CN1121320A - 流体处理系统和方法 - Google Patents

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Abstract

一种流体处理系统，包括一个或多个排列在处理区内的辐照区中的辐射源，要处理的流体通过处理区并接受辐照。辐照区有一个闭合的横截面以将流体保持在距辐射源预定的最大距离之内。优选辐照区包括一个减小的垂直于流体流动方向的截面，从而可以提高流体流过辐射区时的速度。这样使得流体以较低的速度进入处理区而以较高的速度通过辐照区，再以较低的速度流出处理区，以尽量减少整个系统的压头损失。进入处理区的流体在进入辐射区之前先通过截面面积减少的进口过渡区，且出辐照区的流体通过一个截面面积增加的出口过渡区。每个过渡区都设计成当流体流速增加或减少时降低压头损失。在辐照区，辐射源被安装在辐射组件上，辐射组件的排列方式提高了维修的便利。辐射组件也可以拥有清洗组合件，当辐射源在辐照区中时清洗组合件能够原位清除污染辐射源的物质。

Description

流体处理系统和方法
技术领域
本发明涉及一种通过将重力进料流体物流供入到一个辐照区的流体处理的方法，该辐照区包括至少一个辐射源并具有一个闭合的截面以将流体物流限制在距所述至少一个辐射源的预定最大的距离之内。
本发明也涉及一种清洗位于流体物流中的辐射源组合件(radiation source assembly)的新方法，其中辐射源的外面使用包括一种合适的清洗流体的清洗部件清扫。
本发明还涉及一种通过将流体暴露于辐射而处理流体的新系统。具体地说，本发明涉及一种新颖的用于流体处理的重力进料系统，它包括一个处理区，处理区又包括一个相对于辐射源其构型可提供固定流体形状的辐照区。
本发明还涉及一种用于流体处理系统的新颖辐射源组件(radiation source module)。具体地说，该组件包括连接到支撑部件上的一个或多个辐射源组合件，且支撑部件设计成可使得当系统正在使用时，也可将该组件插入处理系统中和从中取出。该组件被设计成当辐射源组合件被安装或移出时不与该系统处理区中的各个表面接触。
本发明还涉及用于流体处理系统的一种新颖的清洗装置。具体地说，该清洗装置包括一个或多个可以清洗流体处理系统内的辐射源组合件的外表的清洗部件，这些清洗部件中含有合适的清洗流体，清洗流体与辐射源组合件的外表接触，松动和/或清除污染辐射源组合件外表的物质。背景技术
流体处理系统是众所周知的。例如，USP4,482,809、4,872,980和5,006,244(转让给本发明受让者，其每一份的内容在此都作为参考文献)都描述了使用紫外辐射(UV)的重力进料流体处理系统。
这些系统都包括一排UV灯架，其中包括几个UV灯，每个UV灯都装在灯架的两个支撑臂之间的套内。灯架浸没在要处理的流体中，需要时进行辐照。流体受到的辐射量通过流体接近于灯的程度、灯的输出功率以及流体通过灯时的流动速度确定。使用一个或多个UV传感器检测灯的UV输出，在某种程度上，一般通过液面阀或类似装置在处理装置下游控制流体液面。在重力进料系统中，由于在较高的流动速度下难以精确地控制液面，因此，流体液面的波动是不可避免的。这样的波动可能导致处理的流体辐照不均匀。
然而，上面描述的系统中存在各种缺点。依据处理的流体的特性，环绕各UV灯的套会周期性地被外来物质污染，抑制了其将UV辐射传到流体的能力。当套被污染后，必须进行人工清洗以清除污染物质，其清洗间隔可以根据以往的操作数据确定，也可以通过UV传感器进行测量确定。
如果这些UV灯架用于一个开放的类似渠的系统中，当系统连续操作时，可以移出一个或多个架，并且将移出的架浸泡在合适的酸性清洗溶液浴中，用空气搅动以清除污染物质。当然，必须提供富余的或备用的UV辐射源(通常包括额外的UV灯架)以保证当一个或多个架被移出进行清洗时被处理的流体仍然有合适的辐照。当然这需要更多的UV容量，增加安装处理系统的费用。
另外还必须提供和拥有内部可置放UV灯架的含有清洗溶液的清洗槽。依据一次所清洗的灯架的数量和需要清洗的频率，这也可能显著增加处理系统的安装、维护和操作的费用。
如果灯架是一个密闭系统，从流体中移出灯架进行清洗是不现实的。在这种情况下，套的清洗必须通过暂停流体的处理来进行，关闭处理器的进口和出口阀，将处理器整个充满酸性清洗液并用空气搅动流体清除污染物。清洗这样一个密闭处理系统有很多缺点，如清洗进行时，处理系统必须停止，必须使用大量的清洗液充入处理系统内。存在的另一个问题是处理大量的酸性清洗流体是危险的，并且处理大量的用过的清洗流体是困难的和/或昂贵的。当然，开放的流动系统也面临这两个问题，尽管程度稍小一些。
的确，本发明者认为，一旦安装后，以前技术的流体处理系统其最大的维持成本之一通常是辐射源周围套的清洗成本。
上面描述的以前技术系统的另一个缺点是UV灯的输出。不幸的是在以前技术的系统中，UV灯要求是约5英尺长，以提供必要的UV辐射功率。而UV灯易碎，并需要在灯的每一端支撑。这也增加了系统的投资成本。
另外，由于在以前技术的系统中的有限的输出功率，通常需要大量的灯。例如，某种以前技术装置使用9000盏以上的灯。这样大量的灯提高了上述的清洗灯的成本以及维护(更换)灯的成本。本发明的公开
本发明的一个目的是提供一种通过辐照处理流体的新方法，该方法克服或缓和了至少一个上述的以前技术的缺点。
本发明的另一个目的是供一种新颖的流体处理系统，该系统克服或缓和了至少一个上述的以前技术的缺点。
根据本发明的一个方面，提供了处理流体的方法，包括下列步骤：
(i)将流体的重力进料物流提供到流体进口；
(ii)将流体物流从流体进口提供到包括至少一个辐射源并具有闭合横截面的辐照区；
(iii)将流体物流限制在距至少一个辐射源预定的最大距离之内；
(iv)将流体物流暴露于辐射源的辐照之下；
(v)将第(iv)步的流体物流提供到流体出口。
根据本发明的另一个方面，提供了在流体处理系统中原位从辐射源上清除污染物质的方法，包括下列步骤：
(i)将一种清洗流体提供到清洗室；
(ii)移动清洗室使其与辐射源的至少一部分结触预定的时间，所述清洗室保持所述清洗流体与所述部分接触；和
(iii)在所述预定时间以后，移动所述清洗室脱离与所述辐射源的所述部分的接触。
根据本发明的再一个方面，提供了重力进料流体处理系统，包括：流体进口、流体出口、置于流体进口和流体出口之间的辐照区，辐照区(i)包括至少一个辐射源，和(ii)具有一个闭合的横截面以使待处理的流体限制在距至少一个辐射源组合件预定的最大距离之内。
优选辐照区设置在包括进口过渡区和出口过渡区的流体处理区内。进口过渡区从流体进口接受流体物流并在其进入辐照区之前提高其流速。出口过渡区从辐照区接受流体物流并在其进入流体出口之前降低其流速。因此，流体流速仅仅在辐照区提高，从而降低了流体流过系统的压头损失。本专业技术人员会知道进口过渡区和出口过渡区中的一个或两个都可以由锥型部分构成(如下述)。“铃口”型的进口和出口也可以使用。两种情况下，其结果都是降低了压头损失。
根据本发明的另一个方面，提供了用于流体处理系统的辐射源组件，包括：支撑部件；至少一个从所述支撑部件伸展开的辐射源组合件；和将辐射源组件固定至流体处理系统的固定装置。
根据本发明的再一个方面，提供了用于流体处理系统中辐射源组合件的清洗装置，包括：与所述辐射源组合件的外表的一部分啮合的清洗套，清洗套可以在回缩位置和伸展位置之间运动，在回缩位置中所述辐射源的第一部分暴露于待处理的流体物流，而在伸展位置中所述辐射源组合件的所述第一部分完全或部分被所述清洗套覆盖，所述清洗套包括一个与所述辐射源组合件的所述第一部分接触的室，且供给以适于从所述第一部分清除不需要的物质的清洗液。
根据本发明的还一个方面，提供了辐射传感器组合件，包括：一个传感器壳；在所述壳内且包括暴露于辐射源的部分的辐射传导装置；从所述传导装置接受辐射的辐射传感器；和清除污染所述部分的物质的装置。
在此所用术语“重力进料”包括这样的系统，即流体的压头来自流体的高度变化。可以理解，这样的系统包括自然重力进料的系统和通过泵或其它机械装置改变流体的高度提供重力进料的系统。附图的简要描述
本发明的实施方案将参考附图进行描述，其中，
图1表示以前技术的流体处理装置的侧截面；
图2表示图1所示以前技术的流体处理装置的端面；
图3表示本发明的卧式流体处理系统的第一实施方案的侧截面；
图4表示用于图3系统的辐射源组件；
图5表示图4中A所指的区域的放大图；
图6表示用于图3系统的辐射源组件的另一个实施方案的一部分；
图7表示图6中B所指的区域的放大图；
图8表示本发明的立式流体处理系统的第二实施方案的侧截面；
图9表示辐射传感器组合件。
实施发明的最佳方式
为了清楚起见，在讨论本发明之前先对以前流体处理技术的装置做一简要描述。图1、2表示如USP4,482,809中描述的以前技术的处理装置。该装置包括了大量的辐射源组件20，其中每一个组件包括一对框架臂24以及在其间的若干UV灯组合件28。如图2所示，将大量的灯组件20以最大间距跨列在处理槽32中，各灯组件20之间的最大间距设成保证被处理的流体能够至少接受预定最小剂量的UV辐射。
