TW317558B - - Google Patents
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Description
317558 at B7 五、發明説明(丨) 〔發明背景〕 1 ·發明領域 本發明係藺於一種處理流體之方法,其利用重力將流 體進給到一個照射區内,在照射區内包括至少一個輻射源 並具有一個封閉的截面,以將流體保持在距離該至少一個 輻射源一段設定的最大範圍之内。 本發明亦闞於一種清洗位於流體中之輻射源設備的新 穎清潔方法,其中該輻射源的外部由一個含有適當清潔溶 液之清潔構件掃過。 本發明亦闞於一種處理流體之新穎系铳,其係將流體 曝露在輻射下。進一步言之,本發明係關於一種新穎的重 力進給式流體處理系統*其包括一處理區*在處理區内有 一照射區,照射區提供一個相對於輻射源之固定流體幾何 形狀。 經濟部中央瞟隼局員工消費合作狂印裝 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明亦關於一棰新穎的輻射源單位,Μ用於流體處 理糸統。進一步言之,該單位包括一個或多個連接到一個 支撐構件之輻射源設備,而該構件被設計成在条統遒缜使 用中可允許該單位插入處理系統和由處理糸統抽出。該軍 位係設計成在装設或移除時*輻射源設備不會與糸統之處 理區内的表面接觸。 本發明亦闢於一種用於流體處理条統之新穎清潔裝置 *進—步言之•該清潔裝置包括一個或多涸清潔構件,這 些清潔構件可掃過流體處理系統内之輻射源設備的外部, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 317558 A7 B7 五、發明説明(z ) 這些清潔構件含有一種適當的清潔溶液來接觸輻射源設備 之外部·Μ將弄髒輻射源設備外部之物弄鬆甚至清除。 2 ·習知技術介紹 流體處理系统已為人所知,例如美國第4,482 · 809 號、第 4,872,980 號、Μ 及第 5,006 ,244號(已讓渡給本發明之授讓人)專利案,在此舉 出Μ供參考,這些專利案均揭示使用紫外線輻射之重力進 給式流體處理系統。 經濟邹中夬樣隼局貝Μ消費合阼枉卬敦 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 這些糸統包括一例紫外線燈架體,其包括數個紫外線 燈•每一個紫外線燈是装設在套茼内,而套筒則是在架體 的兩個支撐臂之間延伸。這些架體係浸在要被處理的流體 中,然後照射紫外線。流體曝露在輻射下之輻射量係由流 饈與燈之間的距離、燈之輸出功率、Κ及流體流經燈之流 速而定。可使用一個或多個紫外線感測器來監視燈之紫外 線輸出量,而流體液位典型上是利用裝在處理系統下游之 液位閘或類似结構來控制。由於很難在重力進給系統中精 確地控制液位,流體液位難免變動•而此一變動會導致所 處理之流體的照射不均問題。 然而,在上述的系統中堪存在有缺點。因要被處理之 流體性質,環镜紫外線燈的套筒會被外來物質弄艏和塞住 *因而影響其傳送輻射給流體之之能力。當弄髒時(可由 經驗操作數據得知弄髒之週期或是由紫外線感測器偵得知 ),必須用手除去套茼上的髒物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(210 X 297公釐)
經涛郎中央樣隼局貝μ消費合阼;aipR A7 B7 五、發明説明(4 ) 若是紫外線燈是用於一個開放式溝狀系統中*移去一 個或多個架體,而糸統仍可繼鑛操作,移去之架體可浸浴 在適當的酸性清潔溶液中,並用空氣授動來移去污物。當 然,在拆下一個或多個架體清洗時,必須有剰下或多餘之 紫外線輻射源(通常是用額外的紫外線燈架體)來確保要 被處理的流體能受到適當的輻射。當然,額外的紫外線燈 會增加裝設處理系統之費用。 此外,亦須提供和維修一個含有適當清潔溶液之清潔 容器,使紫外線燈架體得Μ置入清潔溶液中。梘一次要清 洗之架體數目和清洗頻率之不同,此舉也會顯著地增加糸 統之装設、維修和操作之費用。 若架體是在一封閉系統中,要將架體從流體中移出來 清洗是很不實際之事。在此種埸合下,必須將處理流體程 序暫停*鼷閉到處理封閉物之入口和出口閥*使整個處理 封閉物充滿酸性清潔溶液,並用空氣來攪動流體Κ移去污 物,如此才能濟洗套茼。清洗這種封閉系统的缺點是在清 洗時必須停止處理系統,而且需要大量的清潔溶液來注滿 蝥個處理封閉物。另一個問題是處理如此大量的酸性清潔 溶液很危險,而且處置使用後之大量清潔溶液很困難而且 昂貴。當然,開放式流體處理糸統也有這兩個問題,只是 問題沒有這樣嚴重。 本發明人相信一旦裝設後,習用流體處理系統最大支 出成本之一即為經常清洗環繞著輻射源之套茼所需之成本 -6- 本紙張Λ度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) "- 訂 317558 五、發明説明(丄) 〇 上述習用糸統的另一缺點是紫外線燈之輸出。不幸的 是在習用系統中用之紫外線所需之長度為5英吋左右’以 提供所需之紫外線輻射輸出功率。因此’紫外線燈非常易 碎,而且在燈之端部需要支撐。此亦增加系統之成本。 此外,由於習用糸统中所使用之紫外線燈之輸出功率 有限,常需要較多數目之燈。例如,某些習用設備使用之 燈超過九千具。如此高之數目的燈更增加了上述之清潔燈 之成本,也增加維修和更換燈之成本。 〔發明簡介〕 本發明的目的之一在提供一種K輻射處理流體之新穎 方法,K消除或減輕上述習用技術的至少一個缺點。 本發明的另一目的是提供一種新穎的流體處理系统, 以消除或減輕上述習用技術的至少一個缺點。 根據本發明所提供之處理流體的方法包含Μ下步驟: (i) 提供一重力進給式流體流量到一流體入口; (ii) 將由該流體入口而來之流體流量進給到一個照射 區内,該照射區分含至少一個輻射源並具有一個封閉的剖 面; (iii) 將該流體流量限定在距離該至少一個輻射源一段 設定之最大距維範圍之內; (iv) 將該流體流量曝露在該輻射源之輻射下;以及 (v) 將由步驟(iv)而來之流體流量進給到一流體出口。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) I I I 訂 I Μ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本百) Α7 Β7 五、發明説明(?) 依據本發明之另一觀點*其提供了一個在流體處理糸 統内當場將污物由輻射源清除之清洗方法,其包括Μ下之 步驟: (i) 將一清潔流體供應到一清潔容室; (ii) 將該清潔容室移動,使之與該輻射源的至少一郜 分接觸一段設定時間,該清潔容室維持該清潔流體與該部 分接觸;K及 (iii) 在經過該段設定時間後,將該清潔容室移去而不 與該輻射源之該部分接觸。 依據本發明之又一觀點*其提供了一種重力進給式流 體處理系統,其包括一流體入口、一流體出口,Μ及在流 體入口和流體出口之間的一個照射區,該照射區(i)包括至 少一個幅射源,和(ii)具有一個封閉的截面,K將要被處 理之流體限制在距離該至少一個輻射源設備一段設定的最 大範圍之内。 照射區最好是設在一個具有一入口過渡區和一出口過 渡區之處理區。入口過渡區接受由流體入口而來之流體流 量,並在其進入照射區之前增加其流铘。該出口過渡區接 受由該照射區而來之流體流量,並在其進入流體出口之前 降低其流速。因此,流體流速只有在照射區内才加快* Μ 降低流經糸统之壓頭損失。 依據本發明的另一觀點*其提供一種用於一流體處理 系統之輻射源單位,其包括一個支撐構件;至少一個由該 -8 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本I) ,1r 經濟邹中夬樣隼局員工消費合泎tt印裝 本紙伕尺度適用中國國家榇準(CNS ) Α4規格(210x297公着)
A7 B7 經濟部中央樣隼局貝工消費合泎让印裂 五、發明説明 ( b ) 1 1 支 撐 構 件 延 伸 之 輻 射 源 設 備 ; 以 及 由 該 支 撐 構 件 延 伸 之 導 1 I 引 和 支 撐 構 件 t 其 中 該 至 少 一 涸 輻 射 源 設 備 由 該 支 撐 構 件 請 1 1 I 上 延 伸 而 出 且 大 致 平 行 於 該 導 引 和 支 撐 構 件 > 該 導 引 和 支 先 閱 I 1 讀 1 I 撐 構 件 由 該 支 撐 構 件 延 伸 而 出 並 具 有 — 個 白 由 端 0 背 面 1 I 之 依 據 本 發 明 之 又 一 觀 點 » 其 提 供 一 種 在 一 流 體 糸 统 中 注 素 1 事 1 用 於 —- 輻 射 源 設 備 之 清 m 装 置 $ 其 包 括 : —* 個 清 潔 套 茼 t 項 再 1 1 它 與 該 輻 射 源 設 備 的 外 部 之 —- 部 分 结 合 並 且 可 在 — 個 縮 填 寫 本 | 回 位 置 和 —‘ 個 延 伸 位 置 之 間 移 動 » 在 該 縮 回 位 置 時 該 輻 頁 1 1 射 源 的 — 個 第 -—* 部 分 係 曝 露 在 要 被 處 理 的 流 體 而 在 該 延 1 I 伸 位 置 時 該 輻 射 源 設 備 的 第 — 部 分 由 該 套 筒 蓋 住 該 清 1 潔 套 茼 包 括 一 涸 與 該 辐 射 源 設 備 的 第 — 部 分 接 觸 之 容 室 » 1 訂 該 容 室 將 被 注 入 可 將 不 要 之 物 質 從 該 第 — 位 置 移 去 之 清 潔 1 I 溶 液 〇 1 1 根 據 本 發 明 的 另 一 觀 點 % 其 提 供 一 種 輻 射 感 测 器 設 備 1 1 t 其 包 括 個 感 测 器 框 罩 * 一 個 設 在 該 框 罩 内 之 輻 射 傳 1 釔 送 装 置 該 傳 送 装 置 包 括 一 個 曝 露 在 一 輻 射 源 下 之 部 分 1 I 一 個 輻 射 感 测 器 t 用 K 接 收 由 該 傳 送 裝 置 而 來 % 輻 射 , K 1 1 1 及 將 會 弄 髒 該 部 分 之 物 質 移 除 之 裝 置 〇 1 1 在 此 使 用 之 ,, 重 力 進 給 99 一 詞 即 包 括 之 % 铳 中 其 流 1 I 體 之 壓 頭 係 由 於 流 體 高 度 麥 化 而 得 〇 請 了 解 這 種 糸 統 包 括 1 I 白 然 重 力 進 給 系 統 和 液 體 之 高 度 是 經 由 泵 或 其 他 機 械 裝 置 1 1 來 改 變 Μ 提 供 重 力 進 給 之 % 統 〇 1 | [ 圖 式 簡 介 1 I - 9- 1 1 1 張 纸 本 準 標 家 國 國 中 用 適 釐 公 7 9 2
