SK109195A3 - Fuid treatment system and process - Google Patents
Fuid treatment system and process Download PDFInfo
- Publication number
- SK109195A3 SK109195A3 SK1091-95A SK109195A SK109195A3 SK 109195 A3 SK109195 A3 SK 109195A3 SK 109195 A SK109195 A SK 109195A SK 109195 A3 SK109195 A3 SK 109195A3
- Authority
- SK
- Slovakia
- Prior art keywords
- fluid
- radiation source
- cleaning
- radiation
- sleeve
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 215
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 197
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 135
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 31
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 22
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 8
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 claims 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010720 hydraulic oil Substances 0.000 description 1
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S422/00—Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
- Y10S422/906—Plasma or ion generation means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
(57) Anotácia:
Systém spracovania tekutiny obsahuje jeden či viacero zdrojov žiarenia (180) umiestnených v ožarovacej zóne (144) vo vnútri zóny (112) na úpravu, cez ktorú bude spracovávaná tekutina posúvaná na ožiarenie. Ožarovacia zóna (144) má uzatvárateľný priečny prierez na udržanie tekutiny vo vopred určenej maximálnej vzdialenosti od zdroja (180) žiarenia. Vhodné je, keď ožarovacia zóna (144) obsahuje zmenšenú oblasť priečneho prierezu kolmú na smer toku tekutiny, a tak je v ožarovacej zóne (144) zvýšená rýchlosť toku tekutiny. Toto umožňuje tekutine vstúpiť do zóny (112) na úpravu pri relatívne nízkej rýchlosti, prekonať ožarovaciu zónu (144) pri vysokej rýchlosti a opustiť zónu (112) na úpravu opäť pri relatívne nízkej rýchlosti z dôvodu minimalizácie straty hydraulického tlaku vo vnútri systému. Tekutina vstupujúca do zóny (112) na úpravu plynie cez vstupnú prechodovú oblasť (120, 136), kde oblasť priečneho rezu je zmenšená najmä k vstupu do ožarovacej zóny (144) a tekutina opúšťajúca ožarovaciu zónu prechádza cez výstupnú prechodovú oblasť (124, 140), kde je priečny rez zväčšený.
W
SYSTÉM A SPÔSOB SPRACOVANIA TEKUTÍN
Oblasť vynálezu
Vynález sa zaoberá spôsobom spracovania tekutín zaistením prívodu toku kvapaliny spádom do ožarovacej zóny, ktorá obsahuje . najmenej jeden zdroj žiarenia a ďalej má uzatváratelný priečny rez, ktorý uzatvára tok kvapaliny v rozmedzí vopred definovaného >
• maximálneho odstupu od aspoň jedného zdroja žiarenia.
Vynález taktiež zahrňuje nový spôsob čistenia zostavy zdroja žiarenia umiestnenej v toku tekutiny, kde vonkajšok zdroja je prejdený čistiacim členom obsahujúcim vhodnú čistiacu tekutinu.
Popisovaný vynález tiež zahrňuje nový systém na úpravu tekutiny ožarovaním. Špecifikom popisovaného vynálezu je zahrnutie nového systému spádového napájania na spracovanie tekutín, ktorý zahrňuje zónu na úpravu s ožarovacou zónou vytváranou na zaistenie stálej konfigurácie tekutiny súvisiacej so zdrojom žiarenia.
Popisovaný vynález sa ďalej týka nového zdrojového modulu žiarenia na využitie v systéme spracovania tekutín. Modul predovšetkým zahrňuje jeden či viac zostáv zdrojov žiarenia napojených na nosný člen a nosný člen umožňuje vloženie « a vybranie modulu zo systému spracovania počas činnosti systému.
Modul je navrhnutý tak, že zdrojová zostava žiarenia je chránená pred kontaktom zdrojov v zóne na úpravu systému počas inštalácie alebo odstraňovania.
Popisovaný vynález sa ďalej týka novej čistiacej aparatúry pre systém spracovania tekutín, predovšetkým čistiacej aparatúry obsahujúcej jeden či viac čistiacich členov, ktoré môžu prejsť cez vonkajšok zdrojových zostáv žiarenia v systéme spracovania tekutín, čistiace členy obsahujúce vhodnú čistiacu tekutinu, ktorá je v styku s vonkajškom zdrojovej zostavy žiarenia a uvolňuje a/alebo odstraňuje materiály zanášajúce vonkajšok zdrojovej zostavy žiarenia.
Doteraiši stav techniky
Systémy spracovania tekutín sú známe. Napríklad U.S. patenty 4 482 809, 4 872 980 a 5 006 244 (postúpené splnomocnenému zástupcovi popisovaného vynálezu), ktorých obsahy sú včlenené s odkazmi, všetko charakterizuje systémy spracovania tekutiny so spádovým prítokom toku používajúce ultrafialové (UV) žiarenie.
Takýmito sú systémy, vrátane zoskupení UV lámp, ktorých konštrukcia zahrňuje niekolko UV lámp, z ktorých každá je umiestnená v obaloch rozložených medzi dvoma podpornými ramenami konštrukcie. Konštrukcie sú ponorené do tekutiny určenej na spracovanie, ktorá je potom ožarovaná podlá potreby. Miera ožiarenia, ktorému je tekutina vystavená, je určená blízkosťou tekutiny k lampe, výkonom lampy vo wattoch a rýchlosťou toku tekutiny za lampy. Jeden či viac UV senzorov môže byť využitý na sledovanie výstupu UV z lámp a hladina v tekutine je zvyčajne kontrolovaná dole po prúde od zariadenia na úpravu pomocou prostriedkov ako úrovňový prívod a pod. Teda, v systémoch so spádovým prívodom, pri vyššom prietoku je presná kontrola hladiny tekutiny obťažná, kolísanie hladiny tekutiny je nevyhnutné. Takéto kolísania by mohli viesť k nerovnomernému ožiareniu v upravovanej tekutine.
Vo vyššie popísanom systéme však existujú nedostatky. Závisia od kvality spracovávanej tekutiny, obaly obklopujúce UV lampy sú opakovane poškodzované cudzorodými materiálmi znižujúcimi ich schopnosť vysielať UV žiarenie do tekutiny. Po poškodení, ktorého rozmedzie môže byť určené z údaja o dobe prevádzky alebo meraniami z UV senzorov, obaly musia byť ručne čistené, aby bol odstránený škodlivý materiál.
Ak sú konštrukcie z UV lámp využité otvorené ako kanálový systém, jedna či viac konštrukcií môže byt odstránená, zatial čo systém pokračuje v operácii, a odstránená konštrukcia môže byt ponorená v kúpeli z vhodného kyslého čistiaceho roztoku, ktorý je vírený vzduchom, aby došlo k odstráneniu škodlivých materiálov. Musí byt postarané o nadbytočné alebo nevyťažené zdroje UV žiarenia (zvyčajne zahrnutím špeciálnych konštrukcií UV lámp) na zabezpečenie primeraného ožarovania spracovávanej tekutiny, zatial čo jedna či viac konštrukcií je z dôvodu čistenia odstránená. Samozrejme, tieto nevyhnutné rezervné UV kapacity zvyšujú náklady na inštaláciu systému spracovania.
Ďalej, čistiaca nádoba obsahujúca čistiaci roztok, v ktorom môžu byt umiestnené konštrukcie UV lámp, musí byt tiež udržiavaná. Podlá množstva konštrukcií určených na súčasné čistenie a početnosti opakovania čistení, to všetko môže tiež zvyšovať náklady na inštaláciu, údržbu a prevádzku systému spracovania.
Ak sú konštrukcie v uzatvorenom systéme, odstránenie konštrukcií z tekutiny z dôvodu čistenia je zvyčajne nepraktické. V tomto prípade musia byt obaly čistené zastavením spracovávania tekutiny, uzatvorením vstupných a výstupných ventilov k uzatvorenému spracovaniu, absolútnym naplnením uzatvoreného priestoru pre spracovanie kyslým čistiacim roztokom a vírením tekutiny na odstránenie škodlivých látok pomocou vzduchu. Čistenie takýchto uzatvorených systémov je nevýhodné kvôli nevyhnutnosti zastaviť systém spracovania počas čistiacich procesov a kvôli velkému množstvu čistiaceho roztoku vynaloženého na naplnenie uzatvoreného priestoru pre spracovanie. Existuje nadväzujúci problém spočívajúci v tom, že likvidácia velkého množstva kyslého čistiaceho roztoku má riziká a príprava velkého množstva používanej čistiacej tekutiny je ťažká a/alebo drahá. Samozrejme, i otvorené prietokové systémy majú tieto dva problémy, i keď menšieho stupňa.
Rozhodne je pri tomto očividné, že po inštalácii je často jedným z najvyšších udržiavacích nákladov cena čistenia obalov na zdrojových zariadeniach.
Ďalšou nevýhodou vyššie popísanej myšlienky systémov je vybranie UV lámp. Bohužiaľ, UV lampy v zmienených systémoch museli mat okolo pät stôp dĺžky na dosiahnutie nevyhnutného výkonu UV žiarenia vo wattoch. Preto UV lampy boli relatívne nepevné a vyžadovali oporu na každom konci lampy. To zvyšovalo celkovú cenu systému.
Ďalej, vzhľadom k trocha obmedzenému výkonu UV lámp vo wattoch v zmienených systémoch, bolo často požadované velké množstvo lámp. Napr. predchádzajúce systémy inštalovali iste viac ako 9000 lámp.
Takéto velké množstvo lámp zvyšuje cenu na čistenie lámp na úroveň ceny údržby (výmeny) lámp.
Podstata vynálezu
Predmetom popisovaného vynálezu je zaistiť nový spôsob spracovania tekutín ožiarením, ktorý odstráni alebo zmierni najmenej jednu z vyššie zmienených nevýhod pôvodného zámeru.
Ďalším predmetom popisovaného vynálezu je zaisťovaný systém spracovania tekutiny, ktorý odstráni alebo zmierni najmenej jednu z vyššie zmienených nevýhod pôvodného zámeru.
Podlá jedného hladiska popisovaného vynálezu je potrebné zaistiť spôsob spracovania tekutiny pozostávajúci z týchto krokov:
(i) zaistenie prívodu toku kvapaliny spádom do prítoku tekutiny, (ii) prevedenie toku kvapaliny z prítoku tekutiny do ožarovacej zóny obsahujúcej najmenej jeden zdroj žiarenia a majúcej uzatvárateíný priečny rez, (iii) uzatvorenie toku tekutiny v medziach vopred určenej maximálnej vzdialenosti od aspoň jedného zdroja žiarenia, (iv) vystavenie toku tekutiny ožiarenia zo zdroja žiarenia, a (v) privedenie toku tekutiny z kroku (iv) k odtoku kvapaliny.