该系统是成功的，然而如上所述它存在几个缺点，其中灯组件20的排列使该装置的维护需较高的劳动强度。尤其是更换灯和清洗灯周围的灯套费时且费用昂贵。另外，当灯移出时为了使处理还能够连续进行，必须提供富余的灯组件，以保证流体仍然受到预定最小剂量的辐射，从而增加了系统的成本。另外，依据流体的特性和它的流速，每单位被处理流体可能需要大量的灯和灯套。这一先前的工艺系统的另一个缺点是当流速较高时难以控制流体相对于灯组件20的液面高度。
因此，上述先前的工艺系统固然取得了成功，但本发明人已注意到改进流体处理系统以克服一些上述的缺点。下面将参考附图描述本发明。
现在参考图3，本发明的处理系统通常用100表示。系统100包括横跨安装在开放的流体槽108的主体104，这样流过槽108的所有流体都被导流通过处理区112。主体104可以是预制混凝土、不绣钢或其它的适用于所处理流体并能耐所采用的辐射的材质。
主体104的底面包括一个中心区116，中心区116分别沿着前斜面120和后斜面124向下延伸。相应的向上凸起的中心区132位于槽108的底面128上，在中心区116的下面，并分别包括前斜面136和后斜面140。中心区132可以是主体104的一部分，也可以是底面128的一部分(如所示)。
在图3中可以清楚看出，区116和132形成一个狭窄的辐照区144，而区120和136形成一个锥形进口过渡区，区124和140形成一个锥形出口过渡区。
很明显，辐照区144对要处理的流体提供闭合的截面。这样为流体提供了一个相对于辐射源(如后所述)的固定的几何形状，以保证流体受到来自辐射源的预定最小的辐射。本专业技术人员清楚，为了在离辐射源的最远点得到最大的处理效率，辐照区144的内壁可设计并成型为基本仿效辐射源组件148置于辐照区144内部分的外形。
主体104的至少一个上游面或下游面包括一个或多个装于其上的辐射源组件148。根据要处理的流体，提供的组件148的数量可以是单个上游组件148或是两个或多个组件148，横跨主体104的上游面和下游面。
优选主体104进一步包括伸进辐照区144的辐射传感器152和用于监控处理区112进口侧流体液面的流体液面传感器156。如本专业技术人员所知，如果系统中的流体液面低于流体液面传感器156，将会适宜地发生报警或关闭辐射源。将一个标准的流体液面控制阀门150装在主体104的下游以保持处理区112的最小流体液面。
如图4和图5所示，每一个辐射源组件148包括辐射源支撑臂160，水平支撑导向部件164(任选)，接线盒172和一个或多个临近支撑臂160低端的辐射源组合件176。每个辐射源组合件176包括一个高强度辐射源180，它用两个环形垫圈(annularinsert)188装在中空套184中。当然，本专业技术人员都清楚在某些情况下辐射源组合件176可以不需要套，辐射源180可以直接置于要处理的流体中。
每个套184都在远离支撑臂160的一端密封并密封连接到装配管(mounting tube)192上，而装配管192连接到支撑臂160上。套184和装配管192之间的气密性密封通过将套184的开口端插进装置196中实现，其中装置196密闭连接到装配管192的端部。将一个橡胶垫圈型的塞子200装在装置196的底部以避免在套184插入时由于直接接触壳196而造成的破裂。一对O型密封圈204和208置于套184的外周，它们之间有环型垫206。
在套184、O型密封圈204、208和环型垫206插进装置196后，将环型螺丝钉212装在套184的外周并压进去与装置196接触。螺丝钉212上的螺线与装置196内侧的辅助螺线相互啮合，并上紧螺丝钉212以压紧橡胶塞200和O型密封圈204和208，从而提供要求的气密性密封。
每个装配管192的另一端也有螺线并连接到螺母216上，而螺母216又焊接到支撑臂160上。装配管192与螺母216之间的连接以及螺母216与支撑臂160之间的连接也是气密性的，从而避免流体进入装配管192或支撑臂160的中空内部。
每个辐射源180都连接在一对供电导线220之间，该对导线从接线盒172通过支撑臂160和装配管192的内部直到辐射源180。
如图4和图5所示，清洗组合件224也包括在每个辐射源组合件176和装配管192上。每个清洗组合件224包括一个用作双功能筒的筒型套228。在筒型套228的每一端包括一个环状密封圈232和234。密封圈232临近支撑臂160，与装配管192的外表面啮合，而密封圈234远离支撑臂160，与辐射源组合件176的外表面啮合。
在装置196的外侧有一个槽，其中装有O型密封圈236。O型密封圈236与筒型套228的内表面啮合并将筒型套228的内部分为两个室240和244。室240与管道248连接，而室244与管道252连接。管道248和252都从接线盒开始，通过支撑臂160的内部并通过装配管192的内部直到装置196并分别与室240和244连接。
如本专业技术人员所容易理解的那样，当通过管道248将压缩的液压油、空气或任意合适的流体提供到室240时，筒型套228将被推向支撑臂160，并迫使流体离开室244进入管道252。同样，当通过管道252将压缩的流体提供到室244时，筒型套228将被推向套184，并迫使流体离开室240进入管道248。
管道252连接到合适的清洗溶液源上，如酸性溶液供应系统，而管道248连接到任意合适的流体源上，如空气供应系统。因此，当需要清洗套184的外侧时，将加压的清洗液供到室244而流体从室240中移出。从而筒型套228被推向远离支撑臂160的伸展位置，随着筒型套228移动到它的伸展位置，密封圈234也能够从套184上刮除疏松的外来物质。
当筒型套228处于其伸展位置时，导致室244中的清洗液与辐射组合件176的外侧接触，它构成室244的内壁，清洗液化学性地分解和/或清除污染辐射组合件176的残留外来物质。经过预定的清洗时间之后，将流体迫进室240，清洗液上的压力从室244撤出，从而将筒型套228推回到临近支撑臂160的回缩位置。随着筒型套回缩，密封圈234又可再一次从辐射组合件176的表面上刮除疏松的外来物质。
本专业技术人员可以理解，上述的清洗组合件224可以根据有规律的时间间隔进行操作，例如每天一次，或者当处理的流体特征变化时，根据从辐射传感器152得到的数据进行相应的变化。
每个辐射源组件148都可以借助于水平支撑部件164安装到主体104上，支撑部件164具有预定的截面形状且容纳在主体104中互补形的孔256中。适当选择预定的形状，使水平支撑部件能够容易地插入孔256中，并防止水平支撑部件164在孔256中转动。
从图3和图4可以看出，适当选择水平支撑部件164的长度，使水平支撑部件164从支撑臂160伸展的程度要甚于辐射源组合件176。这样在安装辐射源组件148时，辐射源组合件176保持不接触进口过渡区和出口过渡区。这种设置最大限度地减少了在安装辐射源组件148时由于辐射源组合件176碰撞到其它物体引起的损坏的可能性，这在流体正流经系统100时尤其如此。由于要适合水平支架164需要的长度，在主体104均另一面，孔256被水平交错排列。
当水平支撑部件164完全位于孔256中时，在接线盒172中，电源连接器264、清洗液连接器268和流体连接器272都与盒276中的相应的连接器结合。连接器264和272与盒276中的相应的连接器的连接也有助于保持水平支撑部件164在孔256中。盒276通常包括镇流器向辐射源180提供电源，以及向用于清洗组合件224的清洗液和压力流体的泵和贮槽(未示出)提供电源。
最近在辐射源技术方面的进展已经使得辐射源有效强度更大，并且已有无灯丝的装置。相比之下，以前技术中，流体处理系统中所用的UV灯其输出功率在1瓦/英寸的水平，其长度有5英尺。
由于这些更高强度的辐射源发出更多的辐射，处理给定量的流体需要更少的辐射源。如本专业技术人员所知，流体接受辐射的剂量是辐射强度和辐射时间的积。辐射强度随着辐射通过的距离的平方变化，而辐射时间随着流体流动的速度线性变化。因此，希望维持被处理的流体尽可能地接近辐射源进行处理。这需要许多低强度的辐射源排列在一个大的处理区域内，或需要较少的高强度辐射源排列在一个较小的处理区域内。考虑到效率、尽可能减少费用和减少上述对液面精确控制的要求，如上所述，本发明者采用了后一种选择。辐照区144设计成闭合的横截面供流体通过，从而保证被处理的流体在距最少量的高强度辐射源180的预定最大的距离之内通过。通过辐照区144的流体流速可以提高，从而可以用最少量的高强度的辐射源保持可以接受的流体处理速度。
因此，本系统设计成尽可能减小辐照区144的尺寸而提高流体流动速度，以得到要求的处理速度。因此，通过辐照区144的流速要高于以前技术的处理装置，以前技术中一般设计成在2英尺/秒或更小的流速下操作。相反，本系统可以在通过辐照区144的流速最高达12英尺/秒的速度下操作。
如本专业技术人员所知，通过流体管道的压头损失是流体流速的平方的函数。因此，高流速导致压头损失增加，并可能导致处理系统中流体液面的不可接受的波动。因此本系统提供大横截面的进口和出口以尽可能减少压头损失并方便辐射源组件的插入和移出，这将在下面进行讨论。实际的辐照区144是比较短的小截面，并通过各自的过渡区域与进口和出口连接。这样，可达到要求的通过辐照区144的较高流速而尽可能减少压头损失。