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 以 下 將 配 合 所 附 圖 式 介 紹 本 發 明 之 實 施 例 » 其 中 : 第 1 圖 偽 一 習 用 流 體 處 理 裝 置 之 倒 視 截 面 圖 0 第 2 圖 % 第 1 圖 中 之 習 用 流 體 處 理 装 置 之 mi m 視 截 面 圖 0 第 3 圖 係 依 據 本 發 明 之 水 平 式 流 體 處 理 条 統 之 第 — 實 施 例 的 側 視 截 面 圖 0 第 4 圖 俱 一 輻 射 源 OB 単 位 » 其 與 第 3 圖 中 之 % 統 一 起 使 用 〇 第 5 圖 係 第 4 圖 中 之 圓 圈 A 之 放 大 圖 〇 第 6 圖 介 紹 可 與 第 3 圖 中 之 % 統 — 起 使 用 之 輻 射 源 ασ 単 位 的 另 —- 個 實 施 例 的 部 分 圖 〇 第 7 圖 偽 第 6 圖 中 之 圓 圈 B 之 放 大 圖 〇 第 8 圖 偽 依 據 本 發 明 之 垂 直 式 流 體 處 理 % 統 之 第 二 實 施 例 之 側 視 截 面 圖 〇 第 9 圖 介 紹 — 輻 射 感 測 器 設 備 〇 C 圖 號 簡 acr 単 說 明 ] 2 0 輻 射 源 CJCT 単 位 2 4 架 體 腿 部 2 8 紫 外 線 燈 設 備 3 2 處 理 導 溝 1 0 0 流 體 處 理 % 統 1 〇 4 主 本 體 1 0 8 開 放 的 流 體 導 溝 1 1 2 處 理 區 1 1 6 中 央 部 分 1 2 0 , 1 3 6 前 導 之 傾 斜 部 分 1 2 4 » 1 4 0 尾 隨 之 傾 斜 部 分 -10- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 五、發明説明(彡) A7 B7 修压補充 〇6. 4.Ζβ 灰 ν. /] 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 1 2 8 基 底 1 3 2 中 央 部 分 1 4 4 眧 >、、、 射 區 1 4 8 , 1 4 8 B 輻 射 源 G3B 単 位 1 5 〇 液 位 閥 1 5 2 輻 射 感 測 器 1 5 6 流 體 液 位 感 測 器 1 6 0 輻 射 源 支 撐 腿 部 1 6 4 支 撐 和 導 引 構 件 1 7 2 接 線 盒 1 7 6 輻 射 源 設 備 1 8 0 輻 射 源 1 8 4 中 空 套 筒 1 8 8 環 形 嵌 入 物 1 9 2 裝 設 管 1 9 6 装 設 器 2 0 0 擋 止 2 0 4 , 2 0 8 0 形 密 封 環 2 〇 6 環 狀 間 隔 器 2 1 2 環 狀 螺 絲 2 1 6 螺 絲 装 設 器 2 2 〇 電 氣 供 瞧 V认、 導 體 2 2 4 清 潔 設 備 2 2 8 圓 茼 狀 套 茼 2 3 2 , 2 3 4 環 狀 密 封 件 2 3 6 0 形 密 封 環 2 4 0 , 2 4 4 容 室 2 4 8 , 2 5 2 管 子 2 5 6 孔 2 6 4 電 力 連 接 器 2 6 8 清 潔 溶 液 連 接 器 2 7 2 流 體 連 接 器 2 7 6 外 罩 3 0 〇 清 潔 設 備 3 0 4 腹 板 3 0 8 清 潔 環 3 1 2 , 3 1 4 雙 動 氣虹 3 1 6 環 狀 容 室 3 2 0 , 3 2 4 管 子 3 2 8 活 塞 捍 3 3 2 容 室 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) --„---:----1 ·裝------訂------^ 線 . » (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明説明(9 ) A7 B7 修正 86. 泰年 η α«:- 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 3 3 6 活 塞 3 4 〇 容 室 3 4 4 連 桿 3 4 8 > 3 5 2 容 室 3 5 6 補 償 閥 4 0 〇 處 理 % 統 4 0 4 主 本 體 4 0 6 基 部 牆 壁 4 0 8 處 理 區 4 1 2 入 Π 過 渡 區 4 1 6 第 — 昭 射 區 4 2 〇 中 間 區 4 2 4 第 二 昭 *\\\ 射 區 4 2 6 錐 狀 出 □ 區 4 3 0 孔 4 3 4 垂 直 支 撐 構 件 4 3 8 輻 射 源 αα 單 位 4 4 2 輻 射 源 設 備 4 4 6 套 筒 4 5 0 装 設 短 柱 4 5 8 輻 射 源 4 6 2 連 接 器 4 6 6 外 罩 5 0 〇 輻 射 Dc 測 器 設 備 5 0 2 圓 同 狀 本 體 5 0 4 孔 5 〇 8 輻 射 測 元 件 5 1 2 桿 子 5 1 4 前 面 板 5 1 6 f 5 2 0 0 形 環 5 2 4 電 氣 導 線 5 2 8 孔 5 3 2 清 潔 噴 □ 5 3 6 孔 5 3 8 〇 形 環 5 4 〇 鍵 槽 C 較 佳 實 施 例 詳 逑 ] 為 使 本 發 明 更 容 易 了 解 » 首 先 將 介 绍 一 値 習 用 流 體 理 裝 置 〇 第 1 圖 和 第 2 圖 介 紹 美 國 第 4 » 4 8 2 » 8 0 g上 m 專 利 案 中 所 掲 示 之 習 用 處 理 装 置 » 該 裝 置 包 括 多 個 輻 源 αα 卑 位 2 0 » 每 . 値 輻 射 源 αβ 單 位 2 0 包 括 —- 對 架 體 腿 部 12- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)
經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 24,而且有一値紫外線燈設備28在二腿部24之間延 伸。如圖2中所示,這些燈單位2 0偽横跨在一痼處理導 溝3 2上,燈單位2 0之間有著最大間隔,使要被處理之 流體所接受之照射是至少為設定之紫外線最小放射線量。 這種条統雖然可行.但是如上所述,對於燈單位2 0 之設置方式使得維護該装置需要密集人力,在更換燈或是 清潔燈周圍之套筒更是耗時而且昂貴。當一個燈被移去時 ,若要繼缠進行處理.必須供給多餘之燈來保持流體受到 設定之最小輻射線量,因而增加条統之成本。此外,流體 性質不同和流速不同的話,要處理的毎單位流體所需之燈 和套筒的數目相當可觀。這種習用条統的另一個缺點是在 不同的流速之下很難控制流體相對於燈設備2 0之液位。 因此,雖然上述習用条統可行.本發明人仍繼缅研究 改進以期克服上述缺點。以下即配合其餘圖式來介绍本發 明。 現在請參閲第3圖,依據本發明的流體處理条統丨〇〇 包括一倨主本體1 〇 4 ,其偽横跨在一値開放的流體導溝 108上,所有的流經流體導溝1〇8的流髏被導至一個 處理區1 1 2中。主本體1 〇4可為預縳混凝土、不銹鋼 、或其他適當材料可與要被處理一之流髏—起使用,而且 可抵抗所使用之輻射者。 主本體1 04之下表面包活一餹中央部分1 1 S,其 有向下延伸之前導和尾隨之傾斜部分1 20和1 40。在 -1 3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇x 297公釐) --------1 .裝------訂-----1 綵 . · (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
A7 B7
i、發明説明(丨丨) L 導溝108的基底128上且在中央部分116之下有一 痼相愿之隆起的中央部分1 3 2 ,其亦設有前導和尾隨之 傾斜部分136和140。中央部分132可為主本髏1 04之部分,或是如本圖所示之基部12 8的部分。 照射區144偽提供要被處理之流體一値封閉的部分 .其提供給流體一相對於放射源(下文中會介绍)之固定 幾何形狀,使流體曝露在放射源之設定最小輻射量之下。 如第3画中所示,部分116和132形成一個狹窄 照射區144,而部分120和136則形成一値錐狀入 口過渡區,而部分124和140則形成一個錐狀出口過 渡區。 主本髏1 0 4的上游面和下游面之其中至少一個包括 了一個或多値裝設在其上之輻射源單位148。視要被處 理之流饅而定,所提供之單位148的數目可為一値上游 單位148或是兩個或多個跨設在主本體104之上、下 游面之單位148。在設有上、下游單位148之時,這 些單位14 8會在水平方向晃動,在下文中詳細介紹單位 1 4 8時會再加以詳細地說明。 主本體1 04亦包括延伸進入照射區144之輻射感 測器152和一餹監視處理通道112人口侧之流體液位 流體液位感測器15 6。如在該行業中之人士所知者,若 条統中之流龌液位掉落到流體液位感測器1 5 6之下.會 有警鈐逛起,或是關閉輻射源。在主本體1〇4的下游亦 -1 4 - 本紙張適用中國國家揉準(CNS) (2丨οχ297公廣) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 317558 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 w | — 修正 本 86. 4· 斗 2« h 过 miL 五、發明説明(ίΖ ) 設 有 — 傾 標 準 流 髏 液 位 閘 1 5 0 » 以 使 處 理 區 1 1 2 内保 持 一 個 最 低 流 體 液 位 0 如 第 4 圖 和 第 5 圖 中 所 示 * 每 — 個 輻 射 源 〇〇 単 位 1 4 8 包 括 —— 個輻射源支撐腿部 1 6 0 • — 個 水 平 之 支 撐 和 導引 構 件 1 6 4 » — 個 接 線 盒 1 7 2 t 以 及 在 支 撐 BSB 腿 部 1 6 0 底 部 附 近 之 一 個 或 多 個 輻 射 源 設 備 1 7 6 〇 每 一 値輻射源 設 備 1 7 6 包括 一 値高強度輻射源 1 8 0 » 例 如 菲 利 浦公 司 所 製 之 Η 0 Κ 3 5 — 8 0 型紫外線燈 » 其 係 藉 由 兩 個環 形 嵌 入 物 1 8 8 而 裝 設 在 一 値 中 空 套 筒 1 8 4 上 0 當 然, 對 於 精 於 此 技 之 人 士 而 言 » 很 明 顯 地 在 某 些 場 合 輻 射 源設 備 1 7 6 不 需 要 套 筒 > 而 輻 射 源 1 8 0 可 直 接 放 置 在 要被 處 理 的 流 體 之 内 〇 每 —^- 魅 套 筒 1 8 4在遠離支撐腿部 1 6 0 的 xm 晒 部 是封 閉 的 参 而 且 密 封 地 與 一 個 装 設 管 1 9 2 連 结 , 而 装 設 管1 9 2 傜 連 接 到 該 支 撐 腿 部 1 6 0 0 在 套 筒 1 8 4 和装設管 1 9 2 之 間 的 密 封 曰 疋 經 由 將 套 筒 1 8 4 的 開 放 端 嵌 入 -値 裝 設 器 1 9 6 之 間 $ 而 該 裝 設 器 1 9 6 傷密閉地固定到裝 設 管 1 9 2 的 端 部 〇 在 装 設 器 1 9 6 的 基 部 設 有 一 値 橡膠 塾 圏 型 擋 止 2 〇 〇 t 在 套 筒 1 8 4 被 嵌 入 而 與 罩 1 9 6直 接 觸 時 » 可 防 止 套 筒 1 8 4 破 裂 0 在 套 筒 1 8 4 外 部 周圍 設 有 —* 對 0 形 密 封 環 2 0 4 * 2 0 8 * 在 二 者 之 間 有 一環 狀 間 隔 器 2 0 6 〇 在 套 筒 1 8 4 、 0形密封環 2 0 4 、 2 0 8 和 環 狀 間 隔 器 2 0 6 嵌 入 装 設 器 1 9 6 之 後 * 一値 - 15 - I IV I - I I* .裝 訂 I-*械 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21 OX 297公釐) A7 修正 86. 4. 2 6 iz_補亦Λ年s曰— 五、發明説明(/3 ) 環狀螺絲212被放置在套筒184,並被壓入而與装設 器1 96接觸。螺絲2 1 2上之螺紋與装設器1 96之内 螺纹结合,而且螺絲212被固定,以迫緊橡膠擋止200 和Ο形密封環204和208,因而提供所需之密封。 每一®装設管192的相對端亦有螺紋,而且與一値 熔接在支撐腿部160上之螺絲装設器216配合。裝設 管192與螺絲装設器216上之連接,以及螺絲装設器 2 1 6和支撐腿部1 60之間的連接亦為密封式,以防止 流體進入装設管192或支撐腿部160之中空内部。 每一個輻射源1 8 0係連接在一對電氣供應導髏220 之間,而導體220係由接線盒172經由支撐腿部160 和裝設管1 92的内部而通到輻射源1 80。 經濟部中央標準局員工消費合作杜印裝 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如第4圖和第5圖中所示,在每一値輻射源設備17 6 和裝設管192上亦設有一個清潔設備224,毎一饀清 潔設備224包括一個圓筒狀套筒228,其作用如同一 個双動式氣缸。圃茼狀套茼228之兩端各有一個環狀密 封件232和234。靠近支撐腿部160之密封件232 與裝設管19 2之外表面結合,而遠離支撐腿部16 0之 密封件2 34則與輻射源設備1 7 6之外表面結合。 裝設器1 9 6之外包括一舾凹槽,其内裝設了一値0 形密封環236, 0形密封環236與圚茼狀套茼228 之内部結合,並將圓筒狀套筒2 2 8隔成兩個容室240 和244。容室240與管子248連通,而容室244 -16* 本紙張尺度適用中國围家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 317558 A7 B7 修正86. 4.2$ 本 .