Podía ďalšieho híadiska popisovaného vynálezu je potrebné zaistiť metódu odstraňovania škodlivých materiálov zo zdroja žiarenia na mieste v systéme spracovania tekutiny, pozostávajúcej z týchto krokov:
(i) zaistenie dodávky čistiacej tekutiny do čistiacej komory, (ii) premiestnenie čistiacej komory ku kontaktu aspoň s časťou zdroja žiarenia na vopred vymedzenú dobu, čistiaca komora udržiava čistiacu tekutinu v kontakte s touto časťou, a (iii) odstránenie čistiacej komory z kontaktu s časťou zdroja žiarenia po uplynutí vopred vymedzenej doby.
Podía ďalšieho híadiska popisovaného vynálezu je potrebné sa postarať o systém spracovania tekutiny so spádovým prívodom obsahujúcim prítok tekutiny, odtok tekutiny a ožarovaciu zónu umiestnenú medzi prítokom tekutiny a odtokom tekutiny, ožarovacia zóna (i) obsahuje najmenej jeden zdroj žiarenia a (ii) majúca uzatvárateíný priečny rez na uzatvorenie tekutiny určenej na spracovanie v medziach vopred určenej maximálnej vzdialenosti od aspoň jednej zdrojovej sústavy žiarenia.
Najvhodnejšie je, keď je ožarovacia zóna umiestnená v zóne na úpravu vrátane vstupnej prechodovej oblasti a výstupnej prechodovej oblasti. Výstupná prechodová oblast získa tekutinu z prítoku tekutiny a zvýši jej rýchlosť pred vstupom do ožarovacej zóny. Výstupná prechodová oblasť získa tok tekutiny z ožarovacej zóny a zníži rýchlosť toku tekutiny pred jej vstupom do odtoku tekutiny. Takto rýchlosť toku tekutiny je zvýšená iba v ožarovacej zóne z dôvodu obmedzenia hydraulickej tlakovej straty stratenej prietokom cez systém. Hodnota myšlienky sa zvýši tým, že jedna alebo dve prechodové oblasti (vstupná a výstupná) môžu obsahovať zúženú časť (znázornené podrobnejšie ďalej v texte). Je tiež možné využiť zvonovito tvarované vstupné a výstupné ústie. V každom prípade zásadným výsledkom je redukcia hydraulickej tlakovej straty.
Podía ďalšieho hladiska popisovaného vynálezu je potrebné zaistiť zdrojový modul žiarenia na použitie v systéme spracovania tekutín obsahujúci nosný člen, najmenej jednu zostavu zdrojov žiarenia rozvinutú zo zmieneného nosného člena, upevňovacie prostriedky na pripojenie zdrojového modulu žiarenia v systéme spracovania tekutiny.
čistiacu objímku žiarenia a schopnú
Podía ďalšieho hladiska popisovaného vynálezu je potrebné zaistiť čistiacu aparatúru pre zdrojovú zostavu žiarenia v systéme spracovania tekutín obsahujúcu nasadenú na vonkajšiu časť zdrojovej zostavy pohybu medzi vtiahnutou polohou, kde prvá čast zmieneného zdroja žiarenia je odkrytá na tok tekutiny, ktorá má byt spracovávaná a odtiahnutou polohou, kde zmienená prvá časť zdrojovej zostavy žiarenia je úplne alebo čiastočne prikrytá zmienenou čistiacou objímkou, táto čistiaca objímka zahrňuje komoru kontaktujúcu sa so zmienenou prvou časťou zdrojovej zostavy žiarenia a je vyplnená čistiacim roztokom vhodným na odstránenie nežiaducich materiálov z prvej časti.
Podlá ďalšieho hladiska tohto vynálezu je potrebné zaistiť zostavu čidla žiarenia obsahujúcu: kryt čidla, prostriedky prenosu žiarenia v kryte a zahrňujúcu časť určenú na ožiarenie zdrojom žiarenia, čidlo žiarenia zachytávajúce žiarenie zo zmienených prostriedkov prenosu a prostriedky na odstránenie škodlivých materiálov vyššie uvedenej časti.
Ako je tu naznačené, termín prívod spádom zahrňuje systémy, kde hydraulická tlaková strata je spôsobená zmenami vo výške tekutiny. Bude to chápané tak, že takéto systémy predstavujú obidva nasledujúce systémy: s prirodzeným prívodom so spádom a systémy, kde výška kvapaliny či iných mechanických prostriedkov napájania.
je nahradená pomocou púmp na zaistenie spádového
Prehľad obrázkov na výkresoch
Začlenenie popisovaného vynálezu bude zrejmé z popisu sprievodných obrázkov, na ktorých predstavuje:
obr. 1 vedľajšia časť pôvodnej techniky spracovania tekutín, obr. 2 znázorňuje koncovú časť pôvodnej techniky spracovania tekutín z obrázku 1, obr. 3 vedľajšia časť prvého začlenenia horizontálneho systému spracovania tekutín v zhode s popisovaným vynálezom, obr. 4 zdrojový modul žiarenia na použitie v systéme z obr. 3, obr. 5 podrobnejší pohľad na oblasť označenú A na obrázku 4, obr. 6 časť ďalšieho začlenenia zdrojového modulu žiarenia na použitie v systéme z obrázku 3, obr. 7 podrobnejší pohľad na oblasť označenú B na obrázku 6, obr. 8 vedľajšiu časť druhého začlenenia vertikálneho systému spracovania tekutín v zhode s popisovaným vynálezom a obr. 9 zdrojovú zostavu žiarenia.
Príklady vyhotovenia vynálezu
Kvôli prehľadnosti bude uvedený krátky popis predchádzajúcej techniky pred pojednaním o popisovanom vynáleze. Obrázky 1 a 2 ukazujú predchádzajúcu myšlienku techník spracovania ako je popísané v US patente 4 482 809. Myšlienka zahrňuje množstvo modulov zdrojov žiarenia 20, každý obsahuje pár ramien 24 rámu so zostavami 28 UV lámp rozloženými medzi nimi. Ako najlepšie ukazuje obrázok 2, množstvo lampových modulov 20 je umiestnené naprieč upravovacieho kanálu 32 s maximálnym odstupom medzi lampovými modulmi 20, ktorý je navrhnutý na zabezpečenie toho, že spracovávaná tekutina je ožiarená najmenej vopred určenou minimálnou dávkou UV žiarenia.
I ked, ako už bolo povedané vyššie, bol tento systém úspešný, trpel na nevýhody spočívajúce v aranžovaní lampových modulov 20, čo robí z rozvíjania myšlienky relatívne namáhavú záležitosť. Predovšetkým premiestnenie lámp alebo čistenie obalov okolo lámp je zdĺhavé a nákladné. Tiež to, že spracovanie pokračuje i pri odstránení lampového modulu 20, a preto je nevyhnutné zaistiť náhradné lampové moduly 20 kvôli zaručeniu dostatku vopred určeného minimálneho množstva žiarenia do tekutiny, zvyšuje náklady systému. Tie dalej závisia od kvality tekutiny a rýchlosti jej toku, významný môže byť počet lámp a obalov na jednotku spracovávanej tekutiny. Ďalšou nevýhodou tohto systému je obťažnosť kontroly hladiny tekutiny vo vzťahu k lampovým modulom 20 pri vyšších rýchlostiach toku.
Preto, zatiaí čo vyššie popísaný pôvodný systém bol úspešný, jeho tvorca sa snažil o zdokonalenie systémov spracovania tekutín a o odstránenie niektorých týchto nevýhod. Popisovaný vynález bude teraz popísaný s odkazmi na sprievodné obrázky.
K obrázku 3 sa vzťahuje systém spracovania tekutín v zhode s popisovaným vynálezom, ktorý je všeobecne označený 100. Systém
100 obsahuje hlavné teleso 104. inštalované naprieč otvorenej rúrky 108 pre tekutinu tak, že celý tok tekutiny je prietokom rúrky 108 nasmerovaný cez zónu 112 na úpravu. Hlavné teleso 104 môže byť napríklad odliaty betón, nehrdzavejúca oceľ alebo iný materiál vhodný na použitie k spracovaniu tekutiny a ktorý je odolný voči použitému typu žiarenia.
Nižšia plocha hlavného telesa 104 zahrňuje strednú časť 116. ktorá pokračuje šikmo dole naklonenými časťami 120. resp. 124. Zodpovedajúci vznik strednej časti 132 je umiestnený na základni 128 rúrky 108 pod strednou častou 116 a zahrňuje naklonené časti 136. resp. 140. Stredná časť 132 môže byt časťou hlavného telesa 108 alebo môže byt časťou základne 128 (pozri obrázok).
Ako je zrejmé z obrázku 3, časti 116 a 132 vytvárajú úzku ožarovaciu zónu 144. zatiaľ čo časti 120 a 136 vytvárajú zúženú vstupnú prechodovú oblasť a časti 124 a 140 vytvárajú zúženú výstupnú prechodovú oblasť.
Ako je zrejmé, ožarovacia zóna 144 ukazuje uzatvárateľný priečny rez spracovávanej tekutiny. To zaisťuje stálu súmernosť medzi tekutinou a zdrojom žiarenia (popísané v nasledujúcom texte) na zabezpečenie ožiarenia tekutiny vopred určeným minimom žiarenia zo zdrojov ožiarenia. Tieto predpoklady ocenia, že vnútorná stena ožarovacej zóny 144 môže byt navrhnutá a vytváraná na dôkladné sledovanie obrysov časti zdrojových modulov 148 žiarenia tam umiestnených na maximalizáciu efektivity spracovania i v najodľahlejších bodoch od zdroja žiarenia.
Najmenej jeden z horného či dolného (vzhladom k smeru toku) povrchu hlavného telesa 104 zahrňuje jeden či viac zdrojových modulov 148 žiarenia tam umiestnených. Počet modulov 148 môže byť variabilný podľa spracovávanej tekutiny od jediného horného modulu 148 k dvom či viacerým modulom 148 naprieč obom povrchom (hornému a dolnému) hlavného telesa 104.
Predovšetkým hlavné teleso 104 ďalej zahrňuje čidlo 152 žiarenia, ktoré zasahuje do ožarovacej zóny 144 a hladinové čidlo
154 tekutiny, ktoré kontroluje hladinu tekutiny pri vstupnej strane zóny 112 na úpravu. Podía týchto predpokladov, ak hladina tekutiny v systéme poklesne pod tekutinové hladinové čidlo 156. dôjde k spusteniu alarmu alebo k uzatvoreniu zdroja žiarenia, ak je to vhodné. Normálna hladinová priepust 150 tekutiny je tiež zaistená v dolnej časti (smeru toku) hlavného telesa 104 kvôli udržaniu minimálnej hladiny tekutiny v zóne 112 na úpravu.