本发明的其他优点包括简化维护，由于辐射源组合件可以原位清除污染物并且比较容易取出辐射源组件以维护或更换辐射源。另外，可原位清洗又尽可能减少或取消其它的富余辐射源用于替代需要清洗而移出的辐射源，且可认为通过辐照区的较高的流体速度将会减少附着在辐射源的污染物的量。
辐射源组件148B和清洗组合件300的另一个实施方案如图6和图7所示，其中，与前面的实施方案相同的部分都标有相同的参考数码。图7很清楚地表明套184于壳196中被气密密封到装配管192，这非常类似于图5所示的实施方案。然而，在这个实施方案中，清洗组合件300包括清洗环308的网304及一对双功能筒314和312。每个清洗环308都包括一个临近套184表面的环形室316，且清洗环308通过筒312、314在回缩位置和伸展位置间的运动而清扫套184。
如图4所示的实施方案那样，管道320和324分别从接线盒172(未示出)通过支撑臂160到筒312和314。当流体在压力下通过管线320提供到筒312时，筒的活塞杆328被推出到其伸展位置。如本专业技术人员所理解的那样，当活塞杆328由于流体在活塞336的一面供入到室332而伸展时，在活塞336的另一面流体将被推出室340，并通过连接器344到筒314的室348，也推动其活塞杆328伸展，并且室352中的流体被迫进管道324。
为了保证活塞杆328同步运行，筒312和314都被设计成使筒312中活塞336的每单位冲程置换出的流体体积等于在筒314中活塞336的每单位冲程接受的流体的体积。如本专业技术人员所理解的那样，这可以通过为每个筒或筒杆选择合适的直径来达到。如本专业技术人员也可理解的那样，在活塞336的伸展冲程的末端使用单向加速补偿液压阀356以进一步补偿室332和352以及室348和340之间所存在的流体总体积的任何差异。
以同样的方式，回缩活塞杆328时，带压的流体被提供到管道324，且在回缩冲程的末端使用第二个加速补偿液压阀356补偿室332和352以及室348和340之间所存在的流体总体积的任何差异。
可认为环形室316将被预定量的合适的清洗流体充满，它可在合适的维修间隔内变化，如当检修辐射源时。另外，环形室316也可以通过经过活塞杆328的中空中心的管道提供清洗液。另一种选择是将室316做成为一个含有清洗流体的密封构型，必要时可进行更换。另外，清洗液也可以通过中空的活塞杆328、室332和环形室316循环。通过在环形室316内提供合适的挡板装置(未示出)，清洗流体可以从最低的中空活塞杆328进入，通过清洗环308循环并通过最上部的中空活塞杆328出来。
图4、5和6表明了本发明涉及辐射源组合件的清洗装置方面的几种特殊的实施方案，而本专业技术人员很清楚，还有许多其它的设计不违背本发明的精神实质。
例如，可以使用单一的、双功能的筒与中空活塞杆结合，中空活塞杆通过其活塞杆牢固地结合到多个(如2或4个)清洗环308上。此外，当筒向前或向后运动时，也可以将清洗流体(如水)通过中空活塞杆泵入环形室316。如果环形室316配备合适的喷嘴或类似的装置，就可以将物流喷射或喷雾到辐射室的表面，从而使辐射源套184的清洗更方便。
另一个设计变化包括用合适的清洗流体预充满环形室316并改变室以提供密闭的清扫组合件。这可以允许使用各种传动装置使环形室316在辐射源套184上向前或向后运动。例如，可以使用双功能单筒，它仅传动环形室316在辐射源套184上向前或向后运动。当然本专业技术人员清楚，环形室被牢固地连接到传动装置上避免整个组合件夹住导致套184损坏。
本专业技术人员进一步还清楚，在上述的实施方案中，辐射源和清洗装置之间反向的相对运动也是可能的。因此，清洗装置可以牢固地连接到本系统或其它系统的处理区上，而辐射源相对于它作前后运动。
本发明的另一个优选实施方案如图8所示。在这个实施方案中，处理系统400包括主体404，其底部表面与基础壁406确定了处理区408。处理区408包括一个进口过渡区412、第一辐照区416、中间区420、第二辐照区424和锥型出口区426。从图中可以清楚看出，出口区426低于进口区412，以向被处理的流体提供一些附加压头克服流体流过本处理系统时的压头损失。本专业技术人员也很清楚，在这一构型中，不需要液面控制阀和类似的装置，因为处理区408通过其进口和出口的定位起到了这一作用。
主体404还包括孔430，以容纳辐射源组件438的垂直支撑部件434。辐射源组件438类似于上面描述的辐射源组件148，但被设置成使辐射源组合件442垂直定位。辐射源组合件442包括连接到安装销(mount stud)450上的套446。当然如上所述，可以理解的是，在某些情况下，辐射源组合件442可以不需要套而可以直接安装在要处理的流体中。
当安装销450被置于处理系统400的流体最高液位之上时，与套446的连接不需要气密性密封，并可以使用任何方便的方法完成。当然，由于套和安装销450之间的连接点在系统流体的液位之上，套446的内部不暴露于流体中。
安装销450本身与支撑臂454连接，而454连接到垂直支撑部件434上。辐射源458被装在套446内，并被连接在电源线(未示出)之间，电源线从连接器462通过中空支撑臂454和安装销450进入套446。连接器462与壳466中的对应的连接器相连，466可以包括合适的电源和/或适当操作辐射源180和清洗供料系统(如果安装的话)的控制装置。
在这一实施方案中，辐射源组件438的检修是通过将辐射源组件438垂直提起离开流体物流完成的。在图8中没有表明，但可认为在某些情况下将需要上述的清洗组合件，并且本专业技术人员清楚，此处描述的清洗组合件实施方案或其相当装置都可以有利地用于本发明的这一实施方案。另外，可认为当套446需要清洗时，辐射源组件可以简单地垂直提出来。
如上所述，流体处理系统一般包括一个辐射传感器152检测辐照区内的辐射强度。这些传感器包括一个辐射传导窗，在其后面装有传感器本身，且窗被插入流体物流中。当然与辐射源组合件176(442)一样，该窗过一段时间后也会变脏。
根据本发明的另一方面，图9表明了辐射传感器组合件500。传感器组合件500包括柱体502，其中形成一个孔504。辐射传感器元件508装在孔504的内壁临近杆512的地方，512是辐射传导性的，且从连至柱体502的前面板514伸出。传感器元件508与流体通过临近传感器元件508的O型密封圈516和在前面板514与体502之间的连接点处绕在杆512上的O型密封圈520进行气密性密封隔开。电线接头线524从传感器元件508通过孔528而从体502的后面出来。
由于杆512的暴露端随着时间的延长也会变脏，因此面板514也包括清洗喷嘴532。清洗喷嘴532用O型密封圈538通过体502气密性连接到孔536上，而体502连接到带压清洗流体源(未示出)上，如酸性溶液、水或空气。
当带压的清洗流体泵入孔536时，清洗喷嘴532将清洗流体导向杆512的暴露表面以清除污染物质。为了避免损坏清洗喷嘴532、杆512和流体线性流态，也提供一个防护罩。
辐射传感器组合件500也可以安装在与流体处理系统的处理区相连接的套内，如本专业技术人员很清楚的那样。辐射传感器组合件500也可以通过键槽540中的定位螺钉(未示出)安装在这样的套内。当然，如本专业技术人员所知，为了得到精确的结果，要求杆512被定位成基本与要检测的辐射源180垂直。
可认为在正常使用时，辐射传感器组合件500将通过在预定的时间间隔内向清洗喷嘴532提供预定量的清洗液或水进行清洗。
应该理解，此处描述了本发明的示范性的实施方案，然而，本发明并不仅限于这些示范性的实施方案。本专业技术人员在不违背所附的权利要求书所定义的本发明的实质范围内可进行各种变化和变通。

Claims (47)

1.重力进料流体处理系统，包括流体进口、流体出口、置于流体进口和流体出口之间的辐照区，辐照区(i)包括至少一个辐射源，和(ii)具有一个闭合的横截面以限制被处理的流体在距至少一个辐射源组件预定的最大距离之内。
2.根据权利要求1的流体处理系统，其中所述至少一个辐射源是伸长的且具有一个基本平行于流体通过所述幅照区的流动方向的纵轴。
3.根据权利要求1的流体处理系统，其中所述辐照区的横截面面积小于所述流体进口的横截面面积和所述流体出口的横截面面积中的至少一个。
4.根据权利要求3的流体处理系统，其中所述辐照区的横截面面积小于所述流体进口的横截面面积，且所述辐照区设置在包括连接所述流体进口和所述辐照区的过渡区的处理区内，所述过渡区减少了所述流体在所述进口和所述辐照区之间的压力损失。
5.根据权利要求3的流体处理系统，其中所述辐照区的横截面面积小于所述流体出口的横截面面积，且所述辐照区设置在包括连接所述流体出口和所述辐照区的过渡区的处理区内，所述过渡区减少了所述流体在所述出口和所述辐照区之间的压力损失。
6.根据权利要求2的流体处理系统，其中所述辐照区的横截面面积小于所述流体进口和所述流体出口的横截面面积，所述辐照区设置于包括第一过渡区和第二过渡区的处理区内，所述第一过渡区连接所述流体进口和所述辐照区，所述第二过渡区连接所述辐照区和所述流体出口，所述第一过渡区和第二过渡区分别减少所述流体在所述流体进口和所述辐照区之间以及在所述辐照区和所述流体出口之间的压力损失。