¾ 補充 五、發明説明(ί4 ) (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 與管子252連通。每一條管子248和252由接線盒 172穿過支撐腿部160和裝設管192之内部而通到 裝設器196,在此處分別與容室240和244連通。 習於此技之人士可了解,將加壓液壓油、空氣或任何 適合之流體經由管子248供應到容室240時.圓筒狀 套茼228將被致動而朝向支撐腿部160移動,並將迫 使流體流出容室244而進管子2 52。類似於此,使加 壓流髏經由管子2 5 2而進入容室244時,圓筒狀套茼 228將被致動朝向套茼184移動,而且將迫使流髏出 容室240而進入管子248。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 管子2 5 2像連接到一偭適當的清潔溶液(例如酸性 溶液)之供應器,並且管248係連接到一個適當流體( 例如空氣)之供應源。由是,當要清洗套茼184之外部 時,加壓清潔溶液被供應到容室244内,同時流髏由容 室240中移出。圓筒狀套筒228因此披迫移到遠離支 撐腿部160之延伸位置,而且,當圓筒狀套茼228移 到該延伸位置時,密封件234將游離的外來物質由套筒 1 8 4上掃除。 當圓筒狀套筒228在其延伸位置時.容室244内 之清潔溶液被帶出而與輻射設備17 6之外部接觸,而輻 射設備17 6形成容室244之内壁,而且清潔溶液化學 地分解和/或移除會污塞輻射設備1 7 6之剩餘外來物質 。在一預定清潔時間過後,流體被迫進入容室24 ◦内, -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨0 X 297公釐) A7 B7 修正 ‘補充 五、發明説明(15·) 加壓之清潔溶液由各室244處被移去,因而迫使圓筒狀 套筒2 2 8回到靠近支撐腿部1 6 0附近的一個縮回位置 。當圓筒狀套筒228縮回時,密封件234再度將游離 之外來物質由輻射設備176之表面上掃除。 習於此技之人士將會了解.上述之清潔設備224可 定期定時操作,例如一天一次,亦可視輻射感測器152 所讀取之關於要被處理之流體種類不同時之資料爱化而定 〇 每一傾輻射源單位1 48係藉由水平支撐構件1 64 而装設在主本體104上,而支撐構件164具有既定剖 面形狀,而且係容納在主本體104上的一個有相應形狀 之孔2 5 6内。此設定形狀之選擇可允許水平支撐構件1 64嵌入孔2 5 6時可同時防止水平支撐構件1 64在孔 2 5 6内之旋轉3 如第3圖和第4圖中所示,水平支撐構件164之長 度使水平支撐構件1 64由撐腿部1 6 0延延伸而出之長 度比輻射源設備1 7 6還長,依此方式,在裝設輻射源單 位148時,輻射源設備176不對入口或出口過渡區造 成阻礙。此一安排在安裝輻射源單位148之時可降低輻 射源設備17 6撞擊其他物體而造成損害之機率,特別是 流體正流經条統1 00之時。由於水平支撐構件1 S4所 需之長度,孔2 5 6在主本體104之相對表面上水平交 錯。 -1 8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210Χ 297公釐) ----.----1 裝------訂-----i 線 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印装 A7 B7 μι,% 補充泰 五、發明説明(丨各) 當水平支撐構件1 64完全地容納在孔2 5 6中時, 電力連接器264、清潔溶液連接器268、以及流髏連 接器272等在接線盒172上之連接器與外罩276上 之互補連接器接合。連接器2 64和2 7 2與外罩2 7 6 上之互補連接器之接合亦可使水平支撐構件1 64維持在 孔256中。外罩276亦可便利地包含壓載物,以提供 電力給輻射源1 8 0和用於清潔設備2 2 4之清潔溶液和 加壓流體之泵和貯水容器(未示出)。 最近在輻射源技術上之改進己可製造出更高強度之輻 射源和裝置,其没有燈絲或使用發射單波長輻射.其中之 輻射源改進例子即為上述之由菲利浦公司所製造之H〇 K 35_80型燈,渲種14英吋的燈之額定輸出功率為每 英吋200瓦,總輸出功率為2800瓦。與習用者比較 ,流體處理条統所使用之紫外線燈之額定輸出功率為每英 吋1瓦,而其長度為5英吋。 由於這些較高強度之輻射源放射出較大輻射量.對於 定量流體而言,其所需之輻射源數目較少。習於此技之人 士可知,流體所接收之輻射量為輻射強度乘以曝露時間。 輻射強度與輻射距離成反比,但是曝露時間與流體流速成 線性關偽。因此,有霖要使被處理之流體保持儘可能地靠 近輻射源。如此可使用多値低強度輻射源裝設在一較大處 理區域内,或是在一較小的處理區域内安裝數目較少的高 強度輻射源。為了效率,降低支出,以及減低上述之流體 -19- 本纸浪尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) I-»---Γ----{-裝------訂-----▲線 * - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 B7 修正m^=r 86. 4. 2 6 本斗月 曰 經濟部中央揉準局員工消費合作社印装 五、發明説明(丨7 ) 液位的精確控制需求,本發明採用上述中的後一種設計。 照射區1 44被設計成提供流體一個封閉的截面,確保被 處理的流髏在一個預定最大距離内通過最少數目之高強度 輻射源180。流經照射區144之流體流速可增加,在 最少數目之高強度輻射源之下進行仍可接受之流體處理速 度。 因此,本条統偽設計以使輻射區1 4 4之尺寸最小化 ,同時提升流體流速來得到所需之處理速度。因此,流經 照射區144之流速比習用菡理裝置中之流速快,習用条 統之流速典型上為毎秒2英呎或更小。反之,本發明之条 統可使流經照射區144之流速高逹每秒12英呎。 習於此技之人士可知,流經體管路之壓力落差損失為 流體流速平方之函數.因此,高流速造成落差損失增加, 而且可能造成處理条統内液位之不可接受之變動。因此, 本条统可設置具有較大截面之人口和出口,以使落差損失 降至最小,並協助輻射源單位之嵌入和移去,在下文中會 介绍。真正的照射區144為長度相當短之縮減截面,而 且偽以過渡匾來分別連接入口和出口。以此方式,可得到 較高之流經照射區144之流體流速,同時使液落差損失 降至最小。 本發明之其他優點尚有雒修簡便,因為游離物可在現 場由輻射源設備處清除,而且輻射源單位之移除相當容易 .維修和更換非常方便。此外,在現場即可清洗之能力也 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) - - II - --1 -ί- I 1^1 -!-1----- - n 1^1 -1— J > 一 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
----_E 五、發明説明(丨?) ®胃$必_備多餘的輻射源來替換要被清洗之輻射源,而 且流經照射區之流體速之提升可降低附著在輻射源上之游 離物的數量。 第6圖和第7画中介紹輻射源單位1 4 b和清潔設備 300之另一實施例,其中上一實施例中的相同元件傺以 本目標號檫註。如第7圖中所示,套筒184僳氣密地 封閉在裝設管192之框罩196處,其裝設方式與第5 S中所示之上一實施例很近似。然而,在本實施例中,清 潔設備3〇〇包括清潔環308所組成之腹板304,以 及一對双動氣缸3 1 2、3 14。每一傾清潔環308包 括一個靠近套筒184表面之環狀容室316,而所有的 清潔環308被氣缸3 1 2和3 14移動而在套筒1 84 上的一値縮回位置和一個延伸位置之間掃過。 如第4圖中之實施例所示,管子320和324由接 線盒172 (未示出)穿過支撐腿部160而分別到氣缸 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局負工消費合作社印製 到位容流到地 和 體伸人迫 4 樣 。2 流延進被 4 同 41 壓 其體體 3823 加到流流桿 23 缸 供移被 ,連 3 子氣 提迫.8 伸經桿管 , 而被 2 延流塞入動 083 被並活進作 2 2 捍而 ,其迫地 33塞}0 使被相 子捍活御 4 迫即同 管塞當 一 3 . 體 8 由活 ,之室中流 2 經之知 6 容 8 之 3 當Sr可 3 側 4 内捍 。 氣士 3 二 3 2 塞 中 ,人塞第室 5 活 4時之活 6 容 3 二 1 中技在 3 之室保 3 2 此 ί 34容確 和 1 於 2 塞 1 而了 2 3 習 3 活 3 ,為 1®。 3 在SE伸 3 氣置室出氣延 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)
經濟部中央樣準局員工消费合作社印製 314傜設計成氣缸312中之活塞336的每單位行程 之流體所排出之體積等於氣缸3 1 4中之活塞3 3 6的每 單位行程所接收之流體體積。習於此技之人士可知,上述 者可藉由選用適當直徑之二氣缸即可達成。此外,亦可在 活塞336之延伸行程的端部設置補«閥356,以補償 容室332和352之間以及容室348和340之間可 能造成的流體總體積之任何差異。 類似於此,要使活塞桿328縮回時,可提供加壓流 體給管子324,而且在縮回行程之端部可設置第二個補 償閥356,以補僂容室332和352之間以及容室3 4 8和3 4 0之間可能造成的流體總體積之任何差異。 環狀容室316内可充滿一定量之適當清潔流體.清 潔流體每隔適當雒護期間即可更新,例如在維護輻射源之 時。另一種方式是經由穿過活塞桿328之中空中心而供 應清潔溶液給環狀容室316。 第8圖中介绍本發明的另一較佳實施例,在本實施例 中之處理条统400包括一主本體404,其下表面與基 部牆壁406 —起界定一値處理區408。處理區408 包括一®入口過渡區4 1 2 . —個第一照射區4 1 6 , — 個中間區420, —個第二照射區424,以及一値錐狀 出口區426。如圖中所示,出口區426比入口區4 12 低,以提供額外之水頭給要被處理之流髏,以修正流蘐流 經處理条統時損失。習於此技之士可知,在本結構下,由 -2 2 - 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) ( 2丨0 X 297公釐) -----·----一裝------訂------,妹 >· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 修汪版 ^__補充土-年" 經濟部中央揉準局員工消費合作社印裝 立、發明訧明J 於 處 理 區 4 0 8 經 由 入 □ 和 出 口之位置設置也能提供如同 控 制 液 位 閘 門 之 功 能 t 所以不需要設置液位控制閑之類的 裝 置 〇 主 本 髏 4 0 4 亦 包 括 孔 4 3 0 來 容 纳 輻 射 源 αο 單 位 4 3 8 之 垂 直 支 撐 構 件 4 3 4 , 輻 射 源 〇〇 単 位 4 3 8 與 上 述 輻 射 源 OD 早 位 1 4 8 相 似 » 但 其 结 構 可 在 垂 直 方 向 定 位 輻 射 源 總 成 4 4 2 〇 輻 射 源 設 備 4 4 2 包 括 連 m 到 装 設 短 柱 4 5 0 之 套 筒 4 4 6 〇 當 然 » 如 上 述 » 在 某 倩 形 下 並 不 需 要 套 筒 9 而 輻 射 源 設 備 4 4 2 可直接設置在所處理之流 髏 内 0 若 装 設 短 柱 4 5 0 是 位 於 處 理 条 統 4 0 0 最 高 液 位 之 上 « 其 與 套 筒 4 4 6 之 連 接 不 需 要 氣 密 • 而 且 可 以 任 何 便 利 方 式 兀 成 〇 當 妖 • 若 是 套 筒 4 4 6 和装設短柱4 5 0 之 間的接點是在条統内之流體液位之上時 » 套 同 4 4 6 之 内 部 不 iSSt 曝 露 在 Wl 體 之 下 〇 裝 設 短 柱 4 5 0 另 —— iXU 係 與 附 接 在 垂 直 支 撐 構 件 4 3 4 之 支 撐 臂 4 5 4連接 〇 輻 射 源 4 5 8 傜 設 在 套 筒 4 4 6 内 • 而且在電力供應線 ( 未 圖 示 ) 之 間 被 連 接 t 電 力 供 應 線 偽 由 連 接 器 4 6 2 穿 過 中 空 支 撐 臂 4 5 4 和 裝 設 短 柱 4 5 0 而 進 入 套 筒 4 4 6 内 〇 連 接 器 4 6 2 與 外 罩 4 6 6 上 之 互 補 連 接 器 連 接 » 外 罩 4 4 6 可 包 括 一 適 當 的 電 源 或 是 控 制 裝 置 » 以 供 輻 射 源 1 8 0 和 清 潔 供 匾 % 統 若 有 装 設 ) 之 正 當 操 作 0 在 本 實 施 例 中 » 輻 射 源 α〇 単 位 4 3 8 之 維 護 偽 將 之 垂 直 - 23 - IJ * j .