Ako najlepšie ukazujú obrázky 4 a 5, každý zdrojový modul 148 žiarenia zahrňuje nosné rameno 160 zdroja žiarenia, horizontálny nosník a nosný člen 164 (nepovinný), spojovací box 172 a jednu či viac zdrojových sústav 176 žiarenia susediacu s nižším koncom nosného ramena 160. Každá zdrojová zostava 176 žiarenia obsahuje vysoko účinný zdroj 180 žiarenia, ktorý je namontovaný v dutine objímky 184 pomocou dvoch prstencových vložiek 188. Samozrejme, je z tohto predpokladu zrejmé, že v niektorých situáciách zdrojové zostavy 176 žiarenia nebudú vyžadovať objímku a zdroj 180 žiarenia môže byt umiestnený priamo v spracovávanej tekutine.
Každá objímka 184 je uzatvorená pri koncovom distálnom nosnom ramene 160 a je hermeticky pripevnená k objímkovej rúrke 192 spojenej k nosnému ramenu 160. Hermetické tesnenie medzi objímkou 184 a objímkovou rúrkou 192 je dokonalé zložením otvoreného konca objímky 184 do krytu 196, ktorý je hermeticky upnutý ku koncu objímkovej rúrky 192. Trecia tesniaca zátka 200 je zaistená pri základnom kryte 196 na ochranu objímky 184 pred zlomením vzhíadom k jeho priamemu kontaktu s krytom 196. pokial je vložený. Dve krúžkové tesnenia tvaru 0 sú umiestnené okolo vonkajška objímky 184 s prstencovou rozperkou medzi nimi.
Po objímke 184. krúžkovom tesnení 204, 208 tvaru 0 a prstencovej rozperke 206 je vložená do krytu 196 prstencová skrutková rozperka 212 umiestnená okolo vonkajšku objímky 184 a je tlačená do styku s krytom 196. Skrutky na rozperke 212 vzájomne doplňujú činnosť so skrutkami na vnútri krytu 196 a rozperka 212 je upnutá, aby tlačila treciu tesniacu zátku 200 a krúžkové tesnenie 204 tvaru O, čo zabezpečí žiaduce hermetické utesnenie.
Opačný koniec každej objímkovej rúrky 192 je taktiež priskrutkovaný a je spojený so skrutkovým upevnením 216. ktoré je otočné spojené s nosným ramenom 160. Spojenie medzi objímkovou rúrkou 192 a skrutkovým upevnením 216 a medzi skrutkovým upevnením 216 a nosným ramenom 160 sú tiež hermetické, čím sa bráni prístupu tekutiny do vnútornej dutiny objímkovej rúrky 192 alebo nosného ramena 160.
Každý zdroj 180 žiarenia je spojený medzi párom elektrických prívodných vodičov 220. ktoré bežia zo spojovacieho boxu 172 k zdroju 180 žiarenia cez vnútro nosného ramena 160 a objímkovej rúrky 192.
Ako je najlepšie znázornené na obrázkoch 4 a 5, čistiaca sústava 224 je tiež zahrnutá v každej zdrojovej sústave 176 žiarenia a objímkovej rúrke 192. Každá čistiaca zostava 224 obsahuje valcovú objímku 228. ktorá pôsobí ako valec s dvojakým účinkom. Valcová objímka 228 zahrňuje prstencové uzatvorenia 232. 234 na každom svojom konci. Uzatvorenie 232. ktoré susedí s nosným ramenom 160. obopína vonkajší povrch objímkovej rúrky 192. zatiaľ čo uzatvorenie 234, ktoré je distálne nosnému ramenu 160. obopína vonkajší povrch zdrojovej zostavy 176 žiarenia.
Vonkajšok krytu 196 obsahuje drážku, v ktorej je umiestnené krúžkové tesnenie 236 tvaru 0. Krúžkové tesnenie 236 tvaru O prijíma vnútro povrchu valcovej objímky 228 a delí vnútro valcovej objímky 228 do dvoch komôr 240 a 244. Komora 240 je napojená na vedenie 248 a komora 244 je napojená na vedenie 252. Každé z vedení 248 a 252 beží zo spojovacieho boxu 172. cez vnútro nosného ramena 160 a cez vnútro objímkovej rúrky 192 do krytu 196. kde spájajú komory 240. resp. 244.
Dodaním stlačeného hydraulického oleja, vzduchu alebo inej vhodnej tekutiny do komory 240 cez vedenie 248. bude valcovou objímkou 228 uvedené do chodu nosné rameno 160 a vytlačí tekutinu von z komory 244 a do vedenia 252. Podobne, dodaním stlačenej tekutiny do komory 244 cez vedenie 252, valcovou objímkou 228 bude uvedená do chodu objímka 184 a vytlačí tekutinu von z komory 240 a do vedenia 248.
Vedenie 252 je napojené na dodanie uvedeného čistiaceho roztoku, ako kyslý roztok, a vedenie 248 je napojené na dodanie lubovolnej vhodnej látky ako vzduch. Keď je potrebné čistiť vonkajšok objímky 184. stlačený čistiaci roztok je dodaný do komory 244. zatial čo tekutina je odstránená z komory 240. Valcová objímka 228 je tak tlačená do odťažitej distálnej polohy od nosného ramena 160 a len čo sa valcová objímka 228 premiestni do odtiahnutej polohy, prstencový uzáver 234 môže tiež odstrániť cudzorodé materiály z objímky 184.
Keď je valcová objímka 228 vo svojej odtiahnutej polohe, čistiaci roztok v komore je privedený do styku s vonkajškom zdrojovej zostavy 176 žiarenia, ktorá upravuje vnútornú stenu komory 244 a chemický roztok chemicky rozloží a/alebo odstráni zvyšný cudzorodý materiál, ktorý poškodzuje zdrojovú zostavu 176 žiarenia. Po uskutočnení čistiaceho obdobia je tekutina vtlačená do komory 240, tlak na čistiaci roztok je z komory 244 odstránený, čo tlačí valcovú objímku 228 do vtiahnutej polohy susediacej s nosným ramenom 160. Keď je valcová objímka 228 vtiahnutá, prstencový uzáver 234 opäť môže vymetať cudzorodé materiály z povrchu zdrojovej zostavy 176 žiarenia.
Popísaná čistiaca zostava 24 môže byť obsluhovaná v pravidelnom časovom intervale, napr. raz denne alebo, keď sa kvalita spracovania tekutiny mení, podlá zmien vyčítaných z čidla 152 žiarenia.
Každý zdrojový modul 148 žiarenia môže byt pripevnený k hlavnému telesu 104 horizontálnym nosným členom 164. ktorý má vopred určený tvar priečneho rezu a ktorý je prijímaný do komplementárne tvarovaného vývrtu 256 v hlavnom telese 104.
Vopred vymedzený tvar je vybraný na uľahčenie vsunutia horizontálneho nosného člena 164 do vývrtu 256 a zároveň na zabránenie rotácii horizontálneho nosného člena 164 vo vývrte 256.
Ako je možné vidieť na obrázkoch 3 a 4, dĺžka horizontálneho nosného člena 164 je vybraná tak, že horizontálny nosný člen 164 je natiahnutý od nosného ramena 160 do väčšieho natiahnutia ako je dosah zdrojovej sústavy 176 žiarenia. V tomto prípade je zdrojová zostava 176 žiarenia udržiavaná veími jasne od vstupnej či výstupnej prechodovej oblasti ako inštalovaný zdrojový modul 148 žiarenia. Toto usporiadanie minimalizuje možnosť poškodenia zdrojovej zostavy 176 žiarenia nárazom do ďalších predmetov počas inštalácie zdrojového modulu 148 žiarenia a je predovšetkým spoľahlivé, keď tekutina tečie cez systém 100. Primerane výslednej požadovanej dĺžke horizontálneho nosného člena 164 sú na opačnom čele hlavného telesa 104 horizontálne umiestnené vývrty 256. Keď je horizontálny nosný člen 164 plne umiestnený vo vývrte 256. prípojka 264 elektrického vedenia, prípojka 269 čistiaceho roztoku a prípojka 272 tekutiny sú v spojovacom boxe 172 prepojené s komplementárnymi prípojkami na kryt 276. Prepojenie prípojok 264 a 272 s komplementárnymi prípojkami na kryt 276 tiež slúži na udržanie horizontálneho nosného člena 164 276 môže pohodlne obsahovať záťaž na energie pre zdroj 180 žiarenia, pumpy a skladovacie nádoby na čistiacu tekutinu a stlačenú tekutinu pre čistiacu zostavu 224.
vo vývrte 256. Kryt dodávanie elektrickej
Súčasné zdokonalenia v technológiách zdrojov žiarenia vytvorili zdroje žiarenia vyššej dostupnej intenzity a plány, ktoré nie sú prehnané, ale dosiahnuteíné. Kvôli porovnaniu, pôvodné UV lampy využívané v systémoch spracovania tekutín mali výstup okolo jedného wattu na palec a boli päť stôp dlhé.
Ak tieto intenzívnejšie zdroje žiarenia uvoíňujú viac žiarenia, je potrebných menej zdrojov žiarenia na úpravu dodaného množstva tekutiny. Ako je známe, dávka žiarenia, ktorú tekutina získa, je úmerná intenzite žiarenia a času žiarenia. Intenzita žiarenia sa mení s druhou mocninou vzdialenosti, cez ktorú žiarenie preniká, ale čas ožiarenia sa mení lineárne s rýchlosťou toku tekutiny. V súlade s tým je snaha o udržania zavretej spracovávanej tekutiny pri zdroji žiarenia ako je to len možné. Toto vyžaduje mnoho málo intenzívnych zdrojov žiarenia umiestnených na velkej oblasti spracovávania alebo menej vysoko intenzívnych zdrojov umiestnených v menšej oblasti spracovania. Kvôli výslednej účinnosti, minimalizácii nákladov a na zmiernenie vyššie popísaných požiadaviek na presnú kontrolu hladiny tekutiny bola prispôsobená popisovanému vynálezu dfalšia alternatíva, ako je popísané vyššie. Ožarovacia zóna 144 je navrhnutá na súčasné uzatvorenie priečneho rezu toku tekutiny, aby bolo zaručené, že spracovávaná tekutina vo vnútri dostane vopred určenú maximálnu vzdialenosť od minimálneho počtu vysoko intenzívnych zdrojov 180 žiarenia. Rýchlosť toku tekutiny cez ožarovaciu zónu 144 môže byť zvýšená, takže prijatelná rýchlosť spracovávania tekutiny je navrhnutá s minimálnym počtom vysoko intenzívnych zdrojov žiarenia.