7.根据权利要求6的流体处理系统，其中所述至少一个辐射源组合件包括至少一个紫外灯和其支架。
8.根据权利要求7的流体处理系统，其中所述辐射源组合件包括在每个所述至少一个紫外灯外侧周围一部分的套。
9.根据权利要求6的流体处理系统，其中所述纵轴基本直立，且所述第一过渡区使通过所述流体进口的基本水平的流体物流改变为通过所述辐照区的基本垂直的流体物流。
10.根据权利要求9的流体处理系统，其中所述所述第二过渡区使通过所述第一辐照区的基本垂直的流体物流改变为通过所述流体出口的基本水平的流体物流。
11.根据权利要求7的流体处理系统，其中所述纵轴是基本水平的。
12.根据权利要求1的流体处理系统，进一步包括从所述至少一个辐射源组合件的外面清除不希望的物质的清洗装置。
13.根据权利要求12的流体处理系统，其中所述清洗装置包括围绕在所述至少一个辐射源组合件周围的清洗套，所述清洗套可以在回缩位置和伸展位置之间运动，在回缩位置中所述至少一个辐射源组合件的第一部分暴露于流体物流中，而在伸展位置中所述至少一个辐射源组合件的所述第一部分被所述清洗套覆盖。
14.根据权利要求13的流体处理系统，其中所述清洗套包括一个在所述至少一个辐射源组合件周围并与其外侧接触的室，所述室中提供有适合于从所述至少一个辐射源组合件的外面清除不需要的物质的清洗液。
15.根据权利要求14的流体处理系统，其中所述清洗套包括在所述至少一个辐射源组合件的外表面和所述清洗套之间的密封圈，当清洗套在所述回缩位置和伸展位置之间运动时，所述密封圈从所述至少一个辐射源组合件的外表清除一部分所述不需要的物质。
16.根据权利要求14的流体处理系统，其中所述清洗液进料被压入所述清洗套中，借助所述压力，所述清洗套伸展到所述伸展位置。
17.根据权利要求16的流体处理系统，其中通过从所述清洗套中移出所述加压清洗液，使所述清洗套回缩到所述回缩位置。
18.根据权利要求16的流体处理系统，包括设置在所述辐照区上游并伸展到所述辐照区的第一辐射源组合件和设置在所述辐照区下游并伸展到所述辐照区的第二辐射源组合件。
19.在流体处理系统中使用的辐射源组件，包括：
支撑部件；
至少一个从所述支撑部件伸展开的辐射源组合件；和
将辐射源组件固定在流体处理系统的固定装置。
20.根据权利要求19的辐射源组件，其中所述导向支撑部件从所述支撑部件伸展到比所述至少一个照射源更远的程度。
21.根据权利要求19的辐射源组件，其中所述至少一个辐射源组合件包括一个紫外源。
22.根据权利要求20的辐射源组件，其中所述辐射源组合件进一步包括在所述紫外源周围的套，以在所述紫外源和所述流体之间提供一个隔离间隙。
23.根据权利要求19的辐射源组件，其中所述支撑部件包括可以借以将电力供给所述辐射源组合件的导管装置。
24.根据权利要求21的辐射源组件，其中至少两个所述紫外源连接到每个支撑部件上。
25.用于流体处理系统中辐射源组合件的清洗装置，包括：
与所述辐射源组合件的外表面的一部啮合并可以在回缩位置和伸展位置之间运动的清洗套，在回缩位置中，所述辐射源的第一部分暴露于要处理的流体物流中，而在伸展位置中，所述辐射源组合件的所述第一部分完全或部分被所述清洗套覆盖，所述清洗套包括一个与所述辐射源组合件的所述第一部分接触的室，且供给有适合于从所述第一部分清除不需要的物质的清洗液。
26.根据权利要求25的清洗装置，进一步包括至少一个在所述辐射源组合件外表面和所述清洗套之间的密封圈，当清洗套在所述回缩位置和伸展位置之间运动时，所述至少一个密封圈从所述辐射源组合件的外表面清除一部分所述不需要的物质。
27.根据权利要求25的清洗装置，其中所述清洗液进料被压到所述清洗套中，借助所述压力，所述清洗套伸展到所述伸展位置。
28.根据权利要求26的清洗装置，其中通过从所述清洗套中移出所述加压清洗液，使所述清洗套回缩到所述回缩位置。
29.根据权利要求25的清洗装置，其中所述清洗套与至少两个辐射源组合件的外表的一部分啮合。
30.根据权利要求29的清洗装置，其中所述清洗套被连接到使清洗套在所述回缩位置和伸展位置之间运动的至少一个装置上。
31.根据权利要求30的清洗装置，其中所述至少一个运动装置是液压操作的。
32.根据权利要求30的清洗装置，其中所述至少一个运动装置是气压操作的。
33.一种处理流体的方法，包括下列步骤：
(i)将流体的重力进料物流提供到流体进口；
(ii)将流体物流从流体进口提供到包括至少一个辐射源并具有闭合横截面的辐照区；
(iii)将流体物流限制在距至少一个辐射源预定的最大距离之内；
(iv)将流体物流暴露于辐射源的辐照之下；
(v)将第(iv)步的流体提供到流体出口。
34.根据权利要求33的方法，其中流体物流在所述流体进口为第一速度，在所述辐照区为第二速度，在所述流体出口为第三速度。
35.根据权利要求34的方法，其中所述第二速度大于所述第一速度和所述第三速度中的至少一个。
36.根据权利要求34的方法，其中所述第二速度大于所述第一速度和所述第三速度。
37.根据权利要求36的方法，其中所述第三速度基本等于所述第一速度。
38.根据权利要求36的方法，其中在步骤(ii)之前，流体物流先进入一个过渡区以提高流速。
39.根据权利要求36的方法，其中在步骤(v)之前，流体物流先进入一个过渡区以降低流速。
40.在流体处理系统中，从辐射源原位清除污染物质的方法，包括下列步骤：
(i)将一种清洗流体提供到清洗室；
(ii)移动清洗室使其与所述辐射源的至少一部分结触预定的时间，所述清洗室保持所述清洗流体与所述部分接触；
(iii)在所述预定时间以后，移动所述清洗室脱离与所述辐射源的所述部分的接触。
41.根据权利要求40的方法，其中所述清洗室包括一个密封件，它与所述部分可滑动啮合，并且当所述清洗室移动接触到或脱离与所述部分的接触时刮除所述部分进一步清除污染物质。
42.根据权利要求40的方法，其中所述清洗室同时与至少两个辐射源的相同部分接触。
43.根据权利要求40的方法，其中所述清洗室基本上连续地被所述清洗流体压迫并包括向内的喷射装置以从辐射源清除污染物质。
44.根据权利要求40的方法，其中所述清洗室保持静止而辐射源移向它以从辐射源清除污染物质。
45.根据权利要求40的方法，其中所述清洗室进一步包括擦洗装置以提高所述辐射源在与清洗室接触时对它的摩擦。
46.辐射传感器组合件，包括：
一个传感器壳；
在所述壳内的辐射传导装置，且包括暴露于辐射源的部分；
从所述传导装置接受辐射的辐射传感器；和
清除污染所述部分的物质的装置。
47.根据权利要求46的辐射传感器组合件，其中所述清除污染物的装置包括将清洗流体导向所述部分的喷嘴。
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ZA (1) ZA941096B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102369164A (zh) * 2009-04-07 2012-03-07 特洁安科技有限公司 辐射源模块和流体处理系统
CN102612497A (zh) * 2009-09-02 2012-07-25 木质部知识产权控股有限责任公司 带有非接触式清洁作用的紫外线消毒系统

Families Citing this family (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE36896E (en) * 1993-03-05 2000-10-03 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and process
TW317558B (zh) * 1993-03-05 1997-10-11 Trotan Technologies Inc
US5539209A (en) * 1994-10-17 1996-07-23 Trojan Technologies Inc. Method of cleaning fouling materials from a radiation module
US5792433A (en) * 1995-03-13 1998-08-11 Photoscience Japan Corporation Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps
US5937266A (en) * 1996-03-08 1999-08-10 Photoscience Japan Corporation Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism
US5874740A (en) * 1996-03-14 1999-02-23 Photoscience Japan Corporation Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes
USRE39522E1 (en) * 1996-03-14 2007-03-20 Photoscience Japan Corporation Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes
DE19653083B4 (de) * 1996-12-19 2005-09-08 Wedeco Ag Water Technology Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung
US6013917A (en) * 1997-03-12 2000-01-11 Photoscience Japan Corporation UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes
WO1999010717A1 (en) 1997-08-22 1999-03-04 Morlock Richard C Sensor housing for uv curing chamber
US6576189B1 (en) 1997-09-18 2003-06-10 Wedeco Ag Water Technology Device and method for exposing liquids, including pretreated wastewater, to x-rays
US6015229A (en) 1997-09-19 2000-01-18 Calgon Carbon Corporation Method and apparatus for improved mixing in fluids
FR2768718B1 (fr) * 1997-09-24 1999-12-10 Amenagement Urbain & Rural Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide
AUPP158098A0 (en) 1998-01-29 1998-02-26 Arnold, Geoffery Peter Laser alignment apparatus and method
AU691786B3 (en) * 1998-02-03 1998-05-21 Kenneth Ray Bryer An apparatus for treating a liquid
US6342188B1 (en) * 1998-11-03 2002-01-29 Trojan Technologies, Inc. Radiation source module and cleaning apparatus therefor
WO2000075080A1 (en) 1999-06-04 2000-12-14 Henry Kozlowski Apparatus for ultraviolet light treatment of fluids
DE59905515D1 (de) * 1998-12-30 2003-06-18 Wedeco Ag Uv-bestrahlungsvorrichtung, insbesondere zur desinfektion von flüssigkeiten mit verminderter uv-transmission
US6193938B1 (en) * 1999-03-17 2001-02-27 Wedeco Ag Water Technology Device for treating liquids with UV-radiation
US6217834B1 (en) * 1999-04-19 2001-04-17 Trojan Technologies Inc. Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same
AU4906000A (en) * 1999-05-28 2000-12-18 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
US6863078B1 (en) 1999-05-28 2005-03-08 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
CA2381307C (en) * 1999-08-13 2007-10-30 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
US6830697B1 (en) * 1999-09-03 2004-12-14 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module
DE60016789T2 (de) * 1999-10-01 2006-02-23 Trojan Technologies Inc., London Optisches strahlungssensorensystem mit reinigungsvorrichtung
JP2003516532A (ja) * 1999-12-06 2003-05-13 トロジャン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド プロセスで少なくとも１つの流体の流パラメータを予測するオンライン装置
DE60038629D1 (de) 1999-12-17 2008-05-29 Trojan Techn Inc Optisches strahlungsmessgerät
EP1239888B1 (en) 1999-12-17 2009-03-18 Trojan Technologies Inc. Radiation source module
AU2001228238A1 (en) * 2000-01-28 2001-08-07 Trojan Technologies Inc. Radiation source module
DE10010127B4 (de) * 2000-03-03 2007-12-13 Wedeco Ag Water Technology UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser
US6580019B1 (en) 2000-03-09 2003-06-17 Dekalb Genetics Corporation Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants
US6750379B2 (en) 2000-03-09 2004-06-15 Dekalb Genetics Corporation Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants
CA2306546C (en) 2000-04-20 2006-06-27 Photoscience Japan Corporation Tube scraper
DE60135116D1 (de) * 2000-06-06 2008-09-11 Trojan Techn Inc Mischvorrichtung für fluide
FR2815271B1 (fr) * 2000-10-16 2003-01-17 Bordas Sarl Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv
CN1481337A (zh) * 2000-12-15 2004-03-10 特洛伊人技术公司 流体处理系统和用于其中的辐射源标准组件
US6596542B1 (en) * 2001-01-08 2003-07-22 Christopher R. Schulz Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors
US6940075B2 (en) * 2001-03-15 2005-09-06 Christopher R. Schulz Ultraviolet-light-based disinfection reactor
US6649917B2 (en) * 2001-05-30 2003-11-18 Ondeo Degremont Cleaning system for UV disinfection module/reactor
DE10129178A1 (de) * 2001-06-19 2003-01-02 Wedeco Ag UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer
US6719491B2 (en) 2001-08-03 2004-04-13 Trojan Technologies Inc. Fluid level control system
US6663318B2 (en) 2001-08-03 2003-12-16 Trojan Technologies, Inc. Fluid level control system
US7419642B2 (en) * 2002-05-07 2008-09-02 Ultravation, Inc. Fluid disinfection apparatus