裝 訂------ <- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X 297公釐) A7 修厶: B7 .本二 j B 補充 五、發明説明(Z丨) 〜-- 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印裝 舉起而將之移出流體之外。第8圖中未介绍清潔設備,但 在某些場合下,上述之清潔設備可以使用,而對於習於此 技之人士而言,其裝置和等效物可以使用在本實施例中。 另一種方式是當套筒446需要清洗時,簡單地將輻射源 單位垂直地舉起移出卽可。 如上所述,流體處理条統典型上包括一艏輻射感測器 1 5 2 ,以監視照射區内之輻射強度。這些感測器包括一 個輻射傳送窗,烕测器即裝設在窗子後面,而窗子偽嵌入 流髏内。當然,當與輻射源設備1 76 (4 4 2) 一起時 ,該窗子超過時間即被弄髒。 第9圖介紹依據本發明之另一輻射感測器設備5 〇 〇 ,感測器設備500包括一画圓筒狀本體502,其内部 形成一個孔504。一鲤輻射感測元件508被放置在一 根桿子5 1 2附近之孔504的内壁.該桿子5 1 2可傳 送輻射,而且是由附接到本體5 0 2之前面板5 1 4之處 延伸而出《在感測元件508附近有Ο形環516,而在 桿子512之接點周圍有0形環520,感測元件508 藉此可對於流體密閉,其中該捍子512之接點像在前面 板5 1 4和本醱5 0 2之間。由感測元件50 8而來之電 氣導線5 2 4經由孔5 2 8穿出本體5 0 2之後方。 由於捍子5 1 2之曝露端在超過時間之後就會弄髒, 在此使用清潔噴口 532使清潔流醴噴向桿子5 1 2之曝 露表面,以將污物移除。為了預防對清潔噴口 532、捍 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 五、發明説明(Z2 ) A7 B7 ,] 木年戶J F 1 補充 。係而 一 。上 洗 這申和 板筒士 在内致 清 於之化 護套人纳茼大 來 限附變 一該之容套向 水 不所之 甩 ,技支該方 或 明離同 使内此一在之 液。發偏不 此筒於由定 2 溶 ο 本不多 在套習藉固 1 潔 ο 但在許 -一 於可而 5 清 5 , ,有 壞在對 ο} 子 量備紹言可 被設 ,ο 出桿 。定設介而仍 成裝區 5 示 ,ο 應器來士 . 造可理備未者 8 供測例人内 動 ο 處設丨知1 期感施之圍 流 ο 之器絲所源定射實技範 之 5 統測螺士 射可輻佳此之 體備条感定人輻,潔較於定 流設理射固之之時清以習界 及器處輻的技測用以已於所 以測體 。内此威使 ,中對中 、 感流顯 ο 於被常 2 文 ,圍 2 射 一 明 4 習要正 3 上例範 1 輻到常 5 ,於在 5 在施利 。 5 接非槽然直 口 實專代 子連言鍵當垂 噴 些請替 裝------訂 垂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消费合作杜印裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)
Claims (1)
- A8 B8 C8 D8 修 f身日 補充 86.4.26 、申蕾專利範圍 1. 一種重力進給式流體處理条統(100),包括 一流體入口 (120、 136)、一個流體出口 (124 、140)、以及一個設置在該流體入口 (120、 13 6 )和該流體出口 ( 1 2 4、 1 4 0 )之間之照射區(1 44)至少一個輻射源(180)與其一個支撐物(16 0),該至少一個輻射源(180)偽細長的,並具有大 致平行於流動通過該照射區(144)流體之方向的一縱 軸,且偽完全地浸於通過照射區(1 4 4 )流體; 其恃徵在於,該支撐物(1 6 0 \俗設置在該照射區 (144)之上游或下游,且照射區(144)具有一個 封閉的截面以將流體待處理侷限在相距該至少一個輻射源 (180) —段預定的最大距離範圍之内,該封閉的截面 具有一截面積傺小於該流體入口 (120、 136)截面 積。 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 .如申請專利範圍第Γ項所述之流體處理条統,其 中該照射區(144)傜設置在一個處理區(1 12)之 内,該處理區(1 12)包括一個將該流體入口 (120 、1 3 6 )連接到該照射區(1 4 4 )之過渡區,該過渡 區降低該流體在該入口和該照射區(1 4 4 )之間的壓力 損失。 3.如申請專利範圍第1項所述之流體處理条統,其 中該照射區(144)之截面區域傜小於該流體出口 (1 24、 140)之截面區域,而且該照射區(144)傜 衣紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 六、申請專利範圍 A8 BE C8 D8 經濟部中央梂準局工消費合作社印製 丨射和 其 1 面 2 個 3 射而 ο 該間 其燈。其一 。其 2 照口 ,ί 截 1一1 照 ,2 及之 ,線_,少}, 1 該出 統口之 1 和 、該 }1以} 统外 ο 統至 4 統 1 到該 条入} {區 ο 將 of 失 ο 条紫 6 条該 8 糸 ί 接在 理體 ο 區渡 2 區 4 口損4理個 1 理個 1 理 區連體 處流 4 理過 1 渡 1 入力 1 處一 {處一丨處 理}流 體該 1 處一 {過.體壓、 體少物體每筒體 處 ο 該 流於、個第 口 二 4 流的 4 流至撐流繞套流 該 4 低。之小 4 1 個入第 2 該間 2 之括支之環之之 ,1 降失述傜 2 在一體該 1 在之 1 述包之述個分述 内、區損所域 1 置括流 ,{體丨ί 所}燈所 一部所 之 4 渡力項區 ί 設包該 } 口流 4 口 項 6 線項括的項 }2過壓 2 面口係 }將4 出低 4 出 47 外 5 包部 4 21 該的第截出 _2 區 4 體降 1體 第 1 紫第 } 外第 1 ( ,間圍之體41 渡 1 流別 {流 圍 {該圍 6 之圍 1 口區之範}流41 過丨該分區該 範備撐範 範 {出渡}利 4 該 1ί 一區到區射與 利設支利 Ιο 利 區體過 4 專 4 和 ί 區第射接渡照 } 專源個專 {8 專 理流之 4 請 1 } 區理該照連過該 4 請射 一請備 1 請 處該 >1 申ί6 射處 ,該丨二與 4 α申輻和申設 {申 個將 4 {如區 3 照該區到 4 第}1 失如個}如源燈如 一個 4 區 .射 1 該,渡接 4 和 6丨損 .一 ο .射線 . 在 一 1 射 4 照、,内過連 1 一 3 區力 5 少 86 輻外 7 置括 <照 該 ο 域之二} ί 第 1 射壓 至 1 該紫 設包區該 中 2區 }第6 區該 、照的 中 ί 中個 装— - I I I -訂-----I--東 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) ' 本紙張尺度適用中國國家橾準^奶)六4規^(210父297公釐) ABCD 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 六、申請專利範圍 中該縱軸大致上為垂直的,而且該第一過渡區(412) 將一個流經該流體入口之大致上為水平之流體流動改變成 一個流經該照射區(4 16)之大致上為垂直之流饈流動 8. 如申請專利範圔第7項所述之流體處理条統,其 中該第二過渡區(420)將流經該照射區(416)之 大致上為垂直之流體流動改變成一値流經該流體出口 (4 26)之大致上為水平之流體流動。 9. 如申請專利範圍第5項所述之流體處理条統,其 中該縱軸大致上為水平。 10. 如申請專利範圍第1項所述之流體處理条統, 更包括一個清潔機構(224),以將不要之物質由該至 少一個輻射源設備(176)之外部移除。 1 1 .如申謓專利範圍第1 0項所述之流體處理系統 ,其中該清潔機構(2 24)包括一個環繞該至少一値輻 射源設備(176)之清潔套筒(228),該清潔套筒 (228)可在一個縮回位置和一個延伸位置之間移動, 在該縮回位置時,該至少一個輻射源設備(176)的第 一部分傜曝露在該流體流動之中,而在該延伸位置時,該 至少一個輻射源(180)之該第一部分傜由該淸潔套筒 (2 2 8 )所覆蓋。 12.如申謓專利範圍第11項所逑之流體處理条統 ,其中該清潔套筒(2 2 8)包括一個環繞著該至少一個 輻射源設備(176)之外部且與之接觸之容室(240 -3- 衣紙張尺度適用中國國家樣準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 裝------訂.-------來 - - ί ί (請先Μ讀背面之注意ί項再填寫本頁) A8 B8 C8 D8 經濟部中央標率局貝工消費合作社印裝 六、申請專利範圍 1 1 、 2 4 4 ) 9 該 容 室 ( 2 4 0 2 4 4 ) 被 供 給 清 潔 溶 掖 1 1 I t 以 將 不 要 之 物 質 由 該 至 少 — 個 輻 射 源 設 備 ( 1 7 6 ) 之 1 1 外 部 除 去 〇 ✓—V 請 1 | 第 閲 1 3 * 如 串 請 專 利 範 圍 1 2 項 所 述 之 流 體 處 理 % 統 讀 背 1 1 参 其 中 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 8 ) 包 括 一 個 設 在 該 至 少 —- 個 輻 Λ 之 注 1 射 源 設 備 ( 1 7 6 ) 之 外 部 表 面 與 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 8 ) 意 事 1 項 I 之 間 的 密 封 件 ( 2 3 2 2 3 4 ) » 當 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 再 f 8 ) 在 該 縮 回 位 置 和 該 延 伸 位 置 之 間 移 動 時 • 該 密 封 件 ( 寫 本 頁 裝 1 2 3 2 2 3 4 ) 將 一 部 分 之 該 不 要 之 物 質 由 該 至 少 — 個 1 | 輻 射 源 設 備 ( 1 7 6 ) 的 外 部 除 去 Ο - 1 I 1 4 * 如 串 請 專 利 範 圍 第 1 2 項 所 述 之 流 體 處 理 % 統 I 1 訂 > 1 其 中 所 供 應 之 該 清 潔 溶 液 傜 施 加 壓 力 到 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 8 ) t 而 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 8 ) η 由 該 壓 力 而 延 伸 到 該 1 | 延 伸 位 置 〇 1 I 1 5 . 