Takto popisovaný systém bol navrhnutý na minimalizáciu počtu ožarovacích zón 144 pri zvýšení rýchlosti toku tekutiny a na získanie žiaducej rýchlosti spracovania. Teda, prietok tekutiny cez ožarovaciu zónu 144 je vyšší ako v prvotných technikách spracovania, ktoré sú väčšinou navrhované na činnosť pri prietoku 2 stopy za sekundu alebo menej. Naopak, popisovaný systém môže byt obsluhovaný pri prietoku cez ožarovaciu zónu 144 až 12 stôp za sekundu.
Ako je známe, strata výšky tlaku v potrubí je funkciou druhej mocniny rýchlosti toku tekutiny. Takto vysoké rýchlosti toku majú za následok zvýšenie straty výšky tlaku a môžu spôsobiť nežiaduce kolísanie hladiny tekutiny v systéme spracovania. Popisovaný systém môže byt preto zaistený vstupmi a výstupmi majúcimi velké priečne rezy na minimalizáciu straty tlaku a na ulahčenie vkladania a odstraňovania zdrojových modulov žiarenia popísaných nižšie. Súčasná ožarovacia zóna 144 má relatívne krátku dĺžku so zmenšeným priečnym rezom a je napojená na prítoky a odtoky pomocou vlastných prechodových oblastí. V tomto prípade môže byt požiadavka na vysoký prietok cez ožarovaciu zónu 144 dosiahnutá a hydraulická strata vysokého tlaku minimalizovaná.
Ďalšie výhody zaistené popisovaným vynálezom zahrňujú zjednodušenie údržby tým, že zostavy zdrojov žiarenia môžu byt čistené od škodlivých materiálov na mieste a je relatívne íahké odstránenie zdrojových modulov žiarenia kvôli údržbe alebo premiestneniu zdroja žiarenia. Ďalej, schopnost čistenia na mieste minimalizuje alebo vylučuje nároky na iné náhradné zdroje žiarenia, ktoré by boli potrebné na zabezpečenie výmeny za tie odstránené na čistenie a predpokladá sa, že zvýšenie rýchlosti tekutiny pretekajúcej ožarovacou zónou znižuje množstvo škodlivých látok priínievajúcich na zdrojoch žiarenia.
Ďalšie usporiadanie zdrojového modulu 148B žiarenia a čistiacej zostavy 300 je znázornené na obrázkoch 6 a 7, kde sú zložky z predchádzajúceho usporiadania popísané rovnakými vztahovými značkami. Ako je najjasnejšie z obrázku 7, objímka 184 je hermeticky utesnená k objímkovej rúrke 192 pri kryte 196 spôsobom veími podobným usporiadaniu znázornenom na obrázku 5, ale v tomto usporiadaní čistiaca zostava 300 obsahuje výstužné rebro 304 čistiacich okruhov 308 a pár valcov 312, 314. Každý čistiaci okruh 308 obsahuje prstencovítú komoru 316 priíahlú k povrchu objímky 184 a čistiacim okruhom 308 obmetajúcim objímky 184 pohybom valcov 312. 314 medzi vtiahnutou a odtiahnutou polohou.
Ako v usporiadaní znázornenom na obrázku 4, potrubia 320 a 324 vedú zo spojovacieho boxu (nie je znázornený) cez nosné rameno 160 do valcov 312. resp. 314. Ked je tekutina dodávaná pod tlakom cez potrubie 320 do valca 312. jeho piestne tiahlo 328 je tlačené von do svojej odtiahnutej polohy. Ako bude zrejmé, ked je piestne tiahlo 328 odtiahnuté dodávkou tekutiny do komory 332 na jednej strane piestu 336. tekutina je tlačená von z komory 340 na druhej strane piestu 336 a posúvaná cez spojovaciu prípojku 344 do komory 348 valca 314 tlačením tohto piestneho tiahla 328 tiež do odtiahnutia a tekutina v komore 352 je tlačená do potrubia
324.
Krokom na zaistenie synchronizovaného pohybu piestnych tiahel 328 je taký návrh valcov 312 a 314. aby hladina tekutiny umiestnenej na jednotku zdvihu piestu 336 vo valci 312 bola rovnaká ako hladina tekutiny prijatá na jednotku zdvihu piestu 336 vo valci 314. Ako je jasné, toto je zabezpečené výberom primeraných priemerov pre každý z obidvoch valcov alebo valcových výstuží. Ako bude dalej zrejmé, jednocestný vyrovnávací ventil 356 je využitý pri konci odtiahnutého zdvihu piestu 336 na ďalšie vyrovnávanie každého rozdielu v celkovej hladine tekutiny, ktorý môže vzniknúť medzi komorami 332 a 352 a medzi komorami 348 a 340.
V podobnom prípade, vtiahnutím piestnych tiahel 328 je stlačená tekutina dodávaná do potrubia 324 a druhý vyrovnávací ventil 356 je využitý na vyrovnanie každého rozdielu v celkovej hladine tekutiny, ktorý môže vzniknúť medzi komorami 332 a 352 a medzi komorami 348 a 340 pri konci vtiahnutého zdvihu.
Je úmyslom, že prstencovité komory budú plnené vopred určeným množstvom vhodnej čistiacej kvapaliny, ktorá môže byť vymenená vo vhodných intervaloch údržby, ako je obsluha zdrojov žiarenia. Možnosťou je, že prstencovité komory 316 môžu byť plnené čistiacim roztokom smerom vedenia potrubia cez dutý stred piestnych tiahel 328. Inou možnosťou je zaistiť prstencovité komory 316 v uzatvorenom usporiadaní na uzatvorenie tekutiny, ktorá môže byt premiestnená, keď je treba. Ďalej čistiaci roztok môže cirkulovať cez duté piestne tiahlo 328, komoru 332 a prstencovítú komoru 316. Zaistením vhodných odrážacích prostriedkov (nie je znázornené) v prstencovítej komore 316 môže čistiaca tekutina vstúpiť cez najnižšie duté tiahlo 328, obiehať cez čistiaci okruh 308 a odtiecť cez najvyššie duté piestne tiahlo 328.
Zatiaľ čo obrázky 4, 5 a 6 znázorňujú špecifické usporiadanie náhľadov na vynález čistiacej aparatúry na zostavy zdrojov žiarenia, ďalšie návrhy budú na rozdiel od nich bez odbočenia od podstaty vynálezu.
Napríklad je možné využiť samotný valec dvojakého účinku v kombinácii s dutým valcovým tiahlom, ktoré je veľmi stabilne namontované cez valcové tiahla na väčšine (t.j. 2 alebo 4) z čistiacich okruhov 308. Ďalej, je možné pumpovať čistiacu tekutinu (t.j. vodu) cez duté tiahlo k a do prstencovitých komôr 316, zatiaľ čo je valec premiestnený späť a vpred. Ak prstencovité komory 316 boli vybavené vhodnými tryskami alebo podobne, bude možné použiť rozstrekovač alebo tryskajúci prúd naprieč cez povrch ožarovacej komory, čím sa uľahčí čistenie objímky 184 zdroja žiarenia.
Inak upravená modifikácia sa týka preplňovacích prstencových komôr 316 s vhodnou čistiacou tekutinou a upravuje komory na zaistenie uzatvorenej upratovacej zostavy. Táto ráta s použitím rôznych prvkov pre prstencovité komory 316 späť a napred po objímke 184 zdroja žiarenia. Napr. je možné využiť dvojčinný, jednotlivý valec, ktorý iba premiestni prstencovité komory 316 späť a pred po objímke 184 zdroja žiarenia. Samozrejme, že prstencovité komory môžu byť umiestnené pevne k prvkom na premiestnenie kvôli vyvarovaniu sa uviaznutiu celej zostavy, spôsobujúcemu škodu objímke 184.
Ako bude dalej jasné v usporiadaniach popísaných vyššie, je možné vrátiť vzájomnú polohu medzi zdrojom žiarenia a čistiacim mechanizmom. Takže čistiaci mechanizmus môže byť inštalovaný pevne v prítomnosti zóny na úpravu alebo iného systému a zdroj žiarenia by mohol byť so zreteľom k tomu prekladaný späť a napred.
Ďalšie usporiadanie popisovaného vynálezu je znázornené na obrázku 8. V tomto členení systém 400 spracovania zahrňuje hlavné teleso 404 s menším povrchom, ktorý spodnou stenou 406 definuje zóna 408 na úpravu. Zóna 408 na úpravu obsahuje vstupnú prechodovú oblasť 412. prvú ožarovaciu zónu 416. strednú zónu 420. druhú ožarovaciu zónu 424 a zúženú odtokovú zónu 426. Ako je zrejmé z obrázku, odtoková zóna 426 je menšia ako prechodová zóna 412 na zaistenie určitého ďalšieho hydraulického tlaku v spracovávanej tekutine na kompenzáciu strateného tlakom tekutiny cez systém spracovania. Bude zrejmé, že v tejto konfigurácii je požiadavka na kontrolu vstupnej hladiny a podobne odstránená, pretože zóna 408 na úpravu tiež plní túto funkciu cez umiestnenie svojho vstupu a výstupu.
Hlavné teleso 404 môže tiež obsahovať vývrty 430 na zachytenie vertikálnych nosných členov 434 zo zdrojových modulov 438 žiarenia. Zdrojové moduly 438 žiarenia sú podobné vyššie uvedeným zdrojovým modulom 148 žiarenia, ale sú upravené pre vertikálnu polohu sústavy 442 zdrojov žiarenia. Sústava 442 zdrojov žiarenia obsahuje objímky 446. ktoré sú napojené k čapom 450. Samozrejme, ako bolo uvedené, je pochopitelné, že pri niektorých okolnostiach u sústavy 442 zdrojov žiarenia nebudú potrebné objímky a môžu namiesto toho byt umiestnené priamo v spracovávanej tekutine.
Keď sú čapy 450 situované nad maximálnu hladinu tekutiny v systéme spracovania 400. potrubie v objímkach 446 nepotrebuje byť hermeticky utesnené a môže byť vyhotovené lubovolným vhodným spôsobom. Samozrejme, keď spojovací bod medzi obalmi a čapmi 450 je nad hladinou tekutiny v systéme, vnútro objímok 446 nebude vystavené tekutine.