US20050069463A1 (en) * 2002-05-07 2005-03-31 Kurtz Mark E. Fluid disinfection apparatus
US20030230477A1 (en) * 2002-06-14 2003-12-18 Fink Ronald G. Environmental air sterilization system
GB2389848B (en) * 2002-06-17 2006-02-08 Hanovia Ltd UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus
CA2489358C (en) * 2002-06-19 2013-09-10 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and radiation source module for use therein
US6784440B2 (en) * 2002-07-26 2004-08-31 Boc, Inc. Food sanitizing cabinet
US20040056201A1 (en) * 2002-09-19 2004-03-25 Fink Ronald G. Food surface sanitation hood
US20040140812A1 (en) * 2003-01-21 2004-07-22 Ademir Scallante Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies
US7160566B2 (en) * 2003-02-07 2007-01-09 Boc, Inc. Food surface sanitation tunnel
CA2540589A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-07 Trojan Technologies Inc. Radiation sensor device and radiation source module containing same
CN100571788C (zh) * 2004-03-12 2009-12-23 特洛伊人技术公司 流体处理系统
WO2005087277A1 (en) * 2004-03-12 2005-09-22 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system
US7476312B2 (en) * 2004-04-15 2009-01-13 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system
US7759651B2 (en) * 2004-04-19 2010-07-20 Trojan Technologies Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid
US8038949B2 (en) * 2004-09-02 2011-10-18 Purgenix, Inc. Ultraviolet germicidal irradiation system
ES2444001T3 (es) 2004-10-21 2014-02-21 Venganza Inc. Procedimientos y materiales para conferir resistencia a plagas y patógenos de plantas
US7159264B2 (en) * 2004-12-10 2007-01-09 Calgon Carbon Corporation Scraper for cleaning tubular members
CN101208444A (zh) * 2005-04-21 2008-06-25 霍尼韦尔国际公司 钌基材料和钌合金
US7241380B2 (en) * 2005-06-15 2007-07-10 Reiling Dennis R Ultraviolet treatment unit and septic tank system
US8663575B2 (en) * 2005-08-19 2014-03-04 Canadian Blood Services Sample holder for dynamic light scattering
CN101253600B (zh) * 2005-08-31 2013-06-19 特洛伊科技有限公司 紫外射灯及放射源模组以及含有该紫外射灯的处理系统
EP1979006A4 (en) * 2005-12-21 2011-05-25 Trojan Techn Inc LIQUID TREATMENT SYSTEM
CN101528611B (zh) * 2006-08-17 2013-06-19 特洛伊科技有限公司 液体处理系统
US7507973B2 (en) * 2006-11-02 2009-03-24 Calgon Carbon Corporation UV treatment reactor
EP2535316B1 (en) 2006-11-06 2018-04-11 Trojan Technologies Fluid treatment system
US7862728B2 (en) 2007-09-27 2011-01-04 Water Of Life, Llc. Ultraviolet water purification system
US8529770B2 (en) * 2007-09-27 2013-09-10 Water Of Life, Llc. Self-contained UV-C purification system
US8557050B1 (en) * 2008-10-31 2013-10-15 Genefluidics, Inc. System for washing a sensor structure
CA2744238C (en) * 2008-11-26 2014-04-29 Calgon Carbon Corporation Method and apparatus for use of mixing elements in wastewater/ recycle water uv disinfection system
AU2010268722A1 (en) * 2009-07-02 2012-01-19 Trojan Technologies Radiation source assembly
SG177431A1 (en) * 2009-07-23 2012-02-28 Trojan Techn Inc Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system
US8182613B2 (en) * 2009-08-04 2012-05-22 University Corporation For Atmospheric Research Radiometer including a cleaning system
DE102009039655B3 (de) 2009-09-02 2011-03-31 ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung
CN102596436A (zh) 2009-11-12 2012-07-18 特洁安科技有限公司 清洗设备，辐射源模块和流体处理系统
US20120043223A1 (en) * 2010-08-18 2012-02-23 David Sherzer Water treatment method
AU2011342261A1 (en) 2010-12-16 2013-07-25 Trojan Technologies Radiation source module and fluid treatment system
WO2013106914A1 (en) 2012-01-20 2013-07-25 Trojan Technologies Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same
EP2817105B1 (en) 2012-02-23 2019-04-10 Trojan Technologies Radiation source cleaning system and module containing same
CA2894215A1 (en) 2012-12-07 2014-06-12 Trojan Technologies Cleaning apparatus
WO2015031739A1 (en) 2013-08-29 2015-03-05 Crystal Is , Inc. Systems and methods for fluid treatment with homogeneous distribution of ultraviolet light