如 甲 請 專 利 範 圍 第 1 4 項 所 述 之 流 體 處 理 % 統 1 1 〜泉 其 中 藉 著 將 該 加 壓 之 清 潔 溶 液 由 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 8 ) 1 移 去 » 該 清 潔 套 筒 ( 2 2 8 ) 被 拉 回 到 該 縮 回 位 置 〇 1 I 1 6 • 如 請 專 利 範 圍 第 4 項 所 逑 之 流 體 處 理 % 統 • 1 更 包 括 — 個 設 置 在 該 照 射 區 ( 1 4 4 ) 之 上 游 且 延 伸 進 入 1 1 I 該 昭 射 區 ( 1 4 4 ) 之 第 — 輻 射 源 設 備 ( 1 7 6 ) 9 以 及 1 一 個 設 置 在 昭 八、、 射 區 ( 1 4 4 ) 之 下 游 且 延 伸 進 入 該 昭 八、、 射 區 1 1 ( 1 4 4 ) 之 第 二 輻 射 源 設 備 ( 1 7 6 ) 〇 1 I 1 7 • 如 申 請 專 利 範 圍 第 4- 1 項 所 述 之 流 體 處 理 % 統 • 1 1 1 1 1 本·紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公漦) 317558 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 0 ( 俱位 } 單 ο 源 8射 1 輻 < 此 源’ 射份 顆部 個一 一 之 少 3 至 8 述 4 所 1 *-( 其位 為 8 4 單 ·· 源括 射包 輻 } ο 件 6 構 1 搜 ( 支 件該及 構由以 撐個; 支 一 } 個少 6 1 至 7 備 設 源 射 輻, 之 伸 延 ο 6 件 構 撐 支 該 由 個 1 件 構 撐 支 和 引 導 之 伸 延 \—/ ο 6 4 6 中 其 ο 6 件 丨 構件 撐構 支撐 該支 由和 ) 引 6 導 7 該 1 於 ( -7 /4— 備平 設上 源致 射大 輻向 個方 一 之 少伸 至延 該 } (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)· 4 6 r-H ο 6 件 構 撐 支 該 由 \—/ 4 〇 6 端 1 由 ( 自 件 一 構有 撐具 支並 和 , 引出 導而 該伸 而延 項 7 其 ο } 個 4 一 1 6 少 第 1 至 圍 ί 該 範件比 利構度 專撐程 請支之 申和出 如引而 . 導伸 8 該延 1 中處 統 6 大 糸 1 } tnu /|\ 理 處件 體構 1 流撐 ί 之支源 述該射 所由輻 ο 8 其 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 燈 第備 圍設 範源 利射 專輻 請値 申 一 。 如少 } . 至 ο 9 該 8 1 中 1 統線 条外 理紫 處個 體 I 流括 之包 述 } 所 項 7 6 7 茫 ΙΓ 条紫 理該 處著 體繞 流環 之個 述一 所含 項包 8 更 1 ) 第 6 圍 7 範 1 利 ί 專備 請設 申源 如射 . 輻 ο 該 2 中 其 緣 7 絶 1 個第 1 一 圍 ί 供範 筒提利 套間,專 之之請 } 體申 ο 流如 8 該 · 1 和 1 ()2 燈 ο 線 8 4 8 1 統 ( 糸 燈 理 線 處 外 體 紫 流 該 之 在 述 以 。所 , 溝項 衣紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 ,其中該支撐構件(160)包括管路構件,使一電力源 (220)可經由該管路構件而提供給該輻射源設備(1 7 6)〇 22.如申請專利範圍第19項所逑之流體處理糸統 ,其中至少有兩個紫外線燈(180)被連接到毎一支撐 構件(1 6 0 )。 2 3 .如申謓專利範圍第1 〇項所逑之流髅處理条統 ,其中該清潔設備(300)包括: 一個清潔套筒(308),其與該輻射源設備(17 6)之外部的一部分結合,並可在一個縮回位置和一値延 伸位置之間延伸,其中在該縮回位置時,該輻射源設備( 176)的一個第一部分被曝露在要被處理的流體流動之 中,而在該延伸位置時,該輻射源設備(176)之該第 一部分係由該清潔套筒所完全或部分地覆蓋,該清潔套筒 (308)包括一個與該輻射源設備(176)之該第一 部分接觸之容室(316),該容室(316)被供給適 當的清潔溶液,以將不要之物質由該第一部分移去。 24 .如申謓專利範圍第2 3項所述之流體處理糸統 ,更包含至少一個設在該輻射源設備(176)之外部表 面與該清潔套筒(308)之間的密封件,當該清潔套筒 (308)在該缩回位置和該延伸位置之間移動時,該至 少一個密封件將一部分不要的物質由該顆射源設備(17 6 )之外部除去。 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4現格(210X297公釐) ---------參— • ' -(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁). 訂 涑 317558 髮 ___D8六、申請專利範圍 經濟部中央標车局貝工消費合作社印*L 統 ο 伸 統} 統外 統 3 位 統 3 統 3 流源列 条 3 延 条 8 条之 条 {回 条、 条、 理射下 理{該 理 οα 理備 理構縮 理 2 理 2 處輻含 處筒到 處 3 置處設 處機該 處 1 處 1 }個包 體套延 體 ί 位體源 體僱在 體 3 體 3 6 一法 流潔而 流筒回流射 流一} 流丨 流ί 7 少方 之清力 之套縮之輻 之少 8 之置 之置 1 至該 述該壓 述潔該述個 述至 ο 述裝 述裝 丨含, 所到該 所清到所兩 所到 3 所之 所之 備包} 項力由 項該回項少 項接ί 項動 項動 設}0 3 壓藉 3 由拉 3 至 7 連筒 8 移 8 移 源 66 2加} 2 液被 2 與 2 傜套 2 筒 2 筒 射 71 第施 8 第溶} 第} 第}潔 第套 第套 輻 1ί 圍係 ο 圍潔 8 圍 ο 圍 8 清 。圍潔 圍潔 個 ί 物 範液 3 範清 ο 範 ο 範 ο 該動範清。範清。一備撐 利溶ί 利之 3 利 3 利 3 使移利該作利該作少設支 專潔筒 專壓 ί 專 ί 專{以間專使操專使操至源個 請清套 請加筒譆備。請筒,之請個壓請値動以射一 ..申之潔 申該套申設合申套} 置申 一掖申一氣種輻其 .如應清 如將潔如潔結如潔4位如少由如少由 一該與 . 供該 ·著清 .清分 .清 1 伸 .至經 .至經 · , } 5 所而 6 藉該 7 該部 8 該 3 延 9 該偽 ο 該傜 1 法 ο 2 中 , 。2 中 ,2中一2中 、該 2中}3中}3 方 8 其 }置 其去 其的 其 2 和 其 4 其 4 之 1 .8 位 ,移 ,部 ,1 置 ,1 ,1 體 ί (請先H讀背面之注意事項再填寫本頁J 本紙張尺度適用中®國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 六、申請專利範圍 步驟: (i) 提供一個重力進給式流體流動到一V個流體人p ( 12 0、136); (ii) 將由該流體入口 (120、 136)而來之流體 流動進給到一値包含至少一個輻射源(180)且具有_ 個封閉截面之照射區(144)内; (iii) 將該流體流動限制在距離該至少一値輻射源(1 80) —段預設的最大距離範圍之内; (i v)將該流體流動曝露在該輻射源(1 8 0 )之輯& 之下;以及 (ν)將由步驟(iv)而來之流體流動進給到一個流體出ρ (12 4、140)。 32. 如申請專利範圍第31項所述之方法,其中該 流體流動在該流體入口 (120、 136)處有一第—流 速,在該照射區(144)内有一第二流速,在該流體出 口 (124、 140)處有一第三流速。 經濟部中央標準局員工消費合作社印掣 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 33. 如申謓專利範圍第32項所逑之方法,其中該 第二流速偽大於該第一流速和該第三流速二者之中的至少 —者。 34. 如申請專利範圍第32項所逑之方法,其中該 第二流速傜比該第一流速和該第三流速都大。 35. 如申謓專利範圍第34項所逑之方法,其中該 第三流速傜大致上等於該第一流速。 -8- ( CNS ) A4«^ ( 210X297^ ) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 3 6.如申請專利範圍第34項所述之方法,其中在 #^(ii)之前,該流體流動俗進入到一個可增加其流速之 過渡區内。 37.如申請專利範圍第34項所述之方法,其中在 之前,該流體流動傜進入到一個可減低其流速之 過渡區内。 3 8.如申請專利範圍第3 1項所述之方法,進而包 β在一流體處理条統現場將污物由一輻射源設備(176 }胃除去之步驟,其包含下列步驟: (i)供應一清潔流體到一個清潔容室(24 0、244 )内; (U)將該清潔容室(24 0、244)移動而與該輻 射源設備(176)的至少一個部分接觸一段預定時間, 該清潔容室(240、 244)維持該清潔流體與該部分 之接觸;以及 (iii)在經過該段預定時間後,將該清潔容室(24 0 、244)從與該輻射源設備(176)之部分接觸之處 移去。 39.如申請專利範圍第38項所述之方法,其中該 清潔容室(240、 244)包括一値與該部分以滑動式 结合之密封件(232、234),在該清潔容室(24 0、244)移動而與該部分接觸和脱離時,該密封件( 232、 234)掃過該部分以進一步清除污物。 -9- 衣紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4洗格(210X297公釐) ---------裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 'V* 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 40.如申請專利範圍第38項所述之方法,其中該 設 源 射 輻 的 同 相 個 兩 與 時 同。 }觸 4 接 4 分 2 部 、 同 ο 相 4 之 2 ) (6 室 7 容 1 潔 { 清備 統 糸 : 理含 處包 體其 流 , 之 } 述 所 項 5 ; 1 () 第備 2 圍設 ο 範器 5 利測 ί 專感罩 請射框 申輻器 如 一 測 . 有感 1 括個 4 包 一 而 進 ο ο 器 測 0 射 輻 的 射 輻 之 來 而 ) 0 2 機 ο ; 送 5構傳 {機射 罩送輻 框傳該 該射由 在輻收 設之接 個下個 一 源 一 射 輻 1 在 0 曝 位 部 1 有 具 且 内 2 3 5 /IV 構 機 之 去 除 質 物 之 及位 以部 ; 該 )0 8 弄 ο 將 5 2 該 中 其 口 噴 之 统上 条分 — j ZJ 理部 處該 鱧在 流噴 之體 述流 所潔 項清 1 將 4 括 第包 圍構 範機 利之 專去 。 請除 } 申物 2 如污 3 • 將 5 (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 訂 涑 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)
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USRE36896E (en) * | 1993-03-05 | 2000-10-03 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and process |
US5539209A (en) * | 1994-10-17 | 1996-07-23 | Trojan Technologies Inc. | Method of cleaning fouling materials from a radiation module |
US5792433A (en) * | 1995-03-13 | 1998-08-11 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps |
US5937266A (en) * | 1996-03-08 | 1999-08-10 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism |
USRE39522E1 (en) * | 1996-03-14 | 2007-03-20 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
US5874740A (en) * | 1996-03-14 | 1999-02-23 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