Čapy 450 sú v otočnom spojení s nosnými ramenami 454. ktoré sú pripojené k vertikálnym nosným členom 434. Zdroje 458 žiarenia sú situované vo vnútri objímok 446 a sú spojené medzi elektrickým dodávacim vedením (nie je znázornené), ktoré je ťahané z prípojky 462 cez duté nosné ramená 454 a čapy 450 a do objímky 446. Prípojky 462 sa spájajú s doplnkovými prípojkami na uzávere 466. ktorý môže zahrňovať vhodný zdroj energie a/alebo prvky kontroly pre vlastnú prevádzku zdrojov 180 žiarenia a čistiaceho dodávkového systému, ak je inštalovaný.
V tomto usporiadaní je služba zdrojových modulov 438 žiarenia dokončená vertikálnym zdvihnutím zdrojových modulov 438 tak, aby boli odstránené z toku tekutiny. Hoci nie je znázornené na obrázku 8, je úmyslom, že za niektorých okolností čistiace zostavy zmienené vyššie budú žiadané a bude zrejmé, že ďalšie z možností usporiadania čistiacich zostáv tu uvedených alebo ich obdoby môžu byt úspešne využité s týmto členením popisovaného vynálezu. Počíta sa s možnosťou, že ked objímky 446 vyžadujú čistenie, zdrojový modul žiarenia môže byt jednoducho odstránený vertikálnym zdvihnutím.
Ako je popísané vyššie, systémy spracovania zvyčajne zahrňujú čidlo 152 žiarenia na sledovanie intenzity žiarenia vo vnútri ožarovacej zóny. Tieto čidlá obsahujú okienko prenosu žiarenia, v ktorého pozadí je namontované vhodné čidlo a okienko je vložené do toku tekutiny. Samozrejme, rovnako ako zdrojová zostava 176 (442) žiarenia sa toto okienko časom zanesie.
Obrázok 9 znázorňuje zostavu 500 čidla žiarenia v zhode s ostatnými stránkami popisovaného vynálezu. Zostava 500 čidla obsahuje valcové teleso 502. v ktorom je vytvorený vývrt 504. Snímací prvok 508 je umiestnený na vnútornej stene vývrtu 504 susediacim s tyčou 512. ktorá je vodičom žiarenia a ktorá siaha od čelnej lícnej dosky 514 pripojenej k telesu 502. Snímací prvok 502 je hermeticky utesnený do tekutiny pomocou krúžku 516 tvaru O, ktorý prilieha k snímaciemu prvku 508 a pomocou krúžku 520 tvaru O, ktorý obklopuje tyč 512 v styčnom bode medzi čelnou upínacou doskou 514 a telesom 502. Elektrické vedenie 524 zo snímacieho prvku 508 vychádza zadnou častou telesa 502 cez vývrt 528.
Pretože sa začne ožarovaný koniec tyče 512 behom času zanášať, lícna doska 514 tiež obsahuje čistiacu trysku 532.
Čistiaca tryská 532 je hermeticky napojená k vývrtu 536 pomocou krúžku 538 tvaru O cez teleso 502. ktoré je otočné spojené na plnenie stlačenou čistiacou tekutinou (nie je znázornené) ako kyslý roztok, voda či vzduch.
Ked je čistiaca tekutina pumpou dopravená do vývrtu, čistiaca tryská 532 namieri čistiacu tekutinu na odkryté plochy tyče 512 kvôli odstráneniu škodlivých materiálov. Na ochranu pred škodami na čistiacej tryske 532. tyče 512 a na zlepšenie toku tekutiny je tiež zaistený ochranný plást.
Zostava 500 čidiel žiarenia môže byt namontovaná v objímke napojenej k zóne na úpravu v systéme spracovania tekutiny. Zostava 500 čidiel žiarenia môže byt udržiavaná vo vnútri takejto objímky pomocou stavacej skrutky (nie je znázornená), ktorá je zvyčajne v drážke 540. Samozrejme, na presné výsledky je potrebné, aby tyč 512 bola orientovaná v podstate kolmo k sledovaným zdrojom 180 žiarenia.
Predpokladá sa, že pri normálnom používaní bude zostava 500 čidiel žiarenia čistená dodávaním vopred určeného množstva čistiaceho roztoku alebo vody vo vopred vymedzenom časovom intervale do čistiacej trysky 532.
Je pochopiteíné, že tu naznačené usporiadania popisovaného vynálezu uvedenými príkladmi vyhotovenia tento vynález nevymedzujú a že môžu byt uvažované dalšie alternatívy bez toho, aby sa tým odbočilo od určeného zámeru tohto vynálezu, ako je to vymedzené v pripojených patentových nárokoch.
- 21 ť\J
Claims (47)
1. Systém spracovania tekutiny privádzanej spádom obsahujúci prítok tekutiny, odtok tekutiny, a ožarovaciu zónu umiestnenú medzi prítokom tekutiny a odtokom tekutiny, ožarovaciu zónu (i) obsahujúcu najmenej jeden zdroj žiarenia a (ii) majúcu uzatváratelný priečny prierez na uzatvorenie spracovávanej tekutiny vo vnútri vo vopred určenej maximálnej vzdialenosti od najmenej jednej zostavy zdrojov žiarenia.
2. Systém spracovania tekutín podlá nároku 1, vyznačujúci sa tým, že najmenej jeden zdroj žiarenia je pretiahnutý a má pozdĺžnu os vždy paralelnú k smeru prietoku tekutiny danej ožarovacej zóny.
3. Systém spracovania tekutín podlá nároku 1, vyznačujúci sa tým, že oblast priečneho rezu ožarovacej zóny je menšia ako aspoň jedna z oblastí priečneho rezu prítoku tekutiny a ako oblast priečneho rezu odtoku tekutiny.
4. Systém spracovania tekutín podlá nároku 3, vyznačujúci sa tým, že oblast priečneho rezu ožarovacej zóny je menšia ako oblast priečneho rezu prítoku tekutiny a táto ožarovacia zóna je umiestnená v zóne na úpravu obsahujúcej prechodovú oblast spájajúcu prítok tekutiny s ožarovacou zónou, táto prechodová oblast znižuje stratu tlaku v kvapaline medzi zmieneným prítokom a ožarovacou zónou.
5. Systém spracovania tekutín podlá nároku 3, vyznačujúci sa tým, že oblast priečneho rezu ožarovacej zóny je menšia ako oblast priečneho rezu odtoku tekutiny a táto ožarovacia zóna je umiestnená v zóne na úpravu obsahujúcej prechodovú oblast spájajúcu odtoku tekutiny s ožarovacou zónou, táto prechodová oblast znižuje stratu tlaku v tekutine medzi zmieneným odtokom a ožarovacou zónou.
6. Systém spracovania tekutín podľa nároku 2, vyznačujúci sa tým, že oblasť priečneho rezu ožarovacej zóny je menšia ako oblasť priečneho rezu prítoku tekutiny a odtoku tekutiny, ožarovacia zóna je situovaná v zóne na úpravu včítane prvej a druhej prechodovej oblasti, prvá prechodová oblast spája prítok tekutiny a ožarovaciu zónu a druhá prechodová oblast spája ožarovaciu zónu s odtokom tekutiny, prvá i druhá prechodová oblast znižuje stratu tlaku v tekutine medzi prítokom tekutiny a ožarovacou zónou, resp. medzi ožarovacou zónou a odtokom tekutiny.
7. Systém spracovania tekutín podľa nároku 6, vyznačujúci sa tým, že najmenej jedna zostava zdrojov žiarenia obsahuje aspoň jednu ultrafialovú lampu, a preto i nosník.
8. Systém spracovania tekutín podľa nároku 7, vyznačujúci sa tým, že zostava zdrojov žiarenia zahrňuje objímku okolo časti vonkajška každej z najmenej jednej ultrafialovej lampy.
9. Systém spracovania tekutín podľa nároku 6, vyznačujúci sa tým, že pozdĺžna os je v podstate vertikálna a prvá prechodová oblast mení v podstate horizontálny tok tekutiny cez prítok tekutiny na v podstate vertikálny tok tekutiny cez zónu ožarovania.
10. Systém spracovania tekutín podľa nároku 9, vyznačujúci sa tým, že druhá prechodová oblasť mení v podstate vertikálny tok tekutiny cez ožarovaciu zónu na v podstate horizontálny tok tekutiny cez odtok tekutiny.
11. Systém spracovania tekutín podľa nároku 7, vyznačujúci sa tým, že pozdĺžna os je v podstate horizontálna.
12. Systém spracovania tekutín podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že zahrňuje čistiace prvky na odstránenie nežiaducich materiálov z vonkajška najmenej jednej zostavy zdrojov žiarenia.
13. Systém spracovania tekutín podlá nároku 12, vyznačujúci sa tým, že čistiace prvky zahrňujú čistiace objímky obklopujúce najmenej jednu zostavu zdrojov žiarenia, tieto čistiace obaly sú mobilné medzi vtiahnutou polohou, kedy prvá časť zmienenej najmenej jednej zostavy zdrojov žiarenia je obrátená k toku tekutiny a odtiahnutou polohou, kedy táto prvá časť najmenej jedného zdroja žiarenia je zakrytá čistiacou objímkou.
14. Systém spracovania tekutín podlá nároku 13, vyznačujúci sa tým, že čistiace objímky obsahujú komoru obklopujúcu a dotýkajúcu sa vonkajška aspoň jednej zostavy zdrojov žiarenia, táto komora je naplnená čistiacim roztokom vhodným na odstránenie nežiaducich materiálov z vonkajšku tejto aspoň jednej zostavy zdrojov žiarenia.
15. Systém spracovania tekutín podlá nároku 14, vyznačujúci sa tým, že čistiaca objímka zahrňuje tesnenie medzi vonkajškom povrchu aspoň jednej zostavy zdroja žiarenia a čistiacou objímkou, tento uzáver odstraňuje časť nežiaducich materiálov z povrchu aspoň jednej zostavy zdrojov žiarenia, kde táto čistiaca objímka je pohyblivá medzi vtiahnutou a odtiahnutou polohou.
16. Systém spracovania tekutín podlá nároku 14, vyznačujúci sa tým, že dodávka čistiaceho roztoku je stlačená v tejto čistiacej objímke a čistiaca objímka je zvýšená do danej odtiahnutej polohy týmto tlakom.
17. Systém spracovania tekutín podlá nároku 16, vyznačujúci sa tým, že čistiaca objímka je vtiahnutá do vtiahnutej polohy odstránením stlačeného čistiaceho roztoku z čistiaceho obalu.
18. Systém spracovania tekutín podlá nároku 6, vyznačujúci sa tým, že obsahuje prvú zostavu zdroja žiarenia umiestnenú vyššie proti prúdu a dosahujúcu do ožarovacej zóny a druhú zostavu zdrojov žiarenia umiestnenú dole po prúde a dosahujúcu do ožarovacej zóny.