AU2018239360C1 (en) 2017-03-21 2023-11-02 Hayward Industries, Inc. Systems and methods for sanitizing pool and spa water
US11472727B2 (en) 2017-06-09 2022-10-18 Hayward Industries, Inc. Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit
CA3198127A1 (en) 2020-11-14 2022-05-19 Tracy L. THOMPSON Methods for sterilizing fermented beverages

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR421296A (fr) * 1910-10-10 1910-12-17 Marius Paul Otto Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets
FR15618E (fr) * 1911-04-11 1912-08-16 Paul Gabriel Triquet Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau
US2413704A (en) * 1944-12-04 1947-01-07 Art Metal Company Ultraviolet sterilizer
US2670439A (en) * 1950-07-05 1954-02-23 Hanovia Chemical & Mfg Co Apparatus for irradiating liquids
DE855521C (de) * 1950-12-28 1952-11-13 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten
US3061721A (en) * 1960-01-19 1962-10-30 Brenner Al Automatic tube cleaning device
US3182193A (en) * 1962-01-03 1965-05-04 Ultra Dynamics Corp Electronically monitored liquid purification or sterilizing system
US3182191A (en) * 1963-02-14 1965-05-04 Puretest Water Purifier Co Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source
US3140054A (en) * 1963-04-25 1964-07-07 Oharenko Vladimir Safety inspection light
US3462597A (en) * 1966-07-29 1969-08-19 Ultra Dynamics Corp Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means
US3456107A (en) * 1967-05-16 1969-07-15 Aquacare Intern Ltd Water sterilizing apparatus
US3562520A (en) * 1968-11-04 1971-02-09 Puretest Water Purifying Co Fail-safe water purifying apparatus
US3637342A (en) * 1969-05-07 1972-01-25 Louis P Veloz Sterilization of fluids by ultraviolet radiation
US3837800A (en) * 1971-05-06 1974-09-24 Meltzer H Method and apparatus for purifying fluids
DE2300273C3 (de) * 1972-01-07 1982-05-06 Toray Industries, Inc., Tokyo Vorrichtung für Abwasserreinigung
DE2213658C3 (de) * 1972-03-21 1974-08-15 Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) Wasserentkeimungsanlage
CA951135A (en) * 1972-08-23 1974-07-16 Wolfgang Scherrelies Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer
US3948772A (en) * 1975-04-16 1976-04-06 Sidney Ellner Split stream ultraviolet purification device
US4103167A (en) * 1976-08-16 1978-07-25 Sidney Ellner Ultraviolet liquid purification system
US4255663A (en) * 1977-03-24 1981-03-10 Lewis James H Disposable liquid sterilizer unit
US4204956A (en) * 1978-10-02 1980-05-27 Flatow Robert E Water purification system
US4205956A (en) * 1979-05-21 1980-06-03 The International Nickel Company, Inc. Nickel carbonyl analyzer
US4367410A (en) * 1979-07-09 1983-01-04 Pure Water Systems, Inc. Waste purification apparatus and method
IT1123509B (it) * 1979-07-31 1986-04-30 Vighi Temistocle Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento
US4296328A (en) * 1980-02-11 1981-10-20 Regan Michael D Apparatus for producing high purity water
US4400270A (en) * 1980-04-18 1983-08-23 Adco Aerospace, Inc. Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
US4490777A (en) * 1981-06-25 1984-12-25 Tanner Stephen E Selective color illumination device for electronic drafting tables
DE3126127A1 (de) * 1981-07-02 1983-01-20 Christoph Dr. 6500 Mainz Franz Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes
US4435744A (en) * 1981-08-10 1984-03-06 Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. Explosion-proof fluorescent light fixture
US4471225A (en) * 1981-11-09 1984-09-11 Adco Aerospace Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
CA1163086A (en) * 1981-11-30 1984-03-06 Jan Maarschalkerweerd Ultraviolet fluid purifying device
US4467206A (en) * 1981-12-14 1984-08-21 Extracorporeal Medical Specialties, Inc. Method and apparatus for the irradiation of fluids
NL8300115A (nl) * 1983-01-13 1984-08-01 Philips Nv Bestralingsinrichting.