DE19653083B4 (de) * | 1996-12-19 | 2005-09-08 | Wedeco Ag Water Technology | Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung |
US6013917A (en) * | 1997-03-12 | 2000-01-11 | Photoscience Japan Corporation | UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes |
AU9031798A (en) | 1997-08-22 | 1999-03-16 | Richard C. Morlock | Sensor housing for uv curing chamber |
US6576189B1 (en) | 1997-09-18 | 2003-06-10 | Wedeco Ag Water Technology | Device and method for exposing liquids, including pretreated wastewater, to x-rays |
US6015229A (en) | 1997-09-19 | 2000-01-18 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for improved mixing in fluids |
FR2768718B1 (fr) * | 1997-09-24 | 1999-12-10 | Amenagement Urbain & Rural | Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide |
AUPP158098A0 (en) | 1998-01-29 | 1998-02-26 | Arnold, Geoffery Peter | Laser alignment apparatus and method |
AU691786B3 (en) * | 1998-02-03 | 1998-05-21 | Kenneth Ray Bryer | An apparatus for treating a liquid |
US6342188B1 (en) | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
ATE314316T1 (de) * | 1998-12-30 | 2006-01-15 | Wedeco Ag | Vorrichtung zur uv-bestrahlung, insbesondere zur desinfektion von strömenden flüssigkeiten mit verminderter uv-transmission |
US6193938B1 (en) * | 1999-03-17 | 2001-02-27 | Wedeco Ag Water Technology | Device for treating liquids with UV-radiation |
US6217834B1 (en) * | 1999-04-19 | 2001-04-17 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
WO2000073213A1 (en) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
US6863078B1 (en) | 1999-05-28 | 2005-03-08 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
CN1183043C (zh) * | 1999-06-04 | 2005-01-05 | 亨利·科兹罗维斯基 | 流体的紫外线处理装置 |
KR20020022800A (ko) * | 1999-08-13 | 2002-03-27 | 홀던 데이비드 | 유체 처리 시스템 및 그 세정 장치 |
US6830697B1 (en) * | 1999-09-03 | 2004-12-14 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module |
AU7500900A (en) * | 1999-10-01 | 2001-05-10 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system with cleaning device |
WO2001042745A1 (en) * | 1999-12-06 | 2001-06-14 | Trojan Technologies Inc. | An on-line device for predicting at least one fluid flow parameter in a process |
US6512234B1 (en) | 1999-12-17 | 2003-01-28 | Trojan Technologies, Inc. | Optical radiation sensor device |
JP2003516812A (ja) | 1999-12-17 | 2003-05-20 | トロジャン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 放射源モジュール |
CA2398472C (en) * | 2000-01-28 | 2008-04-15 | Trojan Technologies Inc. | Radiation source module |
DE10010127B4 (de) * | 2000-03-03 | 2007-12-13 | Wedeco Ag Water Technology | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser |
US6580019B1 (en) | 2000-03-09 | 2003-06-17 | Dekalb Genetics Corporation | Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants |
US6750379B2 (en) * | 2000-03-09 | 2004-06-15 | Dekalb Genetics Corporation | Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants |
CA2306546C (en) | 2000-04-20 | 2006-06-27 | Photoscience Japan Corporation | Tube scraper |
US7166850B2 (en) | 2000-06-06 | 2007-01-23 | Trojan Technologies Inc. | Fluid mixing device |
FR2815271B1 (fr) * | 2000-10-16 | 2003-01-17 | Bordas Sarl | Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv |
EP1351890A2 (en) * | 2000-12-15 | 2003-10-15 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation source module for use therein |
US6596542B1 (en) * | 2001-01-08 | 2003-07-22 | Christopher R. Schulz | Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors |
US6940075B2 (en) * | 2001-03-15 | 2005-09-06 | Christopher R. Schulz | Ultraviolet-light-based disinfection reactor |
US6649917B2 (en) * | 2001-05-30 | 2003-11-18 | Ondeo Degremont | Cleaning system for UV disinfection module/reactor |
DE10129178A1 (de) * | 2001-06-19 | 2003-01-02 | Wedeco Ag | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer |
US6663318B2 (en) | 2001-08-03 | 2003-12-16 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid level control system |
US6719491B2 (en) | 2001-08-03 | 2004-04-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid level control system |
US20050069463A1 (en) * | 2002-05-07 | 2005-03-31 | Kurtz Mark E. | Fluid disinfection apparatus |
US7419642B2 (en) * | 2002-05-07 | 2008-09-02 | Ultravation, Inc. | Fluid disinfection apparatus |
US20030230477A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Fink Ronald G. | Environmental air sterilization system |
GB2389848B (en) * | 2002-06-17 | 2006-02-08 | Hanovia Ltd | UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus |
EP1515915B1 (en) * | 2002-06-19 | 2014-11-12 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation source module for use therein |
US6784440B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-31 | Boc, Inc. | Food sanitizing cabinet |
US20040056201A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-25 | Fink Ronald G. | Food surface sanitation hood |
US20040140812A1 (en) * | 2003-01-21 | 2004-07-22 | Ademir Scallante | Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies |
US7160566B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-01-09 | Boc, Inc. | Food surface sanitation tunnel |
CA2540589A1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-04-07 | Trojan Technologies Inc. | Radiation sensor device and radiation source module containing same |