19. Modul zdroja žiarenia na použitie v systémoch spracovania tekutín obsahuje:
nosný člen, aspoň jednu zostavu zdrojov žiarenia zostavenú na tomto nosnom člene, a upevňujúce prvky na pripojenie zdrojového modulu žiarenia v systéme spracovania tekutín.
20. Modul zdroja žiarenia podlá nároku 19, vyznačujúci sa tým, že úvodný a nosný člen dosahuje od tohto nosného člena do väčšieho priestranstva ako zmienený najmenej jeden zdroj žiarenia.
21. Modul zdroja žiarenia podlá nároku tým, že aspoň jedna zostava zdrojov ultrafialový zdroj.
19, vyznačujúci sa žiarenia obsahuje
22. Modul zdroja žiarenia podlá nároku 20, vyznačujúci sa tým, že zostava zdrojov žiarenia ďalej obsahuje objímku okolo ultrafialového zdroja na zaistenie izolačnej medzery medzi ultrafialovým zdrojom a tekutinou.
23. Modul zdroja žiarenia podlá nároku 19, vyznačujúci sa tým, že nosný člen zahrňuje rúrkové prvky, cez ktoré je zaistená dodávka elektrickej energie do zostavy zdrojov žiarenia.
24. Modul zdroja žiarenia podlá nároku 21, vyznačujúci sa tým, že do každého nosného člena sú napojené aspoň dva z ultrafialových zdrojov.
25. Čistiace zariadenie pre zostavu zdrojov žiarenia v systéme spracovania tekutín obsahujúce: čistiacu objímku činnú na časti vonkajška zostavy zdrojov žiarenia a pohyblivú medzi vtiahnutou polohou, v ktorej prvá časť zdroja žiarenia je vystavená toku spracovávanej tekutiny, a odtiahnutou polohou, v ktorej táto prvá časť zostavy zdrojov žiarenia je celkovo alebo čiastočne zakrytá touto čistiacou objímkou, ktorá obsahuje komoru stýkajúcu sa s touto prvou časťou zostavy zdrojov žiarenia a naplnenú čistiacim roztokom vhodným na odstránenie nežiaducich materiálov zo zmienenej prvej časti.
26. Čistiace zariadenie podía nároku 25, vyznačujúce sa tým, že obsahuje aspoň jedno tesnenie medzi vonkajškom povrchu zostavy zdrojov žiarenia a čistiacou objímkou, táto najmenej jedna objímka odstraňuje časť z nežiaducich materiálov z vonkajška zostavy zdrojov žiarenia pohyblivým medzi vtiahnutou a odtiahnutou polohou.
27. Čistiace zariadenie podía nároku 25, vyznačujúce sa tým, že dodávaný čistiaci roztok je stlačený do čistiacej objímky a čistiaca objímka je zvýšená týmto tlakom do odtiahnutej polohy.
28. Čistiace zariadenie podía nároku 26, vyznačujúce sa tým, že čistiaca objímka je posunutá do vtiahnutej polohy odstránením zmieneného stlačeného čistiaceho roztoku z čistiacej objímky.
29. Čistiace zariadenie podía nároku 25, vyznačujúce sa tým, že čistiaca objímka je viazaná k časti vonkajška aspoň dvoch zostáv zdrojov žiarenia.
30. Čistiace zariadenie podía nároku 29, vyznačujúce sa tým, že čistiaca objímka je napojená k najmenej jednému prvku pohybu čistiacej objímky medzi vtiahnutou a odtiahnutou polohou.
31. Čistiace zariadenie podía nároku 30, vyznačujúce sa tým, že aspoň jeden prvok pohybu je hydraulicky obsluhovaný.
32. Čistiace zariadenie podía nároku 30, vyznačujúce sa tým, že aspoň jeden prvok pohybu je obsluhovaný pneumaticky.
33. Spôsob spracovania tekutiny obsahujúci tieto kroky:
(i) zaistenie prívodu toku kvapaliny spádom do prítoku tekutiny, (ii) prevedenie toku kvapaliny z prítoku tekutiny do ožarovacej zóny obsahujúcej najmenej jeden zdroj žiarenia a majúcej uzatváratelný priečny rez, (iii) uzatvorenie toku tekutiny v medziach vopred určenej maximálnej vzdialenosti do aspoň jedného zdroja žiarenia, (iv) vystavenie toku tekutiny ožiarenia zo zdroja žiarenia a (v) privedenie toku tekutiny z kroku (iv) k odtoku kvapaliny.
34. Spôsob podlá nároku 33, vyznačujúci sa tým, že tok tekutiny má prvú rýchlosť pri prítoku tekutiny, druhú rýchlosť v ožarovacej zóne a tretiu rýchlosť pri odtoku tekutiny.
35. Spôsob podlá nároku 34, vyznačujúci sa tým, že druhá rýchlosť je väčšia ako najmenej jedna z prvých rýchlostí a ako tretia rýchlosť.
36. Spôsob podlá nároku 34, vyznačujúci sa tým, že druhá rýchlosť je väčšia ako obidve prvé rýchlosti a ako tretia rýchlosť.
37. Spôsob podlá nároku 36, vyznačujúci sa tým, že tretia rýchlosť je v podstate rovnaká ako prvá rýchlosť.
38. Spôsob podlá nároku 36, vyznačujúci sa tým, že kroku (ii) predchádza prijatie toku tekutiny do prechodovej zóny, ktorá zvýši rýchlosť na svojom odtoku.
39. Spôsob podlá nároku 36, vyznačujúci sa tým, že kroku (v) predchádza prijatie toku tekutiny do prechodovej zóny, ktorá zníži rýchlosť na svojom odtoku.
40. Spôsob na odstránenie škodlivých materiálov zo zdroja žiarenia na mieste v systéme spracovania tekutiny obsahujúci tieto kroky:
(i) zaistenie dodávky čistiacej tekutiny do čistiacej komory, (ii) premiestnenie čistiacej komory ku kontaktu aspoň s časťou zdroja žiarenia na vopred vymedzenú dobu, čistiaca komora udržiava čistiacu tekutinu v kontakte s touto časťou, (iii) odstránenie čistiacej komory z kontaktu s častou zdroja žiarenia po uplynutí vopred vymedzenej doby.
41. Spôsob podlá nároku 40, vyznačujúci sa tým, že čistiaca komora zahrňuje tesniaci člen v klznom styku s vyššie zmienenou časťou a obmetá túto časť kvôli ďalšiemu odstráneniu škodlivých materiálov, pričom zmienená čistiaca komora sa pohybuje k styku s touto časťou naopak od nej.
42. Spôsob podlá nároku 40, vyznačujúci sa tým, že čistiaca komora sa zároveň stýka s podobnou časťou najmenej dvoch zdrojov žiarenia.
43. Spôsob podlá nároku 40, vyznačujúci sa tým, že čistiaca komora je v podstate súvisle tlakovaná čistiacou tekutinou a obsahuje vnútorné tryskové prvky na odstránenie škodlivých materiálov zo zdroja žiarenia.
44. Spôsob podlá nároku 40, vyznačujúci sa tým, že čistiaca komora je držaná nehybne a zdroj žiarenia sa pohybuje primerane na dosiahnutie odstránenia škodlivých materiálov zo zdroja žiarenia.
45. Spôsob podlá nároku 40, vyznačujúci sa tým, že čistiaca komora ďalej obsahuje zadrhávajúce prvky na zvýšenie trenia so zdrojom žiarenia a počas styku s čistiacou komorou.
46. Zostava čidiel žiarenia obsahujúca: kryt čidla, prostriedky prenosu žiarenia vo vnútri tohto krytu vrátane časti určenej na ožiarenie zdroja žiarenia, čidlo žiarenia zachytávajúce žiarenie zo zmienených prvkov prenosu, a prostriedky na odstránenie materiálov poškodzujúcich zmienenú časť.
47. Zostava čidiel žiarenia podía nároku 46, vyznačujúca sa tým, že tieto prvky na odstránenie materiálov obsahujú trysku na nasmerovanie na zmienenú časť.
