP0811579A3 (en) 1998-01-14
SK109195A3 (en) 1996-04-03
CA2117040A1 (en) 1994-09-06
JPH08509905A (ja) 1996-10-22
US5539210A (en) 1996-07-23
CA2117040C (en) 1999-02-23
KR100360320B1 (ko) 2002-11-11
CO4180400A1 (es) 1995-06-07
WO1994020208A1 (en) 1994-09-15
CN1081947C (zh) 2002-04-03
EP0687201A1 (en) 1995-12-20
ES2163695T3 (es) 2002-02-01
NO953451D0 (no) 1995-09-01
PL177744B1 (pl) 2000-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ226495A3 (en) Method of treating liquids and a system for making the same
CZ116397A3 (en) Process and apparatus for treating liquids by uv radiation
US6342188B1 (en) Radiation source module and cleaning apparatus therefor
US6863078B1 (en) Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
CZ130299A3 (cs) Zařízení na přemisťování tekutého kovu, způsob jeho provozu a žáruvzdorné příslušenství
US6179435B1 (en) Light assembly
HUT56615A (en) Apparatus for injecting sludge into combustion space
CA2239925C (en) Fluid treatment system and process
US6269833B1 (en) Spent fuel pool anti-siphon system
CA2338879C (en) Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
RU2117255C1 (ru) Загрузочно-дозировочное устройство вакуумных установок
AU9610098A (en) Fluid treatment system and process
KR100870965B1 (ko) 관 내부 세척 장치 및 이에 따른 작동방법
EP0466809A1 (en) Removable flushing system for machine tool coolant return system flumes
RU2032236C1 (ru) Установка для облучения жидкости
SE9101694L (sv) Anordning foer faststaellande av egenskaper hos ett komprimerbart material
KR20160013622A (ko) 수직형 취수탑의 수문을 대신하는 보수용 차단장치
FI76502B (fi) Foerfarande och anordning foer inmatning av kemikalier i en process och/eller provtagning ur processen.
JPH04503483A (ja) 工作機械冷却液戻り装置の樋のための取外し可能なフラッシュ装置
ITMI962341A1 (it) Valvola regolatrice della portata e/o pressione di un fluido particolarmente per macchine riempitrici
FR2815271A1 (fr) Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv
PL147524B1 (en) Apparatus for uniformly radiating materials in anuclear reactor,in particular for radiation of silicium monocrystals

Legal Events

Date Code Title Description
PD00 Pending as of 2000-06-30 in czech republic