CN100571788C (zh) * | 2004-03-12 | 2009-12-23 | 特洛伊人技术公司 | 流体处理系统 |
EP1737501A4 (en) * | 2004-03-12 | 2009-09-02 | Trojan Techn Inc | FLUID TREATMENT SYSTEM |
CN102557313A (zh) * | 2004-04-15 | 2012-07-11 | 特洛伊人技术公司 | 水处理设备以及在流体处理系统中使用的处理筒 |
AU2005233666A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid |
US8038949B2 (en) * | 2004-09-02 | 2011-10-18 | Purgenix, Inc. | Ultraviolet germicidal irradiation system |
WO2006047495A2 (en) | 2004-10-21 | 2006-05-04 | Venganza Inc | Methods and materials for conferring resistance to pests and pathogens of plants |
US7159264B2 (en) * | 2004-12-10 | 2007-01-09 | Calgon Carbon Corporation | Scraper for cleaning tubular members |
CN101208444A (zh) * | 2005-04-21 | 2008-06-25 | 霍尼韦尔国际公司 | 钌基材料和钌合金 |
US7241380B2 (en) * | 2005-06-15 | 2007-07-10 | Reiling Dennis R | Ultraviolet treatment unit and septic tank system |
US8663575B2 (en) * | 2005-08-19 | 2014-03-04 | Canadian Blood Services | Sample holder for dynamic light scattering |
CA2621301C (en) * | 2005-08-31 | 2013-04-30 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
US7985956B2 (en) * | 2005-12-21 | 2011-07-26 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
CN101528611B (zh) * | 2006-08-17 | 2013-06-19 | 特洛伊科技有限公司 | 液体处理系统 |
US7507973B2 (en) * | 2006-11-02 | 2009-03-24 | Calgon Carbon Corporation | UV treatment reactor |
WO2008055344A1 (en) | 2006-11-06 | 2008-05-15 | Trojan Technologies | Fluid treatment system |
US7862728B2 (en) | 2007-09-27 | 2011-01-04 | Water Of Life, Llc. | Ultraviolet water purification system |
US8529770B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-09-10 | Water Of Life, Llc. | Self-contained UV-C purification system |
US8557050B1 (en) * | 2008-10-31 | 2013-10-15 | Genefluidics, Inc. | System for washing a sensor structure |
EP2365873B1 (en) * | 2008-11-26 | 2014-03-12 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for use of mixing elements in wastewater/ recycle water uv disinfection system |
CN102369164B (zh) * | 2009-04-07 | 2013-07-31 | 特洁安科技有限公司 | 辐射源模块和流体处理系统 |
CA2764918C (en) * | 2009-07-02 | 2019-03-26 | Trojan Technologies | Radiation source assembly |
CA2768256A1 (en) * | 2009-07-23 | 2011-02-10 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system |
US8182613B2 (en) * | 2009-08-04 | 2012-05-22 | University Corporation For Atmospheric Research | Radiometer including a cleaning system |
DE102009039655B3 (de) | 2009-09-02 | 2011-03-31 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung |
DE102009039654A1 (de) * | 2009-09-02 | 2011-03-03 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung mit berührungsloser Reinigung |
CA2777808C (en) | 2009-11-12 | 2015-01-13 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system |
US20120043223A1 (en) * | 2010-08-18 | 2012-02-23 | David Sherzer | Water treatment method |
AU2011342261A1 (en) | 2010-12-16 | 2013-07-25 | Trojan Technologies | Radiation source module and fluid treatment system |
EP2805064B1 (en) | 2012-01-20 | 2018-09-12 | Trojan Technologies | Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same |
CN104245160A (zh) | 2012-02-23 | 2014-12-24 | 特洁安技术公司 | 辐射源清洁系统和包括辐射源清洁系统的模块 |
EP2928622A4 (en) | 2012-12-07 | 2016-08-24 | Trojan Techn Inc | CLEANING APPARATUS |
US9321658B2 (en) | 2013-08-29 | 2016-04-26 | Crystal Is, Inc. | Systems and methods for fluid treatment with homogeneous distribution of ultraviolet light |
EP3602024A4 (en) | 2017-03-21 | 2020-11-18 | Hayward Industries, Inc. | SYSTEMS AND PROCEDURES FOR HYGIENIZATION OF SWIMMING POOL AND SPA WATER |
US11472727B2 (en) | 2017-06-09 | 2022-10-18 | Hayward Industries, Inc. | Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit |
AU2021379292A1 (en) | 2020-11-14 | 2023-06-08 | Mark Anthony International Srl | Methods for sterilizing fermented beverages |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR421296A (fr) * | 1910-10-10 | 1910-12-17 | Marius Paul Otto | Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets |
FR16443E (fr) * | 1911-04-11 | 1913-01-31 | Paul Gabriel Triquet | Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau |
US2413704A (en) * | 1944-12-04 | 1947-01-07 | Art Metal Company | Ultraviolet sterilizer |
US2670439A (en) * | 1950-07-05 | 1954-02-23 | Hanovia Chemical & Mfg Co | Apparatus for irradiating liquids |
DE855521C (de) * | 1950-12-28 | 1952-11-13 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten |
US3061721A (en) * | 1960-01-19 | 1962-10-30 | Brenner Al | Automatic tube cleaning device |
US3182193A (en) * | 1962-01-03 | 1965-05-04 | Ultra Dynamics Corp | Electronically monitored liquid purification or sterilizing system |
US3182191A (en) * | 1963-02-14 | 1965-05-04 | Puretest Water Purifier Co | Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source |
US3140054A (en) * | 1963-04-25 | 1964-07-07 | Oharenko Vladimir | Safety inspection light |
US3462597A (en) * | 1966-07-29 | 1969-08-19 | Ultra Dynamics Corp | Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means |
US3456107A (en) * | 1967-05-16 | 1969-07-15 | Aquacare Intern Ltd | Water sterilizing apparatus |
US3562520A (en) * | 1968-11-04 | 1971-02-09 | Puretest Water Purifying Co | Fail-safe water purifying apparatus |
US3637342A (en) * | 1969-05-07 | 1972-01-25 | Louis P Veloz | Sterilization of fluids by ultraviolet radiation |