Zoznam vzťahových značiek modul zdroja žiarenia rameno rámu zostava UV lámp rúrka systém hlavné teleso rúrka zóna na úpravu stredná časť naklonená časť naklonená časť základňa stredná časť naklonená časť naklonená časť ožarovacia zóna zdrojový modul žiarenia hladinová priepust čidlo žiarenia hladinové čidlo nosné rameno nosný člen spojovací box zdrojová zostava žiarenia zdroj žiarenia obj ímka prstencová vložka objímková rúrka kryt trecia tesniaca zátka krúžkové tesnenie tvaru O prstencová rozperka krúžkové tesnenie tvaru O
212
216
220
224
228
232
234
236
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/026,572 US5418370A (en) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | Fluid treatment system and process |
PCT/CA1994/000125 WO1994020208A1 (en) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Fluid treatment system and process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SK109195A3 true SK109195A3 (en) | 1996-04-03 |
Family
ID=21832576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SK1091-95A SK109195A3 (en) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Fuid treatment system and process |
Country Status (28)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5418370A (sk) |
EP (3) | EP0811579B1 (sk) |
JP (1) | JPH08509905A (sk) |
KR (3) | KR100330268B1 (sk) |
CN (1) | CN1081947C (sk) |
AT (3) | ATE247603T1 (sk) |
AU (1) | AU6153194A (sk) |
BR (1) | BR9406347A (sk) |
CA (1) | CA2117040C (sk) |
CO (3) | CO4910176A1 (sk) |
CZ (1) | CZ226495A3 (sk) |
DE (3) | DE69408441T2 (sk) |
DK (1) | DK0687201T3 (sk) |
ES (3) | ES2115937T3 (sk) |
FI (1) | FI954134A (sk) |
HU (1) | HU215737B (sk) |
IL (1) | IL108709A (sk) |
MY (1) | MY112388A (sk) |
NO (1) | NO310139B1 (sk) |
NZ (1) | NZ262088A (sk) |
PH (1) | PH31690A (sk) |
PL (3) | PL177739B1 (sk) |
PT (1) | PT1094035E (sk) |
RO (1) | RO114754B1 (sk) |
SK (1) | SK109195A3 (sk) |
TW (2) | TW317558B (sk) |
WO (1) | WO1994020208A1 (sk) |
ZA (1) | ZA941096B (sk) |
Families Citing this family (87)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5418370A (en) * | 1993-03-05 | 1995-05-23 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid treatment system and process |
USRE36896E (en) * | 1993-03-05 | 2000-10-03 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and process |
US5539209A (en) * | 1994-10-17 | 1996-07-23 | Trojan Technologies Inc. | Method of cleaning fouling materials from a radiation module |
US5792433A (en) * | 1995-03-13 | 1998-08-11 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps |
US5937266A (en) * | 1996-03-08 | 1999-08-10 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism |
US5874740A (en) * | 1996-03-14 | 1999-02-23 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
USRE39522E1 (en) * | 1996-03-14 | 2007-03-20 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
DE19653083B4 (de) * | 1996-12-19 | 2005-09-08 | Wedeco Ag Water Technology | Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung |
US6013917A (en) * | 1997-03-12 | 2000-01-11 | Photoscience Japan Corporation | UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes |
AU9031798A (en) | 1997-08-22 | 1999-03-16 | Richard C. Morlock | Sensor housing for uv curing chamber |
WO1999014161A1 (de) * | 1997-09-18 | 1999-03-25 | Wedeco Uv-Verfahrenstechnik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur uv-bestrahlung flüssiger medien, insbesondere von vorgereinigtem abwasser |
US6015229A (en) * | 1997-09-19 | 2000-01-18 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for improved mixing in fluids |
FR2768718B1 (fr) * | 1997-09-24 | 1999-12-10 | Amenagement Urbain & Rural | Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide |
AUPP158098A0 (en) | 1998-01-29 | 1998-02-26 | Arnold, Geoffery Peter | Laser alignment apparatus and method |
AU691786B3 (en) * | 1998-02-03 | 1998-05-21 | Kenneth Ray Bryer | An apparatus for treating a liquid |
US6342188B1 (en) * | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
EP1016630B1 (de) * | 1998-12-30 | 2005-12-28 | Wedeco AG | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung, insbesondere zur Desinfektion von strömenden Flüssigkeiten mit verminderter UV-Transmission |
US6193938B1 (en) * | 1999-03-17 | 2001-02-27 | Wedeco Ag Water Technology | Device for treating liquids with UV-radiation |
US6217834B1 (en) * | 1999-04-19 | 2001-04-17 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
AU4906000A (en) * | 1999-05-28 | 2000-12-18 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
US6863078B1 (en) | 1999-05-28 | 2005-03-08 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
EP1198419B1 (en) * | 1999-06-04 | 2004-03-03 | Henry Kozlowski | Apparatus and method for ultraviolet light treatment of fluids |
DE60019306T2 (de) * | 1999-08-13 | 2006-03-09 | Trojan Technologies Inc., London | Reinigungsvorrichtung für anlage zur behandlung von flüssigkeiten |
US6830697B1 (en) * | 1999-09-03 | 2004-12-14 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module |
CA2386220C (en) * | 1999-10-01 | 2007-05-08 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system with cleaning device |
EP1248943A1 (en) | 1999-12-06 | 2002-10-16 | Trojan Technologies Inc. | An on-line device for predicting at least one fluid flow parameter in a process |
CA2394345C (en) | 1999-12-17 | 2007-04-24 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system |
CN1244377C (zh) | 1999-12-17 | 2006-03-08 | 特洛伊人技术公司 | 照射源模块 |
AU2001228238A1 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-07 | Trojan Technologies Inc. | Radiation source module |
DE10010127B4 (de) * | 2000-03-03 | 2007-12-13 | Wedeco Ag Water Technology | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser |
US6580019B1 (en) | 2000-03-09 | 2003-06-17 | Dekalb Genetics Corporation | Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants |
US6750379B2 (en) | 2000-03-09 | 2004-06-15 | Dekalb Genetics Corporation | Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants |
CA2306546C (en) | 2000-04-20 | 2006-06-27 | Photoscience Japan Corporation | Tube scraper |
CN1182043C (zh) * | 2000-06-06 | 2004-12-29 | 特洛伊人技术公司 | 流体混合装置 |
FR2815271B1 (fr) * | 2000-10-16 | 2003-01-17 | Bordas Sarl | Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv |
CN1481337A (zh) * | 2000-12-15 | 2004-03-10 | 特洛伊人技术公司 | 流体处理系统和用于其中的辐射源标准组件 |
US6596542B1 (en) * | 2001-01-08 | 2003-07-22 | Christopher R. Schulz | Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors |
US6940075B2 (en) * | 2001-03-15 | 2005-09-06 | Christopher R. Schulz | Ultraviolet-light-based disinfection reactor |
US6649917B2 (en) * | 2001-05-30 | 2003-11-18 | Ondeo Degremont | Cleaning system for UV disinfection module/reactor |
DE10129178A1 (de) * | 2001-06-19 | 2003-01-02 | Wedeco Ag | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer |
US6663318B2 (en) | 2001-08-03 | 2003-12-16 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid level control system |
US6719491B2 (en) | 2001-08-03 | 2004-04-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid level control system |
US7419642B2 (en) * | 2002-05-07 | 2008-09-02 | Ultravation, Inc. | Fluid disinfection apparatus |
US20050069463A1 (en) * | 2002-05-07 | 2005-03-31 | Kurtz Mark E. | Fluid disinfection apparatus |
US20030230477A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Fink Ronald G. | Environmental air sterilization system |
GB2389848B (en) * | 2002-06-17 | 2006-02-08 | Hanovia Ltd | UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus |
US6956220B2 (en) * | 2002-06-19 | 2005-10-18 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation sources module for use therein |
US6784440B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-31 | Boc, Inc. | Food sanitizing cabinet |
US20040056201A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-25 | Fink Ronald G. | Food surface sanitation hood |
US20040140812A1 (en) * | 2003-01-21 | 2004-07-22 | Ademir Scallante | Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies |
US7160566B2 (en) | 2003-02-07 | 2007-01-09 | Boc, Inc. | Food surface sanitation tunnel |
EP1673599A4 (en) * | 2003-09-29 | 2009-08-05 | Trojan Techn Inc | RADIATION SENSOR DEVICE AND RADIATION SOURCE MODULE CONTAINING THE DEVICE |
CN100571788C (zh) * | 2004-03-12 | 2009-12-23 | 特洛伊人技术公司 | 流体处理系统 |
EP3111963B1 (en) | 2004-03-12 | 2021-01-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system comprising elongate radiation source assemblies |
US7476312B2 (en) * | 2004-04-15 | 2009-01-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
WO2005100956A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid |
US8038949B2 (en) * | 2004-09-02 | 2011-10-18 | Purgenix, Inc. | Ultraviolet germicidal irradiation system |
WO2006047495A2 (en) | 2004-10-21 | 2006-05-04 | Venganza Inc | Methods and materials for conferring resistance to pests and pathogens of plants |
US7159264B2 (en) * | 2004-12-10 | 2007-01-09 | Calgon Carbon Corporation | Scraper for cleaning tubular members |
US20080274369A1 (en) * | 2005-04-21 | 2008-11-06 | Lee Eal H | Novel Ruthenium-Based Materials and Ruthenium Alloys, Their Use in Vapor Deposition or Atomic Layer Deposition and Films Produced Therefrom |
US7241380B2 (en) * | 2005-06-15 | 2007-07-10 | Reiling Dennis R | Ultraviolet treatment unit and septic tank system |
US8663575B2 (en) * | 2005-08-19 | 2014-03-04 | Canadian Blood Services | Sample holder for dynamic light scattering |
CA2621301C (en) * | 2005-08-31 | 2013-04-30 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
EP1979006A4 (en) * | 2005-12-21 | 2011-05-25 | Trojan Techn Inc | LIQUID TREATMENT SYSTEM |
WO2008019490A1 (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Trojan Technologies | Fluid treatment system |
US7507973B2 (en) * | 2006-11-02 | 2009-03-24 | Calgon Carbon Corporation | UV treatment reactor |
AU2007317148B2 (en) | 2006-11-06 | 2013-07-18 | Trojan Technologies | Fluid treatment system |
US8529770B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-09-10 | Water Of Life, Llc. | Self-contained UV-C purification system |
US7862728B2 (en) | 2007-09-27 | 2011-01-04 | Water Of Life, Llc. | Ultraviolet water purification system |
US8557050B1 (en) * | 2008-10-31 | 2013-10-15 | Genefluidics, Inc. | System for washing a sensor structure |
MX2011005391A (es) * | 2008-11-26 | 2011-08-03 | Calgon Carbon Corp | Metodo y aparato para el uso de elementos de mezclado en un sistema de desinfeccion uv de aguas residuales/aguas recicladas. |
CN102369164B (zh) * | 2009-04-07 | 2013-07-31 | 特洁安科技有限公司 | 辐射源模块和流体处理系统 |
AU2010268722A1 (en) * | 2009-07-02 | 2012-01-19 | Trojan Technologies | Radiation source assembly |
KR20120054597A (ko) * | 2009-07-23 | 2012-05-30 | 트로잔 테크놀로지스 | 세정 장치, 복사선 소스 모듈 및 유체 처리 시스템 |
US8182613B2 (en) * | 2009-08-04 | 2012-05-22 | University Corporation For Atmospheric Research | Radiometer including a cleaning system |
DE102009039655B3 (de) | 2009-09-02 | 2011-03-31 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung |
DE102009039654A1 (de) * | 2009-09-02 | 2011-03-03 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung mit berührungsloser Reinigung |
US20120318376A1 (en) | 2009-11-12 | 2012-12-20 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system |
US20120043223A1 (en) * | 2010-08-18 | 2012-02-23 | David Sherzer | Water treatment method |
EP2651550B1 (en) | 2010-12-16 | 2021-04-14 | Trojan Technologies | Radiation source module and fluid treatment system |
CA2861879A1 (en) | 2012-01-20 | 2013-07-25 | Trojan Technologies | Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same |