FI841491A (fi) * 1983-04-25 1984-10-26 Christian Lumpp Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning.
US4535247A (en) * 1983-07-11 1985-08-13 Kurtz Mark E Water sterilization system
DE3441535A1 (de) * 1984-11-14 1986-06-26 Erich 7632 Friesenheim Rasche Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung
US4700101A (en) * 1985-02-07 1987-10-13 Sidney Ellner Elongated tubular lamp construction
JPS61230203A (ja) * 1985-03-29 1986-10-14 東芝ライテック株式会社 ランプユニツト
US4757205A (en) * 1986-06-10 1988-07-12 Arlat Inc. Ultraviolet water treatment apparatus
US4755292A (en) * 1986-08-11 1988-07-05 Merriam Theodore D Portable ultraviolet water sterilizer
US4767932A (en) * 1986-09-26 1988-08-30 Ultraviolet Purification System, Inc. Ultraviolet purification device
JPS63153469U (zh) * 1987-03-30 1988-10-07
US4872980A (en) * 1988-09-13 1989-10-10 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US5006244A (en) * 1988-09-13 1991-04-09 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US4897246A (en) * 1988-09-13 1990-01-30 Peroxidation Systems, Inc. Oxidation chamber
US4952376A (en) * 1988-09-13 1990-08-28 Peroxidation Systems, Inc. Oxidation chamber
US4968489A (en) * 1988-09-13 1990-11-06 Peroxidation Systems, Inc. UV lamp enclosure sleeve
US4922114A (en) * 1989-06-01 1990-05-01 Hilary Boehme Wiper mechanism
US5227140A (en) * 1990-04-13 1993-07-13 Peroxidation Systems, Inc. Modular self-cleaning oxidation chamber
US5019256A (en) * 1990-10-19 1991-05-28 Fischer & Porter Company Ultraviolet lamp rack assembly
JPH04190887A (ja) * 1990-11-26 1992-07-09 Mitsubishi Petrochem Co Ltd 紫外線殺菌装置およびその浄化方法
US5124131A (en) * 1990-12-10 1992-06-23 Ultraviolet Energy Generators, Inc. Compact high-throughput ultraviolet processing chamber
JPH0663533A (ja) * 1992-08-10 1994-03-08 Gastar Corp 温水殺菌方法および殺菌装置
TW317558B (zh) * 1993-03-05 1997-10-11 Trotan Technologies Inc
US5266215A (en) * 1993-04-27 1993-11-30 Rolf Engelhard Water purification unit

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102369164A (zh) * 2009-04-07 2012-03-07 特洁安科技有限公司 辐射源模块和流体处理系统
CN102369164B (zh) * 2009-04-07 2013-07-31 特洁安科技有限公司 辐射源模块和流体处理系统
CN102612497A (zh) * 2009-09-02 2012-07-25 木质部知识产权控股有限责任公司 带有非接触式清洁作用的紫外线消毒系统

Also Published As

Publication number Publication date
CA2117040C (en) 1999-02-23
RO114754B1 (ro) 1999-07-30
DE69433069D1 (de) 2003-09-25
PL177744B1 (pl) 2000-01-31
PL177739B1 (pl) 2000-01-31
ATE203492T1 (de) 2001-08-15
WO1994020208A1 (en) 1994-09-15
US5418370A (en) 1995-05-23
HU9502580D0 (en) 1995-10-30
IL108709A (en) 1998-01-04
ATE162956T1 (de) 1998-02-15
US5539210A (en) 1996-07-23
IL108709A0 (en) 1994-05-30
PH31690A (en) 1999-01-18
CO4180401A1 (es) 1995-06-07
EP1094035B1 (en) 2003-08-20
TW317558B (zh) 1997-10-11
CZ226495A3 (en) 1996-04-17
ES2115937T3 (es) 1998-07-01
DK0687201T3 (da) 1998-09-23
EP0811579A3 (en) 1998-01-14
SK109195A3 (en) 1996-04-03
DE69427834T2 (de) 2002-04-04
US5590390A (en) 1996-12-31
AU6153194A (en) 1994-09-26
CA2117040A1 (en) 1994-09-06
DE69408441D1 (de) 1998-03-12
CO4910176A1 (es) 2000-04-24
ATE247603T1 (de) 2003-09-15
CN1081947C (zh) 2002-04-03
FI954134A0 (fi) 1995-09-04
KR100330268B1 (ko) 2002-08-08
TW360619B (en) 1999-06-11
PL310528A1 (en) 1995-12-27
NO953451L (no) 1995-09-01
ZA941096B (en) 1994-09-16
CO4180400A1 (es) 1995-06-07
HUT76196A (en) 1997-07-28
ES2206355T3 (es) 2004-05-16
EP0811579A2 (en) 1997-12-10
DE69427834D1 (de) 2001-08-30
EP1094035A2 (en) 2001-04-25
KR100418308B1 (ko) 2004-02-14
HU215737B (hu) 1999-02-01
NO953451D0 (no) 1995-09-01
FI954134A (fi) 1995-09-04
DE69408441T2 (de) 1998-09-17
PL177782B1 (pl) 2000-01-31
ES2163695T3 (es) 2002-02-01
NZ262088A (en) 1997-12-19
EP0687201B1 (en) 1998-02-04
MY112388A (en) 2001-06-30
PT1094035E (pt) 2003-12-31
NO310139B1 (no) 2001-05-28
EP1094035A3 (en) 2001-10-31
EP0811579B1 (en) 2001-07-25
EP0687201A1 (en) 1995-12-20
DE69433069T2 (de) 2004-06-17
JPH08509905A (ja) 1996-10-22
KR100360320B1 (ko) 2002-11-11
BR9406347A (pt) 1996-02-13

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