US3837800A (en) * | 1971-05-06 | 1974-09-24 | Meltzer H | Method and apparatus for purifying fluids |
DE2300273C3 (de) * | 1972-01-07 | 1982-05-06 | Toray Industries, Inc., Tokyo | Vorrichtung für Abwasserreinigung |
DE2213658C3 (de) * | 1972-03-21 | 1974-08-15 | Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) | Wasserentkeimungsanlage |
CA951135A (en) * | 1972-08-23 | 1974-07-16 | Wolfgang Scherrelies | Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer |
US3948772A (en) * | 1975-04-16 | 1976-04-06 | Sidney Ellner | Split stream ultraviolet purification device |
US4103167A (en) * | 1976-08-16 | 1978-07-25 | Sidney Ellner | Ultraviolet liquid purification system |
US4255663A (en) * | 1977-03-24 | 1981-03-10 | Lewis James H | Disposable liquid sterilizer unit |
US4204956A (en) * | 1978-10-02 | 1980-05-27 | Flatow Robert E | Water purification system |
US4205956A (en) * | 1979-05-21 | 1980-06-03 | The International Nickel Company, Inc. | Nickel carbonyl analyzer |
US4367410A (en) * | 1979-07-09 | 1983-01-04 | Pure Water Systems, Inc. | Waste purification apparatus and method |
IT1123509B (it) * | 1979-07-31 | 1986-04-30 | Vighi Temistocle | Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento |
US4296328A (en) * | 1980-02-11 | 1981-10-20 | Regan Michael D | Apparatus for producing high purity water |
US4400270A (en) * | 1980-04-18 | 1983-08-23 | Adco Aerospace, Inc. | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
US4490777A (en) * | 1981-06-25 | 1984-12-25 | Tanner Stephen E | Selective color illumination device for electronic drafting tables |
DE3126127A1 (de) * | 1981-07-02 | 1983-01-20 | Christoph Dr. 6500 Mainz Franz | Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes |
US4435744A (en) * | 1981-08-10 | 1984-03-06 | Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. | Explosion-proof fluorescent light fixture |
US4471225A (en) * | 1981-11-09 | 1984-09-11 | Adco Aerospace | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
CA1163086A (en) * | 1981-11-30 | 1984-03-06 | Jan Maarschalkerweerd | Ultraviolet fluid purifying device |
US4467206A (en) * | 1981-12-14 | 1984-08-21 | Extracorporeal Medical Specialties, Inc. | Method and apparatus for the irradiation of fluids |
NL8300115A (nl) * | 1983-01-13 | 1984-08-01 | Philips Nv | Bestralingsinrichting. |
FI841491A (fi) * | 1983-04-25 | 1984-10-26 | Christian Lumpp | Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning. |
US4535247A (en) * | 1983-07-11 | 1985-08-13 | Kurtz Mark E | Water sterilization system |
DE3441535A1 (de) * | 1984-11-14 | 1986-06-26 | Erich 7632 Friesenheim Rasche | Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung |
US4700101A (en) * | 1985-02-07 | 1987-10-13 | Sidney Ellner | Elongated tubular lamp construction |
JPS61230203A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-14 | 東芝ライテック株式会社 | ランプユニツト |
US4757205A (en) * | 1986-06-10 | 1988-07-12 | Arlat Inc. | Ultraviolet water treatment apparatus |
US4755292A (en) * | 1986-08-11 | 1988-07-05 | Merriam Theodore D | Portable ultraviolet water sterilizer |
US4767932A (en) * | 1986-09-26 | 1988-08-30 | Ultraviolet Purification System, Inc. | Ultraviolet purification device |
JPS63153469U (zh) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | ||
US4968489A (en) * | 1988-09-13 | 1990-11-06 | Peroxidation Systems, Inc. | UV lamp enclosure sleeve |
US4897246A (en) * | 1988-09-13 | 1990-01-30 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US4872980A (en) * | 1988-09-13 | 1989-10-10 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4952376A (en) * | 1988-09-13 | 1990-08-28 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US5006244A (en) * | 1988-09-13 | 1991-04-09 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4922114A (en) * | 1989-06-01 | 1990-05-01 | Hilary Boehme | Wiper mechanism |
US5227140A (en) * | 1990-04-13 | 1993-07-13 | Peroxidation Systems, Inc. | Modular self-cleaning oxidation chamber |
US5019256A (en) * | 1990-10-19 | 1991-05-28 | Fischer & Porter Company | Ultraviolet lamp rack assembly |
JPH04190887A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-09 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 紫外線殺菌装置およびその浄化方法 |
US5124131A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-23 | Ultraviolet Energy Generators, Inc. | Compact high-throughput ultraviolet processing chamber |
JPH0663533A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-03-08 | Gastar Corp | 温水殺菌方法および殺菌装置 |
TW360619B (en) * | 1993-03-05 | 1999-06-11 | Trojan Techn Inc | A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom |
US5266215A (en) * | 1993-04-27 | 1993-11-30 | Rolf Engelhard | Water purification unit |
-
1993
- 1993-03-05 TW TW084110974A patent/TW360619B/zh active
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-
1994
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- 1994-06-20 CO CO94026651A patent/CO4180401A1/es unknown
- 1994-06-20 CO CO94026648A patent/CO4180400A1/es unknown
-
1995
- 1995-05-22 US US08/445,767 patent/US5539210A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-01 NO NO19953451A patent/NO310139B1/no not_active IP Right Cessation
- 1995-09-04 FI FI954134A patent/FI954134A0/fi not_active IP Right Cessation
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