EP2817105B1 (en) | 2012-02-23 | 2019-04-10 | Trojan Technologies | Radiation source cleaning system and module containing same |
CN105451901A (zh) | 2012-12-07 | 2016-03-30 | 特洁安技术公司 | 清洁装置 |
JP6535004B2 (ja) | 2013-08-29 | 2019-06-26 | クリスタル アイエス,インコーポレーテッドCrystal Is,Inc. | 紫外線の均一分散の液体処理の装置及び方法 |
EP3602024A4 (en) | 2017-03-21 | 2020-11-18 | Hayward Industries, Inc. | SYSTEMS AND PROCEDURES FOR HYGIENIZATION OF SWIMMING POOL AND SPA WATER |
US11472727B2 (en) | 2017-06-09 | 2022-10-18 | Hayward Industries, Inc. | Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit |
MX2023004815A (es) | 2020-11-14 | 2023-05-10 | Mark Anthony Int Srl | Metodos para esterilizar bebidas fermentadas. |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR421296A (fr) * | 1910-10-10 | 1910-12-17 | Marius Paul Otto | Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets |
FR16732E (fr) * | 1911-04-11 | 1913-04-08 | Paul Gabriel Triquet | Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure productrices de rayons ultra-violets et autres |
US2413704A (en) * | 1944-12-04 | 1947-01-07 | Art Metal Company | Ultraviolet sterilizer |
US2670439A (en) * | 1950-07-05 | 1954-02-23 | Hanovia Chemical & Mfg Co | Apparatus for irradiating liquids |
DE855521C (de) * | 1950-12-28 | 1952-11-13 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten |
US3061721A (en) * | 1960-01-19 | 1962-10-30 | Brenner Al | Automatic tube cleaning device |
US3182193A (en) * | 1962-01-03 | 1965-05-04 | Ultra Dynamics Corp | Electronically monitored liquid purification or sterilizing system |
US3182191A (en) * | 1963-02-14 | 1965-05-04 | Puretest Water Purifier Co | Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source |
US3140054A (en) * | 1963-04-25 | 1964-07-07 | Oharenko Vladimir | Safety inspection light |
US3462597A (en) * | 1966-07-29 | 1969-08-19 | Ultra Dynamics Corp | Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means |
US3456107A (en) * | 1967-05-16 | 1969-07-15 | Aquacare Intern Ltd | Water sterilizing apparatus |
US3562520A (en) * | 1968-11-04 | 1971-02-09 | Puretest Water Purifying Co | Fail-safe water purifying apparatus |
US3637342A (en) * | 1969-05-07 | 1972-01-25 | Louis P Veloz | Sterilization of fluids by ultraviolet radiation |
US3837800A (en) * | 1971-05-06 | 1974-09-24 | Meltzer H | Method and apparatus for purifying fluids |
DE2300273C3 (de) * | 1972-01-07 | 1982-05-06 | Toray Industries, Inc., Tokyo | Vorrichtung für Abwasserreinigung |
DE2213658C3 (de) * | 1972-03-21 | 1974-08-15 | Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) | Wasserentkeimungsanlage |
CA951135A (en) * | 1972-08-23 | 1974-07-16 | Wolfgang Scherrelies | Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer |
US3948772A (en) * | 1975-04-16 | 1976-04-06 | Sidney Ellner | Split stream ultraviolet purification device |
US4103167A (en) * | 1976-08-16 | 1978-07-25 | Sidney Ellner | Ultraviolet liquid purification system |
US4255663A (en) * | 1977-03-24 | 1981-03-10 | Lewis James H | Disposable liquid sterilizer unit |
US4204956A (en) * | 1978-10-02 | 1980-05-27 | Flatow Robert E | Water purification system |
US4205956A (en) * | 1979-05-21 | 1980-06-03 | The International Nickel Company, Inc. | Nickel carbonyl analyzer |
US4367410A (en) * | 1979-07-09 | 1983-01-04 | Pure Water Systems, Inc. | Waste purification apparatus and method |
IT1123509B (it) * | 1979-07-31 | 1986-04-30 | Vighi Temistocle | Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento |
US4296328A (en) * | 1980-02-11 | 1981-10-20 | Regan Michael D | Apparatus for producing high purity water |
US4400270A (en) * | 1980-04-18 | 1983-08-23 | Adco Aerospace, Inc. | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
US4490777A (en) * | 1981-06-25 | 1984-12-25 | Tanner Stephen E | Selective color illumination device for electronic drafting tables |
DE3126127A1 (de) * | 1981-07-02 | 1983-01-20 | Christoph Dr. 6500 Mainz Franz | Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes |
US4435744A (en) * | 1981-08-10 | 1984-03-06 | Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. | Explosion-proof fluorescent light fixture |
US4471225A (en) * | 1981-11-09 | 1984-09-11 | Adco Aerospace | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
CA1163086A (en) * | 1981-11-30 | 1984-03-06 | Jan Maarschalkerweerd | Ultraviolet fluid purifying device |
US4467206A (en) * | 1981-12-14 | 1984-08-21 | Extracorporeal Medical Specialties, Inc. | Method and apparatus for the irradiation of fluids |
NL8300115A (nl) * | 1983-01-13 | 1984-08-01 | Philips Nv | Bestralingsinrichting. |
FI841491A (fi) * | 1983-04-25 | 1984-10-26 | Christian Lumpp | Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning. |
US4535247A (en) * | 1983-07-11 | 1985-08-13 | Kurtz Mark E | Water sterilization system |
DE3441535A1 (de) * | 1984-11-14 | 1986-06-26 | Erich 7632 Friesenheim Rasche | Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung |
US4700101A (en) * | 1985-02-07 | 1987-10-13 | Sidney Ellner | Elongated tubular lamp construction |
JPS61230203A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-14 | 東芝ライテック株式会社 | ランプユニツト |
US4757205A (en) * | 1986-06-10 | 1988-07-12 | Arlat Inc. | Ultraviolet water treatment apparatus |
US4755292A (en) * | 1986-08-11 | 1988-07-05 | Merriam Theodore D | Portable ultraviolet water sterilizer |
US4767932A (en) * | 1986-09-26 | 1988-08-30 | Ultraviolet Purification System, Inc. | Ultraviolet purification device |
JPS63153469U (sk) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | ||
US4897246A (en) * | 1988-09-13 | 1990-01-30 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US4872980A (en) * | 1988-09-13 | 1989-10-10 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US5006244A (en) * | 1988-09-13 | 1991-04-09 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4952376A (en) * | 1988-09-13 | 1990-08-28 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US4968489A (en) * | 1988-09-13 | 1990-11-06 | Peroxidation Systems, Inc. | UV lamp enclosure sleeve |
US4922114A (en) * | 1989-06-01 | 1990-05-01 | Hilary Boehme | Wiper mechanism |
US5227140A (en) * | 1990-04-13 | 1993-07-13 | Peroxidation Systems, Inc. | Modular self-cleaning oxidation chamber |
US5019256A (en) * | 1990-10-19 | 1991-05-28 | Fischer & Porter Company | Ultraviolet lamp rack assembly |
JPH04190887A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-09 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 紫外線殺菌装置およびその浄化方法 |
US5124131A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-23 | Ultraviolet Energy Generators, Inc. | Compact high-throughput ultraviolet processing chamber |
JPH0663533A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-03-08 | Gastar Corp | 温水殺菌方法および殺菌装置 |
US5418370A (en) * | 1993-03-05 | 1995-05-23 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid treatment system and process |
US5266215A (en) * | 1993-04-27 | 1993-11-30 | Rolf Engelhard | Water purification unit |
-
1993
- 1993-03-05 US US08/026,572 patent/US5418370A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-05 TW TW082101619A patent/TW317558B/zh active
- 1993-03-05 TW TW084110974A patent/TW360619B/zh active
-
1994
- 1994-02-17 ZA ZA941096A patent/ZA941096B/xx unknown
- 1994-02-18 IL IL108709A patent/IL108709A/en not_active IP Right Cessation
- 1994-02-18 PH PH47784A patent/PH31690A/en unknown
- 1994-02-28 CO CO94007900A patent/CO4910176A1/es unknown
- 1994-03-03 MY MYPI94000502A patent/MY112388A/en unknown
- 1994-03-04 AT AT01100934T patent/ATE247603T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 JP JP6519423A patent/JPH08509905A/ja not_active Ceased
- 1994-03-04 EP EP97112786A patent/EP0811579B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 CA CA002117040A patent/CA2117040C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 AT AT94908240T patent/ATE162956T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 HU HU9502580A patent/HU215737B/hu not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 RO RO95-01563A patent/RO114754B1/ro unknown
- 1994-03-04 WO PCT/CA1994/000125 patent/WO1994020208A1/en not_active Application Discontinuation
- 1994-03-04 AT AT97112786T patent/ATE203492T1/de active
- 1994-03-04 CZ CZ952264A patent/CZ226495A3/cs unknown
- 1994-03-04 KR KR1019950703725A patent/KR100330268B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 US US08/318,858 patent/US5590390A/en not_active Ceased
- 1994-03-04 PL PL94325048A patent/PL177739B1/pl unknown
- 1994-03-04 DE DE69408441T patent/DE69408441T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 NZ NZ262088A patent/NZ262088A/en unknown
- 1994-03-04 EP EP01100934A patent/EP1094035B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 KR KR1020017011077A patent/KR100360320B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 ES ES94908240T patent/ES2115937T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 DE DE69427834T patent/DE69427834T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 DE DE69433069T patent/DE69433069T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 SK SK1091-95A patent/SK109195A3/sk unknown
- 1994-03-04 ES ES97112786T patent/ES2163695T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 EP EP94908240A patent/EP0687201B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 KR KR10-2001-7011078A patent/KR100418308B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 PT PT01100934T patent/PT1094035E/pt unknown
- 1994-03-04 PL PL94310528A patent/PL177782B1/pl unknown
- 1994-03-04 CN CN94191814A patent/CN1081947C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 AU AU61531/94A patent/AU6153194A/en not_active Abandoned
- 1994-03-04 PL PL94325049A patent/PL177744B1/pl unknown
- 1994-03-04 DK DK94908240T patent/DK0687201T3/da active
- 1994-03-04 ES ES01100934T patent/ES2206355T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 BR BR9406347A patent/BR9406347A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-06-20 CO CO94026651A patent/CO4180401A1/es unknown
- 1994-06-20 CO CO94026648A patent/CO4180400A1/es unknown
-
1995
- 1995-05-22 US US08/445,767 patent/US5539210A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-01 NO NO19953451A patent/NO310139B1/no not_active IP Right Cessation
- 1995-09-04 FI FI954134A patent/FI954134A/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SK109195A3 (en) | Fuid treatment system and process | |
USRE36896E (en) | Fluid treatment system and process | |
US6500346B1 (en) | Fluid treatment device and method for treatment of fluid | |
EP1159225B1 (en) | Radiation source module and cleaning apparatus therefor | |
FI91544B (fi) | Paperimassan käsittelylaite ja menetelmä paperimassan käsittelyn suorittamiseksi | |
CA2349199C (en) | Radiation source module and cleaning apparatus therefor | |
US6642527B2 (en) | UV radiation device for treating fluids with a simplified radiation chamber | |
US20020113021A1 (en) | Fluid treatment system and radiation sources module for use therein | |
US6863078B1 (en) | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor | |
CA2239925C (en) | Fluid treatment system and process | |
US6269833B1 (en) | Spent fuel pool anti-siphon system | |
CA2286309C (en) | Fluid treatment system and process | |
AU747728B2 (en) | Fluid treatment system and process | |
CA2338879C (en) | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor | |
KR101681133B1 (ko) | 연결관을 차단하는 취수탑의 수문 보수용 차단장치 | |
AU2923002A (en) | Fluid treatment system and process | |
KR101682110B1 (ko) | 수직형 취수탑의 수문을 대신하는 보수용 차단장치 |